JPH0763610B2 - 粉体の処理装置 - Google Patents

粉体の処理装置

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JPH0763610B2
JPH0763610B2 JP11117387A JP11117387A JPH0763610B2 JP H0763610 B2 JPH0763610 B2 JP H0763610B2 JP 11117387 A JP11117387 A JP 11117387A JP 11117387 A JP11117387 A JP 11117387A JP H0763610 B2 JPH0763610 B2 JP H0763610B2
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JP
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powder
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gas dispersion
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gas
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JP11117387A
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栄一 水谷
龍美 伊藤
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中央化工機株式会社
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J13/00Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
    • B01J13/02Making microcapsules or microballoons
    • B01J13/04Making microcapsules or microballoons by physical processes, e.g. drying, spraying
    • B01J13/043Drying and spraying

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Glanulating (AREA)
  • Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は粉体の処理装置に関する。
医薬品工業、肥料工業、食品工業等では、粉体に水やバ
インダー溶液等の処理剤を噴霧して、該粉体を造粒、コ
ーティング及び/又は調湿することが行なわれるが、こ
れらの処理操作に際しては得られる製品が物理的にもま
た化学的にも均質なものであることが要請される。特に
近年の高技術製品時代では、かかる要請が一層強い。
本発明は上記のような要請に応える粉体の処理装置に関
するものである。
<従来の技術、その問題点> 従来、粉体の造粒及び/又はコーティング装置として種
々多様の装置が提案されており、具体的使用に際してそ
の目的との関係で機種選択が行なわれているが、これら
の中で最も一般的な装置が流動層を利用した装置であ
る。該装置は、熱風で粉体を流動化させつつスプレーノ
ズルの如き噴霧部材から処理剤を散布して、該粉体を造
粒処理し、更にはコーティング処理するものである。そ
してかかる装置には、粉体に循環流を加えたり、或は処
理剤を散布すると同時に乾燥するというような改良型も
ある。
ところが、流動層を利用する上記従来装置には、次のよ
うな問題点がある。
1)専ら気体の吹き込みによって粉体を流動化させる装
置であるため、大量の気体が必要である。
2)粉体の流動層形成には該粉体の粒径が大きく関与す
るのであるが、原料となる粉体の粒径には相応のバラツ
キがあり、専ら気体の吹き込みによって粉体を流動化さ
せる装置では、大粒径の粉体を流動化させようとすると
小粒径の粉体が飛散してしまい、逆に小粒径の粉体を流
動化させようとすると大粒径の粉体の流動化が困難にな
る。特に、造粒にともなって粒径のバラツキが大きくな
ると、全体の流動化が一層困難になる。そして、全体の
流動化が困難になると、得られる製品もそれだけ物理的
にまた化学的に不均質なものになってしまう。
3)専ら気体の吹き込みによって粉体を流動化させる装
置では、該粉体が30μm以下の微粉であると、その流動
化自体が困難である。
<発明が解決しようとする問題点、その解決手段> 本発明は叙上の如き従来の問題点を解決する新たな処理
装置を提供するものである。
しかして本発明は、 1〜数個の振動発生源を装備する容器がある種の自動運
動を与えられるように1〜数個のスプリングの如き弾性
体で支持されており、該容器には原料供給口と製品排出
口とが開設され、更に該容器内には噴霧部材と気体分散
材とが装着されていて、振動発生源を稼動させて容器を
振動させ、併せて気体分散材を介し容器内へ気体を吹き
込むことにより、原料供給口から供給した粉体を流動化
させつつ、噴霧部材から処理剤を散布して該粉体を造
粒、コーティング及び/又は調湿するように構成してな
る粉体の処理装置に係る。
本発明において肝要な点は、従来の流動層装置では流動
化が不可能といわれる微粒の粉体であっても、更には粒
径に相応のバラツキを有する粉体であっても、該粉体に
ある種の自由運動を与える振動を加え、併せて該粉体に
分散気体を下方から吹き込むと、該粉体は、バブリング
やスラッギングの少ない、あたかも液体の如き安定した
流動層を形成するという特有の現象を活用し、かかる現
象下、該流動層を形成している均質な分散状態の粉体に
噴霧部材から処理剤を散布して該粉体を造粒、コーティ
ング及び/又は調湿する処にある。
以下、図面に基いて本発明の構成を更に詳細に説明す
る。
<実施例> 第1図は本発明の一実施例を一部断面状態で示す全体図
である。下部が逆円錐状に形成された円筒状の竪型容器
11の側域に熱媒体の流通可能なジャケット12が周設さ
れ、また下端に振動モータ13が装備されていて、該竪型
容器11は取付枠14に固定されており、取付枠14はスプリ
ング15,16で基台17に支持されている。竪型容器11に
は、その上方から下方へ順に、気体排出口21、微粉返送
口22、原料供給口23及び製品排出口24が開設され、また
該竪型容器11内には後述する粉体Aの流動層高よりも上
方及び該流動層高内に噴霧部材としてのスプレーノズル
31,32が装着され、更にスプレーノズル32及び製品排出
口24の下方に気体分散材41が装着されている。そして、
気体排出口21は集塵器51へ連結され、気体排出口21から
気体に同伴して飛散する微粉を集塵器51で回収して微粉
返送口22へと返送し、また原料供給口23はスクリューコ
ンベヤー61を介し原料容器52へ連結され、製品排出口24
からの製品排出量に応じてスクリューコンベヤー61の回
転を調節することにより、原料容器52から原料供給口23
への原料粉体供給量を制御し得るようになっている。そ
して、コンプレッサー62からの圧縮空気の補助でスプレ
ーノズル31,32から散布される処理剤は、その散布量が
制御されるように処理剤容器53から定量ポンプ63を介し
て送液され、更に気体分散材41を介して竪型容器11内へ
吹き込まれる気体は、その吹き込み量及び温度が制御さ
れるようにブロアー64からヒーター65及びバルブ66等を
介して送気されている。
振動モータ13を稼動させて竪型容器11を振動させ、した
がって気体分散材41も振動させて、更にブロアー64から
ヒーター65及びバルブ66並びに気体分散材41を介し竪型
容器11内へ気体を吹き込むと、竪型容器11内の粉体Aは
あたかも液体の如き安定した流動層を形成するので、こ
の際に前述の如くスプレーノズル31,32から処理剤を散
布して、該粉体Aを造粒、コーティング及び/又は調湿
する構成である。
第2図と第3図は本発明の他の一実施例を各別に示す要
部断面図である。ともに説明を省略する他の構成は第1
図の場合と同様であるが、竪型容器18には3箇所で原料
供給口25a,25b,25cが、また粉体Bの流動層高内に製品
排出口26がそれぞれ開設され、粉体Bの流動層高よりも
上方にのみスプレーノズル33が装着されており、一方竪
型容器19には原料供給口27が、また後述する気体分散材
43aを貫通して粉体Cの流動層高内へと挿入されたパイ
プの先端部に製品排出口28がそれぞれ開設され、粉体C
の流動層高内にのみスプレーノズル34が装着されてい
る。そして、竪型容器18,19の下方に気体分散材42,43が
装着されていて、該気体分散材42,43はそれぞれ中央部
の気体分散材42a,43aとその周部の気体分散材42b,43bと
に2分割されており、気体分散材43bは逆円錐状に傾斜
している。これらの実施例では、気体分散材42a,43aと
気体分散材42b,43bとの間で気体の吹き込み量をそれぞ
れ制御することにより、粉体B,Cの流動状態を適宜に変
えることができる。
本発明において、振動モータで代表される振動発生源や
スプリングで代表される弾性体の個数は、例えば容器の
形状や大きさ等との関係で適宜に選択され得る。また気
体分散材は、それぞれの目的に応じた開口径を有するパ
ンチングメタル、焼結金属、素焼、濾布等が適宜に使用
され得る。そして、粉体の種類や処理目的との関係で、
吹き込み気体を不活性ガスにすることができ、容器内を
加圧下又は減圧下に操作することもできる。
<作用> 本発明に係る処理装置は、粉体を造粒、コーティング及
び/又は調湿するものである。使用する処理剤は通常、
造粒の場合にはバインダーの溶液、またコーティングの
場合には相応するコーティング剤の溶液、更に調湿の場
合には水である。そして例えば、造粒及びコーティング
をする場合には、前述の如く粉体を流動化した状態でジ
ャケットに加熱媒体を流通させて粉体を乾燥し、引続き
スプレーノズルからバインダーの溶液を散布して該粉体
を造粒した後、更にスプレーノズルからコーティング剤
の溶液を散布するという、乾燥→造粒→コーティングを
一連の操作で行なうこともできるのである。
上記のような本発明の作用をより明瞭にするため、該作
用を第1図に示した実施例の具体的使用状態で説明す
る。下部最小直径300mm×円錐部高さ500mm+上部直径60
0mm×上部高さ1000mmの竪型容器11内へ、平均粒径約20
μmの有機物粉体(以下、単に粉体という)を、円錐部
上端まで充填した。気体分散材41は開口径25μmの多層
多孔質金属焼結板である。振動モータ13を稼動させて、
竪型容器11に振幅1.0mm×振動数1500r.p.m.の振動を加
え、併せて気体分散材41を介して空気を吹き込んだ。粉
体は、表面が平面状に盛り上がり、バブリングやスラッ
ギングのない、あたかも液体の如き安定した流動層を形
成し、該流動層高内には明らかな撹拌乃至旋回運動が認
められた。そして、盛り上がった粉体の表面からは無数
の小気泡が発生していた。この状態で、ジャケット12へ
スチームを流通させ、またヒーター65を加熱して、系全
体を60℃に調節した後、スプレーノズル31,32からデキ
ストリン水溶液を散布した。散布にともなって、竪型容
器11内における粉体の上下流及び旋回流が加速された。
30分間運転した後、製品排出口24から排出した造粒物
は、平均流径約150μmで、ほぼ球状を呈する顆粒状物
質が得られた。説明を省略するが、上記のように処理を
連続して行ない得ることはいうまでもない <発明の効果> 以上説明した通りであるから、本発明には、機械的振動
と気体の吹き込みとの相乗作用によって粉体を流動化さ
せ、該流動状態で粉体を造粒、コーティング及び/又は
調湿するため、粉体に相応のバラツキがあっても、また
粉体が粒径30μm以下の微粉であっても、少量の気体で
物理的にまた化学的に均質な造粒物やコーティング物等
を得ることができるという優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を一部断面状態で示す全体
図、第2図と第3図は本発明の他の一実施例を各別に示
す要部断面図である。 11,18,19……竪型容器 12……ジャケット、13……振動モータ 14……取付枠、15,16……スプリング 17……基台 23,25a〜25c,27……原料供給口 24,26,28……製品排出口 31〜34……スプレーノズル 41〜43……気体分散材 A〜C……粉体

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1〜数個の振動発生源を装備する容器があ
    る種の自動運動を与えられるように1〜数個のスプリン
    グの如き弾性体で支持されており、該容器には原料供給
    口と製品排出口とが開設され、更に該容器内には噴霧部
    材と気体分散材とが装着されていて、振動発生源を稼動
    させて容器を振動させ、併せて気体分散材を介し容器内
    へ気体を吹き込むことにより、原料供給口から供給した
    粉体を流動化させつつ、噴霧部材から処理剤を散布して
    該粉体を造粒、コーティング及び/又は調湿するように
    構成してなる粉体の処理装置。
  2. 【請求項2】容器がその温度を制御されたものである特
    許請求の範囲第1項記載の粉体の処理装置。
  3. 【請求項3】気体分散材を介して容器内へ吹き込む気体
    がその温度を制御されたものである特許請求の範囲第1
    項又は第2項記載の粉体の処理装置。
  4. 【請求項4】気体分散材が中央部の気体分散材と周部の
    気体分散材に2分割されたものである特許請求の範囲第
    1項〜第3項のいずれか一つの項記載の粉体の処理装
    置。
  5. 【請求項5】周部の気体分散材が逆円錐状に傾斜したも
    のである特許請求の範囲第4項記載の粉体の処理装置。
  6. 【請求項6】製品排出口が流動層内へ挿入されたパイプ
    の先端部に開設されたものである特許請求の範囲第1項
    〜第5項のいずれか一つの項記載の粉体の処理装置。
JP11117387A 1987-05-07 1987-05-07 粉体の処理装置 Expired - Lifetime JPH0763610B2 (ja)

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JPS63274445A JPS63274445A (ja) 1988-11-11
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DE4218768A1 (de) * 1992-06-06 1993-12-09 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Cholinchlorid enthaltenden Pulvern, diese Pulver und ihre Verwendung
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DE10323089B4 (de) 2003-05-16 2006-12-07 Glatt Process Technology Gmbh Wirbelschichtvorrichtung

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