JPH0763698A - 欠陥検査方法及びその実施に使用する装置 - Google Patents
欠陥検査方法及びその実施に使用する装置Info
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- JPH0763698A JPH0763698A JP23920093A JP23920093A JPH0763698A JP H0763698 A JPH0763698 A JP H0763698A JP 23920093 A JP23920093 A JP 23920093A JP 23920093 A JP23920093 A JP 23920093A JP H0763698 A JPH0763698 A JP H0763698A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 精度良く欠陥の判定が行える欠陥検査方法及
びその実施に使用する装置を提供する。 【構成】 信号処理回路４では、まず欠陥有無判定回路
41にてＡ／Ｄ変換された信号がノイズ除去のための閾値
を越えているか否かを判断して、欠陥の有無を判定す
る。そしてこの閾値を越える信号部分がある場合は、２
値化回路42にてこの閾値を用いて２値化し画像を形成
し、これと同時的に、２値化回路43にてこの閾値より小
さい閾値を用いて２値化し画像を形成する。これら画像
はフレームメモリ44, 45にて記憶し、フレームメモリ45
が記憶する欠陥画像部分からフレームメモリ44が記憶す
る欠陥画像部分を含む部分の画像信号を欠陥画像抽出回
路46にて抽出し、特徴量算出回路５へ与える。特徴量算
出回路５は所要の特徴量を算出し、欠陥判定回路６にて
欠陥の判定を行う。
びその実施に使用する装置を提供する。 【構成】 信号処理回路４では、まず欠陥有無判定回路
41にてＡ／Ｄ変換された信号がノイズ除去のための閾値
を越えているか否かを判断して、欠陥の有無を判定す
る。そしてこの閾値を越える信号部分がある場合は、２
値化回路42にてこの閾値を用いて２値化し画像を形成
し、これと同時的に、２値化回路43にてこの閾値より小
さい閾値を用いて２値化し画像を形成する。これら画像
はフレームメモリ44, 45にて記憶し、フレームメモリ45
が記憶する欠陥画像部分からフレームメモリ44が記憶す
る欠陥画像部分を含む部分の画像信号を欠陥画像抽出回
路46にて抽出し、特徴量算出回路５へ与える。特徴量算
出回路５は所要の特徴量を算出し、欠陥判定回路６にて
欠陥の判定を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼板等の被検査材の表
面を検査して表面欠陥を検出する欠陥検査方法及びその
実施に使用する装置に関する。
面を検査して表面欠陥を検出する欠陥検査方法及びその
実施に使用する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から鋼板等の被検査材の表面検査
は、搬送される被検査材に光を照射し、これによる反射
光又は透過光を受光し、この受光信号を電気信号に変換
して生信号を得、さらにこの生信号を２値化し、この２
値化した信号に基づいて欠陥の形状，等級の判定を行う
ことによって行っている。
は、搬送される被検査材に光を照射し、これによる反射
光又は透過光を受光し、この受光信号を電気信号に変換
して生信号を得、さらにこの生信号を２値化し、この２
値化した信号に基づいて欠陥の形状，等級の判定を行う
ことによって行っている。
【０００３】図４は、一般的な従来装置の構成を示すブ
ロック図である。搬送される鋼板等の被検査材（図示せ
ず）表面を、搬送方向に直交する方向にレーザ光で走査
し、被検査材で正反射, 散乱したレーザ光を、光学セン
サ21の正反射成分受光部21a, 散乱成分受光部21b で夫
々受光する。ここで欠陥性状によっては正反射成分で顕
著に現れるものと散乱成分で顕著に現れるものとがある
ため、正反射及び散乱したレーザ光を受光している。そ
してこの受光した光を対応する電気信号に変換して生信
号を得る。生信号は鋼板のばたつき，うねり等の影響を
受け易いため、この影響を除去するため夫々フィルタ2
2, 23を通過させて、欠陥がない平坦なものを検査した
状態がＧＮＤとなるようなフィルタ信号とする。
ロック図である。搬送される鋼板等の被検査材（図示せ
ず）表面を、搬送方向に直交する方向にレーザ光で走査
し、被検査材で正反射, 散乱したレーザ光を、光学セン
サ21の正反射成分受光部21a, 散乱成分受光部21b で夫
々受光する。ここで欠陥性状によっては正反射成分で顕
著に現れるものと散乱成分で顕著に現れるものとがある
ため、正反射及び散乱したレーザ光を受光している。そ
してこの受光した光を対応する電気信号に変換して生信
号を得る。生信号は鋼板のばたつき，うねり等の影響を
受け易いため、この影響を除去するため夫々フィルタ2
2, 23を通過させて、欠陥がない平坦なものを検査した
状態がＧＮＤとなるようなフィルタ信号とする。
【０００４】図５(a) は、点状の欠陥Ｆの走査状態を示
し、図５(b) はこれにより得られる生信号を示し、図５
(c) はフィルタ22(23)を経たフィルタ信号を示してい
る。フィルタ信号は夫々信号処理装置24, 25へ与えら
れ、信号処理装置24, 25では、正の閾値Thp 又は負の閾
値Thn を越えた信号部分があるか否かを判断して欠陥を
検出する。そして図５(c) に示す如く閾値Thp ，Thn を
越えた信号部分があった場合は欠陥有と判定し、この信
号から欠陥Ｆの特徴量（面積，サイズ等）を求め、この
特徴量は欠陥判定部26へ与えて、欠陥名, 等級を判定す
る。
し、図５(b) はこれにより得られる生信号を示し、図５
(c) はフィルタ22(23)を経たフィルタ信号を示してい
る。フィルタ信号は夫々信号処理装置24, 25へ与えら
れ、信号処理装置24, 25では、正の閾値Thp 又は負の閾
値Thn を越えた信号部分があるか否かを判断して欠陥を
検出する。そして図５(c) に示す如く閾値Thp ，Thn を
越えた信号部分があった場合は欠陥有と判定し、この信
号から欠陥Ｆの特徴量（面積，サイズ等）を求め、この
特徴量は欠陥判定部26へ与えて、欠陥名, 等級を判定す
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来は、
欠陥検出の際にノイズを欠陥として検出する誤検出をし
ないよう図５(c) に示す如く、そのレベルが標準的な欠
陥信号以下であるノイズを除去し得る閾値を設定してい
るため、閾値Thp から閾値Thn までの間の信号は全てノ
イズとしてその情報は失われる。従って欠陥Ｆの存在は
検出することができても、その形状を正確に検出するこ
とは困難である。これは１つの欠陥内でも性状がその途
中で変化しているため、その部分により信号レベルが異
なることに起因する。このため例えば線状の欠陥を検査
しても、レベルが高い部分のみが検出されレベルが低い
部分は検出されないため、点状欠陥又は実際の欠陥より
短い欠陥と判定されたり、複数の欠陥と判定されたりし
て、欠陥判定結果は誤判定となってしまう。
欠陥検出の際にノイズを欠陥として検出する誤検出をし
ないよう図５(c) に示す如く、そのレベルが標準的な欠
陥信号以下であるノイズを除去し得る閾値を設定してい
るため、閾値Thp から閾値Thn までの間の信号は全てノ
イズとしてその情報は失われる。従って欠陥Ｆの存在は
検出することができても、その形状を正確に検出するこ
とは困難である。これは１つの欠陥内でも性状がその途
中で変化しているため、その部分により信号レベルが異
なることに起因する。このため例えば線状の欠陥を検査
しても、レベルが高い部分のみが検出されレベルが低い
部分は検出されないため、点状欠陥又は実際の欠陥より
短い欠陥と判定されたり、複数の欠陥と判定されたりし
て、欠陥判定結果は誤判定となってしまう。
【０００６】本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたも
のであり、欠陥の有無を判定する閾値とは別の閾値を用
いて信号の量子化を行い、この量子化された信号に基づ
いて欠陥判定を行うことにより、精度良く欠陥の判定が
行える欠陥検査方法及びその実施に使用する装置を提供
することを目的とする。
のであり、欠陥の有無を判定する閾値とは別の閾値を用
いて信号の量子化を行い、この量子化された信号に基づ
いて欠陥判定を行うことにより、精度良く欠陥の判定が
行える欠陥検査方法及びその実施に使用する装置を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る欠陥検査方
法は、被検査材をセンサにて探傷し、そのセンサから得
られる信号を電気信号に変換し、量子化して欠陥を検査
する欠陥検査方法において、前記電気信号のノイズを除
去するための第１の閾値により欠陥の有無を判定し、欠
陥有と判定された場合には、第１の閾値，及び第１の閾
値より小さく、所定レベルのノイズを除去する第２の閾
値にて量子化を行い、これら量子化された信号を使用し
て検査を行うことを特徴とする。
法は、被検査材をセンサにて探傷し、そのセンサから得
られる信号を電気信号に変換し、量子化して欠陥を検査
する欠陥検査方法において、前記電気信号のノイズを除
去するための第１の閾値により欠陥の有無を判定し、欠
陥有と判定された場合には、第１の閾値，及び第１の閾
値より小さく、所定レベルのノイズを除去する第２の閾
値にて量子化を行い、これら量子化された信号を使用し
て検査を行うことを特徴とする。
【０００８】本発明に係る欠陥検査装置は、被検査材を
センサにて探傷し、そのセンサから得られる信号を電気
信号に変換し、量子化して欠陥を検査する欠陥検査装置
において、前記電気信号のノイズを除去するための第１
の閾値、及び第１の閾値より小さく、所定レベルのノイ
ズを除去する第２の閾値を設定してあり、欠陥の有無は
第１の閾値により判定し、欠陥有と判定された場合に
は、第１の閾値及び第２の閾値にて量子化を行う手段
と、これら量子化された信号を使用して検査を行う手段
とを備えることを特徴とする。
センサにて探傷し、そのセンサから得られる信号を電気
信号に変換し、量子化して欠陥を検査する欠陥検査装置
において、前記電気信号のノイズを除去するための第１
の閾値、及び第１の閾値より小さく、所定レベルのノイ
ズを除去する第２の閾値を設定してあり、欠陥の有無は
第１の閾値により判定し、欠陥有と判定された場合に
は、第１の閾値及び第２の閾値にて量子化を行う手段
と、これら量子化された信号を使用して検査を行う手段
とを備えることを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明にあっては、ノイズ除去レベルの第１の
閾値にて欠陥の有無を判定した後、欠陥有と判定した場
合は、第１の閾値，及び第１の閾値より小さく、所定レ
ベルのノイズを除去する第２の閾値を用いて信号を量子
化するので、従来は失われていたレベルの信号をも用い
て欠陥を検出することになり、欠陥形状を正確に検出す
ることが可能となる。
閾値にて欠陥の有無を判定した後、欠陥有と判定した場
合は、第１の閾値，及び第１の閾値より小さく、所定レ
ベルのノイズを除去する第２の閾値を用いて信号を量子
化するので、従来は失われていたレベルの信号をも用い
て欠陥を検出することになり、欠陥形状を正確に検出す
ることが可能となる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明をその実施例を示す図面に基づ
き具体的に説明する。図１は、本発明に係る欠陥検査装
置の構成を示すブロック図である。図中１は、搬送され
る被検査材（図示せず）表面を、搬送方向に直交する方
向にレーザ光で走査し、被検査材での反射光を受光し、
さらに電気信号に変換して生信号として処理する光学セ
ンサである。生信号は、ばたつき，うねり等の影響を除
去するため微分又は減算を行うフィルタ２を経てフィル
タ信号とされ、Ａ／Ｄ変換器３へ与えられるようになし
てある。Ａ／Ｄ変換器３にてＡ／Ｄ変換された信号は、
信号処理回路４にて後述する処理を施された後、所定の
信号が特徴量算出回路５へ与えられ、特徴量算出回路５
にて特徴量を算出するようになしてある。この算出結果
は欠陥判定回路６へ与えられて欠陥判定回路６にて欠陥
判定を行うようになしてある。
き具体的に説明する。図１は、本発明に係る欠陥検査装
置の構成を示すブロック図である。図中１は、搬送され
る被検査材（図示せず）表面を、搬送方向に直交する方
向にレーザ光で走査し、被検査材での反射光を受光し、
さらに電気信号に変換して生信号として処理する光学セ
ンサである。生信号は、ばたつき，うねり等の影響を除
去するため微分又は減算を行うフィルタ２を経てフィル
タ信号とされ、Ａ／Ｄ変換器３へ与えられるようになし
てある。Ａ／Ｄ変換器３にてＡ／Ｄ変換された信号は、
信号処理回路４にて後述する処理を施された後、所定の
信号が特徴量算出回路５へ与えられ、特徴量算出回路５
にて特徴量を算出するようになしてある。この算出結果
は欠陥判定回路６へ与えられて欠陥判定回路６にて欠陥
判定を行うようになしてある。
【００１１】信号処理回路４内には、欠陥の有無を判定
する欠陥有無判定回路41と、欠陥有無判定回路41にて欠
陥有と判定された場合に信号を夫々異なる閾値にて２値
化する２値化回路42, 43と、これら２値化回路42, 43に
より２値化された信号を所定走査回数分蓄積して記憶す
るフレームメモリ44, 45と、これらフレームメモリ44,
45が記憶する２次元画像のうち重なっている部分を抽出
する欠陥画像抽出回路46とを備える。この欠陥画像抽出
回路46にて抽出された画像信号は前述の特徴量算出回路
５へ与えられるようになしてある。
する欠陥有無判定回路41と、欠陥有無判定回路41にて欠
陥有と判定された場合に信号を夫々異なる閾値にて２値
化する２値化回路42, 43と、これら２値化回路42, 43に
より２値化された信号を所定走査回数分蓄積して記憶す
るフレームメモリ44, 45と、これらフレームメモリ44,
45が記憶する２次元画像のうち重なっている部分を抽出
する欠陥画像抽出回路46とを備える。この欠陥画像抽出
回路46にて抽出された画像信号は前述の特徴量算出回路
５へ与えられるようになしてある。
【００１２】以下、信号処理回路４の動作について詳し
く説明する。図２は、信号処理回路４における処理を示
すフローチャートである。信号処理回路４へＡ／Ｄ変換
された信号が与えられると、まず欠陥有無判定回路41に
てこの与えられた信号が閾値Thp1, Thn1を越えているか
否かを判断して、欠陥の有無を判定する（ステップＳ
１）。そして閾値Thp1, Thn1を越える信号部分がない場
合は後続の特徴量算出回路５へは信号を与えない。一
方、閾値Thp1, Thn1を越える信号部分があった場合は、
２値化回路42にてそのとき与えられている信号を閾値Th
p1, Thn1を用いて２値化し、被検査材を搬送しながら所
定回走査して得られる信号をフレームメモリ44にて蓄積
し２次元的な画像を形成する（ステップＳ２）。これと
同時的に、２値化回路43にて閾値Thp1, Thn1より絶対値
が小さい閾値Thp2, Thn2を用いて２値化し、フレームメ
モリ45にて蓄積し２次元画像を形成する（ステップＳ
３）。
く説明する。図２は、信号処理回路４における処理を示
すフローチャートである。信号処理回路４へＡ／Ｄ変換
された信号が与えられると、まず欠陥有無判定回路41に
てこの与えられた信号が閾値Thp1, Thn1を越えているか
否かを判断して、欠陥の有無を判定する（ステップＳ
１）。そして閾値Thp1, Thn1を越える信号部分がない場
合は後続の特徴量算出回路５へは信号を与えない。一
方、閾値Thp1, Thn1を越える信号部分があった場合は、
２値化回路42にてそのとき与えられている信号を閾値Th
p1, Thn1を用いて２値化し、被検査材を搬送しながら所
定回走査して得られる信号をフレームメモリ44にて蓄積
し２次元的な画像を形成する（ステップＳ２）。これと
同時的に、２値化回路43にて閾値Thp1, Thn1より絶対値
が小さい閾値Thp2, Thn2を用いて２値化し、フレームメ
モリ45にて蓄積し２次元画像を形成する（ステップＳ
３）。
【００１３】例えば絶対値が大きい閾値Thp1, Thn1にて
２値化した画像は、欠陥深さが深い部分又は欠陥のエッ
ジ部分のみの画像である。また絶対値が小さい閾値Th
p2, Thn2にて２値化した画像は、これに加えて、欠陥深
さが深い部分間をつなぐ浅い欠陥部分、欠陥深さが深い
欠陥部分で囲まれた内側に位置する浅い欠陥部分、又は
比較的大きなノイズが現れた部分をも含んだ画像であ
る。従って閾値Thp2, Thn2による欠陥画像部分をラベリ
ングし、この画像から閾値Thp1, Thn1による欠陥画像部
分を含むラベリングされた部分を抽出すれば、欠陥画像
のみを抽出することができる。フレームメモリ45, 45が
記憶する画像の抽出を欠陥画像抽出回路46にて行い、そ
の信号を特徴量算出回路５へ与える。そして前述の如
く、特徴量算出回路５は所要の特徴量を算出した後、算
出結果を欠陥判定回路６へ与え、この特徴量に基づいて
欠陥判定回路６では欠陥の判定を行う。
２値化した画像は、欠陥深さが深い部分又は欠陥のエッ
ジ部分のみの画像である。また絶対値が小さい閾値Th
p2, Thn2にて２値化した画像は、これに加えて、欠陥深
さが深い部分間をつなぐ浅い欠陥部分、欠陥深さが深い
欠陥部分で囲まれた内側に位置する浅い欠陥部分、又は
比較的大きなノイズが現れた部分をも含んだ画像であ
る。従って閾値Thp2, Thn2による欠陥画像部分をラベリ
ングし、この画像から閾値Thp1, Thn1による欠陥画像部
分を含むラベリングされた部分を抽出すれば、欠陥画像
のみを抽出することができる。フレームメモリ45, 45が
記憶する画像の抽出を欠陥画像抽出回路46にて行い、そ
の信号を特徴量算出回路５へ与える。そして前述の如
く、特徴量算出回路５は所要の特徴量を算出した後、算
出結果を欠陥判定回路６へ与え、この特徴量に基づいて
欠陥判定回路６では欠陥の判定を行う。
【００１４】図３は、信号処理回路４における処理を具
体的に説明するための図である。図３(a) に黒丸で示す
如き、大きく深い点状部の、搬送方向における上流側及
び下流側に欠陥深さが浅い線状部が繋がっており、下流
側の線状部の中途は少し深くなった欠陥を検出する場合
について述べる。図３(a) に示す如き欠陥では、点状部
を走査したとき、及び前述の深い線状部を走査したとき
に閾値Thp1, Thn1を越えた信号が現れる。このような閾
値Thp1, Thn1を越えた信号のみを使用した場合の欠陥画
像は、図３(b) の右側に示すように前記点状部及び太い
線状部のみが別々に検出され、太い線状部の前後の細い
線状部は検出されない形状となる。
体的に説明するための図である。図３(a) に黒丸で示す
如き、大きく深い点状部の、搬送方向における上流側及
び下流側に欠陥深さが浅い線状部が繋がっており、下流
側の線状部の中途は少し深くなった欠陥を検出する場合
について述べる。図３(a) に示す如き欠陥では、点状部
を走査したとき、及び前述の深い線状部を走査したとき
に閾値Thp1, Thn1を越えた信号が現れる。このような閾
値Thp1, Thn1を越えた信号のみを使用した場合の欠陥画
像は、図３(b) の右側に示すように前記点状部及び太い
線状部のみが別々に検出され、太い線状部の前後の細い
線状部は検出されない形状となる。
【００１５】本発明における信号処理回路４内の２値化
回路43には、図３(c) に示す如く、閾値Thp1, Thn1より
絶対値が小さい閾値Thp2, Thn2を設定してある。この閾
値Thp2, Thn2は、欠陥が存在しない被検査材を走査した
ときに得られる信号が、一定の割合でその閾値を越える
ように設定する。閾値Thp1, Thn1を越えた信号部分が現
れると、フレームメモリ45にてこの前後、数走査回分の
信号から、これら閾値Thp2, Thn2を越えた信号を使用し
た欠陥画像も形成するようになっている。そして欠陥画
像抽出回路46にて閾値Thp2, Thn2にて得られた欠陥画像
部分から閾値Thp1, Thn1にて得られた欠陥画像部分を欠
陥画像として抽出する。これにより図３(c) の右側に示
すように太い線状部の前後の細い線状部も検出され、１
つの欠陥として形状が正確に検出される。
回路43には、図３(c) に示す如く、閾値Thp1, Thn1より
絶対値が小さい閾値Thp2, Thn2を設定してある。この閾
値Thp2, Thn2は、欠陥が存在しない被検査材を走査した
ときに得られる信号が、一定の割合でその閾値を越える
ように設定する。閾値Thp1, Thn1を越えた信号部分が現
れると、フレームメモリ45にてこの前後、数走査回分の
信号から、これら閾値Thp2, Thn2を越えた信号を使用し
た欠陥画像も形成するようになっている。そして欠陥画
像抽出回路46にて閾値Thp2, Thn2にて得られた欠陥画像
部分から閾値Thp1, Thn1にて得られた欠陥画像部分を欠
陥画像として抽出する。これにより図３(c) の右側に示
すように太い線状部の前後の細い線状部も検出され、１
つの欠陥として形状が正確に検出される。
【００１６】以上の如き構成の本発明装置においては、
被検査材を光学センサ１で走査し、且つその反射光を受
光し、さらにフィルタ２，Ａ／Ｄ変換器３を経た後、信
号処理回路４にて上述のような処理を行って検出した欠
陥信号に基づき、以下の特徴量算出回路５及び欠陥判定
回路６を使用して欠陥の判定を行う。このとき信号処理
回路４においては、欠陥を検出するための正確な情報を
有する欠陥信号が得られるため、その後の特徴量算出回
路５及び欠陥判定回路６を使用した欠陥判定の精度が大
幅に上昇する。
被検査材を光学センサ１で走査し、且つその反射光を受
光し、さらにフィルタ２，Ａ／Ｄ変換器３を経た後、信
号処理回路４にて上述のような処理を行って検出した欠
陥信号に基づき、以下の特徴量算出回路５及び欠陥判定
回路６を使用して欠陥の判定を行う。このとき信号処理
回路４においては、欠陥を検出するための正確な情報を
有する欠陥信号が得られるため、その後の特徴量算出回
路５及び欠陥判定回路６を使用した欠陥判定の精度が大
幅に上昇する。
【００１７】なお光の正反射を受光する光学センサ，光
の乱反射を受光する光学センサ，磁気センサ等のセンサ
, 又はＣＣＤカメラ等をセンサとして使用しても同様の
効果が得られる。また第２の閾値はＳ／Ｎが１以上であ
り、第１の閾値以下の所要の値に設定すればよい。
の乱反射を受光する光学センサ，磁気センサ等のセンサ
, 又はＣＣＤカメラ等をセンサとして使用しても同様の
効果が得られる。また第２の閾値はＳ／Ｎが１以上であ
り、第１の閾値以下の所要の値に設定すればよい。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明に係る欠陥検査方法
及びその実施に使用する装置は、ノイズ除去レベルの第
１の閾値にて欠陥の有無を判定した後、欠陥有と判定し
た場合は、第１の閾値，及び第１の閾値より小さく、所
定レベルのノイズを除去する第２の閾値を用いて欠陥信
号を量子化するので、従来は失われていたレベルの信号
をも用いて欠陥を検出することになり、欠陥形状を正確
に把握し、目視判定と略一致する結果を得ることが可能
となる等、本発明は優れた効果を奏する。
及びその実施に使用する装置は、ノイズ除去レベルの第
１の閾値にて欠陥の有無を判定した後、欠陥有と判定し
た場合は、第１の閾値，及び第１の閾値より小さく、所
定レベルのノイズを除去する第２の閾値を用いて欠陥信
号を量子化するので、従来は失われていたレベルの信号
をも用いて欠陥を検出することになり、欠陥形状を正確
に把握し、目視判定と略一致する結果を得ることが可能
となる等、本発明は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る欠陥検査装置の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図２】信号処理回路における処理を示すフローチャー
トである。
トである。
【図３】信号処理回路における処理を具体的に説明する
ための図である。
ための図である。
【図４】従来装置の構成を示すブロック図である。
【図５】従来装置における各信号を示す図である。
１ 光学センサ ２ フィルタ ３ Ａ／Ｄ変換器 ４ 信号処理回路 ５ 特徴量算出回路 ６ 欠陥判定回路
Claims (2)
- 【請求項１】 被検査材をセンサにて探傷し、そのセン
サから得られる信号を電気信号に変換し、量子化して欠
陥を検査する欠陥検査方法において、前記電気信号のノ
イズを除去するための第１の閾値により欠陥の有無を判
定し、欠陥有と判定された場合には、第１の閾値，及び
第１の閾値より小さく、所定レベルのノイズを除去する
第２の閾値にて量子化を行い、これら量子化された信号
を使用して検査を行うことを特徴とする欠陥検査方法。 - 【請求項２】 被検査材をセンサにて探傷し、そのセン
サから得られる信号を電気信号に変換し、量子化して欠
陥を検査する欠陥検査装置において、前記電気信号のノ
イズを除去するための第１の閾値、及び第１の閾値より
小さく、所定レベルのノイズを除去する第２の閾値を設
定してあり、欠陥の有無は第１の閾値により判定し、欠
陥有と判定された場合には、第１の閾値及び第２の閾値
にて量子化を行う手段と、これら量子化された信号を使
用して検査を行う手段とを備えることを特徴とする欠陥
検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23920093A JP3339128B2 (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 欠陥検査方法及びその実施に使用する装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010175660A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、およびマスクブランクの製造方法 |
| US10565704B2 (en) | 2017-06-06 | 2020-02-18 | Nuflare Technology, Inc. | Inspection method and inspection system |
-
1993
- 1993-08-30 JP JP23920093A patent/JP3339128B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010175660A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、およびマスクブランクの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3339128B2 (ja) | 2002-10-28 |
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