JPH0782348A - エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及びその硬化物

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JPH0782348A
JPH0782348A JP6169341A JP16934194A JPH0782348A JP H0782348 A JPH0782348 A JP H0782348A JP 6169341 A JP6169341 A JP 6169341A JP 16934194 A JP16934194 A JP 16934194A JP H0782348 A JPH0782348 A JP H0782348A
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Japan
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epoxy resin
resin composition
compound
curing agent
resin
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JP6169341A
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Shigeo Sase
茂雄 佐瀬
Nobuyuki Ogawa
信之 小川
Atsushi Fujioka
厚 藤岡
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来のエポキシ樹脂積層板の耐熱性や機械特
性を損なうことなく、比較的低コストで積層板等の誘電
率を低下することができるエポキシ樹脂組成物及びその
硬化物を提供する。 【構成】 分子中に二個以上のエポキシ基を有するエポ
キシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤及び必要に応じて充填剤
からなるエポキシ樹脂組成物において、硬化剤として、
多価フェノール類化合物のフェノール性水酸基をアリー
ルエステル化した化合物をエポキシ樹脂100重量部に
対し50〜200重量部配合したエポキシ樹脂組成物及
びその硬化物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、積層板用樹脂、電気絶
縁用注形樹脂、各種接着剤用樹脂として有用な誘電特性
や耐水性に優れたエポキシ樹脂組成物及びその硬化物に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より積層板用樹脂には、接着性、機
械特性、耐熱性、耐薬品性及び電気特性などに優れるエ
ポキシ樹脂組成物が広く用いられている。近年、コンピ
ュータなどの電子機器では、信号の高速化や高周波数化
に伴いプリント配線板での信号の伝搬遅延やクロストー
クの発生などの伝送特性が問題になっている。信号の伝
搬遅延時間はプリント配線板に用いられている絶縁体
(基板樹脂)の誘電率の平方根に比例して長くなり、ま
たクロストークも絶縁体の静電容量に比例して発生し易
くなるので、上記電子機器のプリント配線板材料として
は誘電率の低い材料が求められている。しかし従来のガ
ラス布を基材とするエポキシ樹脂積層板の誘電率は4.
7〜5.0と非常に高く、十分な伝送特性を得ることが
できなかった。
【0003】そこでエポキシ樹脂積層板の誘電率低下を
目的として以下に示す提案がなされている。すなわちエ
ポキシ樹脂を、特開昭60−135425号公報に示さ
れているポリ4−メチル−1−ペンテン、特開昭61−
126162号公報に示されているフェノール類付加ブ
タジエン重合体、特開昭62−187736号公報に示
されている末端カルボキシ基変性ポリブタジエン、特開
平4−13717号公報に示されているプロパルギルエ
ーテル化芳香族炭化水素などと反応させる方法がある。
また特開平2−1257315号公報に示されているよ
うに樹脂層に気泡を混在させる、特開平2−20359
4号公報に示されているフッ素樹脂粉末を配合する、特
開平3−84040号公報に示されているように基材に
芳香族ポリアミド繊維を用いる、特開平4−24986
号公報に示されているようにガラス布基材フッ素樹脂プ
リプレグとガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグを重ね
て用いる方法などがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし特開昭60−1
35425号公報、特開昭61−126162号公報及
び特開昭62−187736号公報に示されているよう
なポリ4−メチル−1−ペンテン、フェノール類付加ブ
タジエン重合体、末端カルボキシ基変性ポリブタジエン
などの炭化水素系重合体とエポキシ樹脂を反応させる方
法は、誘電率は低くなるもののエポキシ樹脂本来の耐熱
性を損なうという問題点があった。また特開平4−13
717号公報に示されているプロパルギルエーテル化芳
香族炭化水素などと反応させる方法は、耐熱性は高いも
のの特殊な樹脂を使うためコストが非常に高くなるとい
う問題点があった。
【0005】また特開平2−1257315号公報や特
開平2−203594号公報に示されているような樹脂
層に気泡を混在させる方法やフッ素樹脂粉末を配合する
方法、特開平3−84040号公報や特開平4−249
86号公報に示されているような基材に芳香族ポリアミ
ド繊維を用いる方法や、ガラス布基材フッ素樹脂プリプ
レグとガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグを重ねて用
いる方法では、積層板としての誘電率は低くなるものの
従来のガラス布基材エポキシ樹脂積層板と比べ機械特性
が低下するという問題点があった。
【0006】本発明は、従来のエポキシ樹脂積層板の耐
熱性や機械特性を損なうことなく、比較的低コストで積
層板等の誘電率を低下することができるエポキシ樹脂組
成物及びその硬化物を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため鋭意検討した結果、エポキシ樹脂の硬化剤
として、フェノール性水酸基をアリールエステル化した
多価フェノール類化合物を用いた場合に、得られた樹脂
硬化物の誘電率が著しく低いことを見いだし、この知見
に基いて本発明を完成するに至った。
【0008】すなわち本発明は、分子中に二個以上のエ
ポキシ基を有するエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤及
び必要に応じて充填剤からなるエポキシ樹脂組成物にお
いて、硬化剤として、多価フェノール類化合物のフェノ
ール性水酸基をアリールエステル化した化合物(以下、
この化合物をアリールエステル化フェノール類化合物と
称する。)をエポキシ樹脂100重量部に対し50〜2
00重量部配合したことを特徴とする誘電特性に優れた
積層板用エポキシ樹脂組成物及びその硬化物を提供する
ものである。
【0009】本発明のエポキシ樹脂組成物の特徴は上記
のアリールエステル化フェノール類化合物を硬化剤とし
て用いることである。本発明のエポキシ樹脂組成物に用
いられるアリールエステル化フェノール類化合物は、多
価フェノール類化合物のフェノール性水酸基がアリール
エステル化されている化合物であり、例えば、多価フェ
ノール類化合物と塩化ベンゾイル又はアルキル置換塩化
ベンゾイルとを反応させることにより得ることができ
る。
【0010】本発明において用いられるアリールエステ
ル化フェノール類化合物の具体例としては、ビスベンゾ
イル化ビスフェノールA、ビスアルキルベンゾイル化ビ
スフェノールA、ビスベンゾイル化テトラブロモビスフ
ェノールA、ビスアルキルベンゾイル化テトラブロモビ
スフェノールA、式[I]
【0011】
【化1】
【0012】(式中、R1〜R3は水素原子又は低級アル
キル基を示し、それぞれ同じであっても異なっていても
よい。またnは正の整数を表し、mは0又は正の整数を
表す。)で表されるアリールエステル化フェノール類ノ
ボラック樹脂等が挙げられる。式[I]中のR1〜R3
示す低級アルキル基としては、炭素数が1〜4程度のも
のが好ましい。式[I]で表されるアリールエステル化
フェノール類ノボラック樹脂の具体例としては、ベンゾ
イル化フェノールノボラック樹脂、アルキルベンゾイル
化フェノールノボラック樹脂、ベンゾイル化クレゾール
ノボラック樹脂、アルキルベンゾイル化クレゾールノボ
ラック樹脂などの化合物が挙げられる。
【0013】上記式[I]に示すように、本発明におい
て用いられるアリールエステル化フェノール類化合物
は、必ずしも多価フェノール類化合物のフェノール性水
酸基の全てがアリールエステル化されていなくてもよ
く、多価フェノール類化合物のフェノール性水酸基の一
部がアリールエステル化されずに残存していてもよく、
また、分子中のフェノール性水酸基が全くアリールエス
テル化されていない多価フェノール類化合物が部分的に
残存していてもよい。通常は、多価フェノール類化合物
のフェノール性水酸基の30〜100モル%、好ましく
は50〜100モル%がアリールエステル化された化合
物を用いることが望ましい。
【0014】これらのアリールエステル化フェノール類
化合物は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を混合
して用いてもよい。
【0015】アリールエステル化フェノール類化合物の
配合量は、アリレート基の含有量とアリールエステル化
されずに残存しているフェノール性水酸基の含有量によ
って異なる。すなわち、アリールエステル化フェノール
類化合物は、アリレート基と残存するフェノール性水酸
基の両者において、エポキシ樹脂のエポキシ基と反応す
ると考えられ、両者の含有量から導かれる当量が硬化剤
としての当量に相当する。したがって、アリールエステ
ル化フェノール類化合物の配合量は、エステル化しない
通常の多価フェノール類化合物と同様に、エポキシ樹脂
のエポキシ当量に対して0.6〜1.4当量比が望まし
く、通常はエポキシ樹脂100重量部に対してアリール
エステル化フェノール類化合物を50〜200重量部の
範囲で配合することが望ましい。
【0016】アリールエステル化フェノール類化合物と
ともに、必要に応じて、従来からエポキシ樹脂用硬化剤
として用いられているフェノールノボラックなどのフェ
ノール系硬化剤、ジエチレントリアミンやジアミノジフ
ェニルメタンなどのアミン系硬化剤、テトラヒドロ無水
フタル酸などの酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミドな
どのグアニジン系硬化剤、ベンゾグアナミンなどのグア
ナミン系硬化剤を用いることができる。しかしながら樹
脂の誘電率を低く抑えるためにはアリールエステル化フ
ェノール類化合物以外の硬化剤はエポキシ樹脂100重
量部に対して50重量部以下にすることが望ましい。
【0017】本発明のエポキシ樹脂組成物に用いられる
エポキシ樹脂は分子中に2個以上のエポキシ基を有する
化合物であって、市販のエポキシ樹脂をそのまま用いる
ことができる。本発明のエポキシ樹脂組成物に用いられ
るエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂などの
エポキシ樹脂及びそれらの混合物が挙げられる。
【0018】本発明のエポキシ樹脂組成物では、アリー
ルエステル化フェノール類化合物とエポキシ樹脂との硬
化反応を促進し樹脂の誘電率を低下させるため硬化促進
剤が用いられる。従来からエポキシ樹脂と各種硬化剤と
の硬化反応に用いられている硬化促進剤は、そのほとん
どの化合物が本発明のエポキシ樹脂組成物のアリールエ
ステル化フェノール化合物とエポキシ樹脂との硬化反応
も促進することが確認されている。本発明のエポキシ樹
脂組成物に用いられる硬化促進剤の具体例としては、ジ
メチルベンジルアミンやトリス(ジメチルアミノメチ
ル)フェノールなどの三級アミン、1−メチルイミダゾ
ール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾールなどのイミダゾール類、ピリジン、N−
ジメチルアミノピリジンなどのピリジン類、三フッ化ホ
ウ素モノエチルアミン錯体などのルイス酸が挙げられ
る。硬化促進剤の配合量はアリールエステル化フェノー
ル類化合物とエポキシ樹脂及びその他の硬化剤の合計1
00重量部に対して、通常、0.1〜10.0重量部、
好ましくは0.1〜5.0重量部とすることが望まし
い。
【0019】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて臭素系難燃剤、充填剤及びその他添加剤を配合す
ることができる。必要に応じて配合される充填剤として
は、通常、無機充填剤が好適に用いられ、溶融シリカ、
ガラス、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カ
ルシウム、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニ
ア、チタン酸カリウムなどが、粉末又は球形化したビー
ズとして用いられる。単結晶繊維、ガラス繊維なども配
合することができる。本発明のエポキシ樹脂組成物中に
充填剤を配合する場合、充填剤の配合量は、エポキシ樹
脂、アリールエステル化フェノール類化合物、その他の
硬化剤及び硬化促進剤の合計100重量部に対して好ま
しくは、10〜300重量部、更に好ましくは10〜2
00重量部とするのが好適である。
【0020】本発明のエポキシ樹脂組成物は加熱硬化さ
せることにより低誘電率の積層板の製造に供せられる。
すなわち本発明のエポキシ樹脂組成物を溶剤に溶解して
いったんワニスとし、ガラス布などの基材に含浸し乾燥
することによってまずプリプレグを作製する。ついでこ
のプリプレグを数枚とその上下に金属箔を重ねて加熱成
形することにより積層板とすることができる。
【0021】
【作用】通常のエポキシ樹脂ではエポキシ基の開環に伴
って極性の高い水酸基が副生するが、アリールエステル
化フェノール類化合物がエポキシ樹脂と反応する場合に
は、エポキシ基の開環とともにアリールエステル化フェ
ノール類化合物のアシル基が水酸基と反応して極性の低
いエステルが生成すると考えられる。したがってアリー
ルエステル化フェノール類化合物を用いることで硬化樹
脂の誘電率が低下する理由は、通常のエポキシ樹脂の硬
化反応と異なり、極性の高い水酸基を生成しないため、
あるいは極性の高い水酸基が生成してもその量が低減さ
れているため、硬化樹脂の分極率を低く抑えることがで
きるためと推定される。
【0022】
【実施例】以下、具体例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限られるものではない。
【0023】合成例1 温度計、冷却管、窒素導入管、攪拌棒を備えた5リット
ルの4つ口フラスコにビスフェノールA228gを投入
し、テトラヒドロフラン1リットルを加え窒素気流下で
攪拌して溶解させた後、トリエチルアミン240gを加
え氷浴により内温10℃まで冷却した。内温が10℃を
超えないように注意しながら塩化ベンゾイル310gを
2時間かけて滴下し、滴下終了後更に常温で2時間攪拌
して反応させた。析出したアリールエステル化物をろ別
し、多量の蒸留水でトリエチルアミン塩酸塩を水洗除去
し、100℃で6h減圧乾燥をしてビスベンゾイル化ビ
スフェノールA(BBP)375gを得た。
【0024】BBPの13C−NMRスペクトル(機種:
ブルカー製AC300P、溶媒:CDCl3、濃度:1
0%)を図1に示す。図1より原料のビスフェノールA
に存在した水酸基に結合している炭素のピーク(152
ppm)が消失し、新たにエステルのカルボニル炭素を
示すにピーク(165ppm)が現れており、BBPが
目的としたビスベンゾイル化ビスフェノールAであるこ
とが確認できた。
【0025】合成例2 温度計、冷却管、窒素導入管、攪拌棒を備えた5リット
ルの4つ口フラスコにHP−850N(フェノールノボ
ラック樹脂、日立化成工業(株)製)212gを投入
し、メチルエチルケトン1リットルを加え窒素気流下で
攪拌して溶解させた後、トリエチルアミン240gを加
え氷浴により内温10℃まで冷却した。内温が10℃を
超えないように注意しながら塩化ベンゾイル310gを
2時間かけて滴下し、滴下終了後更に常温で2時間攪拌
して反応させた。ついでトリエチルアミン塩酸塩を吸引
ろ過で除去し、ろ液を減圧下で濃縮して粗生成物380
gを得た。
【0026】得られた粗生成物をトルエン3リットルに
溶解し蒸留水で十分に水洗後、無水硫酸マグネシウムを
投入して一昼夜放置し、ろ過後溶液を減圧下で濃縮し、
更に100℃で6h減圧乾燥をしてアリールエステル化
フェノールノボラック樹脂(ベンゾイル化フェノールノ
ボラック樹脂:BPN−1)350gを得た。
【0027】BPN−1の13C−NMRスペクトル(機
種:ブルカー製AC300P、溶媒:CDCl3、濃
度:10%)を図2に示す。図2より原料のHP−85
0Nに存在した水酸基結合炭素のピーク(152pp
m)が消失し、新たにエステルのカルボニル炭素を示す
にピーク(165ppm)が現れ、BBN−1が目的と
したアリールエステル化フェノールノボラック樹脂であ
ることが確認できた。
【0028】合成例3 合成例2において、トリエチルアミンの配合量を120
g、塩化ベンゾイルの配合量を165gに変更した以
外、合成例2と同様に合成反応を行い50%アリールエ
ステル化フェノールノボラック樹脂(ベンゾイル化フェ
ノールノボラック樹脂:BPN−2)270gを得た。
【0029】合成例4 合成例2において、HP−850Nの代わりにo−クレ
ゾールノボラック樹脂(数平均分子量=1010)24
0gを用いた以外、合成例2と同様に合成反応を行いア
リールエステル化o−クレゾールノボラック樹脂(ベン
ゾイル化o−クレゾールノボラック樹脂:BCN)38
0gを得た。
【0030】合成例5 合成例2において、塩化ベンゾイルの代わりに塩化p−
トルオイルを用いた以外、合成例2と同様に合成反応を
行いアルキル置換アリールエステル化フェノールノボラ
ック樹脂(トリルベンゾイル化フェノールノボラック樹
脂:TPN)360gを得た。
【0031】実施例1〜8 本発明のアリールエステル化フェノール類化合物及びエ
ポキシ樹脂を表1に示す配合量でメチルエチルケトンに
溶解し、更に硬化促進剤としてアリールエステル化フェ
ノール類化合物とエポキシ樹脂の合計した樹脂100重
量部に対して2−エチル−4−メチルイミダゾールを
0.5重量部を加え、濃度50重量%のワニスを作製し
た。次いで0.2mm厚のガラス布に上記ワニスを含浸
し140℃で5分間乾燥してプリプレグを得た。次にプ
リプレグ8枚と上下に35μm厚銅箔を積層し、170
℃、5MPaの条件で1時間プレス成形し銅張積層板を
製造した。
【0032】実施例9〜12 合成例2で合成したアリールエステル化フェノールノボ
ラック樹脂(BPN−1)210gならびに市販のES
CN195(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、住
友化学工業商品名)60g及びBREN−S(臭素化フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、日本化薬商品名)
200gをメチルエチルケトンに溶解し、さらに表2に
示す硬化促進剤を加え、濃度50重量%のワニスを調製
した。
【0033】次いで、実施例1〜8と同様にプレス成形
し、銅張積層板を製造した。
【0034】実施例1〜12で製造した積層板の誘電特
性、耐熱性及び機械特性を評価するため、JIS C6
481に従い、誘電率、はんだ耐熱性(260℃)及び
曲げ強さを測定した。なお誘電率の測定には横河・ヒュ
ーレット・パッカード社製HP16451B誘電体測定
装置を用いた。測定結果を表1に示した。
【0035】比較例1 アリールエステル化フェノールノボラック樹脂(BPN
−1)の代わりにHP−850N(ノボラック型フェノ
ール樹脂、日立化成工業商品名)を用い、表1に示した
配合量で実施例2と同様にして銅張積層板を製造した。
誘電率、はんだ耐熱性及び曲げ強さを実施例1〜12と
同様にして測定し、測定結果を表1に示した。
【0036】比較例2 アリールエステル化フェノールノボラック樹脂(BPN
−1)の代わりにジシアンジアミドを用い、表1に示し
た配合量で実施例2と同様にして銅張積層板を製造し
た。誘電率、はんだ耐熱性及び曲げ強さを実施例1〜1
2と同様にして測定し、測定結果を表1に示した。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】ESCN195:住友化学工業製クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量197
g)、R−140P:三井石油化学工業製ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(エポキシ当量185g)、ESB
−400:住友化学工業製臭素化ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂(エポキシ当量395g)、BREN−S:
日本化薬製臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
(エポキシ当量283g)、日本化薬製
【0040】表1及び表2で明らかなように、本発明の
アリールエステル化フェノール類化合物を硬化剤の全部
又は一部に用いた積層板用エポキシ樹脂組成物は誘電率
が低くかつ耐熱性や機械特性も従来のフェノールノボラ
ック樹脂やジシアンジアミドを硬化剤に用いた積層板樹
脂組成物と比べ同等であることが確認できた。
【0041】
【発明の効果】以上のように本発明の積層板用エポキシ
樹脂組成物は、従来のエポキシ樹脂積層板の耐熱性や機
械特性を損なうことなく、比較的低コストで積層板の誘
電率を低下させることができ、コンピュータなどの高速
処理を必要とする電子機器のプリント配線用基板樹脂と
して好適であり、その工業的価値は大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアリールエステル化フェノール類化合
物の一実施例を示すビスベンゾイルオキシ化ビスフェノ
ールA(BBP)の13C−NMRスペクトル。
【図2】本発明のアリールエステル化フェノール類化合
物の一実施例を示すアリールエステル化フェノールノボ
ラック樹脂(BPN−1)の13C−NMRスペクトル。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 分子中に二個以上のエポキシ基を有する
    エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤及び必要に応じて充
    填剤からなるエポキシ樹脂組成物において、硬化剤とし
    て、多価フェノール類化合物のフェノール性水酸基をア
    リールエステル化した化合物をエポキシ樹脂100重量
    部に対し50〜200重量部配合したことを特徴とする
    エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 多価フェノール類化合物がビスフェノー
    ルAである請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 多価フェノール類化合物がフェノール類
    ノボラック樹脂である請求項1記載のエポキシ樹脂組成
    物。
  4. 【請求項4】 フェノール類ノボラック樹脂がクレゾー
    ルノボラック樹脂である請求項3記載のエポキシ樹脂組
    成物。
  5. 【請求項5】 分子中に二個以上のエポキシ基を有する
    エポキシ樹脂がビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素
    化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
    ック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エ
    ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び
    ビフェニル型エポキシ樹脂から選ばれるエポキシ樹脂又
    はこれらの二種以上の混合物である請求項1、2、3又
    は4記載のエポキシ樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 硬化促進剤が1−メチルイミダゾール、
    2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミ
    ダゾール及びN−ジメチルアミノピリジンから選ばれる
    硬化促進剤又はこれらの二種以上の混合物である請求項
    1、2、3、4又は5記載のエポキシ樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6何れか記載のエポキシ樹脂
    組成物を硬化してなる硬化物。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001288252A (ja) * 2000-04-07 2001-10-16 Dainippon Ink & Chem Inc エポキシ樹脂用硬化剤及びエポキシ樹脂組成物
JP2002012650A (ja) * 2000-06-30 2002-01-15 Dainippon Ink & Chem Inc 低誘電性材料用エポキシ樹脂組成物
JP2002193893A (ja) * 2000-12-28 2002-07-10 Mitsui Chemicals Inc エステル基を有する化合物及びエポキシ樹脂組成物
JP2003082063A (ja) * 2001-09-12 2003-03-19 Dainippon Ink & Chem Inc 電子材料用エポキシ樹脂組成物および低誘電性電子材料
JP2010235643A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板、エステル化合物、エステル系樹脂、及びその製造方法
WO2012002119A1 (ja) 2010-07-02 2012-01-05 Dic株式会社 熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、活性エステル樹脂、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
WO2012165317A1 (ja) 2011-05-27 2012-12-06 Dic株式会社 活性エステル樹脂、その製造方法、熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
JP2013040270A (ja) * 2011-08-15 2013-02-28 Dic Corp 熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、活性エステル樹脂、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
JP2013181164A (ja) * 2012-03-05 2013-09-12 Dic Corp 活性エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
JP2013185002A (ja) * 2012-03-06 2013-09-19 Dic Corp 活性エステル樹脂、熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
KR20140031136A (ko) 2012-09-03 2014-03-12 아지노모토 가부시키가이샤 열경화성 에폭시 수지 조성물, 절연층 형성용 접착 필름 및 다층 프린트 배선판
JP2014065753A (ja) * 2012-09-24 2014-04-17 Dic Corp 活性エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプリント配線基板
CN104004323A (zh) * 2014-06-16 2014-08-27 苏州生益科技有限公司 一种树脂组合物及使用其制作的半固化片和层压板
KR20140138183A (ko) 2012-03-21 2014-12-03 디아이씨 가부시끼가이샤 활성 에스테르 수지, 열경화성 수지 조성물, 그 경화물, 반도체 봉지 재료, 프리프레그, 회로 기판, 및 빌드업 필름
CN104341581A (zh) * 2013-08-09 2015-02-11 新日铁住金化学株式会社 环氧树脂组合物及其固化物
KR20170095805A (ko) 2014-12-15 2017-08-23 디아이씨 가부시끼가이샤 열경화성 수지 조성물, 그 경화물, 및 이것에 사용하는 활성 에스테르 수지
KR20220134605A (ko) 2020-03-03 2022-10-05 디아이씨 가부시끼가이샤 활성 에스테르, 경화성 수지 조성물, 및, 경화물
CN115230287A (zh) * 2022-07-20 2022-10-25 广德华昌新材料有限公司 一种覆铜板的制备方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54155298A (en) * 1978-05-30 1979-12-07 Teijin Ltd Modification of epoxy compound
JPS59215314A (ja) * 1983-05-20 1984-12-05 アモコ・コーポレイション 予備含浸強化材及びそれから作る高力複合材料
JPS61212544A (ja) * 1985-03-18 1986-09-20 Toray Ind Inc 新規芳香族ジアミン、その製法、およびエポキシ硬化剤
JPS621722A (ja) * 1985-06-28 1987-01-07 Toray Ind Inc マトリツクス樹脂組成物
JPH0429986A (ja) * 1990-05-25 1992-01-31 Hitachi Chem Co Ltd ポリエステル酸無水物の製造法
JPH04226122A (ja) * 1990-06-13 1992-08-14 Ciba Geigy Ag 硬化性組成物
JPH06107724A (ja) * 1992-09-24 1994-04-19 Hitachi Chem Co Ltd 新規なアリールエステル付加共役ジエン系重合体
JPH0725962A (ja) * 1993-07-06 1995-01-27 Hitachi Chem Co Ltd 新規なアリールエステル化フェノールノボラック樹脂

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54155298A (en) * 1978-05-30 1979-12-07 Teijin Ltd Modification of epoxy compound
JPS59215314A (ja) * 1983-05-20 1984-12-05 アモコ・コーポレイション 予備含浸強化材及びそれから作る高力複合材料
JPS61212544A (ja) * 1985-03-18 1986-09-20 Toray Ind Inc 新規芳香族ジアミン、その製法、およびエポキシ硬化剤
JPS621722A (ja) * 1985-06-28 1987-01-07 Toray Ind Inc マトリツクス樹脂組成物
JPH0429986A (ja) * 1990-05-25 1992-01-31 Hitachi Chem Co Ltd ポリエステル酸無水物の製造法
JPH04226122A (ja) * 1990-06-13 1992-08-14 Ciba Geigy Ag 硬化性組成物
JPH06107724A (ja) * 1992-09-24 1994-04-19 Hitachi Chem Co Ltd 新規なアリールエステル付加共役ジエン系重合体
JPH0725962A (ja) * 1993-07-06 1995-01-27 Hitachi Chem Co Ltd 新規なアリールエステル化フェノールノボラック樹脂

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001288252A (ja) * 2000-04-07 2001-10-16 Dainippon Ink & Chem Inc エポキシ樹脂用硬化剤及びエポキシ樹脂組成物
JP2002012650A (ja) * 2000-06-30 2002-01-15 Dainippon Ink & Chem Inc 低誘電性材料用エポキシ樹脂組成物
JP2002193893A (ja) * 2000-12-28 2002-07-10 Mitsui Chemicals Inc エステル基を有する化合物及びエポキシ樹脂組成物
JP2003082063A (ja) * 2001-09-12 2003-03-19 Dainippon Ink & Chem Inc 電子材料用エポキシ樹脂組成物および低誘電性電子材料
JP2010235643A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Dic Corp 硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板、エステル化合物、エステル系樹脂、及びその製造方法
CN102985485A (zh) * 2010-07-02 2013-03-20 Dic株式会社 热固性树脂组合物、其固化物、活性酯树脂、半导体密封材料、预浸料、电路基板、及积层薄膜
JP5120520B2 (ja) * 2010-07-02 2013-01-16 Dic株式会社 熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、活性エステル樹脂、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
KR20130098860A (ko) 2010-07-02 2013-09-05 디아이씨 가부시끼가이샤 열경화성 수지 조성물, 그 경화물, 활성 에스테르 수지, 반도체 봉지 재료, 프리프레그, 회로 기판, 및 빌드업 필름
WO2012002119A1 (ja) 2010-07-02 2012-01-05 Dic株式会社 熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、活性エステル樹脂、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
US8669333B2 (en) 2010-07-02 2014-03-11 Dic Corporation Thermosetting resin composition, cured product thereof, active ester resin, semiconductor encapsulating material, prepreg, circuit board, and build-up film
WO2012165317A1 (ja) 2011-05-27 2012-12-06 Dic株式会社 活性エステル樹脂、その製造方法、熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
US8791214B2 (en) 2011-05-27 2014-07-29 Dic Corporation Active ester resin, method for producing the same, thermosetting resin composition, cured product of the thermosetting resin composition, semiconductor encapsulating material, pre-preg, circuit board, and build-up film
JP2013040270A (ja) * 2011-08-15 2013-02-28 Dic Corp 熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、活性エステル樹脂、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
JP2013181164A (ja) * 2012-03-05 2013-09-12 Dic Corp 活性エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
JP2013185002A (ja) * 2012-03-06 2013-09-19 Dic Corp 活性エステル樹脂、熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルム
KR20140138183A (ko) 2012-03-21 2014-12-03 디아이씨 가부시끼가이샤 활성 에스테르 수지, 열경화성 수지 조성물, 그 경화물, 반도체 봉지 재료, 프리프레그, 회로 기판, 및 빌드업 필름
US9217053B2 (en) 2012-03-21 2015-12-22 Dic Corporation Active ester resin, thermosetting resin composition, cured product of same, semiconductor encapsulation material, prepreg, circuit board, and build-up film
KR20140031136A (ko) 2012-09-03 2014-03-12 아지노모토 가부시키가이샤 열경화성 에폭시 수지 조성물, 절연층 형성용 접착 필름 및 다층 프린트 배선판
JP2014065753A (ja) * 2012-09-24 2014-04-17 Dic Corp 活性エステル樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプリント配線基板
CN104341581A (zh) * 2013-08-09 2015-02-11 新日铁住金化学株式会社 环氧树脂组合物及其固化物
KR20150018406A (ko) 2013-08-09 2015-02-23 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물
CN104004323A (zh) * 2014-06-16 2014-08-27 苏州生益科技有限公司 一种树脂组合物及使用其制作的半固化片和层压板
KR20170095805A (ko) 2014-12-15 2017-08-23 디아이씨 가부시끼가이샤 열경화성 수지 조성물, 그 경화물, 및 이것에 사용하는 활성 에스테르 수지
KR20220134605A (ko) 2020-03-03 2022-10-05 디아이씨 가부시끼가이샤 활성 에스테르, 경화성 수지 조성물, 및, 경화물
CN115230287A (zh) * 2022-07-20 2022-10-25 广德华昌新材料有限公司 一种覆铜板的制备方法
CN115230287B (zh) * 2022-07-20 2024-04-02 广德华昌新材料有限公司 一种覆铜板的制备方法

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