JPH076413A - Electro forming device and electro forming method for stamper for production of optical recording medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To shorten the time required for a polishing stage by disposing a baffle plate having a circular aperture of the diameter smaller than the diameter in the effective part of a master disk and small holes of the diameter smaller than the diameter of this aperture between anode and cathode. CONSTITUTION:Electric lines of force passing from the central aperture 6 to a peripheral end are shut off by the baffle plate, by which the increase in the film thickness of the peripheral end is prevented. The outer side of the central aperture 62 is provided with the small holes 63 to uniformalize the electric lines of force and to adjust the film thickness in order to match the film thicknesses of the peripheral end and the central part with higher accuracy. The small holes 63 are properly adjusted in number, size and shape in such a manner that the film thicknesses of the peripheral end and the central part are equaled. As a result, the electro forming films having the uniform film thickness are obtd. and the time required for a rear surface polishing stage after electro forming is shortened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体の製造、特に
光学的に情報の記録・再生を行なう光記録媒体製造用ス
タンパーの電鋳に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to manufacturing of an optical recording medium, and more particularly to electroforming of a stamper for manufacturing an optical recording medium for optically recording / reproducing information.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、各種情報の記録には主として、磁
気テープ、磁気ディスクなどの磁気材料、各種半導体メ
モリーなどが用いられてきた。このような磁気メモリ
ー、半導体メモリーは情報の書き込みおよび読み出しが
容易に行なえるという利点がある反面、情報の内容を容
易に改ざんされたり、また高密度記録ができないという
問題があった。かかる問題点を解決するために、多種多
様の情報を効率良く取り扱う手段として、光記録媒体に
よる光学的情報記録方法が提案され、そのための光学的
情報記録担体、記録再生方法、記録再生装置が提案され
ている。2. Description of the Related Art Conventionally, magnetic materials such as magnetic tapes and magnetic disks, and various semiconductor memories have been mainly used for recording various information. Such a magnetic memory and a semiconductor memory have an advantage that information can be easily written and read, but they have problems that the contents of information can be easily tampered with and high-density recording cannot be performed. In order to solve such a problem, an optical information recording method using an optical recording medium has been proposed as a means for efficiently handling a wide variety of information, and an optical information recording carrier, a recording / reproducing method, and a recording / reproducing apparatus therefor are proposed. Has been done.

【０００３】かかる情報記録担体としての光記録媒体
は、一般にレーザー光を用いて情報記録担体上の光記録
層の一部を揮散させるか、反射率の変化を生じさせる
か、あるいは変形を生じさせて、光学的な反射率や透過
率の差によって情報を記録し、あるいは再生を行なって
いる。この場合、光記録層は情報の書き込み後、現像処
理などの必要がなく、「書いた後に直読する」ことので
きる、いわゆるＤＲＡＷ（ダイレクト リード アフタ
ーライト）媒体であり、高密度記録が可能であり、また
追加書き込みも可能であることから、情報の記録・保存
媒体として有効である。Such an optical recording medium as an information recording carrier generally uses laser light to volatilize a part of the optical recording layer on the information recording carrier, cause a change in reflectance, or cause deformation. Then, information is recorded or reproduced by a difference in optical reflectance or transmittance. In this case, the optical recording layer is a so-called DRAW (Direct Read After Write) medium that can be "read directly after writing" without the need for development processing after writing information, and high density recording is possible. Moreover, since additional writing is possible, it is effective as an information recording / storing medium.

【０００４】図４は通常の光記録媒体（光ディスク、光
カード、光テープなど）の模式的断面図であり、（ａ）
は光ディスク、（ｂ）は光カードの例である。情報の記
録・再生は、トラック溝部４２の微細な凹凸を利用して
レーザー光の位相差により位置決めをしながら行なわれ
る。一般的な光記録媒体では、熱可塑性樹脂であるポリ
カーボネート樹脂やポリメチルメタクリル樹脂を、トラ
ックや情報に対応する凹凸パターンが記録されているス
タンパーを用いて、その凹凸パターンを転写してトラッ
ク溝部４２を形成している。その上には光記録層４３が
塗布され、スペーサー４４および接着層４５を介して保
護基板４６が積層されている。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an ordinary optical recording medium (optical disc, optical card, optical tape, etc.).
Is an optical disk, and (b) is an example of an optical card. Information recording / reproduction is performed while positioning is performed by the phase difference of the laser beam using the fine irregularities of the track groove portion 42. In a general optical recording medium, a track groove portion 42 is formed by transferring a thermoplastic resin such as a polycarbonate resin or a polymethylmethacrylic resin using a stamper on which a concave / convex pattern corresponding to a track or information is recorded. Is formed. An optical recording layer 43 is applied thereon, and a protective substrate 46 is laminated via a spacer 44 and an adhesive layer 45.

【０００５】スタンパーの製造は、一般的には図５に示
す手順で行なわれる。すなわち、平面度良く研磨された
ガラス基板５１上に、レジスト層５２によってトラック
溝５３を形成する工程（図５ａ）、トラック溝５３上に
スパッタなどにより導電膜５４を形成する工程（図５
ｂ）、導電膜５４上に電鋳により電鋳膜５５を形成する
工程（図５ｃ）によって金属製の膜を形成し、さらに裏
面研磨、トリミングなどの工程を経て、金属スタンパー
とする。The stamper is generally manufactured by the procedure shown in FIG. That is, the step of forming the track groove 53 with the resist layer 52 on the glass substrate 51 polished with good flatness (FIG. 5a), and the step of forming the conductive film 54 on the track groove 53 by sputtering or the like (FIG. 5).
b), a metal film is formed on the conductive film 54 by the step of forming the electroformed film 55 by electroforming (FIG. 5c), and the back surface polishing, trimming and other steps are performed to obtain a metal stamper.

【０００６】このような従来の電鋳方法では、電鋳時に
電鋳槽の対向する陽極と陰極の間に絶縁性の補助部材を
邪魔板（バッフル板）として挿入し、電鋳膜の膜厚分布
を均一化する処置が取られる（特開昭５９−１７７３８
８、同６０−１７０８９、同６１−２７９６９９）。In such a conventional electroforming method, an insulating auxiliary member is inserted as a baffle plate between the facing anode and cathode of the electroforming tank at the time of electroforming to obtain a film thickness of the electroformed film. Measures to make the distribution uniform are taken (Japanese Patent Laid-Open No. 59-17738).
8, ibid. 60-17089, ibid. 61-2799699).

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法では、前記のガラスなどの基板上に形成されるレジ
ストや感光性樹脂の凹凸により膜厚が不均一になった
り、エッジ部分に電気力線が集中することによる電鋳膜
の盛り上りが生じて膜厚が不均一になったりするという
問題がある。この結果、次の裏面研磨工程に過大な時間
を要することになり、生産性が低下する。However, according to the conventional method, the film thickness is not uniform due to the unevenness of the resist or the photosensitive resin formed on the substrate such as the above-mentioned glass, and the line of electric force is applied to the edge portion. However, there is a problem in that the electroformed film rises due to the concentration of the particles and the film thickness becomes uneven. As a result, the next back surface polishing step requires an excessive amount of time, which lowers productivity.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の問題を解
決するために成されたものであり、電鋳液を満たす電鋳
槽、電鋳槽内にあり原盤を設置する陰極、陰極に対向し
て設置された陽極、および電鋳液を供給するノズルを有
する光記録媒体製造用スタンパーの電鋳装置において、
（１）陽極と陰極との間隙に、原盤の有効部より直径の
小さい円形開口部と、その開口部周辺にその開口部より
直径の小さい***を有するバッフル板、あるいは（２）
開口部直径が可変のバッフル板が設られていることを特
徴とする光記録媒体製造用スタンパーの電鋳装置および
その装置を用いた電鋳方法を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and includes an electroforming tank filled with an electroforming liquid, a cathode in the electroforming tank and a master for installing a master, and a cathode. In an electroforming apparatus of an optical recording medium manufacturing stamper having an anode installed facing each other, and a nozzle for supplying an electroforming solution,
(1) A baffle plate having a circular opening having a diameter smaller than the effective portion of the master and a small hole having a diameter smaller than the opening in the gap between the anode and the cathode, or (2)
Provided is an electroforming apparatus for a stamper for manufacturing an optical recording medium, which is provided with a baffle plate having a variable opening diameter, and an electroforming method using the apparatus.

【０００９】このような装置およびその装置を用いた電
鋳により、電鋳膜の膜厚分布を均一化して前記の問題点
を解決することができる。By using such a device and electroforming using the device, the film thickness distribution of the electroformed film can be made uniform and the above problems can be solved.

【００１０】[0010]

【作用】以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【００１１】本発明の電鋳装置に用いる陰極は図３のよ
うな構成を有する。すなわち、フォトポリマーなどでパ
ターンが形成され、その表面にスパッターなどで導電化
処理が施されたガラスなどの原盤９が原盤ホルダー８に
セットされている。The cathode used in the electroforming apparatus of the present invention has a structure as shown in FIG. That is, a master 9 such as glass having a pattern formed of photopolymer or the like and having its surface subjected to a conductive treatment by sputtering or the like is set in the master holder 8.

【００１２】バッフル板は、この設置された原盤と中心
が同一の円形開口部を有するものである。The baffle plate has a circular opening centered at the center of the installed master.

【００１３】図１は本発明の電鋳装置の１実施態様を示
す図であり、図１ａは装置の模式的断面図、図１ｂは１
ａの装置の陰極１と陽極２との間に設けられた、膜厚を
調整するためのバッフル板６の１例の正面図である。図
１ａ中、電鋳液７を満たした電鋳槽３に陽極２および陰
極１が対向する位置に置かれ、陰極１はモーター４によ
って回転される。陽極２は試料である球状金属２−２を
チタンより成る網状保持体２−１中に保持し、陰極１と
の間で通電することにより、試料金属をアノード溶解さ
せ、陰極１では試料金属を還元して電鋳膜が形成され
る。FIG. 1 is a view showing one embodiment of an electroforming apparatus of the present invention, FIG. 1a is a schematic sectional view of the apparatus, and FIG.
It is a front view of an example of the baffle plate 6 for adjusting the film thickness, which is provided between the cathode 1 and the anode 2 of the device a. In FIG. 1 a, an anode 2 and a cathode 1 are placed at positions facing each other in an electroforming tank 3 filled with an electroforming liquid 7, and the cathode 1 is rotated by a motor 4. The anode 2 holds a spherical metal 2-2, which is a sample, in a reticulated holding body 2-1 made of titanium, and by energizing the cathode 1 with the cathode 1, the sample metal is dissolved in the anode. It is reduced to form an electroformed film.

【００１４】図１ｂに例示したバッフル板６には、この
図のように原盤の有効部６１より直径の小さい中心開口
部６２がありその周りに膜厚を調整する***６３があ
る。The baffle plate 6 illustrated in FIG. 1b has a central opening 62 having a diameter smaller than that of the effective portion 61 of the master disk as shown in the figure, and a small hole 63 for adjusting the film thickness around the central opening 62.

【００１５】電鋳時の電気力線は通常、中心部より周端
部に集中しやすく、それに伴って膜厚も周端部の方がよ
り厚くなる。また、凹凸パターンを有する紫外線硬化樹
脂の端部にも電気力線が集まりやすいことから、周端部
の膜厚は一層大きくなり、膜厚の不均一化を助長する。
そこで、前記のバッフル板により、中心開口部６２から
電気力線を通し、周端部への電気力線を遮蔽することに
より、周端部の膜厚の増大を防ぐことができる。また、
周端部と中心部の膜厚をより精度良く一致させるため、
中心開口部６２の外側に***６３を設けて、電気力線を
均一化して膜厚の調整を行なう。この***６３は、周端
分と中心部の膜厚が同一になるように、数、大きさおよ
び形状を適宜調整すれば良い。このバッフル板は、固定
しても回転しても、その効果は同様に現れる。The electric lines of force at the time of electroforming are usually more likely to be concentrated on the peripheral end portion than the central portion, and accordingly, the film thickness is larger at the peripheral end portion. In addition, since the lines of electric force are likely to collect at the ends of the ultraviolet curable resin having the concavo-convex pattern, the film thickness at the peripheral end portion is further increased, which promotes nonuniformity of the film thickness.
Therefore, the baffle plate allows the line of electric force to pass through the central opening 62 and shields the line of electric force to the peripheral end portion, thereby preventing an increase in the film thickness at the peripheral end portion. Also,
In order to match the film thickness at the peripheral edge and the center more accurately,
A small hole 63 is provided outside the central opening 62 to make the lines of electric force uniform and adjust the film thickness. The number, size, and shape of the small holes 63 may be appropriately adjusted so that the film thickness of the peripheral portion is the same as that of the central portion. Whether the baffle plate is fixed or rotated, the same effect is exhibited.

【００１６】また、バッフル板を図２に示すように、そ
の円形開口部の直径を外部からの調節によって変えられ
るようにし、その装置を用いて電鋳を行なっても、上記
同様の効果が得られる。すなわち、この装置を用いた電
鋳の場合、電鋳の初期段階においてはバッフル板６の開
口部６２の直径を小さくし（図２ａの状態）、電鋳進行
中の適当な時期に開口部直径を大きくし（図２ｂの状
態）、さらに電鋳を続行することによって、周端部に電
鋳膜形成の遅れを生じさせることができ、結果として均
一な膜厚の電鋳膜を得ることができる。Further, as shown in FIG. 2, the diameter of the circular opening of the baffle plate can be changed by adjusting from the outside, and the same effect can be obtained by electroforming using the apparatus. To be That is, in the case of electroforming using this apparatus, the diameter of the opening 62 of the baffle plate 6 is reduced in the initial stage of electroforming (the state shown in FIG. 2a), and the diameter of the opening is appropriately adjusted during the electroforming process. Is increased (state of FIG. 2b) and electroforming is further continued, whereby the electroformed film can be delayed at the peripheral edge portion, and as a result, an electroformed film having a uniform thickness can be obtained. it can.

【００１７】このバッフル板６の開口部６２の直径を調
整する手段としては、カメラのシャッターと同じ原理で
開閉を行なうことのできるシャッター（図２の６４）が
好ましい。このシャッター６４は、モーター駆動によっ
て自動的に開閉するものが好ましいが、手動で開閉する
形式のものでも良い。As a means for adjusting the diameter of the opening 62 of the baffle plate 6, a shutter (64 in FIG. 2) that can be opened and closed by the same principle as the shutter of the camera is preferable. The shutter 64 is preferably opened and closed automatically by driving a motor, but may be manually opened and closed.

【００１８】また、開口部６２の直径は多段階的にまた
は連続的に変化させても良い。あるいは上記とは逆に、
電鋳の初期段階で開口部直径を大きくし、電鋳途中で小
さくすることによって、端部への電着を抑制する方法で
電鋳を行なっても良い。The diameter of the opening 62 may be changed in multiple steps or continuously. Or conversely to the above,
Electroforming may be carried out by a method of increasing the diameter of the opening in the initial stage of electroforming and decreasing it during electroforming to suppress electrodeposition on the end.

【００１９】次に、本発明の電鋳方法における電鋳液の
循環方法の１例を、図１ａの装置図を用いて説明する。Next, one example of the method for circulating the electroforming liquid in the electroforming method of the present invention will be described with reference to the apparatus diagram of FIG. 1a.

【００２０】電鋳液７は調整槽２８よりポンプ２７によ
って汲み上げられ、陽極２と陰極１の間隙に向けて吐出
口２６より矢印Ａ方向に吐出され、排出口２９によって
調整槽２８に回収されることにより循環される。これに
より、電鋳槽７には常に新しい電鋳液が供給される。The electroforming liquid 7 is pumped up from the adjusting tank 28 by the pump 27, discharged from the discharge port 26 in the direction of arrow A toward the gap between the anode 2 and the cathode 1, and collected in the adjusting tank 28 by the discharge port 29. To be circulated. As a result, a new electroforming liquid is constantly supplied to the electroforming tank 7.

【００２１】電鋳液を送り込むための吐出口２６は、陰
極１の面に直角方向に向ければ効果が大きいが、陰極面
上で発生する水素ガスを均一に除去するために、必要に
応じて角度を付けたり、また吐出口の数を増減させるこ
ともできる。The discharge port 26 for feeding the electroforming liquid has a great effect if it is oriented in a direction perpendicular to the surface of the cathode 1. However, in order to uniformly remove the hydrogen gas generated on the cathode surface, it may be necessary. It is possible to make an angle and increase or decrease the number of discharge ports.

【００２２】電鋳液７の吐出流量は１５リットル／分〜
３００リットル／分程度が好ましい。流量が小さすぎる
と、陰極面上の水素ガスを除去するのに足るだけの流速
が得られず、また逆に大きすぎると、ポンプ２７、吐出
口２６などに過大な圧力がかかって好ましくない。The discharge flow rate of the electroforming liquid 7 is 15 l / min.
About 300 liters / minute is preferable. If the flow rate is too low, a flow rate sufficient to remove the hydrogen gas on the cathode surface cannot be obtained. On the contrary, if the flow rate is too high, excessive pressure is applied to the pump 27, the discharge port 26, etc., which is not preferable.

【００２３】[0023]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【００２４】（実施例１）厚さ１０ｍｍ、直径で３６０
ｍｍの大きさのガラス板（旭ガラス製）上に、フォトレ
ジスト（ヘキストジャパンより入手、ＡＺ１３００）を
０．１１μｍの厚さに回転塗布してから、レーザー露光
機（松下電器製）でパターンを露光し、現像して、ピッ
チ１．６μｍ、幅０．７μｍ、深さ１１００Åの同心円
の凹凸パターンを形成した。(Example 1) Thickness 10 mm, diameter 360
A photoresist (obtained from Hoechst Japan, AZ1300) is spin-coated on a glass plate (made by Asahi Glass Co., Ltd.) with a thickness of 0.11 μm to a pattern with a laser exposure machine (made by Matsushita Electric). It was exposed and developed to form a concavo-convex pattern of concentric circles having a pitch of 1.6 μm, a width of 0.7 μm and a depth of 1100 Å.

【００２５】その後、ニッケルを１０００Åの厚さにス
パッターして導電化処理した。この凹凸パターンの形成
されたガラス板を、直径４００ｍｍ、角度４５度、長さ
１０ｍｍのテーパーの形成された丸型原盤ホールダーに
固定した。これを陰極とし、図１ａに示した装置を用い
て陽極としてニッケル球をチタンの籠に入れたものを用
いて電鋳を行なった。After that, nickel was sputtered to a thickness of 1000 Å to make it conductive. The glass plate on which the concavo-convex pattern was formed was fixed to a round master holder having a diameter of 400 mm, an angle of 45 degrees, and a length of 10 mm. Using this as a cathode and using the apparatus shown in FIG. 1a as an anode, nickel balls were placed in a titanium cage and electroforming was performed.

【００２６】また、陰極上には直径１６０ｍｍの中心開
口部と、その周囲に直径５ｍｍの***２０個を有する塩
化ビニル樹脂製のバッフル板を設置した。On the cathode, a vinyl chloride resin baffle plate having a central opening having a diameter of 160 mm and 20 small holes having a diameter of 5 mm was installed around the central opening.

【００２７】電鋳液としては、表１の組成に混合した液
を５００リットルを電鋳槽１５０リットル、調整槽３５
０リットルの電鋳装置に入れて、液温を４５℃とし、ｐ
Ｈを４．０として、液全体を１０回／時間のサイクルで
循環させた。電鋳液は４０リットル／分の速度で調整槽
より汲み上げ、１本の吐出口から電鋳槽に吐出させた。As the electroforming liquid, 500 liters of the liquid mixed with the composition shown in Table 1 was used in the electroforming tank of 150 liters and the adjusting tank 35.
Put it in a 0 liter electroforming machine, adjust the liquid temperature to 45 ° C, p
The H was set to 4.0, and the whole liquid was circulated at a cycle of 10 times / hour. The electroforming liquid was pumped from the adjusting tank at a rate of 40 liters / minute and discharged from one discharge port into the electroforming tank.

【００２８】[0028]

【表１】 また、電鋳時の電流条件としては、電鋳開始（０Ａ）か
ら毎分１／３Ａの速度で１Ａまで上げ、３０分間１Ａを
維持し、その後１時間かけて５０Ａまで上げて、積算電
流値が１３０００Ａ・分となるまで電鋳を行なった。[Table 1] In addition, the current conditions during electroforming were as follows: from the start of electrocasting (0A) to 1A at a rate of 1 / 3A per minute, maintaining 1A for 30 minutes, then increasing to 50A over 1 hour, and then increasing the integrated current value. Was electroformed until the value was 13000 A · min.

【００２９】得られた電鋳膜の厚さをマイクロメータに
よって測定したことろ、精度±１０μｍ以内で均一であ
った。The thickness of the obtained electroformed film was measured with a micrometer and found to be uniform with an accuracy of ± 10 μm.

【００３０】（比較例１）バッフル板を使用しないで、
他の条件は全て実施例１と同様にして電鋳を行なった。
得られた電鋳膜の厚さをマイクロメータで測定したとこ
ろ、中央部が周端部より約５０〜６０μｍ程度薄く、不
均一な膜であることがわかった。(Comparative Example 1) Without using a baffle plate,
All other conditions were the same as in Example 1, and electroforming was performed.
When the thickness of the obtained electroformed film was measured with a micrometer, it was found that the central portion was thinner than the peripheral end portion by about 50 to 60 μm and was a non-uniform film.

【００３１】（実施例２）バッフル板として、シャッタ
ーの開閉により直径が１５０〜３００ｍｍの範囲で可変
の円形開口部を中央に有する塩化ビニル樹脂製板を用
い、電鋳時の開口部直径を表２のように変化させ、それ
以外は実施例１と同様にして電鋳を行なった。(Embodiment 2) As a baffle plate, a vinyl chloride resin plate having a circular opening in the center whose diameter is variable in the range of 150 to 300 mm by opening and closing a shutter is used, and the opening diameter at the time of electroforming is shown. The electroforming was carried out in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed as shown in FIG.

【００３２】[0032]

【表２】 得られた電鋳膜の厚さをマイクロメータによって測定し
たことろ、精度±１０μｍ以内で均一であった。[Table 2] The thickness of the obtained electroformed film was measured with a micrometer and found to be uniform with an accuracy of ± 10 μm.

【００３３】（実施例３）電鋳時の開口部直径の変化を
表３のように行なう以外は実施例２と同様にして電鋳を
実施した。(Example 3) Electroforming was carried out in the same manner as in Example 2 except that the diameter of the opening was changed as shown in Table 3 during electroforming.

【００３４】[0034]

【表３】 得られた電鋳膜の厚さをマイクロメータによって測定し
たことろ、精度±１０μｍ以内で均一であった。[Table 3] The thickness of the obtained electroformed film was measured with a micrometer and found to be uniform with an accuracy of ± 10 μm.

【００３５】（比較例２）バッフル板の開口部直径を３
００ｍｍに固定して実施例２同様の電鋳を行なった。得
られた電鋳膜の厚さをマイクロメータで測定したとこ
ろ、中央部が周端部より約４０〜５０μｍ薄く、膜厚の
不均一な膜であることがわかった。(Comparative Example 2) The opening diameter of the baffle plate was set to 3
Electroforming was carried out in the same manner as in Example 2 with fixing to 00 mm. When the thickness of the obtained electroformed film was measured with a micrometer, it was found that the central portion was thinner than the peripheral end portion by about 40 to 50 μm and the film thickness was non-uniform.

【００３６】[0036]

【発明の効果】本発明の装置および方法により、原盤の
電鋳時に周端部への電気力線集中が防止されて均一な膜
厚の電鋳膜を得ることができ、電鋳後の裏面研磨工程に
要する時間を短縮することができ、従って生産性を向上
させることができる。According to the apparatus and method of the present invention, it is possible to prevent the concentration of electric lines of force at the peripheral edge portion during electroforming of a master, and to obtain an electroformed film having a uniform thickness. The time required for the polishing process can be shortened, and therefore the productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の電鋳装置の１実施態様を示す模式図で
あり、ａは装置全体の断面図、ｂはａの装置のバッフル
板の正面図である。FIG. 1 is a schematic view showing one embodiment of an electroforming apparatus of the present invention, a is a sectional view of the entire apparatus, and b is a front view of a baffle plate of the apparatus of a.

【図２】本発明の電鋳装置に用いられるバッフル板の別
の例の正面図であり、ａはシャッターにて開口部直径を
小さくした場合、ｂはシャッターを開いて開口部を大き
くした場合の図である。FIG. 2 is a front view of another example of a baffle plate used in the electroforming apparatus of the present invention, where a is a shutter having a smaller opening diameter and b is a shutter having an opening with a larger opening. FIG.

【図３】本発明の電鋳装置の陰極の模式的断面図であ
る。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a cathode of an electroforming device of the present invention.

【図４】光記録媒体の例を示す模式的断面図であり、ａ
は光ディスクの図、ｂは光カードの図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical recording medium, a
Is a diagram of an optical disk, and b is a diagram of an optical card.

【図５】スタンパーの製造手順を示す概略断面図であ
り、ａはレジストに凹凸パターンを形成した図、ｂは導
電化処理後の図、ｃは電鋳後の図である。5A and 5B are schematic cross-sectional views showing a stamper manufacturing procedure, in which a is a diagram in which a concavo-convex pattern is formed on a resist, b is a diagram after a conductive treatment, and c is a diagram after electroforming.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 陰極 ２ 陽極 ２−１ 網状支持体 ２−２ 球状金属 ３ 電鋳槽 ４ モーター ５ 上蓋 ６ バッフル板 ７ 電鋳液 ８ 原盤ホールダー ９ 原盤 ２６ 吐出口 ２７ ポンプ ２８ 調整槽 ２９ 排出口 ４１ 透明基板 ４２ トラック溝部 ４３ 光記録層 ４４ スぺーサー ４５ 接着層 ４６ 保護基板 ５１ ガラス基板 ５２ レジスト層 ５３ トラック溝 ５４ 導電膜 ５５ 電鋳膜 ６１ 原盤有効部 ６２ 中心開口部 ６３ *** ６４ シャッター DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cathode 2 Anode 2-1 Reticulated support 2-2 Spherical metal 3 Electroforming tank 4 Motor 5 Upper lid 6 Baffle plate 7 Electroforming liquid 8 Master disk holder 9 Master disk 26 Discharge port 27 Pump 28 Adjusting tank 29 Discharge port 41 Transparent substrate 42 Track groove portion 43 Optical recording layer 44 Spacer 45 Adhesive layer 46 Protective substrate 51 Glass substrate 52 Resist layer 53 Track groove 54 Conductive film 55 Electroformed film 61 Master effective portion 62 Center opening 63 Small hole 64 Shutter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 串田 直樹 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 鹿目 修 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 芳野 斉 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Naoki Kushida 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Osamu Kaname 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Non-Incorporated (72) Inventor Hitoshi Yoshino 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 少なくとも、電鋳液を満たす電鋳槽、該
電鋳槽内にあり原盤を設置する陰極、該陰極に対向して
設置された陽極、および電鋳液を供給するノズルを有す
る光記録媒体製造用スタンパーの電鋳装置において、陽
極と陰極との間隙に、原盤の有効部より直径の小さい円
形開口部と、該開口部周辺に該開口部より直径の小さい
***を有するバッフル板が設けられていることを特徴と
する光記録媒体製造用スタンパーの電鋳装置。1. At least an electroforming tank filled with the electroforming liquid, a cathode in the electroforming tank for installing a master, an anode installed opposite to the cathode, and a nozzle for supplying the electroforming liquid. In an electroforming apparatus for a stamper for producing an optical recording medium, a baffle plate having a circular opening having a diameter smaller than the effective portion of the master and a small hole having a diameter smaller than the opening in the gap between the anode and the cathode. An electroforming apparatus for a stamper for manufacturing an optical recording medium, which is provided with. 【請求項２】 請求項１の装置を用い、記録すべき情報
に対応した凹凸パターンが形成された原盤に電鋳を行な
う光記録媒体製造用スタンパーの電鋳方法。2. An electroforming method of a stamper for manufacturing an optical recording medium, which comprises electroplating a master having an uneven pattern corresponding to information to be recorded, using the apparatus of claim 1. 【請求項３】 少なくとも、電鋳液を満たす電鋳槽、該
電鋳槽内にあり原盤を設置する陰極、該陰極に対向して
設置された陽極、および電鋳液を供給するノズルを有す
る光記録媒体製造用スタンパーの電鋳装置において、陽
極と陰極との間隙に、中央に円形開口部を有し該開口部
の直径が可変のバッフル板が設けられていることを特徴
とする光記録媒体製造用スタンパーの電鋳装置。3. At least an electroforming tank filled with the electroforming liquid, a cathode in the electroforming tank for installing a master, an anode installed opposite to the cathode, and a nozzle for supplying the electroforming liquid. In an electroforming apparatus for a stamper for producing an optical recording medium, a baffle plate having a circular opening in the center and having a variable diameter of the opening is provided in a gap between an anode and a cathode. Electroforming equipment for media production stampers. 【請求項４】 請求項３の装置を用い、電鋳工程中にバ
ッフル板の開口部直径を変化させながら、記録すべき情
報に対応した凹凸パターンが形成された原盤に電鋳を行
なう光記録媒体製造用スタンパーの電鋳方法。4. An optical recording method using the apparatus according to claim 3, wherein electroforming is performed on a master having a concavo-convex pattern corresponding to information to be recorded while changing the opening diameter of the baffle plate during the electroforming process. Electroforming method for stamper for manufacturing medium.