JPH076359A - Substrate for magnetic recording medium and its production - Google Patents
Substrate for magnetic recording medium and its productionInfo
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- JPH076359A JPH076359A JP14747793A JP14747793A JPH076359A JP H076359 A JPH076359 A JP H076359A JP 14747793 A JP14747793 A JP 14747793A JP 14747793 A JP14747793 A JP 14747793A JP H076359 A JPH076359 A JP H076359A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、金属スパッタ型磁気
ディスク等に使用される、磁気記録媒体用基板及びその
製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium substrate used for a metal sputter magnetic disk and the like, and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、情報量の大容量化にともない、磁
気ディスクの高速化及び高密度化が必要になってきてい
る。記録密度を上げるためには、記録再生用の磁気ヘッ
ドの浮上量を少なくする必要がある。このためには、磁
気ディスク基板の表面粗度を浮上量に対応したものにす
ることが条件のひとつとなる。例えば、表面粗度は、浮
上量の１／１０以下にすることが必要である。また記録
密度向上には、磁性膜のの厚さを薄くすることが必要で
ある。2. Description of the Related Art In recent years, as the amount of information has increased, it has become necessary to increase the speed and density of magnetic disks. In order to increase the recording density, it is necessary to reduce the flying height of the recording / reproducing magnetic head. For this purpose, one of the conditions is that the surface roughness of the magnetic disk substrate corresponds to the flying height. For example, the surface roughness needs to be 1/10 or less of the flying height. Further, in order to improve the recording density, it is necessary to reduce the thickness of the magnetic film.
【０００３】このため、従来の磁気ディスクにおいて
は、スパッタリングなどの方法により作成された金属薄
膜磁性体が用いられている。このような金属薄膜磁性体
を用いた磁気ディスクの基板として、良好な研磨性を有
し平面粗度を小さくするために、ガラス基板、アルミニ
ウム合金基板が用いられている。このような金属薄膜磁
性体を用いた磁気ディスクを備える磁気ディスク装置に
おいては、磁気ヘッド浮上面ときわめて平滑な磁気ディ
スク表面とが、微小間隔で対面していると、Ｏ2，Ｎ2、
Ｈ2０等の分子による界面張力による大きな吸着力が生
じ、ディスク停止時に磁気ヘッド浮上面と磁気ディスク
表面との吸着が発生することがある。これにより、最悪
時には、磁気ヘッドが破壊されるなどの回復不可能な故
障が起こりうる可能性がある。For this reason, in the conventional magnetic disk, a metal thin film magnetic body prepared by a method such as sputtering is used. As a substrate for a magnetic disk using such a metal thin film magnetic material, a glass substrate or an aluminum alloy substrate is used in order to have good polishing properties and to reduce the surface roughness. In a magnetic disk device provided with a magnetic disk using such a metal thin film magnetic material, if the air bearing surface of the magnetic head and the extremely smooth surface of the magnetic disk face each other at a minute interval, O 2 , N 2 ,
A large attraction force due to the interfacial tension due to molecules such as H 2 0 may occur, and attraction between the air bearing surface of the magnetic head and the magnetic disk surface may occur when the disk is stopped. As a result, in the worst case, an unrecoverable failure such as destruction of the magnetic head may occur.
【０００４】従って、磁気ヘッドの吸着を防止するため
に、磁気ディスク用基板には、表面に同心円状の条痕を
つけて基板表面を微小粗さに調整し粗面化するテクスチ
ャー加工が施されている。このようなテクスチャー加工
が施された磁気ディスク基板に磁性膜がスパッタリング
法により形成されたものについては、結晶磁気異方性に
より円周方向の磁気特性が向上することが知られてい
る。Therefore, in order to prevent the magnetic head from being attracted, the magnetic disk substrate is subjected to a texturing process in which concentric circular scratches are formed on the surface of the magnetic disk substrate to adjust the substrate surface to a minute roughness for roughening. ing. It is known that the magnetic characteristics in the circumferential direction are improved due to the crystal magnetic anisotropy of a magnetic disk substrate having a magnetic film formed on the textured magnetic disk substrate by a sputtering method.
【０００５】更に、特開平2ー294931号公報には、エッチ
ングによって、磁気ディスク用基板の表面にテクスチャ
ー加工を施すようにした加工方法が、詳しく説明がなさ
れている。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2-294931 discloses a processing method in which the surface of the magnetic disk substrate is textured by etching.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のテ
クスチャー加工を施した基板では、テクスチャー加工の
形状が深さ方向、長さ方向、横幅方向の何れも均一にで
きなかった。また、上記公開公報に開示されたエッチン
グを用いる方法においても、被エッチング物を厚さ方向
に完全にエッチングするのではなく、途中でエッチング
の進行を停止させなければならず、その制御とばらつき
を抑えることは、容易でなかった。However, in the conventional textured substrate, the textured shape cannot be made uniform in the depth direction, the length direction and the width direction. Further, even in the method using etching disclosed in the above-mentioned publication, the object to be etched is not completely etched in the thickness direction, but the progress of etching has to be stopped midway, and its control and variations are It was not easy to hold back.
【０００７】さらに、磁気ディスクは大容量小型化を要
求されているが、アルミ基板は平面を得ることが困難で
ある等小型化の障害になっている。Further, although the magnetic disk is required to have a large capacity and a small size, the aluminum substrate is an obstacle to the size reduction because it is difficult to obtain a flat surface.
【０００８】この発明は、上記の問題点を解決するため
に案出されたものであり、磁気ヘッドの吸着防止性に優
れ、円周方向の磁気特性、記録密度の向上がはかれ、か
つ小型化を達成しやすい磁気記録媒体用基板及びその製
造方法を提供することを目的とする。The present invention has been devised in order to solve the above problems, is excellent in the magnetic head adsorption prevention property, is improved in the magnetic characteristics in the circumferential direction and the recording density, and is small in size. It is an object of the present invention to provide a substrate for a magnetic recording medium that is easy to achieve and a method for manufacturing the same.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の磁気記録媒体用基板は、シリコン表面
に、同心円状、またはスパイラル状の溝を有する酸化膜
を備えることを特徴とする。In order to achieve the above object, the magnetic recording medium substrate of the present invention comprises an oxide film having concentric or spiral grooves on the silicon surface. To do.
【００１０】また、本発明の磁気記録媒体用基板の製造
方法は、シリコン表面に熱拡散により酸化膜を形成した
後、その酸化膜に、エッチングによって、同心円状、ま
たはスパイラル状の溝を形成したことを特徴とする。Further, in the method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium of the present invention, an oxide film is formed on the surface of silicon by thermal diffusion, and then a concentric or spiral groove is formed in the oxide film by etching. It is characterized by
【００１１】[0011]
【作用】上記のように構成された本発明の磁気記録媒体
用基板によれば、酸化膜の膜厚を制御することで、表面
粗度を任意の値に制御でき、再現性にも優れ、基板内の
ばらつきも少ないために、円周方向の磁気特性が向上す
るとともに高温加熱処理が可能となるために磁気記録特
性の向上が図れる。さらに、磁気ヘッドの吸着を防止、
磁気ヘッドの低空での安定浮上が可能になる。According to the magnetic recording medium substrate of the present invention configured as described above, the surface roughness can be controlled to an arbitrary value by controlling the thickness of the oxide film, and the reproducibility is excellent. Since the variation in the substrate is small, the magnetic characteristics in the circumferential direction are improved and the high temperature heat treatment is possible, so that the magnetic recording characteristics can be improved. Furthermore, it prevents the magnetic head from sticking,
It enables stable flying of the magnetic head in low altitude.
【００１２】さらに、本発明の磁気記録媒体用基板の製
造方法によれば、スパッタリング、蒸着などのPVD法化
学的気相成長法(CVD)を用いないため設備が簡略化で
き、量産性も向上する。Further, according to the method of manufacturing a substrate for a magnetic recording medium of the present invention, equipment is simplified and mass productivity is improved because PVD chemical vapor deposition (CVD) such as sputtering and vapor deposition is not used. To do.
【００１３】[0013]
【実施例】以下に本発明を一実施例に従ってその詳細を
説明する。The present invention will be described in detail below with reference to an embodiment.
【００１４】本発明を実施した磁気記録媒体用基板は、
図２に示すように、シリコンの基板１と、その両面に形
成された、スパイラル状または、同心円状の溝を有す
る、即ちスパイラル状または、同心円状にパターニング
された酸化膜２とから構成されている。更に、その磁気
記録媒体用基板の両面に、前記酸化膜２上から、クロム
から成る下地層３、コバルト・クロムから成る記録媒体
層４、及びカーボンから成る保護層５がそれぞれ順次積
層されることにより、本実施例の磁気記録媒体用基板を
用いた磁気ディスクが形成される。The magnetic recording medium substrate embodying the present invention is
As shown in FIG. 2, a silicon substrate 1 and an oxide film 2 having spiral or concentric grooves formed on both surfaces thereof, that is, a spiral or concentric patterned oxide film 2 are formed. There is. Further, an underlayer 3 made of chromium, a recording medium layer 4 made of cobalt / chromium, and a protective layer 5 made of carbon are sequentially laminated on both surfaces of the magnetic recording medium substrate from above the oxide film 2. Thus, a magnetic disk using the magnetic recording medium substrate of this example is formed.
【００１５】次に、本実施例の磁気記録媒体用基板を用
いた磁気ディスクの製造方法について説明すると、ま
ず、鏡面研磨したシリコン基板１を用い、これをフッ酸
による自然酸化膜除去、洗浄、乾燥後、高温炉に酸素ガ
ス、窒素ガス、水素ガス、を導入し熱拡散により、シリ
コン基板１の両面にシリコン表面から酸化膜２を形成す
る。形成する酸化膜２の厚さは、高温炉での処理時間、
水素ガスの混合量、高温炉の温度を制御することで任意
に決めることができる。本実施例で用いた熱拡散方法
は、作成条件を最適化することで、酸化膜の膜厚ばらつ
きを他の方法よりも簡便に３％以下にすることも可能で
ある。Next, a method of manufacturing a magnetic disk using the magnetic recording medium substrate of this embodiment will be described. First, a mirror-polished silicon substrate 1 is used, which is subjected to natural oxide film removal by hydrofluoric acid, cleaning, After drying, oxygen gas, nitrogen gas, and hydrogen gas are introduced into the high-temperature furnace, and thermal diffusion is performed to form oxide films 2 on both surfaces of the silicon substrate 1 from the silicon surface. The thickness of the oxide film 2 to be formed depends on the processing time in the high temperature furnace,
It can be arbitrarily determined by controlling the mixing amount of hydrogen gas and the temperature of the high temperature furnace. In the thermal diffusion method used in this example, the variation in the film thickness of the oxide film can be made 3% or less more easily than other methods by optimizing the production conditions.
【００１６】次に、酸化膜２が形成されたシリコン基板
１には、その両面において、図１（ｃ）に示すように、
レジスト６をスピンコートする。そして、スパイラル状
または、同心円状にパターニングされたマスク７を利用
し、紫外光を用いて露光を行う（図１（ｄ））。この露
光により、マスク７にパターニングされた形状が転写さ
れる。この時、ポジレジストを用いると、紫外光が照射
されたところが、この後の現像工程で現像溶液に溶解
し、酸化膜２上には、未照射部分のレジスト６がスパイ
ラル状または、同心円状に残る（図１（ｅ））。また、
ネガレジストを用いれば、この逆の現象がおこる。この
工程は、半導体産業に於て、一般的に用いられているの
で、詳細な説明は省略する。Next, as shown in FIG. 1 (c), the silicon substrate 1 having the oxide film 2 formed on both sides is
The resist 6 is spin-coated. Then, the mask 7 patterned in a spiral shape or a concentric shape is used to perform exposure using ultraviolet light (FIG. 1D). By this exposure, the patterned shape is transferred to the mask 7. At this time, if a positive resist is used, the portion irradiated with ultraviolet light is dissolved in the developing solution in the subsequent developing step, and the unexposed portion of the resist 6 is spirally or concentrically formed on the oxide film 2. It remains (FIG. 1 (e)). Also,
The opposite phenomenon occurs when a negative resist is used. Since this step is commonly used in the semiconductor industry, detailed description will be omitted.
【００１７】作成したレジストパターン付きシリコン基
板１は、その後エッチングされる。エッチング方法はウ
エット、ドライのエッチング方法がある。この方法につ
いても、半導体産業などにおいて明らかなので、詳細な
説明は省略する。The produced silicon substrate 1 with a resist pattern is then etched. There are wet and dry etching methods. This method is also clear in the semiconductor industry and the like, and thus detailed description thereof will be omitted.
【００１８】エッチング深さについては、酸化膜２の厚
さを溝深さとする。これは、エッチングの選択制を利用
し溝部分の酸化膜を完全に除去する方法である。Regarding the etching depth, the thickness of the oxide film 2 is the groove depth. This is a method of completely removing the oxide film in the groove portion by utilizing the selective control of etching.
【００１９】ウエットにおいては、フッ酸緩衝溶液を用
いると酸化膜２は、エッチング可能であるが、シリコン
基板１は、エッチング不可能であるために、途中でエッ
チングを止めて溝深さを制御する方法に比べて溝深さの
制御が簡便であり、また精度においても、酸化膜２の厚
さに依存するので、精度がよい。In the wet, when the hydrofluoric acid buffer solution is used, the oxide film 2 can be etched, but the silicon substrate 1 cannot be etched. Therefore, the etching is stopped midway to control the groove depth. The groove depth is easier to control than the method, and the accuracy is good because it depends on the thickness of the oxide film 2.
【００２０】また、ドライエッチングにおいても、フレ
オン系のガス、ヘリュウム、水素、酸素などのガスを混
合するなどの制御を行うと、ウエットエッチング同様に
エッチングを行うことが可能になる。Also in the dry etching, if control is performed such that a freon-based gas, a gas such as helium, hydrogen, and oxygen is mixed, it becomes possible to perform the etching similarly to the wet etching.
【００２１】ここでは、エッチング深さとして数十ナノ
メートル以下とする。Here, the etching depth is set to several tens of nanometers or less.
【００２２】露光は、両面同時行ってもよいし、片面づ
つ順番に行ってもよい。また、紫外光の代わりに集光し
たレーザービームを用いても可能である。The exposure may be performed on both sides simultaneously, or may be performed sequentially on each side. It is also possible to use a focused laser beam instead of ultraviolet light.
【００２３】その後、エッチング済みの、シリコン基板
１上のレジスト６をレジスト除去材を用い除去すること
で、磁気記録媒体用基板が完成する（図１（ｆ））。After that, the resist 6 on the silicon substrate 1 which has been etched is removed by using a resist removing material to complete the magnetic recording medium substrate (FIG. 1 (f)).
【００２４】このようにして作成した磁気記録媒体用基
板の溝構造は、深さ方向は、酸化膜２の膜厚で制御され
るために、その基板内、基板間ともにばらつきが少ない
高精度のものが作成できる。溝幅においても露光方法を
用いるために再現性に優れた高精度の加工が可能にな
る。この結果従来の基板より品質が一定かつ高精度の磁
気記録媒体用基板を大量に得ることができる。Since the groove structure of the magnetic recording medium substrate thus prepared is controlled by the thickness of the oxide film 2 in the depth direction, there is little variation within the substrate and between the substrates, and it is highly accurate. You can create things. Since the exposure method is used also for the groove width, highly accurate processing with excellent reproducibility becomes possible. As a result, it is possible to obtain a large number of magnetic recording medium substrates with a constant quality and high precision as compared with conventional substrates.
【００２５】さらに、図１（ｇ）に示すように、磁気記
録媒体用基板上に、下地層３、記録媒体層４、及び保護
層５を順次作成することで、磁気ディスクが作製でき
る。Further, as shown in FIG. 1 (g), a magnetic disk can be manufactured by sequentially forming an underlayer 3, a recording medium layer 4, and a protective layer 5 on a magnetic recording medium substrate.
【００２６】ここで記録媒体の磁気特性を向上させるた
めに、従来、４００度程度の加熱雰囲気中で記録媒体層
を作成しているが、シリコンと、その酸化膜で構成され
ている本実施例による磁気記録媒体用基板は、さらに高
温の処理が可能となり、従来より磁気特性を向上させる
ことができる。Here, in order to improve the magnetic characteristics of the recording medium, the recording medium layer is conventionally formed in a heating atmosphere of about 400 degrees, but this embodiment is composed of silicon and its oxide film. The magnetic recording medium substrate can be processed at a higher temperature and the magnetic characteristics can be improved as compared with the conventional case.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、シ
リコン基板上に熱拡散による酸化膜を作製しこれを機能
膜として利用し、それにスパイラル状または、同心円状
の溝をを形成したので、ピッチや深さなどを高精度に制
御可能となり、更に基板間のばらつきを無くすることが
できる。その結果、形状異方性による磁性体の結晶配向
が確実であり、また基板がシリコンとその化合物から構
成されているために、高熱処理が可能となるため磁気特
性に優れかつ、磁気ヘッドの吸着防止効果のある記録媒
体基板が作成できる。これによって、ｃｓｓ式の装置に
おける媒体面の損傷が防止でき、従来のテクスチャー加
工のような、スクラッチや異常突起がなく情報の記録再
生時のエラーが減少し、ヘッド浮上特性が向上する。As described above in detail, according to the present invention, an oxide film by thermal diffusion is formed on a silicon substrate and is used as a functional film, and spiral or concentric grooves are formed in the oxide film. Therefore, the pitch, depth, etc. can be controlled with high accuracy, and further, variations between substrates can be eliminated. As a result, the crystal orientation of the magnetic material is assured due to the shape anisotropy, and since the substrate is composed of silicon and its compound, high heat treatment is possible, so the magnetic characteristics are excellent and the adsorption of the magnetic head A recording medium substrate having a preventive effect can be produced. As a result, damage to the medium surface in the css type device can be prevented, and there are no scratches or abnormal protrusions unlike the conventional texture processing, errors during recording / reproduction of information are reduced, and head flying characteristics are improved.
【００２８】これらによって、従来の磁気ディスクより
磁気特性、記録密度、信頼性の優れた磁気ディスクが安
価に大量に作製できる。As a result, a large number of magnetic disks having excellent magnetic characteristics, recording density and reliability can be manufactured at low cost as compared with conventional magnetic disks.
【図１】本発明の磁気記録媒体用基板を用いた磁気ディ
スクの加工工程を示した要部断面図である。FIG. 1 is a fragmentary cross-sectional view showing a process of processing a magnetic disk using a magnetic recording medium substrate of the present invention.
【図２】本発明の磁気記録媒体用基板を用いた磁気ディ
スクを示した要部断断面図である。FIG. 2 is a fragmentary cross-sectional view showing a magnetic disk using the magnetic recording medium substrate of the present invention.
１ シリコン基板 ２ 酸化膜 ３ 下地層 ４ 磁性媒体層 ５ 保護層 ６ レジスト ７ 露光用マスク 1 Silicon Substrate 2 Oxide Film 3 Underlayer 4 Magnetic Medium Layer 5 Protective Layer 6 Resist 7 Exposure Mask
Claims (2)
イラル状の溝を有する酸化膜を備えることを特徴とする
磁気記録媒体用基板。1. A substrate for a magnetic recording medium, which comprises an oxide film having concentric or spiral grooves on a silicon surface.
成した後、その酸化膜に、エッチングによって、同心円
状、またはスパイラル状の溝を形成したことを特徴とす
る磁気記録媒体用基板の製造方法。2. A method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium, comprising forming an oxide film on a silicon surface by thermal diffusion and then forming concentric or spiral grooves in the oxide film by etching. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14747793A JPH076359A (en) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | Substrate for magnetic recording medium and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14747793A JPH076359A (en) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | Substrate for magnetic recording medium and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076359A true JPH076359A (en) | 1995-01-10 |
Family
ID=15431281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14747793A Pending JPH076359A (en) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | Substrate for magnetic recording medium and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076359A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5774783A (en) * | 1995-03-17 | 1998-06-30 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
| US7604880B2 (en) | 2004-03-25 | 2009-10-20 | Tdk Corporation | Information recording medium |
-
1993
- 1993-06-18 JP JP14747793A patent/JPH076359A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5774783A (en) * | 1995-03-17 | 1998-06-30 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
| USRE38587E1 (en) | 1995-03-17 | 2004-09-14 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
| US7604880B2 (en) | 2004-03-25 | 2009-10-20 | Tdk Corporation | Information recording medium |
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