JPH075401A - Device for inspecting lens and method thereof - Google Patents
Device for inspecting lens and method thereofInfo
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- JPH075401A JPH075401A JP9893993A JP9893993A JPH075401A JP H075401 A JPH075401 A JP H075401A JP 9893993 A JP9893993 A JP 9893993A JP 9893993 A JP9893993 A JP 9893993A JP H075401 A JPH075401 A JP H075401A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はレンズの表面を検査する
レンズ検査装置及びその方法に係り、殊に累進多焦点レ
ンズに付された隠しマ−クやキズを検査するのに好適な
装置及びその方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lens inspection device and method for inspecting the surface of a lens, and more particularly to a device suitable for inspecting hidden marks and scratches on a progressive multifocal lens. Regarding the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】枠入れ加工前の眼鏡レンズにはその屈折
特性がレンズ表面に視認しやすい態様で記されている
が、枠入れ後この記載は拭きとられてしまい、加工後の
レンズにはレンズ表面に微小な隠しマ−クが残されるだ
けである。累進多焦点レンズは光学設計が各社により大
きく異なる他加入度数を正確に測定することが難しいの
で、新しく累進多焦点レンズを調整する場合、現在装用
しているレンズのメ−カの種類や加入度数を知ることは
重要である。この隠しマ−クは、装着者の眼の妨げとな
らないように、微小な凹みにより形成されているので、
蛍光灯等の明りにレンズをかざすことによって、かろう
じて観察できるかという程度のものである。隠しマ−ク
の中には緩い凹みにより形成されているものもあり、こ
れを読み取ることは極めて困難である。また、ガラスや
レンズのような物体の微小な表面キズを検査する方法と
して、光源側にピンホ−ルを配置して、ピンホ−ルの結
像位置近傍にナイフエッジを配置するフ−コーテストが
知られている。さらに、フ−コーテストの１つの応用と
してシュリ−レン法も知られている。シュリ−レン法
は、光源側にピンホ−ルを配置すると共に、ピンホ−ル
の結像位置にピンホ−ルを設け、接眼部（カメラ部）の
ピンホ−ルにより散乱光をカットすることによって、表
面キズを黒く浮き上がらせる。2. Description of the Related Art A spectacle lens before being framed has its refraction characteristics marked on the surface of the lens so that it can be easily seen. Only a small hidden mark is left on the lens surface. The optical design of progressive multifocal lenses varies greatly from one company to another, and it is difficult to measure the addition power accurately, so when adjusting a new progressive multifocal lens, the type of lens manufacturer and the addition power of the lens currently worn. It is important to know. Since this hidden mark is formed by minute depressions so as not to interfere with the wearer's eyes,
It is only to barely observe by holding the lens over the light of a fluorescent lamp or the like. Some hidden marks are formed by loose dents, which are extremely difficult to read. Also, as a method for inspecting minute surface scratches on an object such as glass or a lens, a Foucault test in which a pinhole is arranged on the light source side and a knife edge is arranged in the vicinity of the image forming position of the pinhole is known. Has been. Further, the Schlieren method is also known as one application of the Foucault test. In the Schlieren method, the pinhole is arranged on the light source side, the pinhole is provided at the image forming position of the pinhole, and the scattered light is cut by the pinhole of the eyepiece section (camera section). , Makes surface scratches black.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】蛍光灯等の明りにレン
ズをかざすことによって隠しマ−クを観察する方法は、
観察者に対して十分な視力と熟練を要求するという欠点
がある。また、フ−コーテストやシュリ−レン法は隠し
マ−クを観察する方法としては今だ提案されていない。
殊に、累進多焦点レンズの場合は、ピンホ−ルの光が一
点に集光しないので、全体を観察することができないと
いう問題がある。さらに、瞳孔を接眼部（カメラ部）の
ピンホ−ルとして利用する場合にはその位置合わせが難
しいと言う問題があった。本発明の第１の目的は、上記
従来技術の欠点に鑑み、隠しマ−クが観察者により容易
に視認できる検査装置を提供することにある。本発明の
第２の目的は、位置合わせが容易な隠しマ−クや傷を検
出する検査装置を提供することにある。A method of observing a hidden mark by holding a lens over the light of a fluorescent lamp or the like is as follows.
It has the drawback of requiring sufficient visual acuity and skill for the observer. Further, the Foucault test and the Schlieren method have not yet been proposed as a method for observing hidden marks.
In particular, in the case of a progressive multifocal lens, the light from the pinhole is not focused at one point, so there is a problem that the entire body cannot be observed. Further, when the pupil is used as a pinhole for the eyepiece section (camera section), there is a problem in that its alignment is difficult. A first object of the present invention is to provide an inspection apparatus in which a hidden mark can be easily visually recognized by an observer in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. A second object of the present invention is to provide an inspection device for detecting hidden marks and scratches that can be easily aligned.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願発明は次のような構成を持つことを特徴とす
る。 （１） 被検レンズの隠しマ−クや傷を検出するレンズ
検査装置において、レンズを検査装置の所定の位置に支
持する支持手段と、第１の照明光源と、該第１の照明光
源により照明される多数のピンホ−ルが配列されたピン
ホ−ル板と、該ピンホ−ル板を通過し被検レンズを透過
する照明光束によりピンホ−ル像を形成するピンホ−ル
像形成光学系とを具備して、該ピンホ−ル像形成光学系
によりピンホ−ル像が形成される位置に検査者の瞳孔を
位置させることにより被検レンズの隠しマ−クや傷を検
出することを特徴とする。In order to solve the above problems, the present invention is characterized by having the following configuration. (1) In a lens inspection device for detecting hidden marks and scratches on a lens to be inspected, a support means for supporting the lens at a predetermined position of the inspection device, a first illumination light source, and the first illumination light source are used. A pinhole plate in which a large number of pinholes to be illuminated are arranged, and a pinhole image forming optical system for forming a pinhole image by an illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through a lens to be inspected. And detecting a hidden mark or a scratch on the lens to be inspected by locating a pupil of the inspector at a position where a pinhole image is formed by the pinhole image forming optical system. To do.
【０００５】（２） 被検レンズの隠しマ−クや傷を検
出するレンズ検査装置において、レンズを検査装置の所
定の位置に支持する支持手段と、第１の照明光源と、該
第１の照明光源により照明される多数のピンホ−ルが配
列された第１ピンホ−ル板と、該ピンホ−ル板を通過し
レンズを透過する照明光束によりピンホ−ル像を形成す
るピンホ−ル像形成光学系と、該ピンホ−ル像形成光学
系によりピンホ−ル像が形成される位置に設けられた第
２ピンホ−ル板と、該第２ピンホ−ル板を通過した光束
により隠しマ−クを所定の像面に投影する投影光学系
と、を有することを特徴とする。(2) In a lens inspection device for detecting hidden marks and scratches on a lens to be inspected, a support means for supporting the lens at a predetermined position of the inspection device, a first illumination light source, and the first illumination light source. Pinhole image formation for forming a pinhole image by a first pinhole plate on which a large number of pinholes are arranged illuminated by an illumination light source, and an illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through a lens An optical system, a second pinhole plate provided at a position where a pinhole image is formed by the pinhole image forming optical system, and a concealed mark by a light beam that has passed through the second pinhole plate. And a projection optical system for projecting onto a predetermined image plane.
【０００６】（３） 被検レンズの隠しマ−クや傷を検
出するレンズ検査方法において、被検レンズを検査装置
の所定の位置に置く過程と、多数の第１のピンホ−ルが
配列されたピンホ−ル板を照明する過程と、ピンホ−ル
板を通過し被検レンズを透過する照明光束でピンホ−ル
像を形成する過程と、ピンホ−ル像が形成される位置に
第２のピンホ−ルを設けて隠しマ−クや傷による散乱光
を取り除く過程と、第２のピンホ−ルを通過した光束に
より隠しマ−クや傷を所定の像面に投影する過程と、か
らなることを特徴とする。(3) In a lens inspection method for detecting hidden marks or scratches on a lens to be inspected, a process of placing the lens to be inspected at a predetermined position of an inspection device and a large number of first pinholes are arranged. The step of illuminating the pinhole plate, the step of forming a pinhole image with the illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through the lens to be inspected, and the second step at the position where the pinhole image is formed. It comprises a process of providing a pinhole to remove scattered light due to hidden marks and scratches, and a process of projecting the hidden marks and scratches onto a predetermined image plane by the light flux passing through the second pinhole. It is characterized by
【０００７】（４） 眼鏡レンズの隠しマ−クを検出す
るレンズ検査装置において、眼鏡レンズを検査装置の所
定の位置に支持する支持手段と、照明光源と、該照明光
源により照明されるピンホ−ルが形成されたピンホ−ル
板と、該ピンホ−ル板を通過し眼鏡レンズを透過する照
明光束によりピンホ−ル像を形成するピンホ−ル像形成
光学系とを具備して、該ピンホ−ル像形成光学系により
ピンホ−ル像が形成される位置に検査者の瞳孔を位置さ
せることにより眼鏡レンズの隠しマ−クを検出すること
を特徴とする。(4) In a lens inspection device for detecting a hidden mark of a spectacle lens, a supporting means for supporting the spectacle lens at a predetermined position of the inspection device, an illumination light source, and a pin hoe illuminated by the illumination light source. A pinhole image forming optical system for forming a pinhole image by an illumination light flux passing through the pinhole plate and transmitted through a spectacle lens. The hidden mark of the spectacle lens is detected by locating the pupil of the examiner at the position where the pinhole image is formed by the image forming optical system.
【０００８】（５） 眼鏡レンズの隠しマ−クを検出す
るレンズ検査装置において、眼鏡レンズを検査装置の所
定の位置に支持する支持手段と、照明光源と、該照明光
源により照明される第１ピンホ−ルが形成されたピンホ
−ル板と、該第１ピンホ−ル板を通過し眼鏡レンズを透
過する照明光束によりピンホ−ル像を形成するピンホ−
ル像形成光学系と、該ピンホ−ル像形成光学系によりピ
ンホ−ル像が形成される位置に設けられた第２ピンホ−
ル板と、該第２ピンホ−ル板を通過した光束により隠し
マ−クを所定の像面に投影する投影光学系と、を具備す
ることを特徴とする。(5) In a lens inspection device for detecting a hidden mark of a spectacle lens, a supporting means for supporting the spectacle lens at a predetermined position of the inspection device, an illuminating light source, and a first illuminating device by the illuminating light source. A pinhole plate on which a pinhole is formed, and a pinhole image formed by an illumination light flux passing through the first pinhole plate and passing through a spectacle lens.
Image forming optical system and a second pinhole provided at a position where a pinhole image is formed by the pinhole image forming optical system.
And a projection optical system for projecting a hidden mark on a predetermined image plane by the light flux that has passed through the second pinhole plate.
【０００９】（６） 眼鏡レンズの隠しマ−クを検出す
るレンズ検査方法において、眼鏡レンズを検査装置の所
定の位置に置く過程と、第１のピンホ−ルが形成された
ピンホ−ル板を照明光源により照明する過程と、ピンホ
−ル板を通過し眼鏡レンズを透過する照明光束によりピ
ンホ−ル像を形成する過程と、ピンホ−ル像が形成され
る位置に第２のピンホ−ルを設けて隠しマ−クによる散
乱光を取り除く過程と、ピンホ−ルを通過した光束によ
り隠しマ−クを所定の像面に投影する過程と、からなる
ことを特徴とする。(6) In the lens inspection method for detecting the hidden mark of the spectacle lens, the step of placing the spectacle lens at a predetermined position of the inspection device and the pinhole plate on which the first pinhole is formed. The process of illuminating with the illumination light source, the process of forming a pinhole image by the illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through the spectacle lens, and the second pinhole at the position where the pinhole image is formed. It is characterized in that it comprises a step of removing light scattered by the hidden mark and a step of projecting the hidden mark on a predetermined image plane by the light flux passing through the pinhole.
【００１０】[0010]
【実施例１】本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図１は１実施例の装置の光学系を側面から見た図で
あり、図２は装置の光学系を上方から見た図である。装
置の光学系は隠しマ−ク読取り光学系Ａと、斜入射照明
光学系Ｂとから構成される。 （隠しマ−ク読取り光学系）１は照明光源であり、隠し
マ−ク読取り光学系Ａと斜入射照明光学系Ｂの共通の光
源として使用される。２は反射鏡である。３はシャッタ
であり、検査者は図示しないスイッチ操作でモ−タを駆
動させることによって、シャッタ３を隠しマ−ク読取り
光学系Ａまたは斜入射照明光学系Ｂの光路に選択的に挿
入する。しかし、その駆動手段は手動等特に限定される
ものではない。４はピンホール板であり、その正面形状
を図３に示す。ピンホール板４には直径１mmのピンホ−
ルが３mmのピッチで縦横に規則的に設けられている。ピ
ンホ−ル径及びピンホ−ルの配列ピッチは必ずしもこれ
に限られるものではなく、例えばピンホ−ル径０．３m
m、ピンホ−ルピッチ１mmのチャ−ト板で累進多焦点レ
ンズを観察したところ、ピンホール板４と比較して、明
るさムラは改良されたが、肉眼観察では十分視認できた
ものの隠しマ−クのコントラストは低下した。一般的に
いえば、ピンホ−ル径及びピンホ−ルピッチは、検査対
象の種類、検出対象の形成具合、光学系の倍率、観察方
法等の諸要素を考慮して適切に決定されるべきである。
ピンホール板４はノブ（図示せず）の操作により光軸方
向に移動可能であり、被検レンズのパワ−が変わっても
検者眼の位置を固定したまま観察の最適位置が得られ
る。５は、ピンホール板４を通過した照明光を被検レン
ズ６に投光する投光レンズである。被検レンズ６は図示
しない保持手段（図上ではレンズのみが示されている
が、眼鏡レンズを検査する装置ではフレ−ムも保持でき
るようにする）により光路中に保持される。７は検者眼
８ａ，８ｂの視野をカバ−する口径の観察レンズであ
り、被検レンズ６の表面の像を検者眼８ａ，８ｂの眼底
に結ぶ。実施例では観察倍率は２倍にしている。Embodiment 1 An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a side view of the optical system of the apparatus of the first embodiment, and FIG. 2 is a top view of the optical system of the apparatus. The optical system of the apparatus comprises a hidden mark reading optical system A and an oblique incidence illumination optical system B. (Hidden mark reading optical system) 1 is an illumination light source and is used as a common light source for the hidden mark reading optical system A and the oblique incidence illumination optical system B. 2 is a reflecting mirror. Reference numeral 3 is a shutter, and the inspector drives the motor by operating a switch (not shown) to selectively insert the shutter 3 into the optical path of the hidden mark reading optical system A or the oblique incidence illumination optical system B. However, the driving means is not particularly limited to manual operation or the like. 4 is a pinhole plate, the front shape of which is shown in FIG. The pinhole plate 4 has a pinhole with a diameter of 1 mm.
Are regularly arranged vertically and horizontally at a pitch of 3 mm. The pinhole diameter and the arrangement pitch of the pinholes are not limited to this. For example, the pinhole diameter is 0.3 m.
When the progressive multifocal lens was observed on a chart plate with m and pinhole pitch of 1 mm, the uneven brightness was improved compared with the pinhole plate 4, but it was a hidden marker that was visible enough with the naked eye. The contrast of the black has decreased. Generally speaking, the pinhole diameter and the pinhole pitch should be appropriately determined in consideration of various factors such as the type of the inspection object, the condition of the detection object, the magnification of the optical system, and the observation method. .
The pinhole plate 4 can be moved in the optical axis direction by operating a knob (not shown), so that the optimum position for observation can be obtained with the position of the examiner's eye fixed even if the power of the lens to be inspected changes. Reference numeral 5 denotes a light projecting lens that projects the illumination light that has passed through the pinhole plate 4 onto the subject lens 6. The lens 6 to be inspected is held in the optical path by a holding means (not shown) (only the lens is shown in the figure, but it is also possible to hold the frame in an apparatus for inspecting spectacle lenses). Reference numeral 7 is an observation lens having a diameter that covers the visual fields of the examiner's eyes 8a and 8b, and forms an image of the surface of the subject lens 6 on the fundus of the examiner's eyes 8a and 8b. In the embodiment, the observation magnification is 2 times.
【００１１】（斜入射照明光学系）照明光源１の光束は
コンデンサレンズ９により集光されてほぼ平行光束にさ
れた後、第１ミラ−１０及び第２ミラ−１１により反射
され、被検レンズ６の背後から斜入射照明を行なう。１
２は被検レンズ６を透過した照明光を吸収する吸光板で
ある。斜入射照明の際には、隠しマ−ク読取り光学系の
光路にはシャッタ３が挿入されるので視野は暗くなる
（暗視野照明）。照明光は検者眼に直接入らず、傷等の
表面で散乱された光のみが検者眼に入る。(Gradient Incident Illumination Optical System) The luminous flux of the illuminating light source 1 is condensed by the condenser lens 9 into a substantially parallel luminous flux, which is then reflected by the first mirror 10 and the second mirror 11, and the lens to be inspected. Oblique incidence illumination from behind 6. 1
Reference numeral 2 denotes a light absorption plate that absorbs the illumination light that has passed through the lens 6 to be inspected. At the time of oblique incidence illumination, since the shutter 3 is inserted in the optical path of the hidden mark reading optical system, the field of view becomes dark (dark field illumination). The illumination light does not directly enter the eye to be inspected, but only the light scattered on the surface of the wound enters the eye to be inspected.
【００１２】以上の構成の装置において、次にその作用
を説明する。被検レンズの隠しマ−クの観察を説明す
る。被検レンズを保持手段で保持して所定の位置に置
く。検者は観察レンズ７を介して被検レンズ６を見る。
被検レンズが単焦点レンズの場合でピンホ−ルを一つ設
けた例で説明する。図４のように点光源からでた光をコ
リメ−ティングレンズで平行にした後、被検レンズを通
し、検者はその瞳孔を被検レンズの集光位置に置き被検
レンズを観察する。このとき検者は被検レンズの全体を
観察することができるが、被検レンズに凹凸や内部脈理
があると、光の進む方向が乱れるためにその光は検者眼
に届かず、欠陥の部分は周囲に比べて暗くなる。したが
って、検者眼には隠しマ−ク等の微小な刻印を観察する
ことができる。しかし、被検レンズが累進多焦点レンズ
の場合、点光源の光は一点に集光せず、検者眼には被検
レンズのある部分領域の光しか届かないので、被検レン
ズ全体を観察できない。ところが、実施例のように複数
の点光源を設け、部分領域の光の集合を作ることによっ
て、被検レンズの全体を観察することができる。また、
図５のように、多数の点光源を配列することにより、被
検レンズが単焦点レンズの場合を想定すれば明らかなよ
うに、検者眼にはいずれかの点光源からの光が検者眼に
届くので、図４の場合と異なり観察位置の制限を取り除
くことができる。さらに、このようにすれば両眼での観
察も可能になる。Next, the operation of the apparatus having the above structure will be described. The observation of the hidden mark of the lens to be inspected will be described. The lens to be inspected is held by the holding means and placed at a predetermined position. The examiner looks at the subject lens 6 through the observation lens 7.
An example in which one pinhole is provided when the lens to be inspected is a single focus lens will be described. As shown in FIG. 4, the light emitted from the point light source is collimated by the collimating lens and then passed through the lens to be inspected. At this time, the examiner can observe the entire lens to be inspected, but if the lens to be inspected has irregularities or internal striae, the light does not reach the eye of the inspector because the direction in which the light travels is disturbed The area of is darker than the surrounding area. Therefore, a minute mark such as a hidden mark can be observed on the examiner's eye. However, when the test lens is a progressive multifocal lens, the light from the point light source is not focused at one point and only the light in the partial area where the test lens is present reaches the examiner's eye, so the entire test lens is observed. Can not. However, by providing a plurality of point light sources and forming a set of light in the partial regions as in the embodiment, the entire lens to be inspected can be observed. Also,
As shown in FIG. 5, by arranging a large number of point light sources, it is clear that the subject's eye is a single-focus lens. Since it reaches the eyes, the limitation of the observation position can be removed unlike the case of FIG. Furthermore, this makes it possible to observe with both eyes.
【００１３】このような作用の結果、検者眼は、観察位
置の厳密な調整作業をすることなく、被検レンズの屈折
力に応じて最も視認しやすい位置にピンホール板４の位
置を移動するだけで、累進多焦点レンズ全体について観
察できる。被検レンズの隠しマ−クや傷により散乱され
た光は検者眼にほとんど届かないので、検者は隠しマ−
クを読取り、傷の存在を知ることができる。また、検者
は斜入射照明により被検レンズの傷を検査できる。隠し
マ−ク読取り光学系の光路にシャッタ３を挿入し、被検
レンズの裏側から斜入射照明を行なう。照明光は検者眼
に直接入らず、傷等の表面で散乱された光のみが検者眼
に入るので、線状傷でも感度良く検出することができ
る。以上の実施例では、観察方法として検者眼による直
接観察を採用したが、検者眼に代えて、アパ−チャ、撮
像レンズ、撮像手段に置き換えて、間接的な観察にして
も良い。As a result of such an action, the examiner's eye moves the position of the pinhole plate 4 to the most visible position according to the refractive power of the lens to be inspected, without performing a precise adjustment work of the observation position. The entire progressive power multifocal lens can be observed by simply doing. The light scattered by the hidden marks and scratches on the lens to be inspected hardly reaches the examiner's eyes, so
You can read ku and know the existence of scratches. Also, the examiner can inspect the scratch on the lens to be inspected by the oblique incidence illumination. The shutter 3 is inserted in the optical path of the hidden mark reading optical system, and oblique incidence illumination is performed from the back side of the lens to be inspected. The illumination light does not directly enter the inspector's eye, and only the light scattered on the surface of the wound or the like enters the inspector's eye. Therefore, even linear scratches can be detected with high sensitivity. In the above embodiments, direct observation by the examiner's eye is adopted as the observation method, but instead of the examiner's eye, an aperture, an imaging lens, or an imaging means may be used for indirect observation.
【００１４】[0014]
【実施例２】図６は実施例２の装置の光学系を側面から
見た図である。実施例２は、実施例１と比較して、単眼
による観察装置であること、照明光源は隠しマ−ク読取
り光学系と斜入射照明光学系それぞれに設けられている
こと、斜入射照明光学系は上下一対の光学系から構成さ
れている点で相違する。なお、実施例１とほぼ同一の部
材には同一の符号を用いる。１３及び１４は斜入射照明
光学系の光源であり、コンデンサレンズ１５及び１６に
よって集光し、被検レンズ６を斜入射照明する。本実施
例では上下２つの光源を用いているので、実施例１と比
較して、被検レンズの傷の態様の観察への影響を小さく
することができる。また、実施例１のシャッタ３の切換
え操作に代えて、本実施例は光源１と光源１３，１４の
切換え点灯を行なう。以上のような実施例は種々の変容
が可能であり、また、ガラス基板等の透過性基板や反射
基板の検査にも応用が可能であることは明らかである。
したがって、本願のレンズとは固有のレンズ作用のもの
だけではなく、上記のようなものも含んでいる。Second Embodiment FIG. 6 is a side view of the optical system of the apparatus of the second embodiment. The second embodiment is a monocular observation device as compared with the first embodiment, the illumination light source is provided in each of the hidden mark reading optical system and the oblique incidence illumination optical system, and the oblique incidence illumination optical system. Are different in that they are composed of a pair of upper and lower optical systems. The same reference numerals are used for the members that are almost the same as in the first embodiment. Reference numerals 13 and 14 denote light sources of the oblique incidence illumination optical system, which are condensed by the condenser lenses 15 and 16 to illuminate the subject lens 6 with oblique incidence. In this embodiment, since two upper and lower light sources are used, it is possible to reduce the influence on the observation of the scratch mode of the lens to be inspected, as compared with the first embodiment. Further, instead of the switching operation of the shutter 3 of the first embodiment, in this embodiment, the light source 1 and the light sources 13 and 14 are switched and turned on. It is obvious that the above-described embodiment can be variously modified and can be applied to the inspection of a transparent substrate such as a glass substrate or a reflective substrate.
Therefore, the lens of the present application includes not only those having a unique lens function but also those described above.
【００１５】[0015]
【発明の効果】本発明によれば、隠しマ−クが観察者に
より容易に視認できるとともに、容易に隠しマ−クや傷
を検出することができる。According to the present invention, the hidden mark can be easily visually recognized by the observer, and the hidden mark and the scratch can be easily detected.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】装置の光学系を側面から見た図である。FIG. 1 is a side view of an optical system of an apparatus.
【図２】装置の光学系を上方から見た図である。FIG. 2 is a view of an optical system of the apparatus as viewed from above.
【図３】ピンホール板の正面形状を示す図である。FIG. 3 is a view showing a front shape of a pinhole plate.
【図４】点光源を１つ設けたときを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a case where one point light source is provided.
【図５】多数の点光源を配列した時を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a case where a large number of point light sources are arranged.
【図６】実施例２の装置の光学系を側面から見た図であ
る。FIG. 6 is a side view of the optical system of the apparatus according to the second embodiment.
１ 照明光源 ２ 反射鏡 ３ シャッタ ４ ピンホール板 ５ 投光レンズ ６ 被検レンズ ７ 観察レンズ ８ 検者眼 ９ コンデンサレンズ １０ 第１ミラー １１ 第２ミラー １２ 吸収板 1 Illumination light source 2 Reflector 3 Shutter 4 Pinhole plate 5 Projection lens 6 Lens to be inspected 7 Observation lens 8 Eye of examiner 9 Condenser lens 10 First mirror 11 Second mirror 12 Absorption plate
Claims (17)
レンズ検査装置において、レンズを検査装置の所定の位
置に支持する支持手段と、第１の照明光源と、該第１の
照明光源により照明される多数のピンホ−ルが配列され
たピンホ−ル板と、該ピンホ−ル板を通過し被検レンズ
を透過する照明光束によりピンホ−ル像を形成するピン
ホ−ル像形成光学系とを具備して、該ピンホ−ル像形成
光学系によりピンホ−ル像が形成される位置に検査者の
瞳孔を位置させることにより被検レンズの隠しマ−クや
傷を検出することを特徴とするレンズ検査装置。1. A lens inspecting apparatus for detecting hidden marks and scratches on a lens to be inspected, supporting means for supporting the lens at a predetermined position of the inspecting apparatus, a first illumination light source, and the first illumination. A pinhole plate on which a large number of pinholes illuminated by a light source are arranged, and a pinhole image forming optics for forming a pinhole image by an illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through a lens under test And a system for locating the pupil of the inspector at a position where a pinhole image is formed by the pinhole image forming optical system to detect hidden marks and scratches on the lens to be inspected. Characteristic lens inspection device.
記ピンホ−ル板を光軸方向に移動する移動手段を設けた
ことを特徴とするレンズ検査装置。2. The lens inspection device according to claim 1, further comprising a moving means for moving the pinhole plate in the optical axis direction.
２の照明光源と、該第２の照明光源の光束を検査者から
見て被検レンズの裏面から斜入射させる斜入射照明光学
系と、第１の照明光源による照明と第２の照明光源によ
る照明とを選択する選択手段とを具備することを特徴と
するレンズ検査装置。3. The lens inspection apparatus according to claim 1, further comprising a second illumination light source and an oblique-incidence illumination optical system that causes the light flux of the second illumination light source to obliquely enter from the back surface of the lens to be inspected when seen from the inspector. And a selection means for selecting illumination by the first illumination light source and illumination by the second illumination light source.
通であり、シャッタを選択的に光路に挿入することを特
徴とするレンズ検査装置。4. The lens inspection apparatus according to claim 3, wherein the first and second illumination light sources are common, and a shutter is selectively inserted in the optical path.
レンズ検査装置において、レンズを検査装置の所定の位
置に支持する支持手段と、第１の照明光源と、該第１の
照明光源により照明される多数のピンホ−ルが配列され
た第１ピンホ−ル板と、該ピンホ−ル板を通過しレンズ
を透過する照明光束によりピンホ−ル像を形成するピン
ホ−ル像形成光学系と、該ピンホ−ル像形成光学系によ
りピンホ−ル像が形成される位置に設けられた第２ピン
ホ−ル板と、該第２ピンホ−ル板を通過した光束により
隠しマ−クを所定の像面に投影する投影光学系と、を有
することを特徴とする検査装置。5. A lens inspecting device for detecting hidden marks and scratches on a lens to be inspected, supporting means for supporting the lens at a predetermined position of the inspecting device, a first illumination light source, and the first illumination. A first pinhole plate in which a large number of pinholes illuminated by a light source are arranged, and a pinhole image forming optics which forms a pinhole image by an illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through a lens. System, a second pinhole plate provided at a position where a pinhole image is formed by the pinhole image forming optical system, and a concealed mark by a light flux passing through the second pinhole plate. And a projection optical system for projecting onto a predetermined image plane.
記ピンホ−ル板を光軸方向に移動する移動手段を設けた
ことを特徴とするレンズ検査装置。6. The lens inspection device according to claim 5, further comprising a moving means for moving the pinhole plate in the optical axis direction.
２の照明光源と、該第２の照明光源の光束を検査者から
見て被検レンズの裏面から斜入射させる斜入射照明光学
系と、第１の照明光源による照明と第２の照明光源によ
る照明とを選択する選択手段とを具備することを特徴と
するレンズ検査装置。7. The lens inspection device according to claim 5, further comprising a second illumination light source and an oblique incidence illumination optical system for obliquely entering the light flux of the second illumination light source from the back surface of the lens to be inspected when seen from the inspector. And a selection means for selecting illumination by the first illumination light source and illumination by the second illumination light source.
通であり、シャッタを選択的に光路に挿入することを特
徴とするレンズ検査装置。8. The lens inspection apparatus according to claim 5, wherein the first and second illumination light sources are common and a shutter is selectively inserted in the optical path.
レンズ検査方法において、被検レンズを検査装置の所定
の位置に置く過程と、多数の第１のピンホ−ルが配列さ
れたピンホ−ル板を照明する過程と、ピンホ−ル板を通
過し被検レンズを透過する照明光束でピンホ−ル像を形
成する過程と、ピンホ−ル像が形成される位置に第２の
ピンホ−ルを設けて隠しマ−クや傷による散乱光を取り
除く過程と、第２のピンホ−ルを通過した光束により隠
しマ−クや傷を所定の像面に投影する過程と、からなる
ことを特徴とするレンズ検査方法。9. A lens inspecting method for detecting hidden marks and scratches on a lens to be inspected, comprising the step of placing the lens to be inspected at a predetermined position of an inspecting device and a number of first pinholes arranged. The process of illuminating the pinhole plate, the process of forming a pinhole image with the illumination light flux passing through the pinhole plate and passing through the lens to be inspected, and the second pinhole image at the position where the pinhole image is formed. -Providing a hole to remove scattered light due to hidden marks or scratches, and projecting the hidden marks or scratches onto a predetermined image plane by the light flux passing through the second pinhole. Lens inspection method characterized by.
の瞳孔であることを特徴とするレンズ検査方法。10. The lens inspection method according to claim 9, wherein the second pinhole is a pupil of an examiner.
ンズ検査装置において、眼鏡レンズを検査装置の所定の
位置に支持する支持手段と、照明光源と、該照明光源に
より照明されるピンホ−ルが形成されたピンホ−ル板
と、該ピンホ−ル板を通過し眼鏡レンズを透過する照明
光束によりピンホ−ル像を形成するピンホ−ル像形成光
学系とを具備して、該ピンホ−ル像形成光学系によりピ
ンホ−ル像が形成される位置に検査者の瞳孔を位置させ
ることにより眼鏡レンズの隠しマ−クを検出することを
特徴とするレンズ検査装置。11. A lens inspection device for detecting a hidden mark of an eyeglass lens, a support means for supporting the eyeglass lens at a predetermined position of the inspection device, an illumination light source, and a pinhole illuminated by the illumination light source. And a pinhole image forming optical system for forming a pinhole image by an illumination light flux passing through the pinhole plate and transmitted through a spectacle lens. A lens inspection apparatus characterized by detecting a hidden mark of a spectacle lens by locating a pupil of an inspector at a position where a pinhole image is formed by an image forming optical system.
て、前記ピンホ−ル板を光軸方向に移動する移動手段を
設けたことを特徴とするレンズ検査装置。12. The lens inspecting apparatus according to claim 11, further comprising moving means for moving the pinhole plate in the optical axis direction.
ンズ検査装置において、眼鏡レンズを検査装置の所定の
位置に支持する支持手段と、照明光源と、該照明光源に
より照明される第１ピンホ−ルが形成されたピンホ−ル
板と、該第１ピンホ−ル板を通過し眼鏡レンズを透過す
る照明光束によりピンホ−ル像を形成するピンホ−ル像
形成光学系と、該ピンホ−ル像形成光学系によりピンホ
−ル像が形成される位置に設けられた第２ピンホ−ル板
と、該第２ピンホ−ル板を通過した光束により隠しマ−
クを所定の像面に投影する投影光学系と、を具備するこ
とを特徴とするレンズ検査装置。13. A lens inspecting apparatus for detecting a hidden mark of an eyeglass lens, a supporting means for supporting the eyeglass lens at a predetermined position of the inspecting apparatus, an illumination light source, and a first pinho illuminated by the illumination light source. A pinhole plate having a hole formed therein, a pinhole image forming optical system for forming a pinhole image by an illumination light flux passing through the first pinhole plate and passing through a spectacle lens, and the pinhole. A second pinhole plate provided at a position where a pinhole image is formed by the image forming optical system, and a concealed marker by a light flux passing through the second pinhole plate.
And a projection optical system for projecting the image on a predetermined image plane.
て、前記ピンホ−ル板を光軸方向に移動する移動手段を
設けたことを特徴とするレンズ検査装置。14. The lens inspection apparatus according to claim 13, further comprising a moving means for moving the pinhole plate in the optical axis direction.
ンズ検査方法において、眼鏡レンズを検査装置の所定の
位置に置く過程と、第１のピンホ−ルが形成されたピン
ホ−ル板を照明光源により照明する過程と、ピンホ−ル
板を通過し眼鏡レンズを透過する照明光束によりピンホ
−ル像を形成する過程と、ピンホ−ル像が形成される位
置に第２のピンホ−ルを設けて隠しマ−クによる散乱光
を取り除く過程と、ピンホ−ルを通過した光束により隠
しマ−クを所定の像面に投影する過程と、からなること
を特徴とするレンズ検査方法。15. A lens inspection method for detecting hidden marks of an eyeglass lens, wherein a step of placing the eyeglass lens at a predetermined position of an inspection device and illuminating a pinhole plate having a first pinhole formed thereon. A step of illuminating with a light source, a step of forming a pinhole image by an illumination light flux passing through a pinhole plate and passing through a spectacle lens, and a second pinhole is provided at a position where the pinhole image is formed. A method of inspecting a lens, comprising: a step of removing light scattered by a hidden mark; and a step of projecting the hidden mark on a predetermined image plane by a light flux passing through a pinhole.
者の瞳孔であることを特徴とするレンズ検査方法。16. The lens inspection method according to claim 15, wherein the second pinhole is a pupil of an inspector.
ホ−ル板に配列された多数のピンホ−ルであることを特
徴とするレンズ検査方法。17. The lens inspection method according to claim 15, wherein the first pinhole is a large number of pinholes arranged on a pinhole plate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09893993A JP3417972B2 (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Lens inspection apparatus and inspection method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09893993A JP3417972B2 (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Lens inspection apparatus and inspection method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH075401A true JPH075401A (en) | 1995-01-10 |
| JP3417972B2 JP3417972B2 (en) | 2003-06-16 |
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ID=14233094
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP09893993A Expired - Fee Related JP3417972B2 (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Lens inspection apparatus and inspection method thereof |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3417972B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100526275B1 (en) * | 2001-06-28 | 2005-11-03 | 주식회사 휴비츠 | An automatic lensmeter and a theory of measurement |
| JP2006520462A (en) * | 2003-01-11 | 2006-09-07 | カール ツァイス ヴィジオン ゲーエムベーハー | Method for parallax free centering of optical element and apparatus for performing the method |
| CN113125343A (en) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | 由田新技股份有限公司 | Optical detection device and optical detection method |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP09893993A patent/JP3417972B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100526275B1 (en) * | 2001-06-28 | 2005-11-03 | 주식회사 휴비츠 | An automatic lensmeter and a theory of measurement |
| JP2006520462A (en) * | 2003-01-11 | 2006-09-07 | カール ツァイス ヴィジオン ゲーエムベーハー | Method for parallax free centering of optical element and apparatus for performing the method |
| US7611242B2 (en) | 2003-01-11 | 2009-11-03 | Carl Zeiss Vision Gmbh | Method for centering a semifinished spectacle lens blank |
| CN113125343A (en) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | 由田新技股份有限公司 | Optical detection device and optical detection method |
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| JP3417972B2 (en) | 2003-06-16 |
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