JPH0789043B2 - シエアリング干渉計 - Google Patents
シエアリング干渉計Info
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- JPH0789043B2 JPH0789043B2 JP60269319A JP26931985A JPH0789043B2 JP H0789043 B2 JPH0789043 B2 JP H0789043B2 JP 60269319 A JP60269319 A JP 60269319A JP 26931985 A JP26931985 A JP 26931985A JP H0789043 B2 JPH0789043 B2 JP H0789043B2
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000010008 shearing Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000005311 autocorrelation function Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0215—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods by shearing interferometric methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、被検面によつて反射した光束を2つに分ける
ことにより測定波面を2分割し、これらの測定波面を互
いに横にずらしして干渉させるシエアリング干渉計に関
し,特に互いにずらされた2つの測定波面のずれ量,す
なわちシエア量を高精度に測定し得るようにしたもので
ある。
ことにより測定波面を2分割し、これらの測定波面を互
いに横にずらしして干渉させるシエアリング干渉計に関
し,特に互いにずらされた2つの測定波面のずれ量,す
なわちシエア量を高精度に測定し得るようにしたもので
ある。
シエアリング干渉計は,基準参照面を用いず、被測定波
面を2つに分け、横ずらしを与えて自分自身で干渉を起
こさせる干渉計で,参照用原器を必要としないため、干
渉計のコストを低減できる,シエア量を変化させること
によつて得られる干渉縞の本数を調整でき、シエア量を
小さくとれば干渉縞の間隔が混み合つて測定が不可能に
なるようなことがない,全反射鏡を前後に数分の一波長
刻みで動かして縞走査すると、参照光と被検光の位相が
全反射鏡の移動量に応じて変化するため、百分の一波長
程度の読取り精度が得られるなどの優れた特徴を有し,
特にレンズ,鏡等の比較的収差の大きい光学部品の面形
状,例えば球面,非球面の測定に有利とされる。
面を2つに分け、横ずらしを与えて自分自身で干渉を起
こさせる干渉計で,参照用原器を必要としないため、干
渉計のコストを低減できる,シエア量を変化させること
によつて得られる干渉縞の本数を調整でき、シエア量を
小さくとれば干渉縞の間隔が混み合つて測定が不可能に
なるようなことがない,全反射鏡を前後に数分の一波長
刻みで動かして縞走査すると、参照光と被検光の位相が
全反射鏡の移動量に応じて変化するため、百分の一波長
程度の読取り精度が得られるなどの優れた特徴を有し,
特にレンズ,鏡等の比較的収差の大きい光学部品の面形
状,例えば球面,非球面の測定に有利とされる。
シエアリング干渉計によつて各種被測定物を測定する場
合,シエア量を測定する必要があり、この測定精度が干
渉計自身の精度を決定する。特に球面からのずれが大き
い非球面を測定する場合,シエア量は小さくなくてはな
らず,シエア量測定の絶対精度を必要とする。しかし、
シエア量は直接測定できず、通常ミラーの傾き状態から
算出しているが,干渉計の周囲温度の変化や,各光学素
子の取付け誤差等により、ミラーの傾き状態に対してシ
エア量が必ずしも対応づけられるとは限らず、このため
シエア量の測定が不正確になり、分割された両測定波面
の実際のシエア量を知ることが難しく,測定誤差が大き
くなる虞れがあつた。
合,シエア量を測定する必要があり、この測定精度が干
渉計自身の精度を決定する。特に球面からのずれが大き
い非球面を測定する場合,シエア量は小さくなくてはな
らず,シエア量測定の絶対精度を必要とする。しかし、
シエア量は直接測定できず、通常ミラーの傾き状態から
算出しているが,干渉計の周囲温度の変化や,各光学素
子の取付け誤差等により、ミラーの傾き状態に対してシ
エア量が必ずしも対応づけられるとは限らず、このため
シエア量の測定が不正確になり、分割された両測定波面
の実際のシエア量を知ることが難しく,測定誤差が大き
くなる虞れがあつた。
そこで,シエア量を直接測定する方法として、2分され
た後、互いに重ね合わされた2つの光束の位置を測定
し,2分割された両測定波面のずれ量を測定するための位
置センサを設けてなるシエアリング干渉計(特開昭60-1
07507号公報)が提案されている。
た後、互いに重ね合わされた2つの光束の位置を測定
し,2分割された両測定波面のずれ量を測定するための位
置センサを設けてなるシエアリング干渉計(特開昭60-1
07507号公報)が提案されている。
しかしながら、位置センサによるシエア量の直接測定
は、エツジがない場合の測定が困難である。すなわち、
一般にシエアリング干渉計による形状測定は、鏡面に限
られており、その反射面に、一般の像のような明るさの
明暗が少ない。このため、第6図(a)に示したように
被測定物が測定範囲内にある場合,被測定物の外形によ
り像にエツジができ,シヤツターで光束の片側ずつを隠
すことにより、そのエツジのずれ量を測定し、ずれ量が
わかる。しかし、もし同図(b)に示すように被測定物
の中心部のみを拡大して測定したい場合,測定範囲内に
ズレを表わす標的がなく、測定を困難にする。なお、第
6図において四角で囲つた部分は測定範囲を示す。
は、エツジがない場合の測定が困難である。すなわち、
一般にシエアリング干渉計による形状測定は、鏡面に限
られており、その反射面に、一般の像のような明るさの
明暗が少ない。このため、第6図(a)に示したように
被測定物が測定範囲内にある場合,被測定物の外形によ
り像にエツジができ,シヤツターで光束の片側ずつを隠
すことにより、そのエツジのずれ量を測定し、ずれ量が
わかる。しかし、もし同図(b)に示すように被測定物
の中心部のみを拡大して測定したい場合,測定範囲内に
ズレを表わす標的がなく、測定を困難にする。なお、第
6図において四角で囲つた部分は測定範囲を示す。
また、シエア量の直接測定は,測定精度がセンサのピツ
チに依存するため、余り高い精度が期待できない,従来
方法は特別な位置センサを用意する必要があり、光路中
にシヤツターを組み込む必要があり装置が複雑化するな
どの不都合もあつた。
チに依存するため、余り高い精度が期待できない,従来
方法は特別な位置センサを用意する必要があり、光路中
にシヤツターを組み込む必要があり装置が複雑化するな
どの不都合もあつた。
本発明に係るシエアリング干渉計は上述したような問題
を解決すべくなされたもので,被検面によつて反射した
光束を2つに分けることにより測定波面を2分割し、こ
れらの測定波面を互いに横ずらしして干渉させるシエア
リング干渉計において,入射光路中に,両測定波面のず
れ量を測定するためのパターンを配置し,撮像素子上に
結像された前記被検面の像の中に前記パターンのピント
が合っていない像を一緒に形成させるようにしたもので
ある。
を解決すべくなされたもので,被検面によつて反射した
光束を2つに分けることにより測定波面を2分割し、こ
れらの測定波面を互いに横ずらしして干渉させるシエア
リング干渉計において,入射光路中に,両測定波面のず
れ量を測定するためのパターンを配置し,撮像素子上に
結像された前記被検面の像の中に前記パターンのピント
が合っていない像を一緒に形成させるようにしたもので
ある。
本発明においては入射光路中に両測定波面のずれ量を測
定するためのパターンを配置し、撮像素子上に結像され
た被検面の像の中に前記パターンのピントが合っていな
い像を一緒に形成させるようにしたので、このパターン
を横ずらしによる方法,自己相関関数による方法,モア
レ縞解析による方法等により解析することによつて両測
定波面の実際のずれ量を実質的に測定することができ
る。
定するためのパターンを配置し、撮像素子上に結像され
た被検面の像の中に前記パターンのピントが合っていな
い像を一緒に形成させるようにしたので、このパターン
を横ずらしによる方法,自己相関関数による方法,モア
レ縞解析による方法等により解析することによつて両測
定波面の実際のずれ量を実質的に測定することができ
る。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明に係るシエアリング干渉計の一実施例を
示す光学系の図である。本実施例は光源1から被検面S
までの光路中,すなわち入射光路中の適宜位置,例えば
コリメータレンズ4と集光レンズ5の間に後述するパタ
ーン14を配置した点に特徴を有している。2は発散レン
ズ,3はビームスプリツタ,6は被測定物,7はビームスプリ
ツタ3からの光束を2つの光束に分割するビームスプリ
ツタ,8は全反射鏡,9は全反射鏡8を光軸方向(矢印方
向)に移動させるピエゾ素子等の駆動装置,10は全反射
鏡,11および12は結像レンズ,13はCCD等の撮像素子であ
る。
示す光学系の図である。本実施例は光源1から被検面S
までの光路中,すなわち入射光路中の適宜位置,例えば
コリメータレンズ4と集光レンズ5の間に後述するパタ
ーン14を配置した点に特徴を有している。2は発散レン
ズ,3はビームスプリツタ,6は被測定物,7はビームスプリ
ツタ3からの光束を2つの光束に分割するビームスプリ
ツタ,8は全反射鏡,9は全反射鏡8を光軸方向(矢印方
向)に移動させるピエゾ素子等の駆動装置,10は全反射
鏡,11および12は結像レンズ,13はCCD等の撮像素子であ
る。
光源1としては可視,赤外または紫外の可干渉性の良い
光束を発するものとして例えばHe-Ncレーザーが使用さ
れる。全反射鏡10はビームスプリツタ7によつて分割さ
れた2つの光束のうち該スプリツタ7により反射した反
射光に横ずらしを与えるもので,これに入射する反射光
の中心を通る光線に対して直交しておらず、この直交す
る方向から微小角度θだけ傾いており、また適宜な傾斜
機構(図示せず)によつて保持されることにより直交す
る2方向に傾斜されるように構成されているものとす
る。
光束を発するものとして例えばHe-Ncレーザーが使用さ
れる。全反射鏡10はビームスプリツタ7によつて分割さ
れた2つの光束のうち該スプリツタ7により反射した反
射光に横ずらしを与えるもので,これに入射する反射光
の中心を通る光線に対して直交しておらず、この直交す
る方向から微小角度θだけ傾いており、また適宜な傾斜
機構(図示せず)によつて保持されることにより直交す
る2方向に傾斜されるように構成されているものとす
る。
このような構成からなるシエアリング干渉計において、
光源1から出た光は発散レンズ2およびビームスプリツ
タ3を経てコリメータレンズ4を透過し、光軸Lと平行
な平行光線とされた後,集光レンズ5によつて焦点Pに
焦光され,被検面Sを照射する。ここで反射した光束の
波面は被検面Sの形態に応じた形状となつている。そし
て、この光束は再び集光レンズ5,コリメータレンズ4お
よびビームスプリツタ3を透過し、第2のビームスプリ
ツタ7によつて2分され,一部透過し、一部反射する。
そのうち透過光は全反射鏡8によつて反射され、再びビ
ームスプリツタ7に戻る。また,ビームスプリツタ7に
よつて反射した反射光は全反射鏡10によつて反射し、該
スプリツタ7に戻る。この時,全反射鏡10は前述した通
り微小角度θ傾いているため、全反射鏡10に実線で示す
如く入射した光束は,該反射鏡10にて反射すると,この
反射光束は破線で示す如く進み,入射時の光束と微小量
ずれることになる。したがつて,各全反射鏡8,10にて反
射し、ビームスプリツタ7に戻り,再び重ね合わされた
両光束は横方向に微小量Δdだけずれ,干渉を起こす。
光源1から出た光は発散レンズ2およびビームスプリツ
タ3を経てコリメータレンズ4を透過し、光軸Lと平行
な平行光線とされた後,集光レンズ5によつて焦点Pに
焦光され,被検面Sを照射する。ここで反射した光束の
波面は被検面Sの形態に応じた形状となつている。そし
て、この光束は再び集光レンズ5,コリメータレンズ4お
よびビームスプリツタ3を透過し、第2のビームスプリ
ツタ7によつて2分され,一部透過し、一部反射する。
そのうち透過光は全反射鏡8によつて反射され、再びビ
ームスプリツタ7に戻る。また,ビームスプリツタ7に
よつて反射した反射光は全反射鏡10によつて反射し、該
スプリツタ7に戻る。この時,全反射鏡10は前述した通
り微小角度θ傾いているため、全反射鏡10に実線で示す
如く入射した光束は,該反射鏡10にて反射すると,この
反射光束は破線で示す如く進み,入射時の光束と微小量
ずれることになる。したがつて,各全反射鏡8,10にて反
射し、ビームスプリツタ7に戻り,再び重ね合わされた
両光束は横方向に微小量Δdだけずれ,干渉を起こす。
すなわち、被検面Sからの光束がビームスプリツタ7に
より2分されることにより、この光束の測定波面が2分
割され,全反射鏡8,10にてそれぞれ反射し再びビームス
プリツタ7により重ね合わされた両測定波面はΔdだけ
横方向にシエアされるもので、このΔdがシエア量であ
る。そして、重ね合わされた光束は結像レンズ11,12に
よつて撮像素子13上に結像され干渉縞を形成する。干渉
縞は撮像素子13によつて画像情報として電気信号に変換
された後,コンピュータ等で縞解析を行うことで,被検
面Sの面形状が測定される。
より2分されることにより、この光束の測定波面が2分
割され,全反射鏡8,10にてそれぞれ反射し再びビームス
プリツタ7により重ね合わされた両測定波面はΔdだけ
横方向にシエアされるもので、このΔdがシエア量であ
る。そして、重ね合わされた光束は結像レンズ11,12に
よつて撮像素子13上に結像され干渉縞を形成する。干渉
縞は撮像素子13によつて画像情報として電気信号に変換
された後,コンピュータ等で縞解析を行うことで,被検
面Sの面形状が測定される。
ここで,球面,非球面等の面形状を測定すためには,互
いにシエアされた両測定波面の直交する2方向のシエア
量を測定することが不可欠となる。
いにシエアされた両測定波面の直交する2方向のシエア
量を測定することが不可欠となる。
すなわち,第2図に示すようにある波面W(x)をx方
向にΔdだけ横ずらしした波面をW(x+Δd)とす
る。この2つの波面W(x),W(x+Δd)を重ね合せ
ると,位相差ΔW(x) ΔW(x)=W(x)−W(x+Δd) ……(1) に対応した干渉縞が発生し、この干渉縞を撮像素子13で
観測し、解析することでΔW(x)を得る。ΔW(x)
はW(x)の微分情報であり、これを積分することで元
の波面W(x)を求める。
向にΔdだけ横ずらしした波面をW(x+Δd)とす
る。この2つの波面W(x),W(x+Δd)を重ね合せ
ると,位相差ΔW(x) ΔW(x)=W(x)−W(x+Δd) ……(1) に対応した干渉縞が発生し、この干渉縞を撮像素子13で
観測し、解析することでΔW(x)を得る。ΔW(x)
はW(x)の微分情報であり、これを積分することで元
の波面W(x)を求める。
なお、第2図において、 である。
上記(1)式から明らかなように,シエア量ΔdはΔW
(x)に影響を与える数値である。したがつて、ΔW
(x)を求めるにはΔdをより正確に測定する必要があ
る。しかしながら,従来は前述した理由でこの値を直接
求めることができず,その測定が不正確になるものであ
る。
(x)に影響を与える数値である。したがつて、ΔW
(x)を求めるにはΔdをより正確に測定する必要があ
る。しかしながら,従来は前述した理由でこの値を直接
求めることができず,その測定が不正確になるものであ
る。
そこで、本発明は前述した通りコリメータレンズ4と集
光レンズ5の間に両測定波面のずれ量を測定するための
パターン14を配置し、撮像素子13上に結像された被検面
の像の中に前記パターン14のピントが合っていない像を
一緒に形成させ、このパターンを後述する方法によつて
解析することにより、両測定波面の実際のずれ量(Δ
d)を測定するようにしたものである。
光レンズ5の間に両測定波面のずれ量を測定するための
パターン14を配置し、撮像素子13上に結像された被検面
の像の中に前記パターン14のピントが合っていない像を
一緒に形成させ、このパターンを後述する方法によつて
解析することにより、両測定波面の実際のずれ量(Δ
d)を測定するようにしたものである。
パターン14としては、第3図に示すようにエツジパター
ン(a図),ランダムパターン(b図),,同心円状の規
則パターン(c図)等が用いられる。
ン(a図),ランダムパターン(b図),,同心円状の規
則パターン(c図)等が用いられる。
パターン14の解析によるシエア量Δdの検出方法として
は、(1)パターンの横ずらしによる方法,(2)自己
相関関数による方法,(3)モアレ縞解析による方法等
が挙げられ,以下その方法,効果等を述べる。
は、(1)パターンの横ずらしによる方法,(2)自己
相関関数による方法,(3)モアレ縞解析による方法等
が挙げられ,以下その方法,効果等を述べる。
(1) パターン横ずらしによる方法 第1図の入射光路中に挿入配置した第3図(a)に示す
エツジパターン14を,ピエゾ素子等の駆動装置によつて
駆動されるX−Yステージ(図示せず)に取付け、一方
向にリニアに移動させると,パターン14のエツジ部にあ
たる撮像素子13の出力は、第4図に示すように変動す
る。その変動直線のa位置が撮像素子13にエツジがかか
つた位置で,6が撮像素子13上からエツジがなくなつた位
置である。そこで、このaおよびb点を2つのずれたパ
ターンの各々に対して精度良く検出すれば,その位置の
ずれ量から両測定波面の実際のシエア量を算出すること
ができる。
エツジパターン14を,ピエゾ素子等の駆動装置によつて
駆動されるX−Yステージ(図示せず)に取付け、一方
向にリニアに移動させると,パターン14のエツジ部にあ
たる撮像素子13の出力は、第4図に示すように変動す
る。その変動直線のa位置が撮像素子13にエツジがかか
つた位置で,6が撮像素子13上からエツジがなくなつた位
置である。そこで、このaおよびb点を2つのずれたパ
ターンの各々に対して精度良く検出すれば,その位置の
ずれ量から両測定波面の実際のシエア量を算出すること
ができる。
(2) 自己相関関数による方法 入射光路中に挿入されたパターン14は、全反射鏡10によ
り被検面によつて反射した光束と同様にΔdだけ横にず
らされ、ビームスプリツタ7により再び重ね合わされた
後,撮像素子13上に結像されるものである。このため,
パターン14として第3図(b)に示すランダムパターン
を使用すると、このランダムパターンが一様にΔdだけ
横ずれし、重なり合つたパターンが撮像素子13上に形成
される。そこで,そのパターンの自己相関関数を計算す
ると,ピツチの20分の一程度の精度のシエア量Δdを算
出することができる。
り被検面によつて反射した光束と同様にΔdだけ横にず
らされ、ビームスプリツタ7により再び重ね合わされた
後,撮像素子13上に結像されるものである。このため,
パターン14として第3図(b)に示すランダムパターン
を使用すると、このランダムパターンが一様にΔdだけ
横ずれし、重なり合つたパターンが撮像素子13上に形成
される。そこで,そのパターンの自己相関関数を計算す
ると,ピツチの20分の一程度の精度のシエア量Δdを算
出することができる。
(3) モアレ縞解析による方法 規則正しいパターンを入射光路中に挿入配置すると,そ
のパターンによつては撮像素子13上に横ずれ量に応じた
モアレ縞ができる。そのモアレ縞はパターンの細さによ
り粗さが変化し,微小なシエア量に対して粗い縞が生じ
る。そこで,第3図(c)に示した同心円状のパターン
14を使用すると,第5図(a),(b),(c)に示す
モアレ縞が得られる。この時,放射状に作られる縞はず
れ量に比例して増加するため,これをカウントすること
により微小なずれ量を測定することができる。なお、規
則正しいパターンとしては同心円状のものに限らず、放
射状などのパターンも考えられる。
のパターンによつては撮像素子13上に横ずれ量に応じた
モアレ縞ができる。そのモアレ縞はパターンの細さによ
り粗さが変化し,微小なシエア量に対して粗い縞が生じ
る。そこで,第3図(c)に示した同心円状のパターン
14を使用すると,第5図(a),(b),(c)に示す
モアレ縞が得られる。この時,放射状に作られる縞はず
れ量に比例して増加するため,これをカウントすること
により微小なずれ量を測定することができる。なお、規
則正しいパターンとしては同心円状のものに限らず、放
射状などのパターンも考えられる。
かくして,パターン14を用いて上記3つの方法のうちい
ずれか一つの方法を実施すれば,シエア量Δdを従来技
術以上の精度で測定することが可能となる。また、単に
パターン14を入射光路中に配置するだけでよいので、構
造もいたつて簡単である。
ずれか一つの方法を実施すれば,シエア量Δdを従来技
術以上の精度で測定することが可能となる。また、単に
パターン14を入射光路中に配置するだけでよいので、構
造もいたつて簡単である。
以上説明したように本発明に係るシエアリング干渉計
は、入射光路中に両測定波面のずれ量を測定するための
パターンを配置し、撮像素子上に結像された被検面の像
の中に前記パターンのピントが合っていない像を一緒に
結像させ、この重なり合つた像から実際のシエア量を算
出もしくは測定するようにしているので、構造簡易にし
てシエア量を高精度に測定でき,したがつて干渉計の測
定精度を向上させることができる。
は、入射光路中に両測定波面のずれ量を測定するための
パターンを配置し、撮像素子上に結像された被検面の像
の中に前記パターンのピントが合っていない像を一緒に
結像させ、この重なり合つた像から実際のシエア量を算
出もしくは測定するようにしているので、構造簡易にし
てシエア量を高精度に測定でき,したがつて干渉計の測
定精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明に係るシエアリング干渉計の一実施例を
示す光学系の図,第2図はシエアリング干渉法を説明す
るための図,第3図(a),(b),(c)はパターン
の実施例図,第4図はパターン移動量と撮像素子の光量
との関係を示す図,第5図(a),(b),(c)はモ
アレ縞を示す図,第6図(a),(b)は鏡面測定にお
ける不都合を説明するため干渉縞像を示す図である。 1……光源,3……ビームスプリツタ,4……コリメータレ
ンズ,5……集光レンズ,6……被測定物,7……ビームスプ
リツタ,8,10……全反射鏡,13……撮像素子,S……被検
面,Δd……シエア量。
示す光学系の図,第2図はシエアリング干渉法を説明す
るための図,第3図(a),(b),(c)はパターン
の実施例図,第4図はパターン移動量と撮像素子の光量
との関係を示す図,第5図(a),(b),(c)はモ
アレ縞を示す図,第6図(a),(b)は鏡面測定にお
ける不都合を説明するため干渉縞像を示す図である。 1……光源,3……ビームスプリツタ,4……コリメータレ
ンズ,5……集光レンズ,6……被測定物,7……ビームスプ
リツタ,8,10……全反射鏡,13……撮像素子,S……被検
面,Δd……シエア量。
Claims (1)
- 【請求項1】被検面によって反射した光束を2つに分け
ることにより測定波面を2分割し、これらの測定波面を
互いに横ずらしして干渉させるシエアリング干渉計にお
いて、入射光路中に、両測定波面のずれ量を測定するた
めのパターンを配置し、撮像素子上に結像された前記被
検面の像の中に前記パターンのピントが合っていない像
を一緒に形成させることを特徴とするシエアリング干渉
計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60269319A JPH0789043B2 (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | シエアリング干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60269319A JPH0789043B2 (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | シエアリング干渉計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62129732A JPS62129732A (ja) | 1987-06-12 |
JPH0789043B2 true JPH0789043B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=17470692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60269319A Expired - Lifetime JPH0789043B2 (ja) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | シエアリング干渉計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0789043B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004037429A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-05 | Nikon Corp | シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 |
-
1985
- 1985-12-02 JP JP60269319A patent/JPH0789043B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62129732A (ja) | 1987-06-12 |
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