JPH0754801Y2 - 調整可能な補償板を有する干渉計 - Google Patents
調整可能な補償板を有する干渉計Info
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- JPH0754801Y2 JPH0754801Y2 JP1993029761U JP2976193U JPH0754801Y2 JP H0754801 Y2 JPH0754801 Y2 JP H0754801Y2 JP 1993029761 U JP1993029761 U JP 1993029761U JP 2976193 U JP2976193 U JP 2976193U JP H0754801 Y2 JPH0754801 Y2 JP H0754801Y2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G01J3/0202—Mechanical elements; Supports for optical elements
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、光学的エレメント調整
ユニット、とくに干渉計中の補償板調整ユニットに関す
る。
ユニット、とくに干渉計中の補償板調整ユニットに関す
る。
【0002】
【従来の技術】光学的ビームスプリッターは単一光源か
らの2つの光ビームを必要とする多くの用途において広
く使用される。1つのかかる用途は干渉計である。一般
に、干渉計は、単一光ビームが部分反射によって2つま
たは多数の部分に分離され、分離されたビームは次いで
異なる光路を通過した後に再結合される装置である。干
渉計の1つの実際的用途は、フーリエ変換赤外(FT/
IR)分光測光器においてである。
らの2つの光ビームを必要とする多くの用途において広
く使用される。1つのかかる用途は干渉計である。一般
に、干渉計は、単一光ビームが部分反射によって2つま
たは多数の部分に分離され、分離されたビームは次いで
異なる光路を通過した後に再結合される装置である。干
渉計の1つの実際的用途は、フーリエ変換赤外(FT/
IR)分光測光器においてである。
【0003】干渉計の分野において周知であるように、
光路補償板は普通分離された透過ビームの光路中に置か
れる。これは、ビームスプリッターからの分離されたビ
ームの1つはビームスプリッターの透明な基板材料を通
して後方へ反射するが、分離された他方のビームは異な
る光路をたどるので必要である。一般に、補償板は、光
路長を等化するために、ビームスプリッター基板に対し
て平行に位置定めされ、付加的にビームスプリッター基
板と同じ厚さにされる。
光路補償板は普通分離された透過ビームの光路中に置か
れる。これは、ビームスプリッターからの分離されたビ
ームの1つはビームスプリッターの透明な基板材料を通
して後方へ反射するが、分離された他方のビームは異な
る光路をたどるので必要である。一般に、補償板は、光
路長を等化するために、ビームスプリッター基板に対し
て平行に位置定めされ、付加的にビームスプリッター基
板と同じ厚さにされる。
【0004】補償板およびビームスプリッター基板の厚
さを適合させるのに必要な精度は、分離されたビームの
それぞれが別個の光路を2回通過することを認めれば一
そう明らかになる。従って、厚さの相違によって惹起さ
れる光路長の不正適合による誤差も2倍となる。
さを適合させるのに必要な精度は、分離されたビームの
それぞれが別個の光路を2回通過することを認めれば一
そう明らかになる。従って、厚さの相違によって惹起さ
れる光路長の不正適合による誤差も2倍となる。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】これらの位置的要求と
厚さの要求とを満たすことは、極めて困難であり、しば
しば非常に正確な測定に対して設計された計器の点で甚
だ高価である。
厚さの要求とを満たすことは、極めて困難であり、しば
しば非常に正確な測定に対して設計された計器の点で甚
だ高価である。
【0006】従って、本考案の1つの目的は、補償板の
ような光学的エレメントの調整ユニットを提供すること
である。
ような光学的エレメントの調整ユニットを提供すること
である。
【0007】
【課題を解決するための手段】この課題は、少なくとも
ある程度、補償板をそれにあたる光ビームに対する角度
を調節する装置を提供することによって達成される。
ある程度、補償板をそれにあたる光ビームに対する角度
を調節する装置を提供することによって達成される。
【0008】本考案によれば、調節可能な補償板を有す
る干渉計は、光学的に透明な基板上に形成され、入射ビ
ームを第1および第2の別個のビームに分けるビームス
プリッタ; 第1および第2の別個のビームに関する第1および第2
の光路を形成する第1および第2のミラー; 該第1ミラーは第1光路に沿って可動であり; 光学的に透明な基板と実質的に同じ屈折率および同じ厚
さを有し、第1および第2光路を均等にするための光路
長補償板; 一端にビームスプリッタ、他端に光路長補償板を収納す
るハウジング; 第1および第2光路を均等にするためにビームスプリッ
タに関する補償板の角配置を調節および保持するための
調節装置を有し;該調節装置は光路長補償板とビームス
プリッタの間に配置され、突出するタブを有する旋回可
能なフレーム部材を備え; タブはフレーム部材のC字状部材の背後から突出し; 旋回可能なフレーム部材は光路長補償板の1つの面の周
縁に弾性に保持されていて; ハウジングの壁中へはスロットが延びて、タブを収容す
るように協同的に寸法決めされていて、スロットとタブ
は、タブがスロット中を並進しうるように相対的に寸法
決めされており; タブをスロットの一端に向けばね負荷する装置;および
ばね負荷装置に向けてタブを並進および保持するための
並進装置を包含する。
る干渉計は、光学的に透明な基板上に形成され、入射ビ
ームを第1および第2の別個のビームに分けるビームス
プリッタ; 第1および第2の別個のビームに関する第1および第2
の光路を形成する第1および第2のミラー; 該第1ミラーは第1光路に沿って可動であり; 光学的に透明な基板と実質的に同じ屈折率および同じ厚
さを有し、第1および第2光路を均等にするための光路
長補償板; 一端にビームスプリッタ、他端に光路長補償板を収納す
るハウジング; 第1および第2光路を均等にするためにビームスプリッ
タに関する補償板の角配置を調節および保持するための
調節装置を有し;該調節装置は光路長補償板とビームス
プリッタの間に配置され、突出するタブを有する旋回可
能なフレーム部材を備え; タブはフレーム部材のC字状部材の背後から突出し; 旋回可能なフレーム部材は光路長補償板の1つの面の周
縁に弾性に保持されていて; ハウジングの壁中へはスロットが延びて、タブを収容す
るように協同的に寸法決めされていて、スロットとタブ
は、タブがスロット中を並進しうるように相対的に寸法
決めされており; タブをスロットの一端に向けばね負荷する装置;および
ばね負荷装置に向けてタブを並進および保持するための
並進装置を包含する。
【0009】他の課題および利点は、図面ならびに請求
項2以降と関連して、下記の記載から明らかである。
項2以降と関連して、下記の記載から明らかである。
【0010】
【実施例】図1に10で示されかつ本考案の原理を表わ
すユニットは、光学的に透明な基板16の表面14に支
えられた光学的ビームスプリッター12を包含する。ま
た、ユニット10は補償板18をも有する。ビームスプ
リッター12を有する光学的に透明な基板16および補
償板18は、開口22を有するケーシング20中に取付
けられている。さらに、ユニット10は、機構26によ
って位置が調節される補償板制御部材24を有する。有
利に、下記に詳述するように、機構26はハウジング2
0の壁30のセグメント28内に位置定めされている。
ユニット10は付加的に、基板16および補償板18を
ハウジング20内に固定するための弾性取付部材32を
包含する。この実施例においては、基板16は弾性パッ
ド35を介してハウジング20の内方突出リッジ34に
固定されている。補償板18は、弾性パッド37を介し
て制御部材24に固定されている。
すユニットは、光学的に透明な基板16の表面14に支
えられた光学的ビームスプリッター12を包含する。ま
た、ユニット10は補償板18をも有する。ビームスプ
リッター12を有する光学的に透明な基板16および補
償板18は、開口22を有するケーシング20中に取付
けられている。さらに、ユニット10は、機構26によ
って位置が調節される補償板制御部材24を有する。有
利に、下記に詳述するように、機構26はハウジング2
0の壁30のセグメント28内に位置定めされている。
ユニット10は付加的に、基板16および補償板18を
ハウジング20内に固定するための弾性取付部材32を
包含する。この実施例においては、基板16は弾性パッ
ド35を介してハウジング20の内方突出リッジ34に
固定されている。補償板18は、弾性パッド37を介し
て制御部材24に固定されている。
【0011】下記にユニット10を、かかるユニット1
0は多くの他の用途を有するが、フーリエ変換赤外(F
T/IR)分光測光器における使用と関連して記載す
る。FT/IR分光測光器においては、赤外線の入射ビ
ーム36は、基板16を通ってビームスプリッター12
に向けられる。ビームスプリッター12に当った際に、
入射ビーム36は反射ビーム38と透過ビーム40とに
分けられる。有利に、反射ビーム38と透過ビーム40
とは強度が等しい。反射ビーム38および透過ビーム4
0の相対的強度は、ビームスプリッター12の組成およ
び厚さによって制御される。この実施例においては、ビ
ームスプリッター12は、基板16の表面14上に約1
μmの厚さに蒸着させたゲルマニウムである。反射ビー
ム38は再び基板16を通り、固定されたまたは定置の
ミラー41によってビームスプリッター12に再反射さ
れる。透過ビーム40は補償板18を通り、可動ミラー
43によって反射され、再び補償板18を通ってビーム
スプリッター12に戻り、ここで再反射されたビーム3
8と結合して射出ビーム42を形成する。
0は多くの他の用途を有するが、フーリエ変換赤外(F
T/IR)分光測光器における使用と関連して記載す
る。FT/IR分光測光器においては、赤外線の入射ビ
ーム36は、基板16を通ってビームスプリッター12
に向けられる。ビームスプリッター12に当った際に、
入射ビーム36は反射ビーム38と透過ビーム40とに
分けられる。有利に、反射ビーム38と透過ビーム40
とは強度が等しい。反射ビーム38および透過ビーム4
0の相対的強度は、ビームスプリッター12の組成およ
び厚さによって制御される。この実施例においては、ビ
ームスプリッター12は、基板16の表面14上に約1
μmの厚さに蒸着させたゲルマニウムである。反射ビー
ム38は再び基板16を通り、固定されたまたは定置の
ミラー41によってビームスプリッター12に再反射さ
れる。透過ビーム40は補償板18を通り、可動ミラー
43によって反射され、再び補償板18を通ってビーム
スプリッター12に戻り、ここで再反射されたビーム3
8と結合して射出ビーム42を形成する。
【0012】上記から、反射ビーム38は、結合して射
出ビーム42を形成するに先立って基板16を2回通過
することは容易に明らかである。透過ビーム40は、再
反射されたビーム38と結合して射出ビーム38を形成
するに先立って補償板18を2回通過する。従って基板
16および補償板18の厚さの相違は、反射ビーム38
と透過ビーム40とが射出ビーム42に再結合するに先
立って効果が2倍になる。
出ビーム42を形成するに先立って基板16を2回通過
することは容易に明らかである。透過ビーム40は、再
反射されたビーム38と結合して射出ビーム38を形成
するに先立って補償板18を2回通過する。従って基板
16および補償板18の厚さの相違は、反射ビーム38
と透過ビーム40とが射出ビーム42に再結合するに先
立って効果が2倍になる。
【0013】有利な実施例においては、補償板18と基
板16の双方は赤外線に対して実質的に透過性である材
料から形成されている。さらに、補償板18の材料と基
板16の材料とが同じ光学的特性を有するのが有利であ
る。とくに、材料は重要な波長領域に対して同じ屈折率
を有するべきである。たとえば普通に使用されるかかる
材料の1つは、臭化カリウム(KBr)結晶である。付
加的に、補償板18および基板16の厚さは有利にユニ
ット10の使用によって相対的に等化されているが、正
確に等化する必要はない。この理由は下記に詳述する。
しかし有利に、補償板18および基板16は直径が約5
mmで、±0.2mmの許容範囲内で約9.5mmの厚
さに形成される。しかし、補償板18は基板16の厚さ
よりも小さいかまたはこれに等しいのが有利であり、そ
の理由はユニット10は、図示されているように、それ
を通過する光路を増加するように設計されるからであ
る。しかし逆も真である場合、全ハウジング20を入射
ビーム36に関して180°回転させ、これにより有効
に、補償板18を通る光路長を基板16に対して減少さ
せることができる。有利に、弾性取付部材32は実質的
に、ビームスプリッター12と協同するパッド35およ
び制御部材24と補償板18との間のパッド37とは異
なる。有利に、弾性パッド35および37は、ポリエス
テルフィルムから約7μmまたは8μmの厚さに形成さ
れている。
板16の双方は赤外線に対して実質的に透過性である材
料から形成されている。さらに、補償板18の材料と基
板16の材料とが同じ光学的特性を有するのが有利であ
る。とくに、材料は重要な波長領域に対して同じ屈折率
を有するべきである。たとえば普通に使用されるかかる
材料の1つは、臭化カリウム(KBr)結晶である。付
加的に、補償板18および基板16の厚さは有利にユニ
ット10の使用によって相対的に等化されているが、正
確に等化する必要はない。この理由は下記に詳述する。
しかし有利に、補償板18および基板16は直径が約5
mmで、±0.2mmの許容範囲内で約9.5mmの厚
さに形成される。しかし、補償板18は基板16の厚さ
よりも小さいかまたはこれに等しいのが有利であり、そ
の理由はユニット10は、図示されているように、それ
を通過する光路を増加するように設計されるからであ
る。しかし逆も真である場合、全ハウジング20を入射
ビーム36に関して180°回転させ、これにより有効
に、補償板18を通る光路長を基板16に対して減少さ
せることができる。有利に、弾性取付部材32は実質的
に、ビームスプリッター12と協同するパッド35およ
び制御部材24と補償板18との間のパッド37とは異
なる。有利に、弾性パッド35および37は、ポリエス
テルフィルムから約7μmまたは8μmの厚さに形成さ
れている。
【0014】ユニット10は、第3図に示したように、
一般に“C”字形に形成された制御部材24を包含す
る。有利に(しかし必要ではない)、部材24は硬鋼ま
たは類似材料からなり、背部46から延びる第1および
第2のアーム(それぞれ45および47)を有するフレ
ームである。フレーム部材24は、背部から延びるタブ
44を有する。“C”字形は部材24にとって有利であ
るので、それに加えられる回転力は、下記に詳説するよ
うに、補償板18に実質的に等しく分布されるが、それ
にも拘らず干渉計のビームを干渉のゆがみなしに通過さ
せる。補償板18はハウジング20中に弾性取付部材3
2によって取付けられ、これにより制御部材24に保持
される。
一般に“C”字形に形成された制御部材24を包含す
る。有利に(しかし必要ではない)、部材24は硬鋼ま
たは類似材料からなり、背部46から延びる第1および
第2のアーム(それぞれ45および47)を有するフレ
ームである。フレーム部材24は、背部から延びるタブ
44を有する。“C”字形は部材24にとって有利であ
るので、それに加えられる回転力は、下記に詳説するよ
うに、補償板18に実質的に等しく分布されるが、それ
にも拘らず干渉計のビームを干渉のゆがみなしに通過さ
せる。補償板18はハウジング20中に弾性取付部材3
2によって取付けられ、これにより制御部材24に保持
される。
【0015】とくに図2に関して、制御部材24のタブ
44はハウジング20の壁30中へ貫通するスロット4
8中へ延びるように示されている。タブ44は有利に、
図3に最も明瞭に示したように、それを貫通する開口5
0を有し、スロット48内にばね負荷されたピン52に
よって固定されている。ピン52の先端54はタブ44
中の開口50中に嵌合し、これによって部材24がスロ
ット48に関し適正位置を保持するのに十分に小さく形
成されている。ピン52は、壁30によって形成される
円筒形室56中に位置定めされ、ばね58によってばね
負荷されている。有利に、室56はスロット48に対し
て直角方向に形成されている。
44はハウジング20の壁30中へ貫通するスロット4
8中へ延びるように示されている。タブ44は有利に、
図3に最も明瞭に示したように、それを貫通する開口5
0を有し、スロット48内にばね負荷されたピン52に
よって固定されている。ピン52の先端54はタブ44
中の開口50中に嵌合し、これによって部材24がスロ
ット48に関し適正位置を保持するのに十分に小さく形
成されている。ピン52は、壁30によって形成される
円筒形室56中に位置定めされ、ばね58によってばね
負荷されている。有利に、室56はスロット48に対し
て直角方向に形成されている。
【0016】補償板18の位置を調節するために、ばね
58のばね負荷力は反力作用部材60によって対抗され
ている。図2に示したように、反力作用部材60は球6
2を包含し、室56内のその位置は推進部材64、たと
えば壁30中のねじ山付開口65を通る平頭ねじによっ
て制御される。開口65は室56とある角度を有して存
在し、ねじ64と球62との間の接触を確保するように
力を伝達する。ねじ64は外部から、ハウジング20に
対して接近しうる。操作上、ねじ64を室56内で時計
方向に回転させ、球62を室56に沿って並進させ、タ
ブ44をばね58の負荷力に逆らって動かす。これによ
り、ビームスプリッター12に向って補償板18が回転
する。補償板18がそれのまわりで回転する有効回転中
心点は、タブ44と直径の相対する側にある。ピボット
回転は、取付け部材32の弾性のため可能である。こう
して、ビームスプリッター基板16および補償板18が
正確に同じ厚さである場合、タブ44の理想的位置は、
図2に破線で示したように、スロット48の最右手側に
ある。しかし、これは極めて費用がかかりかつかかる精
度を得ることが困難であるので、ねじ64を調節してビ
ームスプリッター基板16に対し補償板18を旋回さ
せ、これによって反射ビーム38および透過ビーム40
が通過しなければならない見掛けの距離を等しくする。
58のばね負荷力は反力作用部材60によって対抗され
ている。図2に示したように、反力作用部材60は球6
2を包含し、室56内のその位置は推進部材64、たと
えば壁30中のねじ山付開口65を通る平頭ねじによっ
て制御される。開口65は室56とある角度を有して存
在し、ねじ64と球62との間の接触を確保するように
力を伝達する。ねじ64は外部から、ハウジング20に
対して接近しうる。操作上、ねじ64を室56内で時計
方向に回転させ、球62を室56に沿って並進させ、タ
ブ44をばね58の負荷力に逆らって動かす。これによ
り、ビームスプリッター12に向って補償板18が回転
する。補償板18がそれのまわりで回転する有効回転中
心点は、タブ44と直径の相対する側にある。ピボット
回転は、取付け部材32の弾性のため可能である。こう
して、ビームスプリッター基板16および補償板18が
正確に同じ厚さである場合、タブ44の理想的位置は、
図2に破線で示したように、スロット48の最右手側に
ある。しかし、これは極めて費用がかかりかつかかる精
度を得ることが困難であるので、ねじ64を調節してビ
ームスプリッター基板16に対し補償板18を旋回さ
せ、これによって反射ビーム38および透過ビーム40
が通過しなければならない見掛けの距離を等しくする。
【0017】上述したユニット10は、公知技術の使用
によってつくることができる。たとえば、補償板18お
よびビームスプリッター12ならびにビームスプリッタ
ー基板16は、臭化カリウム結晶ビームスプリッター基
板16上へのゲルマニウムの真空蒸着を包含する公知の
光学的技術を用いてつくることができる。ハウジング2
0は鋼からつくられていてもよく、有利な実施例では約
56mm程度の内径および約6mmの壁厚を有する。室
56は、約6mmの内径に穿孔されていてもよい。有利
に、制御ねじ64は10/32である。球62およびば
ね58は市場で入手しうる物品から選択される。ピン5
2は、その切欠孔68中へばね58の一部66を収容す
るように形成されている。先端54および開口50は、
先端54が少なくとも部分的に開口50を通って延びる
ように協同的に寸法定めされている。有利な実施例で
は、内方突出リッジ34は厚さ約1mmであり、従って
ビームスプリッター12は補償板18からほぼ同じ大き
さだけ離れている。ビームスプリッター12と補償板1
8との間の空隙は、装置内でビームスプリッター12に
とり必要とされるスペースを減少するために小さくされ
ている。
によってつくることができる。たとえば、補償板18お
よびビームスプリッター12ならびにビームスプリッタ
ー基板16は、臭化カリウム結晶ビームスプリッター基
板16上へのゲルマニウムの真空蒸着を包含する公知の
光学的技術を用いてつくることができる。ハウジング2
0は鋼からつくられていてもよく、有利な実施例では約
56mm程度の内径および約6mmの壁厚を有する。室
56は、約6mmの内径に穿孔されていてもよい。有利
に、制御ねじ64は10/32である。球62およびば
ね58は市場で入手しうる物品から選択される。ピン5
2は、その切欠孔68中へばね58の一部66を収容す
るように形成されている。先端54および開口50は、
先端54が少なくとも部分的に開口50を通って延びる
ように協同的に寸法定めされている。有利な実施例で
は、内方突出リッジ34は厚さ約1mmであり、従って
ビームスプリッター12は補償板18からほぼ同じ大き
さだけ離れている。ビームスプリッター12と補償板1
8との間の空隙は、装置内でビームスプリッター12に
とり必要とされるスペースを減少するために小さくされ
ている。
【0018】ユニット10を組立てるために、はじめに
球62を室56中へ挿入し、その後制御室部材24をそ
のタブ44がスロット48中へ突入するように位置定め
する。次いで、ばね負荷されたピン52を、その先端5
4がタブ44の開口50に面するように挿入する。ばね
58の挿入後、室56を閉鎖部材70によって密封す
る。閉鎖部材70は栓であるかまたはさもなければたと
えばねじによって固定される板のような公知技術を用い
て行なうこともできる。次いで、補償板18およびビー
ムスプリッター基板16をハウジング20中に取付け
る。
球62を室56中へ挿入し、その後制御室部材24をそ
のタブ44がスロット48中へ突入するように位置定め
する。次いで、ばね負荷されたピン52を、その先端5
4がタブ44の開口50に面するように挿入する。ばね
58の挿入後、室56を閉鎖部材70によって密封す
る。閉鎖部材70は栓であるかまたはさもなければたと
えばねじによって固定される板のような公知技術を用い
て行なうこともできる。次いで、補償板18およびビー
ムスプリッター基板16をハウジング20中に取付け
る。
【0019】ユニット10の1つの主要な利点は、光学
的ビームスプリッター中での光路長を等化するのに必要
な許容範囲が減少することである。補償板18をビーム
スプリッター12に対して旋回させることによって、そ
の光路長を長くすることができる。従って、反射ビーム
38と透過ビーム40は、再結合して射出ビーム42を
形成するに先立って正確に同じ距離移動する。
的ビームスプリッター中での光路長を等化するのに必要
な許容範囲が減少することである。補償板18をビーム
スプリッター12に対して旋回させることによって、そ
の光路長を長くすることができる。従って、反射ビーム
38と透過ビーム40は、再結合して射出ビーム42を
形成するに先立って正確に同じ距離移動する。
【0020】操作中の調節は、はじめに補償板18を基
板16と実質的に平行に位置定めし、入射ビーム36を
導入することによって達成される。次いで、可動ミラー
を動かすことによって生じたインターフェログラムを観
察し、干渉計からの出力を検出することによって、補償
板18を極めて正確に位置定めすることができる。一度
整定すれば、この構造は一般に機械的衝撃または振動に
よる変化を受けない。それにも拘らず、容易に入手しう
る制御機構のため、干渉計の2つのビームの光路長は、
操作時間または費用の不当なロスなしに操作員によって
調節することができる。
板16と実質的に平行に位置定めし、入射ビーム36を
導入することによって達成される。次いで、可動ミラー
を動かすことによって生じたインターフェログラムを観
察し、干渉計からの出力を検出することによって、補償
板18を極めて正確に位置定めすることができる。一度
整定すれば、この構造は一般に機械的衝撃または振動に
よる変化を受けない。それにも拘らず、容易に入手しう
る制御機構のため、干渉計の2つのビームの光路長は、
操作時間または費用の不当なロスなしに操作員によって
調節することができる。
【図1】本考案によるユニットの部分的断面図。
【図2】図1のユニットの2−2線による断面図。
【図3】図1のユニットの1エレメントの平面図。
10 ユニット 12 ビームスプリッター 14 基板の表面 16 基板 18 補償板 20 ハウジング 22 開口 24 制御部材 26 機構 28 セグメント 30 ハウジングの壁 32 取付部材 34 リッジ 35,37 パッド 38 反射ビーム 40 透過ビーム 41 定置ミラー 42 射出ビーム 43 可動ミラー 44 タブ 48 スロット 50 開口 52 ピン 54 先端 56 室 58 ばね 60 反力作用部材 62 球 64 ねじ 68 切欠孔 70 閉鎖部材
Claims (3)
- 【請求項1】 調整可能な補償板を有する干渉計におい
て、光学的に透明な基板上に形成され、入射ビームを第
1および第2の別個のビームに分けるビームスプリッ
タ; 第1および第2の別個のビームに関する第1および第2
の光路を形成する第1および第2のミラー; 該第1ミラーは第1光路に沿って可動であり; 光学的に透明な基板と実質的に同じ屈折率および同じ厚
さを有し、第1および第2光路を均等にするための光路
長補償板; 一端にビームスプリッタ、他端に光路長補償板を収納す
るハウジング; 第1および第2光路を均等にするためにビームスプリッ
タに関する補償板の角配置を調節および保持するための
調節装置を有し;該調節装置は 光路長補償板とビームスプリッタの間に配置され、突出
するタブを有する旋回可能なフレーム部材を備え; タブはフレーム部材のC字状部材の背後から突出し; 旋回可能なフレーム部材は光路長補償板の1つの面の周
縁に弾性に保持されていて; ハウジングの壁中へはスロットが延びて、タブを収容す
るように協同的に寸法決めされていて、スロットとタブ
は、タブがスロット中を並進しうるように相対的に寸法
決めされており; タブをスロットの一端に向けばね負荷する装置;および
ばね負荷装置に向けてタブを並進および保持するための
並進装置を包含する、調整可能な補償板を有する干渉
計。 - 【請求項2】 ばね負荷装置が、一端でスロットと交差
し、他端で閉じている室を有するハウジング; 第1端部および第2端部を有し、該室内で第1端部がタ
ブと接触するピン; 第1端部および第2端部を有し、第1端部が室の閉じた
端部に接触しているばねを包含し、 ビンは第2端部に、ばねの第2端部を収容するためのく
ぼみを、タブから離れ て有することを特徴とする請求項
1記載の干渉計。 - 【請求項3】 並進装置が、内面にねじ山を有する開口
を有し、該開口内で室とある角度で交差するハウジン
グ、 室内で並進的に位置定めされ、タブによりピンの第1端
部から離れている球;および 内面にねじ山を有する開口中へ嵌合、進入して、球と接
触する外面にねじ山を有するねじを有し、これによって
外面にねじ山を有するねじが、内面にねじ山を有する開
口を介して室中へ延びるときに、球がタブに向けて推進
されることを特徴とする請求項2記載の干渉計。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/527,885 US4735505A (en) | 1983-08-30 | 1983-08-30 | Assembly for adjusting an optical element |
US527885 | 1983-08-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH064605U JPH064605U (ja) | 1994-01-21 |
JPH0754801Y2 true JPH0754801Y2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=24103351
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59179502A Pending JPS6086520A (ja) | 1983-08-30 | 1984-08-30 | ビ−ムスプリツタ用補償板調整ユニツトおよび干渉計 |
JP1993029761U Expired - Lifetime JPH0754801Y2 (ja) | 1983-08-30 | 1993-06-03 | 調整可能な補償板を有する干渉計 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59179502A Pending JPS6086520A (ja) | 1983-08-30 | 1984-08-30 | ビ−ムスプリツタ用補償板調整ユニツトおよび干渉計 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4735505A (ja) |
EP (1) | EP0137206B1 (ja) |
JP (2) | JPS6086520A (ja) |
DE (1) | DE3483992D1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07119623B2 (ja) * | 1986-01-14 | 1995-12-20 | キヤノン株式会社 | 変位測定装置 |
US5486917A (en) * | 1991-10-09 | 1996-01-23 | On-Line Technologies Inc | Flexture plate motion-transfer mechanism, beam-splitter assembly, and interferometer incorporating the same |
US6952266B2 (en) * | 2003-01-15 | 2005-10-04 | Inlight Solutions, Inc. | Interferometer alignment |
WO2007012343A1 (de) * | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Wire Cut Prototypes Gmbh | Optikfassung mit verstelleinrichtung zum verschwenken des optischen elements |
US7502117B1 (en) * | 2005-12-07 | 2009-03-10 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Interferometer with ghost suppression |
ITMI20071944A1 (it) * | 2007-10-09 | 2009-04-10 | Igs Italia S R L | Assorbitori modulari componibili per separazione di gas |
CN101981475B (zh) * | 2008-04-04 | 2014-05-07 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 具有偏移补偿的分束器 |
TWM370105U (en) * | 2009-04-07 | 2009-12-01 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Position tuning tube structure and removable optical film device comprising the same |
EP2475970B1 (en) * | 2009-09-08 | 2021-11-03 | SI-Ware Systems | Compensated mems ftir spectrometer architecture |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE255831C (ja) * | ||||
US2571937A (en) * | 1948-08-27 | 1951-10-16 | Research Corp | Interferometer with right-angle reflector surfaces at end of each divided beam |
FR1436662A (fr) * | 1965-03-09 | 1966-04-29 | Bariquand & Marre Atel | Perfectionnements aux systèmes anamorphoseurs optiques destinés à la justification des lignes de texte |
GB1195839A (en) * | 1966-11-22 | 1970-06-24 | Barringer Research Ltd | Direct Reading Interferometer |
US3601476A (en) * | 1968-09-16 | 1971-08-24 | Bell Telephone Labor Inc | Adjustable optical device |
US3664729A (en) * | 1970-03-25 | 1972-05-23 | Willis D Moore | Automatically adjustable rear view mirror |
US3879112A (en) * | 1973-05-29 | 1975-04-22 | Singer Co | Adjustable mirror mount |
SU610040A1 (ru) * | 1977-01-25 | 1978-06-05 | Предприятие П/Я В-1836 | Устройство дл юстировки оптических элементов |
US4265540A (en) * | 1979-10-01 | 1981-05-05 | Laser Precision Corporation | Refractively scanned interferometer |
US4286877A (en) * | 1979-07-26 | 1981-09-01 | Laser Precision Corporation | Refractively scanned interferometer |
US4391525A (en) * | 1979-10-10 | 1983-07-05 | Ball Corporation | Interferometer |
SU940121A1 (ru) * | 1980-12-23 | 1982-06-30 | Могилевский Машиностроительный Институт | Устройство дл юстировки оптических элементов |
US4544272A (en) * | 1983-03-04 | 1985-10-01 | Laser Precision Corporation | Alignment apparatus and method for interferometer spectrometers |
-
1983
- 1983-08-30 US US06/527,885 patent/US4735505A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-09 DE DE8484109507T patent/DE3483992D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-08-09 EP EP84109507A patent/EP0137206B1/en not_active Expired
- 1984-08-30 JP JP59179502A patent/JPS6086520A/ja active Pending
-
1993
- 1993-06-03 JP JP1993029761U patent/JPH0754801Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3483992D1 (de) | 1991-02-28 |
US4735505A (en) | 1988-04-05 |
EP0137206A2 (en) | 1985-04-17 |
JPH064605U (ja) | 1994-01-21 |
EP0137206B1 (en) | 1991-01-23 |
JPS6086520A (ja) | 1985-05-16 |
EP0137206A3 (en) | 1987-09-16 |
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