JPH0792317A - パターン露光方法及び露光装置 - Google Patents
パターン露光方法及び露光装置Info
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- JPH0792317A JPH0792317A JP23967893A JP23967893A JPH0792317A JP H0792317 A JPH0792317 A JP H0792317A JP 23967893 A JP23967893 A JP 23967893A JP 23967893 A JP23967893 A JP 23967893A JP H0792317 A JPH0792317 A JP H0792317A
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- pattern exposure
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】プロキシミティー(近接)露光方式におけるパ
ターン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮
断操作を行なう際に、マスク及びワークの界面、若しく
は界面直近に存在する酸素をできるだけ迅速に、且つ効
率良く均一な分布状態の不活性ガスに置換できるように
することにある。 【構成】エアーノズル3からの不活性ガス噴出量分布又
は/及び不活性ガス噴射角度(矢印方向の回転角度)を
適宜調整して光学マスク1とワーク4との離間対向間隙
の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させることによ
り、光学マスクとワークとの平行対向面内での不活性ガ
ス噴出量の2次元的分布を均一にしつつ、光学マスクと
ワークとの対向界面を不活性ガス置換処理した後、紫外
線パターン露光若しくは電子線パターン露光するパター
ン露光方法及び露光装置。
ターン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮
断操作を行なう際に、マスク及びワークの界面、若しく
は界面直近に存在する酸素をできるだけ迅速に、且つ効
率良く均一な分布状態の不活性ガスに置換できるように
することにある。 【構成】エアーノズル3からの不活性ガス噴出量分布又
は/及び不活性ガス噴射角度(矢印方向の回転角度)を
適宜調整して光学マスク1とワーク4との離間対向間隙
の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させることによ
り、光学マスクとワークとの平行対向面内での不活性ガ
ス噴出量の2次元的分布を均一にしつつ、光学マスクと
ワークとの対向界面を不活性ガス置換処理した後、紫外
線パターン露光若しくは電子線パターン露光するパター
ン露光方法及び露光装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置に
使用されるカラーフィルター等のパターンを形成するた
めのパターン露光方法及び露光装置に関する。
使用されるカラーフィルター等のパターンを形成するた
めのパターン露光方法及び露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、光重合型感光材を露光するに
際し、酸素による光重合反応阻害を防止する目的で、露
光前に該感光材を予めポリビニルアルコール、ポバール
等の透光性の樹脂膜で被覆する樹脂膜被覆方式か、又は
不活性ガス、具体的には窒素ガスを該感光材周囲に充満
させて、空気中の酸素を窒素N2 で置換する不活性ガス
置換方式によって酸素を遮断して露光する露光方法が採
用されている。
際し、酸素による光重合反応阻害を防止する目的で、露
光前に該感光材を予めポリビニルアルコール、ポバール
等の透光性の樹脂膜で被覆する樹脂膜被覆方式か、又は
不活性ガス、具体的には窒素ガスを該感光材周囲に充満
させて、空気中の酸素を窒素N2 で置換する不活性ガス
置換方式によって酸素を遮断して露光する露光方法が採
用されている。
【0003】上記のような樹脂膜被覆方式は確実な方法
ではあるが、樹脂塗布、乾燥工程等を必要とし、その工
程に掛かる時間が長くなる欠点を有しており、それに比
較して不活性ガス置換方式は、比較的に簡潔な操作で行
なうことができる。
ではあるが、樹脂塗布、乾燥工程等を必要とし、その工
程に掛かる時間が長くなる欠点を有しており、それに比
較して不活性ガス置換方式は、比較的に簡潔な操作で行
なうことができる。
【0004】図8、図9は、従来のプロキシミティー
(近接)露光方式におけるパターン露光に使用される露
光ステーションの概要側断面図と平面図であり、従来の
上記不活性ガス置換方式による酸素遮断操作の場合は、
図8、マスク装着フレーム12に水平に装着固定された
マスク1と、該マスク1に対して平行に下側に離間対向
してワークステージ15上に位置決め載置されたワーク
4との対向間隙に、外側より窒素ガスを噴出して窒素ガ
スを注入することによって置換するものであり、比較的
簡潔な操作で行なうことができるものであるが、マスク
1とワーク4の界面に存在する空気中の酸素を短時間で
均一に窒素N2 に置換することがなかなか困難である。
(近接)露光方式におけるパターン露光に使用される露
光ステーションの概要側断面図と平面図であり、従来の
上記不活性ガス置換方式による酸素遮断操作の場合は、
図8、マスク装着フレーム12に水平に装着固定された
マスク1と、該マスク1に対して平行に下側に離間対向
してワークステージ15上に位置決め載置されたワーク
4との対向間隙に、外側より窒素ガスを噴出して窒素ガ
スを注入することによって置換するものであり、比較的
簡潔な操作で行なうことができるものであるが、マスク
1とワーク4の界面に存在する空気中の酸素を短時間で
均一に窒素N2 に置換することがなかなか困難である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のような不活性ガ
スによる置換、具体的には窒素ガス置換による酸素遮断
方式においては、図8に示すように、マスク1と、それ
に平行に離間対向するワーク4との間の側方に設置され
たノズル13から窒素ガスN2 を噴出させ、噴出した窒
素ガスN2 は、その周辺の空気を巻き込みながら、マス
ク1とワーク4との間隙に流れ込む。
スによる置換、具体的には窒素ガス置換による酸素遮断
方式においては、図8に示すように、マスク1と、それ
に平行に離間対向するワーク4との間の側方に設置され
たノズル13から窒素ガスN2 を噴出させ、噴出した窒
素ガスN2 は、その周辺の空気を巻き込みながら、マス
ク1とワーク4との間隙に流れ込む。
【0006】この場合、マスク1とワーク4との離間対
向相当部分の領域サイズは、例えば300mm×300
mm〜500mm×500mmであり、それに対してそ
のマスク1とワーク4との間の近接間隔は、数mm〜十
数mmと狭いため、マスク1とワーク4との対向間隙内
に流れ込む窒素ガスN2 の流れが悪く、したがってマス
ク1とワーク4のそれぞれ界面に吸着している酸素やそ
の周囲の酸素を精度よく窒素N2 に置換するためには、
マスク1とワーク4との対向間隙内の窒素ガスN2 の流
れを良くして、マスク1とワーク4との対向間隙内にノ
ズル13によって噴出供給する窒素供給量の分布をなる
べく短時間で均一にすることが必要であり、短時間で効
率良く均一に置換操作する技術として本願出願人は先に
特願平5−72072号を出願している。
向相当部分の領域サイズは、例えば300mm×300
mm〜500mm×500mmであり、それに対してそ
のマスク1とワーク4との間の近接間隔は、数mm〜十
数mmと狭いため、マスク1とワーク4との対向間隙内
に流れ込む窒素ガスN2 の流れが悪く、したがってマス
ク1とワーク4のそれぞれ界面に吸着している酸素やそ
の周囲の酸素を精度よく窒素N2 に置換するためには、
マスク1とワーク4との対向間隙内の窒素ガスN2 の流
れを良くして、マスク1とワーク4との対向間隙内にノ
ズル13によって噴出供給する窒素供給量の分布をなる
べく短時間で均一にすることが必要であり、短時間で効
率良く均一に置換操作する技術として本願出願人は先に
特願平5−72072号を出願している。
【0007】本発明は、プロキシミティー(近接)露光
方式におけるパターン露光において不活性ガス置換方式
により酸素の遮断操作を行なう際に、マスク及びワーク
の界面、若しくは界面直近に存在する酸素をできるだけ
迅速に、且つ効率良く均一な分布状態の不活性ガスに置
換できるようにすることにある。
方式におけるパターン露光において不活性ガス置換方式
により酸素の遮断操作を行なう際に、マスク及びワーク
の界面、若しくは界面直近に存在する酸素をできるだけ
迅速に、且つ効率良く均一な分布状態の不活性ガスに置
換できるようにすることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
パターン露光用の光学マスクとワークとを互いに平行に
対向させ、該光学マスクとワークとの離間対向間隙の外
側より間隙内にエアーノズルから不活性ガスを噴出させ
て光学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス置換処
理した後、該光学マスクをワークの感光材面に近接乃至
接触させて露光する露光方法において、エアーノズルか
らの不活性ガス噴出量分布又は/及び不活性ガス噴射角
度を適宜調整して光学マスクとワークとの離間対向間隙
の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させることによ
り、光学マスクとワークとの平行対向面内での不活性ガ
ス噴出量の2次元的分布を均一にしつつ、光学マスクと
ワークとの対向界面を不活性ガス置換処理した後、紫外
線パターン露光若しくは電子線パターン露光することを
特徴とするパターン露光方法である。
パターン露光用の光学マスクとワークとを互いに平行に
対向させ、該光学マスクとワークとの離間対向間隙の外
側より間隙内にエアーノズルから不活性ガスを噴出させ
て光学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス置換処
理した後、該光学マスクをワークの感光材面に近接乃至
接触させて露光する露光方法において、エアーノズルか
らの不活性ガス噴出量分布又は/及び不活性ガス噴射角
度を適宜調整して光学マスクとワークとの離間対向間隙
の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させることによ
り、光学マスクとワークとの平行対向面内での不活性ガ
ス噴出量の2次元的分布を均一にしつつ、光学マスクと
ワークとの対向界面を不活性ガス置換処理した後、紫外
線パターン露光若しくは電子線パターン露光することを
特徴とするパターン露光方法である。
【0009】また、本発明の第2の発明は、露光用光源
を備え、且つパターン露光用の光学マスクとワークとを
互いに平行に離間乃至近接若しくは接触対向動作させる
それぞれマスクフレーム及びワークステージと、該光学
マスクとワークとの離間対向間隙の外側に不活性ガス噴
出用のエアーノズルを備えたパターン露光装置におい
て、エアーノズルは、その不活性ガス噴射角度と不活性
ガス噴出量分布のいずれか一方又は両方を適宜調整可能
であることを特徴とするパターン露光装置である。
を備え、且つパターン露光用の光学マスクとワークとを
互いに平行に離間乃至近接若しくは接触対向動作させる
それぞれマスクフレーム及びワークステージと、該光学
マスクとワークとの離間対向間隙の外側に不活性ガス噴
出用のエアーノズルを備えたパターン露光装置におい
て、エアーノズルは、その不活性ガス噴射角度と不活性
ガス噴出量分布のいずれか一方又は両方を適宜調整可能
であることを特徴とするパターン露光装置である。
【0010】また、本発明の第3の発明は、上記パター
ン露光装置において、平行に離間乃至近接若しくは接触
対向する光学マスクとワークとの外側周囲に2個乃至4
個以上の酸素濃度計を備え、エアーノズルの不活性ガス
噴射角度を調整するエアーノズル噴射角度回転手段と、
エアーノズルの不活性ガス噴出量分布を調整する不活性
ガス噴出量分布調整手段のいずれか一方若しくは両方を
備え、前記酸素濃度計による濃度検出信号に基づいて前
記エアーノズル噴射角度回転手段又は/及び不活性ガス
噴出量分布調整手段を動作して不活性ガス噴射角度又は
/及び不活性ガス噴出量分布を調整するようにしたこと
を特徴とするパターン露光装置である。
ン露光装置において、平行に離間乃至近接若しくは接触
対向する光学マスクとワークとの外側周囲に2個乃至4
個以上の酸素濃度計を備え、エアーノズルの不活性ガス
噴射角度を調整するエアーノズル噴射角度回転手段と、
エアーノズルの不活性ガス噴出量分布を調整する不活性
ガス噴出量分布調整手段のいずれか一方若しくは両方を
備え、前記酸素濃度計による濃度検出信号に基づいて前
記エアーノズル噴射角度回転手段又は/及び不活性ガス
噴出量分布調整手段を動作して不活性ガス噴射角度又は
/及び不活性ガス噴出量分布を調整するようにしたこと
を特徴とするパターン露光装置である。
【0011】
【実施例】本発明における第1の発明の露光方法を、実
施例に従って以下に詳細に説明すれば、図1は本発明の
不活性ガス置換方式による酸素遮断操作を行なって光学
マスクからワークに対してパターン露光する場合におけ
る本発明方法の一実施例におけるパターン露光方法を示
す側断面図である。
施例に従って以下に詳細に説明すれば、図1は本発明の
不活性ガス置換方式による酸素遮断操作を行なって光学
マスクからワークに対してパターン露光する場合におけ
る本発明方法の一実施例におけるパターン露光方法を示
す側断面図である。
【0012】エアーノズル3を適宜回転させて、そのエ
アー噴出口3aの回転方向(図1のエアーノズル3近傍
に記した矢印方向)における位相を適宜角度に設定し
て、光学マスク1とワーク4との離間対向間隙内に噴出
させる不活性ガスN2 (噴出エアーa)の噴射角度(光
学マスク面に対する噴射角度、若しくはワーク面に対す
る噴射角度)を調整した後に、不活性ガスN2 を適宜時
間(例えば数秒間〜数分間)噴出させてパターン露光を
行なう方法である。
アー噴出口3aの回転方向(図1のエアーノズル3近傍
に記した矢印方向)における位相を適宜角度に設定し
て、光学マスク1とワーク4との離間対向間隙内に噴出
させる不活性ガスN2 (噴出エアーa)の噴射角度(光
学マスク面に対する噴射角度、若しくはワーク面に対す
る噴射角度)を調整した後に、不活性ガスN2 を適宜時
間(例えば数秒間〜数分間)噴出させてパターン露光を
行なう方法である。
【0013】図1において、マスクフレーム2に装着さ
れた光学マスク(光学的マスク)1と、それに平行に離
間対向するワーク4(例えばガラス基板上に光重合硬化
型感光材を塗布したもの)との対向間隙の左右外側近傍
に、それぞれ1本ずつ2本一対の窒素ガスN2 噴出用の
エアーノズル3(例えば中空バー状のもの)を設け、該
エアーノズル3のワーク4と対向する一方の部位に窒素
ガスN2 を噴出させる小孔状又は細いスリット状のエア
ー噴出口3aを設ける。
れた光学マスク(光学的マスク)1と、それに平行に離
間対向するワーク4(例えばガラス基板上に光重合硬化
型感光材を塗布したもの)との対向間隙の左右外側近傍
に、それぞれ1本ずつ2本一対の窒素ガスN2 噴出用の
エアーノズル3(例えば中空バー状のもの)を設け、該
エアーノズル3のワーク4と対向する一方の部位に窒素
ガスN2 を噴出させる小孔状又は細いスリット状のエア
ー噴出口3aを設ける。
【0014】図2は図1の概要平面図であり、窒素ガス
N2 の噴出量(噴出エアーaの噴出量)は中央部で多い
ことが好ましく、エアー噴出口3aの小孔の口径又はス
リット幅は、中央部から外側にかけて順次細くすること
が好ましいが、本発明においてはこれに限定するもので
はない。
N2 の噴出量(噴出エアーaの噴出量)は中央部で多い
ことが好ましく、エアー噴出口3aの小孔の口径又はス
リット幅は、中央部から外側にかけて順次細くすること
が好ましいが、本発明においてはこれに限定するもので
はない。
【0015】該エアー噴出口3aからのエアー噴出量
は、該噴出口3aの小孔の口径、又はスリット幅を適宜
調整することによって可能であり、例えば、エアーノズ
ル3(中空パイプ本体)の周壁部に貫設した螺子孔部
に、各種口径又はスリット幅の小孔又はスリットを貫設
したノズルアタッチメント3bを取付け取外し可能に螺
着してエアー噴出口3aを形成し、このノズルアタッチ
メント3bを適宜交換することによってエアー噴出口3
aの口径又はスリット幅を調整するようにしてもよい
し、あるいはエアー噴出口3aの内側に適宜マニュアル
にて若しくは自動的に調整可能な噴出量調整バルブを内
装することによって可能である。
は、該噴出口3aの小孔の口径、又はスリット幅を適宜
調整することによって可能であり、例えば、エアーノズ
ル3(中空パイプ本体)の周壁部に貫設した螺子孔部
に、各種口径又はスリット幅の小孔又はスリットを貫設
したノズルアタッチメント3bを取付け取外し可能に螺
着してエアー噴出口3aを形成し、このノズルアタッチ
メント3bを適宜交換することによってエアー噴出口3
aの口径又はスリット幅を調整するようにしてもよい
し、あるいはエアー噴出口3aの内側に適宜マニュアル
にて若しくは自動的に調整可能な噴出量調整バルブを内
装することによって可能である。
【0016】例えば、一実施例において、カラーフィル
ター製造等に使用される光学マスク1は、通常450m
m×450mm以上のサイズであり、上記エアーノズル
3を使用する際におけるマスク1とワーク4との対向間
隙は20mm以下、好ましくは10mm以下である。
ター製造等に使用される光学マスク1は、通常450m
m×450mm以上のサイズであり、上記エアーノズル
3を使用する際におけるマスク1とワーク4との対向間
隙は20mm以下、好ましくは10mm以下である。
【0017】窒素ガスN2 噴出用のエアーノズル3の断
面形状は何ら制限は無いが、外径は極力小さいことが好
ましく、例えば10mm未満が好ましいがこれに限定さ
れるものではない。
面形状は何ら制限は無いが、外径は極力小さいことが好
ましく、例えば10mm未満が好ましいがこれに限定さ
れるものではない。
【0018】次に、エアーノズル3からの窒素ガスN2
の噴出工程から露光工程までを、図1、図2、図3(側
断面図)に従って以下に順を追って説明する。
の噴出工程から露光工程までを、図1、図2、図3(側
断面図)に従って以下に順を追って説明する。
【0019】図1において、光学マスク(光学的マス
ク)1と、それに平行に離間対向するワーク4(例えば
ガラス基板上に光重合硬化型感光材を塗布したもの)と
の対向間隙の外側近傍に設置されている1対のエアーノ
ズル3,3のそれぞれエアー噴出口3a(ノズルアタッ
チメント3b)より、ガス噴出流速を高速にして窒素ガ
スN2 (噴出エアーa)を、適宜噴射角度にて(例えば
光学マスク1とワーク4とに対して平行方向、若しくは
光学マスク1又は/及びワーク4に向けて)噴出させ
る。なお、エアーノズル3の移動速度は、例えば100
mm/秒〜200mm/秒が適当であり、移動を終了す
るまでの窒素ガスN2 の噴出時間は、およそ3秒程度で
ある。
ク)1と、それに平行に離間対向するワーク4(例えば
ガラス基板上に光重合硬化型感光材を塗布したもの)と
の対向間隙の外側近傍に設置されている1対のエアーノ
ズル3,3のそれぞれエアー噴出口3a(ノズルアタッ
チメント3b)より、ガス噴出流速を高速にして窒素ガ
スN2 (噴出エアーa)を、適宜噴射角度にて(例えば
光学マスク1とワーク4とに対して平行方向、若しくは
光学マスク1又は/及びワーク4に向けて)噴出させ
る。なお、エアーノズル3の移動速度は、例えば100
mm/秒〜200mm/秒が適当であり、移動を終了す
るまでの窒素ガスN2 の噴出時間は、およそ3秒程度で
ある。
【0020】続いて、エアー噴出を停止した後に、ある
いはエアー噴出を継続した状態で、図3に示すように、
直ちに光学マスク1とワーク4とを接近させてプロキシ
ミティー(近接)状態にして、適宜アライメント工程に
よって光学マスク1とワーク4との互いの対向面内での
相対的位置決め(露光のための見当整合)を素早く行っ
た後に、直ちに紫外線露光、若しくは電子線露光する。
いはエアー噴出を継続した状態で、図3に示すように、
直ちに光学マスク1とワーク4とを接近させてプロキシ
ミティー(近接)状態にして、適宜アライメント工程に
よって光学マスク1とワーク4との互いの対向面内での
相対的位置決め(露光のための見当整合)を素早く行っ
た後に、直ちに紫外線露光、若しくは電子線露光する。
【0021】なお、プロキシミティー状態にした後のマ
スク1とワーク4との対向間隙は、例えば0.1mm以
下であり、この近接間隙を保持した状態における露光工
程に要する数秒間では、その光学マスク1とワーク4と
の近接対向間隙内に外気の流れはほとんどみられないも
のである。
スク1とワーク4との対向間隙は、例えば0.1mm以
下であり、この近接間隙を保持した状態における露光工
程に要する数秒間では、その光学マスク1とワーク4と
の近接対向間隙内に外気の流れはほとんどみられないも
のである。
【0022】露光が終了した後は、マスク1とワーク4
とを互いに離反させて、元の平行な離間対向状態(図1
参照)に戻す。なお、ワークステージ5上のワーク4
は、適宜次工程に搬送される。
とを互いに離反させて、元の平行な離間対向状態(図1
参照)に戻す。なお、ワークステージ5上のワーク4
は、適宜次工程に搬送される。
【0023】なお、エアーノズル3は、ワーク4がワー
クステージ5上に搬入される以前にも適宜窒素ガスN2
を噴出させることは可能である。
クステージ5上に搬入される以前にも適宜窒素ガスN2
を噴出させることは可能である。
【0024】上記第1の発明のパターン露光方法におけ
る他の実施例としては、図1に示す光学マスク1とワー
ク4との離間対向間隙の外側に、検出センサー先端部を
備えた酸素濃度計6を設け、不活性ガスN2 を噴出させ
ながら、光学マスク1とワーク4との離間対向間隙近傍
の酸素濃度を検出して、その検出信号(又は検出濃度
値)に基づいて、エアーノズル3からの不活性ガスの噴
出量や噴射角度を適宜に調整するようにするものであ
る。
る他の実施例としては、図1に示す光学マスク1とワー
ク4との離間対向間隙の外側に、検出センサー先端部を
備えた酸素濃度計6を設け、不活性ガスN2 を噴出させ
ながら、光学マスク1とワーク4との離間対向間隙近傍
の酸素濃度を検出して、その検出信号(又は検出濃度
値)に基づいて、エアーノズル3からの不活性ガスの噴
出量や噴射角度を適宜に調整するようにするものであ
る。
【0025】上記酸素濃度計6は、図1、図2、図3に
示すように、例えばワークステージ5の一部に切欠部5
aを設け、該切欠部5a内に酸素濃度計6が嵌挿するよ
うに設置するか、あるいは図示しないがマスクフレーム
2側に支持して取付けるようにしてもよい。
示すように、例えばワークステージ5の一部に切欠部5
aを設け、該切欠部5a内に酸素濃度計6が嵌挿するよ
うに設置するか、あるいは図示しないがマスクフレーム
2側に支持して取付けるようにしてもよい。
【0026】次に、本発明における第2の発明の露光装
置を、実施例に従って以下に詳細に説明する。図4は、
本発明装置の一実施例の概要側断面図であり、マスクフ
レーム2と、それと平行に離間対向して、互いに相対的
に接近乃至は離反動作するするワークステージ5とを備
える。
置を、実施例に従って以下に詳細に説明する。図4は、
本発明装置の一実施例の概要側断面図であり、マスクフ
レーム2と、それと平行に離間対向して、互いに相対的
に接近乃至は離反動作するするワークステージ5とを備
える。
【0027】該マスクフレーム2とワークステージ5の
相対的な接近乃至離反動作は、エアーシリンダー、モー
ターにより駆動動作させ、該マスクフレーム2とワーク
ステージ5との両方に対して垂直方向の適宜ガイド(図
示せず)に沿って、接近乃至離反動作するようにしたも
のである。
相対的な接近乃至離反動作は、エアーシリンダー、モー
ターにより駆動動作させ、該マスクフレーム2とワーク
ステージ5との両方に対して垂直方向の適宜ガイド(図
示せず)に沿って、接近乃至離反動作するようにしたも
のである。
【0028】マスクフレーム2は、四角形状の露光用窓
部2aを備え、該マスクフレーム2の下面にマスク1を
吸着固定するためのエアー吸着によるマスク装着手段2
0を備え、該マスク装着手段20は、マスクフレーム2
の下面に孔設されたスリット状、長孔状、小孔状の複数
の吸着孔21と、該吸着孔21に連通するエアー通路2
2と、エアー吸引管23とを備え、エアー吸引管23よ
り適宜バキュームポンプ(図示せず)にてエアーを吸引
することによって吸着孔21のバキューム力によってマ
スク1をマスクフレーム下面に吸着固定するものであ
る。なお、吸着孔21の周囲には、適宜弾力性のあるゴ
ム製、プラスチック製のリング状のシール材(図示せ
ず)を設け、吸着孔21とマスク面との間で吸引エアー
の洩れが生じないようにすることは可能である。
部2aを備え、該マスクフレーム2の下面にマスク1を
吸着固定するためのエアー吸着によるマスク装着手段2
0を備え、該マスク装着手段20は、マスクフレーム2
の下面に孔設されたスリット状、長孔状、小孔状の複数
の吸着孔21と、該吸着孔21に連通するエアー通路2
2と、エアー吸引管23とを備え、エアー吸引管23よ
り適宜バキュームポンプ(図示せず)にてエアーを吸引
することによって吸着孔21のバキューム力によってマ
スク1をマスクフレーム下面に吸着固定するものであ
る。なお、吸着孔21の周囲には、適宜弾力性のあるゴ
ム製、プラスチック製のリング状のシール材(図示せ
ず)を設け、吸着孔21とマスク面との間で吸引エアー
の洩れが生じないようにすることは可能である。
【0029】前記マスクフレーム2の露光用窓部2a上
方には、ハロゲン、キセノン、アーク等の紫外線照射用
の点光源、若しくは紫外線、電子線照射用の走査光源2
8を備える。
方には、ハロゲン、キセノン、アーク等の紫外線照射用
の点光源、若しくは紫外線、電子線照射用の走査光源2
8を備える。
【0030】ワークステージ5は、その上面に平坦面を
備え、該平坦面には、ワーク4を吸着固定するためのエ
アー吸着手段14を備え、該エアー吸着手段24は、ワ
ークステージ5上面に孔設された複数の吸引孔25と、
該吸引孔25と連通するエアー流路26と、エアー吸引
管27とを備え、エアー吸引管27よりエアーを吸引す
ることによって吸着孔25のバキューム力によってワー
ク4をワークステージ5上に装着固定するものである。
備え、該平坦面には、ワーク4を吸着固定するためのエ
アー吸着手段14を備え、該エアー吸着手段24は、ワ
ークステージ5上面に孔設された複数の吸引孔25と、
該吸引孔25と連通するエアー流路26と、エアー吸引
管27とを備え、エアー吸引管27よりエアーを吸引す
ることによって吸着孔25のバキューム力によってワー
ク4をワークステージ5上に装着固定するものである。
【0031】図5は本発明装置の他の実施例の概要側断
面図であり、マスクフレーム2と、それと平行に離間対
向して、互いに相対的に接近乃至は離反動作するするワ
ークステージ5とを備え、マスクフレーム2には、該マ
スクフレーム2の下面にマスク1を装着固定するための
メカニカルクランプによるマスク装着手段30を備え
る。
面図であり、マスクフレーム2と、それと平行に離間対
向して、互いに相対的に接近乃至は離反動作するするワ
ークステージ5とを備え、マスクフレーム2には、該マ
スクフレーム2の下面にマスク1を装着固定するための
メカニカルクランプによるマスク装着手段30を備え
る。
【0032】該マスク装着手段30は、マスクフレーム
2の下面と相対する平行なクランプ板31と、該クラン
プ板31を上下動作させる作動シャフト32と、該シャ
フト32を駆動動作させる駆動源33を備える。
2の下面と相対する平行なクランプ板31と、該クラン
プ板31を上下動作させる作動シャフト32と、該シャ
フト32を駆動動作させる駆動源33を備える。
【0033】作動シャフト32は、例えばエアーシリン
ダーの作動ロッドであり、前記クランプ板31を該作動
シャフト32に取付けることによって、クランプ板31
を上下動作可能にして、マスクフレーム2下面とクラン
プ板31との間にマスク1を挟み込んで装着固定するも
のである。
ダーの作動ロッドであり、前記クランプ板31を該作動
シャフト32に取付けることによって、クランプ板31
を上下動作可能にして、マスクフレーム2下面とクラン
プ板31との間にマスク1を挟み込んで装着固定するも
のである。
【0034】また、例えば、前記作動シャフト32は、
モーターにて駆動回転するネジシャフトであり前記クラ
ンプ板31を該ネジシャフトに螺着し、マスクフレーム
2の一部に適宜垂直ガイド(図示せず)を設けることに
よって、ネジシャフトの正回転、逆回転によってクラン
プ板31を上下動作させることができ、マスクフレーム
2下面とクランプ板31との間にマスク1を挟み込んで
装着固定するようにしてもよい。
モーターにて駆動回転するネジシャフトであり前記クラ
ンプ板31を該ネジシャフトに螺着し、マスクフレーム
2の一部に適宜垂直ガイド(図示せず)を設けることに
よって、ネジシャフトの正回転、逆回転によってクラン
プ板31を上下動作させることができ、マスクフレーム
2下面とクランプ板31との間にマスク1を挟み込んで
装着固定するようにしてもよい。
【0035】次に、本発明装置の一実施例において、エ
アーノズル3のエアー噴出量分布を調整するためのエア
ー噴出量調整機構、及びエアー噴射角度を調整するため
の回転機構について以下に説明すれば、図6は2本1対
のエアーノズル3,3のうちの1本のエアーノズル3の
エアー噴出量調整機構を示す概要平面断面図、図7は1
本のエアーノズル3のエアー噴射角度を調整するための
回転機構を示す概要平面図である。
アーノズル3のエアー噴出量分布を調整するためのエア
ー噴出量調整機構、及びエアー噴射角度を調整するため
の回転機構について以下に説明すれば、図6は2本1対
のエアーノズル3,3のうちの1本のエアーノズル3の
エアー噴出量調整機構を示す概要平面断面図、図7は1
本のエアーノズル3のエアー噴射角度を調整するための
回転機構を示す概要平面図である。
【0036】エアー噴出量調整機構は、図6に示すよう
に、エアーノズル3の一端部及び他端部は、ワークステ
ージ5を昇降可能に支持する装置本体フレームに一体に
支持されたブラケット(図示せず)に取付け支持されて
いる。
に、エアーノズル3の一端部及び他端部は、ワークステ
ージ5を昇降可能に支持する装置本体フレームに一体に
支持されたブラケット(図示せず)に取付け支持されて
いる。
【0037】エアーノズル3の周壁部には、そのエアー
ノズル3の長手方向に沿って、等間隔等の適宜間隔に、
エアー噴出口3aが貫設されたノズルアタッチメント3
bが螺着されている。
ノズル3の長手方向に沿って、等間隔等の適宜間隔に、
エアー噴出口3aが貫設されたノズルアタッチメント3
bが螺着されている。
【0038】該ノズルアタッチメント3bに貫設したエ
アー噴出口3aは、そのエアーノズル3の中空部3cに
向かって拡がるテーパー孔3dを備え、該テーパー孔3
dと対向するエアーノズル3の周壁部には螺子孔3eを
備え、該螺子孔3eに、該テーパー孔3d内周面に密に
対応する先細り先端部41を備えた螺子シャフト40が
回転可能に螺着され、該螺子シャフト40の末端部に
は、該螺子シャフト40の長手方向を回転軸とする駆動
伝達ギア42が取付け固定され、該伝達ギア42に駆動
ギア43が噛合され、該駆動ギア43を電動モーター、
若しくはロータリーエアーシリンダー等の駆動源44に
よって適宜回転数で正回転、及び逆回転させることによ
って螺子シャフト40を回転させて進退動作させて、そ
の先細り先端部41を前記テーパー孔3d内周面に対し
て接近乃至離間させて、適宜エアー噴出量を調整するも
のである。
アー噴出口3aは、そのエアーノズル3の中空部3cに
向かって拡がるテーパー孔3dを備え、該テーパー孔3
dと対向するエアーノズル3の周壁部には螺子孔3eを
備え、該螺子孔3eに、該テーパー孔3d内周面に密に
対応する先細り先端部41を備えた螺子シャフト40が
回転可能に螺着され、該螺子シャフト40の末端部に
は、該螺子シャフト40の長手方向を回転軸とする駆動
伝達ギア42が取付け固定され、該伝達ギア42に駆動
ギア43が噛合され、該駆動ギア43を電動モーター、
若しくはロータリーエアーシリンダー等の駆動源44に
よって適宜回転数で正回転、及び逆回転させることによ
って螺子シャフト40を回転させて進退動作させて、そ
の先細り先端部41を前記テーパー孔3d内周面に対し
て接近乃至離間させて、適宜エアー噴出量を調整するも
のである。
【0039】次に、エアー噴射角度を調整するための回
転機構は、図7に示すように、エアーノズル3の一端部
と他端部がそれぞれベアリング51を介して軸受部5
0,50に回転可能に軸支して取付けられている。
転機構は、図7に示すように、エアーノズル3の一端部
と他端部がそれぞれベアリング51を介して軸受部5
0,50に回転可能に軸支して取付けられている。
【0040】それぞれ前記軸受部50,50は、ワーク
ステージ5を昇降可能に支持する装置本体フレームに一
体に支持されたブラケット(図示せず)に取付け支持さ
れている。
ステージ5を昇降可能に支持する装置本体フレームに一
体に支持されたブラケット(図示せず)に取付け支持さ
れている。
【0041】エアーノズル3の一端部はエアー(不活性
ガス)を流入させるホースと接続した流入管45を備
え、その他端部は、エアーノズル3の長手方向を回転軸
方向とする駆動伝達ギア42が取付け固定され、該伝達
ギア42に駆動ギア43が噛合され、該駆動ギア43を
適宜変速ギアを介して電動モーター、若しくはロータリ
ーエアーシリンダー等の駆動源44によって1回転以内
で正回転、及び逆回転させることによってエアーノズル
3を回転させ、適宜エアー噴射角度を調整するものであ
る。
ガス)を流入させるホースと接続した流入管45を備
え、その他端部は、エアーノズル3の長手方向を回転軸
方向とする駆動伝達ギア42が取付け固定され、該伝達
ギア42に駆動ギア43が噛合され、該駆動ギア43を
適宜変速ギアを介して電動モーター、若しくはロータリ
ーエアーシリンダー等の駆動源44によって1回転以内
で正回転、及び逆回転させることによってエアーノズル
3を回転させ、適宜エアー噴射角度を調整するものであ
る。
【0042】
【作用】本発明は、露光直前において、光学マスクとワ
ークとの離間対向間隙内に不活性ガスを噴出させて不活
性ガス置換処理する際に、適宜不活性ガス噴出量分布を
適宜調整するか、あるいは適宜不活性ガス噴射角度を適
宜調整した上で、光学マスクとワークとの対向界面に対
する不活性ガスの噴出置換操作を行なうことによって、
対向界面に対してできるかぎり均一な不活性ガスの2次
元的分布をもった置換操作ができ、界面、及び界面直近
に存在する空気、即ち光重合硬化反応を阻害する酸素を
強制的に且つ従来よりも均一に剥ぎ取る作用があり、従
来よりも節約された比較的少量の不活性ガス(窒素ガス
N2 )の使用量によって、短時間に均一且つ高濃度の不
活性ガス(窒素ガスN2 )雰囲気を作ることができ、従
来よりも精度のあるガス置換操作ができるものである。
ークとの離間対向間隙内に不活性ガスを噴出させて不活
性ガス置換処理する際に、適宜不活性ガス噴出量分布を
適宜調整するか、あるいは適宜不活性ガス噴射角度を適
宜調整した上で、光学マスクとワークとの対向界面に対
する不活性ガスの噴出置換操作を行なうことによって、
対向界面に対してできるかぎり均一な不活性ガスの2次
元的分布をもった置換操作ができ、界面、及び界面直近
に存在する空気、即ち光重合硬化反応を阻害する酸素を
強制的に且つ従来よりも均一に剥ぎ取る作用があり、従
来よりも節約された比較的少量の不活性ガス(窒素ガス
N2 )の使用量によって、短時間に均一且つ高濃度の不
活性ガス(窒素ガスN2 )雰囲気を作ることができ、従
来よりも精度のあるガス置換操作ができるものである。
【0043】
【発明の効果】本発明のパターン露光方法及び露光装置
は、プロキシミティー(近接)露光方式におけるパター
ン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮断操
作を行なう際において、光学マスク及びワークの界面、
若しくは界面直近に存在する酸素を従来よりも短時間で
効率良く均一に不活性ガスに置換できる効果があり、カ
ラーフィルタパターンの露光形成等の各種パターン形成
に効果的である
は、プロキシミティー(近接)露光方式におけるパター
ン露光において不活性ガス置換方式により酸素の遮断操
作を行なう際において、光学マスク及びワークの界面、
若しくは界面直近に存在する酸素を従来よりも短時間で
効率良く均一に不活性ガスに置換できる効果があり、カ
ラーフィルタパターンの露光形成等の各種パターン形成
に効果的である
【図1】本発明のパターン露光方法及び露光装置を説明
する概要側断面図である。
する概要側断面図である。
【図2】本発明のパターン露光方法及び露光装置を説明
する概要平面図である。
する概要平面図である。
【図3】本発明のパターン露光方法及び露光装置の動作
を説明する概要平面図である。
を説明する概要平面図である。
【図4】本発明のパターン露光装置の一実施例を説明す
る概要側断面図である。
る概要側断面図である。
【図5】本発明のパターン露光装置の他の実施例を説明
する概要平面図である。
する概要平面図である。
【図6】本発明のパターン露光装置のエアーノズルのエ
アー噴出量調整機構を説明する概要平面断面図である。
アー噴出量調整機構を説明する概要平面断面図である。
【図7】本発明のパターン露光装置のエアーノズルのエ
アー噴射角度調整機構を説明する概要平面図である。
アー噴射角度調整機構を説明する概要平面図である。
【図8】従来のパターン露光方法及び露光装置を説明す
る概要側断面図である。
る概要側断面図である。
【図9】従来のパターン露光方法及び露光装置を説明す
る概要平面図である。
る概要平面図である。
a…噴出エアー 1…光学マスク 2…マスクフレーム
2a…露光用窓部 3…エアーノズル 3a…エアー噴出口 3b…ノズル
アタッチメント 3c…中空部 3d…テーパー孔 3e…螺子孔 4…
ワーク 5…ワークステージ 5a…切欠部 6…酸素濃度計 12…マスクフレーム 13…ノズル 15…ワークス
テージ 20…マスク装着手段 21…吸引孔 22…エアー流
路 23…吸引管 24…装着固定手段 25…吸引孔 26…エアー流路
27…吸引管 28…露光用光源 30…マスク装着手段 31…クラ
ンプ板 32…作動シャフト 33…駆動源 40…螺子シャフ
ト 41…先細り先端部 42…駆動伝達ギア 43…駆動ギア 44…駆動源
50…軸受部 51…ベアリング 52…駆動伝達ギア 53…駆動ギ
ア 54…駆動源 55…不活性ガス流入管
2a…露光用窓部 3…エアーノズル 3a…エアー噴出口 3b…ノズル
アタッチメント 3c…中空部 3d…テーパー孔 3e…螺子孔 4…
ワーク 5…ワークステージ 5a…切欠部 6…酸素濃度計 12…マスクフレーム 13…ノズル 15…ワークス
テージ 20…マスク装着手段 21…吸引孔 22…エアー流
路 23…吸引管 24…装着固定手段 25…吸引孔 26…エアー流路
27…吸引管 28…露光用光源 30…マスク装着手段 31…クラ
ンプ板 32…作動シャフト 33…駆動源 40…螺子シャフ
ト 41…先細り先端部 42…駆動伝達ギア 43…駆動ギア 44…駆動源
50…軸受部 51…ベアリング 52…駆動伝達ギア 53…駆動ギ
ア 54…駆動源 55…不活性ガス流入管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三田 とも子 東京都台東区台東一丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】パターン露光用の光学マスクとワークとを
互いに平行に対向させ、該光学マスクとワークとの離間
対向間隙の外側より間隙内にエアーノズルから不活性ガ
スを噴出させて光学マスクとワークとの対向界面を不活
性ガス置換処理した後、該光学マスクをワークの感光材
面に近接乃至接触させて露光する露光方法において、エ
アーノズルからの不活性ガス噴出量分布又は/及び不活
性ガス噴射角度を適宜調整して光学マスクとワークとの
離間対向間隙の外側より間隙内に不活性ガスを噴出させ
ることにより、光学マスクとワークとの平行対向面内で
の不活性ガス噴出量の2次元的分布を均一にしつつ、光
学マスクとワークとの対向界面を不活性ガス置換処理し
た後、紫外線パターン露光若しくは電子線パターン露光
することを特徴とするパターン露光方法。 - 【請求項2】露光用光源を備え、且つパターン露光用の
光学マスクとワークとを互いに平行に離間乃至近接若し
くは接触対向動作させるそれぞれマスクフレーム及びワ
ークステージと、該光学マスクとワークとの離間対向間
隙の外側に不活性ガス噴出用のエアーノズルを備えたパ
ターン露光装置において、エアーノズルは、その不活性
ガス噴射角度と不活性ガス噴出量分布のいずれか一方又
は両方を適宜調整可能であることを特徴とするパターン
露光装置。 - 【請求項3】前記パターン露光装置において、平行に離
間乃至近接若しくは接触対向する光学マスクとワークと
の外側周囲に2個乃至4個以上の酸素濃度計を備え、エ
アーノズルの不活性ガス噴射角度を調整するエアーノズ
ル噴射角度回転手段と、エアーノズルの不活性ガス噴出
量分布を調整する不活性ガス噴出量分布調整手段のいず
れか一方若しくは両方を備え、前記酸素濃度計による濃
度検出信号に基づいて前記エアーノズル噴射角度回転手
段又は/及び不活性ガス噴出量分布調整手段を動作して
不活性ガス噴射角度又は/及び不活性ガス噴出量分布を
調整するようにしたことを特徴とするパターン露光装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23967893A JP2947018B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | パターン露光方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23967893A JP2947018B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | パターン露光方法及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0792317A true JPH0792317A (ja) | 1995-04-07 |
JP2947018B2 JP2947018B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=17048288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23967893A Expired - Lifetime JP2947018B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | パターン露光方法及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2947018B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH104064A (ja) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Toshiba Mach Co Ltd | 枚葉式減圧cvd装置 |
JP2001168027A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-06-22 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ装置 |
JP2004226897A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
WO2007094119A1 (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Fujifilm Corporation | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び該カラーフィルタを有する表示装置 |
US7508487B2 (en) | 2000-06-01 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2012177817A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置 |
WO2016107714A1 (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | Asml Holding N.V. | Reticle cooling by non-uniform gas flow |
CN107976868A (zh) * | 2016-10-21 | 2018-05-01 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法 |
WO2018173344A1 (ja) * | 2017-03-23 | 2018-09-27 | 株式会社Screenホールディングス | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 |
JP2019001115A (ja) * | 2017-06-19 | 2019-01-10 | コニカミノルタ株式会社 | 活性エネルギー線照射装置及び画像形成装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102098558B1 (ko) * | 2012-10-23 | 2020-04-08 | 삼성전자 주식회사 | 리소그래피 장치 및 방법과 스테이지 시스템 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP23967893A patent/JP2947018B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH104064A (ja) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Toshiba Mach Co Ltd | 枚葉式減圧cvd装置 |
JP2001168027A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-06-22 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ装置 |
US7508487B2 (en) | 2000-06-01 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP2004226897A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
WO2007094119A1 (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Fujifilm Corporation | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び該カラーフィルタを有する表示装置 |
JP2012177817A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置 |
WO2016107714A1 (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | Asml Holding N.V. | Reticle cooling by non-uniform gas flow |
JP2018500597A (ja) * | 2014-12-31 | 2018-01-11 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | 不均一なガス流によるレチクル冷却 |
US10423081B2 (en) | 2014-12-31 | 2019-09-24 | Asml Holding N.V. | Reticle cooling by non-uniform gas flow |
CN107976868A (zh) * | 2016-10-21 | 2018-05-01 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法 |
WO2018173344A1 (ja) * | 2017-03-23 | 2018-09-27 | 株式会社Screenホールディングス | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 |
JP2018159828A (ja) * | 2017-03-23 | 2018-10-11 | 株式会社Screenホールディングス | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 |
JP2019001115A (ja) * | 2017-06-19 | 2019-01-10 | コニカミノルタ株式会社 | 活性エネルギー線照射装置及び画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2947018B2 (ja) | 1999-09-13 |
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