JPH07506530A

JPH07506530A - 乾燥室における堆積物を最少にする方法および装置

Info

Publication number: JPH07506530A
Application number: JP5519796A
Authority: JP
Inventors: ハンセン，オーベ　エミール
Original assignee: ニーロ、ホールディング、アクティーゼルスカップ
Priority date: 1992-05-21
Filing date: 1993-05-19
Publication date: 1995-07-20
Anticipated expiration: 2016-11-12
Also published as: AU4309093A; US5596817A; WO1993023129A1; ATE145149T1; EP0571684B1; DK0571684T3; ES2096059T3; JP3228934B2; EP0571684A1; KR100216290B1; NZ253010A; DE69215212D1; KR950701539A; AU664292B2; DE69215212T2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】乾燥室における堆積物を最少にする方法および装置本発明は粒状ないし微粒子状の製品を形成するために原液を噴霧室内で霧滴とし、プロセスガスの勢力下に置いて処理する場合における噴霧室の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法に関する。ここで、噴霧室は円筒状の上部胴と、この上部胴の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴とから構成され、上部胴は上端にプロセスガス入口、噴霧室は下端ないし上端にプロセスガス出口を備える。

噴霧乾燥および噴霧冷却技術においては噴霧装置から吹き出す物質が粘着性表面を有し、噴霧室の壁面に付着し、そこに堆積しやすいことがよく知られている。

この堆積は、たとえば熱可塑性、油脂含有量、静電気ないし結晶化特性あるいは湿分含有量などの特性値の相違により、多量に発生することもあれば、逆に少量に留まることもある。

こうした傾向を改善するために従来がら幾っがの方法が提案されている。このうちの一つは噴霧室の壁面に残る製品のかすを定期的に除去する電気ハンマないし空気ハンマあるいはバイブレータを噴霧室に装着するやり方である。これ以外では［噴霧乾燥ハンドブック（ＳｐｒａｙＤｒｙｉｎｇ　１ｌａｎｄｂｏｏｋ）Ｊ　（−ニューヨーク、ジＢン　ウィリー＆サンズ＞Ｌ　（Ｊｏｈｎ　Ｖｉｌｃｙ　＆　５ｏｎｓ、Ｉｎｃ、）発行、５版１９９１年、１５２ないし１５４頁）に紹介された噴霧室の清掃のために噴霧室の上部胴の下部内壁に設けたスロノＩ・から２次空気を吹き出す方法、あるいはより条件が厳しくなったとき、空気清掃装置を据付ける方法がある。この装置は噴霧室隔壁から少し距離を離して縦方向にダクトを設けており、ダクトには噴霧室隔壁に向けた複数の空気出口を穿っている。この空気清掃装置は比較的ゆっくりした速度で回転しつつ、内壁面に沿って移動し、壁面を清掃するものである。

噴霧技術についてはヨーロッパ特許出願節１２７０３１号、英国特許第４７４０８６号および第１５１４８２４号、米国特許第１６３４６４０号、第２３３３３３３号および第３８９５９９４号などの出願がある。これらの出願は噴霧室の壁面に付着する堆積物を減少させるために噴霧室に２次空気を導くようにしたものである。

ヨーロッパ特許出願第０１２７０３１号は不純物を含む温ガスを不純物吸収剤を含む水性媒体と接触させる方法によって不純物の少ないガス流を保ちつつ、粉末状の乾燥製品に仕上げるスモークガスを清浄化するための噴霧乾燥方法を開示している。霧滴となった製品が噴霧室の壁面に付着するのを防ぐために温ガスの一部が噴霧室バイパスダクトを通して導くように構成されている。この抽出された温ガスは噴霧室の下部で渦を巻く温ガスの主流と逆方向に導入される。

米国特許第４７４０８６号明細書に示されるものは、噴霧室内の乾燥区域を取り囲む回転する流体膜ないしカーテンを用いるものである。この噴霧室内には流体をそこに向ける縦に並ぶ複数のノズルが備えられる。

英国特許第１５１４８２４号明細書は清浄ガスを用いる噴霧乾燥装置を開示している。ここで清浄ガスは壁面に製品のかすが固まるのを防ぐために円錐部の壁面に接線方向に穿たれた開口を通して噴霧室の下部に導かれる。

米国特許第１６３４６４０号明細書に示されるものは、乾燥室の壁面に沿って移動可能な連続するガスシート面によって処理室壁面と処理材料との接触を防ぐようにしている。ここで、ガスは互いに重なるシートメタルリングの上端および下端近くに形成される狭い多数のスロットないし開口から吹き出し、シート面を形成する。

米国特許第２３３３３３３号明細書は円錐状の噴霧室の下部に接線方向から乾燥ガスを導く乾燥装置を開示している。

米国特許第３８９５９９４号明細書は噴霧室の円筒状胸部の壁面に付着する製品を減少させる方法を開示している。

ここで、冷却空気はガスの主流を囲む逆向きの流れを生じるために胴部内部で旋回するように胴部放出口を囲む位置に設けられる複数の入口から接線方向に導かれる。

上記した壁面清掃方法および装置においては壁面清掃作用を生じる２次空気を導くための開口を円筒状ないし円錐状の胴部壁面に形成する必要がある。このような開口と、これに付随するダクト装置の配置とは噴霧室の設計条件を複雑なものにしている。

さらに、プロセスガスの主流に逆う方向に流される２次空気によってプロセスガスの流動が妨げられている。

本発明の目的は広範な用途に使用可能で、しかも噴霧室に付く堆積物をほぼなくすことができる噴霧室の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法および装置を提供することにある。

本発明による方法は上部胴の壁面に近く、しかもプロセスガス出口から遠い前記上部胴にある噴射位置で圧縮ガスを少なくとも１系統の噴流をなすように噴射し、このとき前記上部胴の前記噴射位置と、前記プロセスガス出口との間の少なくとも前記隔壁に沿う区域を流れる前記プロセスガス流速を上昇させるために前記圧縮ガス噴流を該プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記噴射位の該プロセスガス流速よりも高流速に保ち、その主流が前記隔壁のほぼ接線方向に、かつ水平に前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とするものである。

また、本発明は噴霧室に係るもので、噴霧域に原液を吹き出す噴霧装置にかけて原液を供給する手段を有する噴霧室と、前記噴霧域にかけてプロセスガスを導くガス供給および分配手段とを備え、前記噴霧室は円筒状の上部胴と、この上部胴の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴とから構成されており、前記上部胴は上端に前記ガス供給および分配手段のプロセスガス入口を備えると共に、前記噴霧室は下端ないし上端にプロセスガス出口を備えたものにおいて、前記上部胴の隔壁に近く、しかも前記プロセスガス出口から遠い位置にノズル手段を設け、前記ノズル位置と前記プロセスガス出口と、の間の少なくとも隔壁に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために圧縮ガスを前記ノズル手段から少なくとも１系統の噴流をなし、前記プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記ノズル位置の該プロセスガス流速よりも高流速に保ち、その主流が前記隔壁のほぼ接線方向に、かつ水平に前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とするものである。

上記方法によれば、プロセスガスに作用させる圧縮ガスの噴流の働きによって噴霧室構造を複雑にせず、また、プロセスガスの望ましい働きを損なうことなく噴霧室の清掃を効果的に果たすことができる。

以下、本発明は添付の模式図を参照してさらに詳しく説明される。図面において、図１ないし図３および図４ないし図６は本発明による圧縮ガスの噴流を噴射するノズル手段を備えた噴霧室のそれぞれ異なる実施例を示し、図７および図８は図１ないし図３に示される噴霧室に用いるノズル手段の実施例を示している。

図１ないし図３において、噴霧室１は円筒状の上部胴２と、この上部胴２と同心を保って下側に連なる円錐状の下部胴３とから構成される。上部胴２内には噴霧室１の天井面５から僅かに距離を離して噴霧ホイールないしディスクまたはノズルのような噴霧装置４が設けられており、処理される原液がそこに供給されるようになっている。

下部胴３については図に示される形状以外に、たとえば１８０＠に近い円錐角度に、それでなければ底面を平らにしてもよい。

天井面５の上部には内部と連絡しているガス分配器６が設けられており、これを通して、たとえば乾燥ガスのようなプロセスガスが供給される。図示は省略しているが、プロセスガスは噴霧装置４を取り囲むように配置されるガス出口に導かれる。

噴霧室の下部の乾燥域にプロセスが均一に導かれるように噴霧乾燥で用いるガス分配器は、米国特許第４２２７８９６号明細書に示されるようなガス分配装置を用いる。

下部胴３の下部にはプロセスガスＧのためのプロセスガス出ロアを設ける。図１の点線Ｆは原液を噴霧室１に供給する別の方法を示している。

本実施例においては圧縮ガスを吹き出す２個のノズル８が対向するように上部胴２の天井面５と隔壁９との間のコーナ部に設けられている。

後に図７および図８を参照して説明されるように、各ノズル８は天井面５に吊り下げられる曲り管として形成される。ノズル８は主流が隔壁９に対しほぼ接線方向に、かつ水平に吹き出すように取付ける。

本発明による圧縮ガスは、プロセスガスの流速および流量比よりも、高流速および低流量比を保って吹き出すようにする。好ましくは、流量比はプロセスガスの流量比の３ないし２０パーセントの範囲に保ち、１．０１９７　ｋｇ／　ｃａ　２（１ｂａｒ）から１０．１９７ｋｇ／ｃｍ２（１０ｂａｒ）の範囲に加圧した圧縮ガスをノズル８から吹き出して高流速を得る。

プロセスガスが乾きガスの場合、好ましくは噴霧室の内壁で凝縮が生しないようにするため圧縮ガスを予熱する。圧縮ガス人口温度については乾きガスの人口温度よりも低くする。

以下に詳述されるように、圧縮ガスが高速の噴流として流れるとき、その作用によりプロセスガスに運動エネルギを生じ、このためプロセスガスの流速が上部胴２の隔壁９に沿った区域において上昇する。さらに、これに続くノズル８とプロセスガス出ロアとの間の下部胴３の一部区域でも上昇する。

図７および図８に示すように、各ノズル８は管状要素１０として構成され、天井面５に設けられる支持部材によって吊り下げられた縦方向に延びる第１の管１１と、この第１の管１１の下端で直角に曲げられた水平方向に延びる第２の管１２と、この第２の管１２の自由端に装着されるノズルマウスピース１３とからなる。

天井面５の下面を清掃するためにノズル１０の第１の管１１は操作レバー１４の一方の端部と連結し、この操作レバー１４の他方の端部は油圧ないし空気動力装置の駆動部材、たとえば油圧シリンダ１６のピストン１５に回動可能に連結する。この油圧シリンダ１６は天井面５の下面にピストン１５による往復回動動作を生じる。

実際に必要な動作角度に従い移動角度■は１０°から１２０°の範囲から選定し、２．３秒間連続して清掃を行うものとして、これを１ないし５分間隔で行い、この間、隔壁９の清掃は休止して実施する。

図４ないし図６は本発明の他の実施例を示している。

主プロセスガス入口１８を備えた噴霧室１７は流動床を生じるために円錐状の下部胴】９の、たとえば底部にガス人口８ａを有する。一方、円筒状の上部胴２０の、たとえば上部の天井面２２にプロセスガス出口２１を形成している。プロセスガス出口２１から離れた地点に２次空気の噴流を導くためにノズル２３は下部胴１９と上部胴２０との境界部で、流動床よりも上方に配置する。

噴霧装置２４はノズルによって構成し、ガス分配器２５は図１ないし図３に示した上記実施例のものと同様に構成したものを配置する。各ノズル２３は上部胴２ｏの隔壁２６に対してほぼ接線方向に、かつ水平に圧縮ガスの主流が吹き出すように配置する。

圧縮ガスの噴流によりもたらされる上部胴２ｏの隔壁２６に沿う区域を流れるプロセスガスの流速の上昇効果はフルーエンド社（Ｆｌｕｅｎｔ　Ｉｎｃ、）−米国、ニューハンブンヤー州、ハノーバーが提供するソフトウェア「フルーエンド（ＦＬＵＥＮＴ）Ｊを用いた計算機シュミレーションにより確かめられている。

噴霧室に本発明による方法および装置を用いない場合、流れ関数および水平面内の接線回転速度分布の解析によって次のことが確認されている。すなわち、上部胴上部の噴霧装置周囲に強い渦流が生じており、このときの接線回転速度は１から２ｍ／秒の間にある。

同じ運転条件のもとて同じ噴霧室に本発明による方法および装置を用いた場合、シュミレーション解析によれば、隔壁部分の接線の回転速度が７から８ｍ／秒に上昇することが判明した。したがって、このシュミレーション解析により噴霧室の隔壁面区域は隔壁面区域と主処理域との間の接線回転速度と比べて大きな速度上昇が得られることを確認できた。

本発明の利点を詳しく検証するために実施した試験の結果を例として示す。

試験例試験は直径２．６７ｍ、円筒高さ１．９５ｍおよび円錐角度６０°の噴霧乾燥室を用いて行われた。

天井面から乾燥室内に入る乾き空気は器内に分散し、生産物と共に乾燥室底部の出口を通って乾燥室から流出する。霧滴の形成は直径１５０１１ｍの噴霧ホイールを装着した回転噴霧器によって行われた。

圧縮ガス噴射用ノズルは口径１０Ｉｌｌｌのもので、天井面と隔壁との間のコーナ部に取付けた。

１、　肉エキスの水溶液の乾燥、本製品は乾燥したとき粉末状となる。これは吸湿性、熱可塑性であって容易に静電気を帯びる。

処理条件は次の通りである。

噴霧器ホイール　：　２３００Ｏｒｐｍ乾燥空気量　二２２００　ｋｇ／時乾燥空気人口温度　：１８０℃ 乾燥空気出口温度　＝　９０℃ 乾燥空気／圧縮空気重量比：　１・０．０５圧縮空気圧力　：　３．　０５９１　ｋｇ／ｃ１１２（３ｂａｒ）ｇ圧縮空気温度　：　５０℃ 同一条件のもとて２回試験を実施した。１回目の試験は圧縮空気を使用せずに実施し、このとき乾燥室の隔壁および天井面には堆積物が付着した。これに対し、２回目の試験においては本発明に従い圧縮空気を使用して実施し、このときは堆積物は全く付着しなかった。

２、　加水分解した植物性蛋白溶液の乾燥、粉末状の本製品は吸湿性で、熱可塑性である。

処理条件は次の通りである。

噴霧器ホイール　：　２０００Ｏｒ　ｐｍ乾燥空気量　：１９４０ｋｇ／時乾燥空気人口温度　：１８０℃ 乾燥空気出口温度　：１１０℃ 乾燥空気／圧縮空気重量比：　１：０．０７圧縮空気圧力　：　４．０７８８ｋｇ／ｃｇ＋２（４ｂａｒ）ｇ圧縮空気温度　：　５０℃ 乾燥室には全く堆積物が付着せず、通常壁面清掃装置ないし空気清掃装置が必要なこの種の製品の加工では驚異的であった。

３、　ねばねばした高い粘着力のために蜂蜜粉末を作ることは難しいことがよく知られている。日本国特開昭６０−１８６２５６号公報に開示されるように、たとえばシクロデキストリンのような不活性キャリアと混合した場合でも、噴霧乾燥は堆積物の難しい問題に直面する。

蜂蜜粉末は次のように３回の試験を噴霧乾燥で実施した。

（ａ）　１回目の試験は蜂蜜原料を乾燥室内で堆積物を最少にする手段を全く使用せず噴霧乾燥した。これは乾燥室に多量の堆積物を生じさせる結果となった。

（ｂ）　２回目の試験は乾燥室によく知られた空気清掃装置を取付けて実施した。

（ｃ）　３回目の試験は乾燥室に本発明による圧縮空気の噴流を用いて実施した。

噴霧器ホイール　：　２０００Ｏｒ　ｐｍ乾燥空気量　＋１７８０ｋｇ／時乾燥空気入ロ温度＝１６０℃ 乾燥空気出口温度：　８５℃ 乾燥空気／空気清掃空気重量比：　１：０．３２空気清掃空気温度＝　６２℃ 乾燥空気／圧縮空気重量比：　ｉ：ｏ、ｉ。

圧縮空気圧力　：　４．８９４５６ｋｇ／ｃｍ２（４、８ｂａｒ）ｇ圧縮空気温度　二　６０℃ （ｂ）（ｃ）の試験においては、予想されたとおり乾燥室に幾分かの堆積物の層が生じた。はぼ同一量の堆積物はこの後の運転でも観察された。

しかし、本発明によるノズルを備えたプラントは簡素な構造で、しかも空気の使用量が著しく少なく、空気清掃装置と比べて優れている。

図１ないし図６に示した実施例では２次空気の２系統の噴流を形成するために対向する位置に２個のノズル８を配置しているが、これは、噴霧室が大きい場合、こうした配置が適しており、噴霧室の大きさが小さいものにおいては１個のノズルでも十分である。

さらに、ノズルは噴霧室に固定する必要はなく、空気清掃方法から知られるように噴霧室の上部胴の隔壁に倣う円軌跡で移動できるように吊り下げてもよい。

ｎ６．６補正書の翻訳文提出書（特許法第１８４条の８）１．　特許出願の表示ＰＣＴ／ＤＫ　９３１００１７０２、発明の名称乾燥室における堆積物を最少にする方法および装置３、特許出願人住　所　デンマーク国コペンハーゲン、ケー、ブレッドガーデ、６名　称　二一口、ホールディング、アクティーゼルスヵップ４、代　理　人（郵便番号１００）東京都千代田区丸の内三丁目２番３号協和特許法律事務所内６、　添付書類の目録（リ　補正書の翻訳文　１　通水発明の目的は広範な用途に使用可能で、しがも堆積物の付着をほぼなくすことができる噴霧室の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法および装置を提供することにある。

本発明方法の一態様は、前記上部胴の隔壁に近く、しかも前記プロセスガス出口から最も遠い前記上部胴の端部にある１または２箇所の噴射位置で圧縮ガスを少なくて１系統、多くて２系統の噴流をなすように噴射し、そのとき前記上部胴の前記噴射位置と、前記プロセスガス出口との間の少なくとも前記隔壁に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ガス噴流を該プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記噴射位置の該プロセスガス流速よりも高流速に保ち、その主流が水平に、かつ前記隔壁に対してほぼ接線方向から前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とするものである。

さらに、本発明方法の他の態様は、上部胴の隔壁に近く、しかもプロセスガス出口から最も遠い前記上部胴の端部にある噴射位置で圧縮ガスを少なくとも１系統の噴流をなすように噴射し、そのとき前記上部胴の前記噴射位置と前記プロセスガス出口との間の少なくとも前記隔壁に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ガス噴流を該プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記噴射位置の該プロセスガス圧力よりも高い１．　０１９７ｋｇ／ｃ＋ａ２（ｌｂａｒ）から１．０．１９７ｋｇ／　ｃ−（１０ｂａｒ）の範囲の圧力に保ち、その主流が前記隔壁に対してほぼ接線方向から、かつ水平に前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とするものである。

また、本発明は噴霧室に係るもので、噴霧域に原液を吹き出す噴霧装置にかけて前記原液を供給する手段を有する噴霧室と、前記噴霧域にプロセスガスを導くガス１％給および分配手段とを備え、前記噴霧室は円筒状の上部胴と、この上部胴の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴とから構成されており、前記上部胴は上端に前記ガス供給および分配手段のプロセスガス人口を備えると共に、前記噴霧室は下端ないし上端にプロセスガス出口を備える。

本発明による−の噴霧室は前記上部胴の隔壁に近く、しかも前記プロセスガス出口から最も遠い前記上部胴の端部に圧縮ガスを噴流として噴射する少なくて１、多くて２個のノズル手段が設けられており、前記ガス供給および分配手段は前記ノズル手段の位置で前記プロセスガス流量および流速よりも低流量で、高流速を維持する手段を備え、前記上部胴の端部と前記プロセスガス出口との間の少なくとも隔壁に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ノズル手段が前記ガス噴流に前記隔壁に対してほぼ接線方向で、水平の主流を生じて前記プロセスガスに作用するように配置されることを特徴とするものである。

また、本発明による他の噴霧室は前記上部胴の隔壁に近く、しかも、前記プロセスガス出口から最も遠い前記上部胴の端部に圧縮ガスを噴流として噴射する少なくとも１個のノズル手段が設けられており、前記ガス供給および分配手段は前記プロセスガス圧力よりも高い１、　０１９７ｋｇ／ｃｍ”　（１ｂａｒ）から１０．１９７ｋｇ／Ｃ■　（１０ｂａｒ）の範囲に前記ガス噴流圧力を維持する手段を備え、前記上部胴の端部と前記プロセスガス出口との間の少なくとも隔壁に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ノズル手段が前記ガス噴流に前記隔壁に対してほぼ接線方向で、水平の主流を生して前記プロセスガスに作用するように配置それることを特徴とするものである。

上記方法によれば、プロセスガスに作用させる圧縮ガスの噴流の働きによって噴霧室構造を複雑にせず、またプロセスガスの望ましい働きをｔｉなうことなく噴霧室の清掃を効果的に果たすことができる。

請求の範囲１．　噴霧室（１，１７）の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法であって、前記噴霧室（１，１７）は円筒状の上部胴（２，２０）と、この上部胴（２，２０）の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴（３，１９）とから構成されており、前記上部胴（２，２０）は上端にプロセスガスを導入するプロセスガス人口（６，１８）を備えると共に、前記噴霧室（１，１７）は下端ないし上部にプロセスガスを排出するプロセスガス出口（７，２１）を備え、粒状ないし微粒子状の製品を形成するために前記噴霧室（１，１７）内で原液を噴射し、前記プロセスガスの勢力下に置いて処理するものにおいて、前記上部胴（２，２０）の隔壁（９，２６）に近く、しかも前記プロセスガス出口（７，２１）から最も遠い前記上部胴（２，２０）の端部にある１または２箇所の噴射位置で圧縮ガスを少なくて１系統、多くて２系統の噴流をなすように噴射し、そのとき前記上部胴（２，２０）の前記噴射位置と、前記プロセスガス出口（７゜２１）との間の少なくとも前記隔壁（９，２６）に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ガス噴流を該プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記噴射位置の該プロセスガス流速よりも高流速に保ち、その主流が水平に、かつ前記隔壁（９，２６）に対してほぼ接線方向から前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とする噴霧室の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法。

２、　噴霧室（１，１７）の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法であって、前記噴霧室（１，１７）は円筒状の上部胴（２，２０）と、この上部胴（２，２０）の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴（３，１９）とから構成されており、前記上部胴（２，２０）は上端にプロセスガスを導入するプロセスガス人口（６，１８）を備えると共に、前記噴霧室（１，１７）は下端ないし上部にプロセスガスを排出するプロセスガス出口（７，２１）を備え、粒状ないし微粒子状の製品を形成するために原液を前記噴霧室（１，１７）内で噴射し、前記プロセスガスの勢力下に置いて処理するものにおいて、前記上部胴（２，２０）の隔壁（９，２６）に近く、しかも前記プロセスガス出口（７，２１）から最も遠い前記上部胴（２，２０）の端部にある噴射位置で圧縮ガスを少なくとも１系統の噴流をなすように噴射し、そのとき前記上部胴（２，２０）の前記噴射位置と前記プロセスガス出口（７，２１）との間の少なくとも前記隔壁（９，２６）に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ガス噴流を該プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記噴射位置の該プロセスガス圧力よりも高イ１　、　０１９７　ｋｇ／ｃｍ２から１０．１９７ｋｇ／ＣｌＩ２の範囲の圧力に保ち、その主流か前記隔壁（９，２６）に対してほぼ接線方向から、かつ水平に前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とする噴霧室の内面に例く製品の堆積物を最少にする方法。

３、　前記噴霧室（２）の天井面（５）に前記プロセスガス人口（６）を設ける一方、前記下部胴（３）に前記プロセスガス出口（７）を設け、１または２系統の前記ガス噴流を該大月面（５）と前記隔壁との間のコーナ部から吹き出すように構成したことを特徴とする請求の範囲第１項ないし第２項記載の方法。

４、　前記天井面（５）の下側に流れる前記プロセスガスに作用させるために比較的、短い休止時間に限り、前記天井面（５）の方向に前記ガス噴流を転じながら、比較的長い時間連続して前記ガス噴流を噴射するようにしたことを特徴とする請求の範囲第３項記載の方法。

５、　前記上部胴（２０）の天井面（２２）に、あるいは天井面（２２）の近くに前記プロセスガス出口（２１）を備え、特に流動床を持つ種類の噴霧室に用いられる方法であって、前記下部胴（１９）に隣接する前記上部胴（２０）の端部から１または２系統の前記ガス噴流を噴射するようにしたことを特徴とする請求の範囲第１項ないし第２項記載の方法。

６、　前記ガス噴流流量比を前記プロセスガス流量比の３ないし２０％とし、前記ガス噴流の圧力を前記噴射位置の前記プロセスガス圧力より高い１．０１９７ｋｇ／２　。

ｅｌｌｌ　かｂ　１０．　１９７ｋｇ／Ｃｉ２ノ範囲ニ保つヨウニシタことを特徴とする請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の方法。

７、　前記プロセスガスに乾きガスを用いて行うものにおいて、前記圧縮ガスを前記乾きガス温度よりも低い適当な温度に予熱することを特徴とする請求の範囲第１項ないし第６項のいずれか１項に記載の方法。

８、　噴霧域に原液を吹き出す噴霧装置（４，２４）にかけて前記原液を供給する手段を有する噴霧室（１，１７）と、前記噴霧域にプロセスガスを導くガス供給および分配手段（６，２５）とを備え、前記噴霧室（１，１７）は円筒状の上部胴（２，２０）と、この上部胴（２，２０）の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴（３，１９）とから構成されており、前記上部胴（２，２０）は上端に前記ガス供給および分配手段のプロセスガス人口（６，２５）を備えると共に、前記噴霧室（１，１７）は下端ないし上端にプロセスガス出口（７，２１）を備えるものにおいて、前記上部胴（２，２０）の隔壁（９，２６）に近く、しかも前記プロセスガス出口（７，２１）から最も遠い前記上部胴（２，２０）の端部に圧縮ガスを噴流として噴射する少なくて１、多くて２個のノズル手段（８，２３）が設けられており、前記ガス供給および分配手段は前記ノズル手段（８，２３）の位置で前記プロセスガス流量および流速よりも低流量で、高流速を維持する手段を備え、前記上部胴（２，２０）の端部と前記プロセスガス出口との間の少なくとも隔壁（９，２６）に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ノズル手段が前記ガス噴流に前記隔壁（９，２６）に対してほぼ接線方向で、水平の主流を生じて前記プロセスガスに作用するように配置されることを特徴とする噴霧室。

９、　噴霧域に原液を吹き出す噴霧装置（４，２４）にかけて前記原液を供給する手段を有する噴霧室（１，１７）と、前記噴霧域にプロセスガスを導くガス供給および分配手段（６，２５）とを６Ｎｉ、前記噴霧室（１，１７）は円筒状の上部胴（２，２０）と、この上部胴（２，２０）の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴（３，１９）とから構成されており、前記上部胴（２，２０）は上端に前記ガス供給および分配手段のプロセスガス人口（６，２５）を備えると共に、前記噴霧室は下端ないし上端にプロセスガス出口（７，２］）を備えるものにおいて、前記上部胴（２，２０）の隔壁（９，２６）に近く、しかも、前記プロセスガス出口（７，２１）から最も遠い前記上部胴（２，２０）の端部に圧縮ガスを噴流として噴射する少なくとも１個のノズル手段（８，２３）が設けられており、前記ガス供給および分配手段は前記プロセスガス圧力よりも高い１、　０１９７ｋｇ／ｃｍ　から１１１９７　ｋｇ／　ｃｍ２の範囲に前記ガス噴流圧力を維持する手段を備え、前記上部胴の端部と前記プロセスガス出口（７，２１）との間の少なくとも隔壁（９，２６）に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記ノズル手段（８，２３）が前記ガス噴流に前記隔壁（９，２６）に対してほぼ接線方向で、水平の主流を生じて前記プロセスガスに作用するように配置されることを特徴とする噴霧室。

１０、　前記プロセスガス入口（６）を前記上部胴の天井面（５）に設ける一方、前記下部胴（３）の下面に前記プロセスガス出口（７）を設け、前記ノズル手段（８）を前記天井部（５）と前記隔壁（９）のコーナ部に配置したことを特徴とする請求の範囲第８項または第９項記載の噴霧室。

１１、　前記ノズル手段（８）を予め規定される角度内を往復回動させるために前記天井面（５）に吊り下げると共に、その往復回動動作を行うために間欠的に操作される駆動手段と連結したことを特徴とする請求の範囲第１０項記載の噴霧室。

１２、前記ノズル手段（８）が前記天井面に設けられた支持手段に吊り下げた縦方向に延びる第１の管（１１）と、この第１の管（１１）の下端に設けられた水平方向に延びる第２の管（１２）と、この第２の管のなる管状要素（１０）を備えることを特徴とする請求の範囲第１１項記載の噴霧室。

］３．　前記噴霧室（１，１７）の外に延びる前記第１の管の−の部分を操作レバー（１４）の一端と接続し、他の部分を前記往復動作を生しる油圧ないし空気圧駆動装置（１６）の駆動部＋４（１５）と回動可能に連結したことを特徴とする請求の範囲第１２項記載の噴霧室。

１４、　前記下部胴（１９）内に流動床を生じる空気供給および分配手段（１８ａ）を備えると共に、前記上部胴（２０）の上部に前記プロセスガス出口（２１）を備えたものにおいて、前記ノズル手段（２３）を前記下部胴（１９）に隣接する前記上部胴（２０）の端部て、前記流動床の上方に配置するようにしたことを特徴とする請求の範囲第８項または第９項記載の噴霧室。

１５、　前記プロセスガスか加熱された乾きガスであるものにおいて、前記ガス噴流を前記プロセスガス温度よりも低い適当な温度に予熱する加熱手段を備えることを特徴とする請求の範囲第８項ないし第１３項の（１ずれか１項に記載の噴霧室。

１６、　前記噴霧室（１，１７）の軸心を囲む平面内を円軌跡で移動するように前記ノズル手段（８）を吊り下げたことを特徴とする請求の範囲第８項な０シ第１５項のいずれか１項に記載の噴霧室。

国際調査報告　、、、、ア７．．．。、７、。ｌｆｆ１’１フロントページの続き（８１）指定回　ＥＰ（ＡＴ、ＢＥ、ＣＨ，ＤＥ。

ＤＫ、ＥＳ、ＦＲ，ＧＢ、ＧＲ，ＩＥ、ＩＴ、ＬＵ、ＭＣ，ＮＬ、ＰＴ、ＳＥ）、０Ａ（ＢＦ、ＢＪ、ＣＦ、ＣＧ、　ＣＩ、　ＣＭ、　ＧＡ、　ＧＮ、　ＭＬ、　ＭＲ，ＮＥ、　ＳＮ。

ＴＤ、ＴＧ）、ＡＴ、ＡＵ、ＢＢ、ＢＧ、ＢＲ，ＢＹ。

ＣＡ、ＣＨ，ＣＺ、ＤＥ、ＤＫ、ＥＳ、ＦＩ、ＧＢ、ＨＵ、ＪＰ、ＫＰ、ＫＲ，ＫＺ、ＬＫ、ＬＵ、ＭＧ、ＭＮ、ＭＷ、ＮＬ、Ｎｏ、ＮＺ、ＰＬ、ＰＴ、ＲＯ，ＲＵ。

ＳＤ、ＳＥ、ＳＫ、ＵＡ、ＵＳ、ＶＮ

Claims

【特許請求の範囲】

１．噴霧室（１、１７）の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法であって、前記噴霧室（１、１７）は円筒状の上部胴（２、２０）と、この上部胴（２、２０）の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴（３、１９）とから構成されており、前記上部胴（２、２０）は上端にプロセスガスを導入するプロセスガス入口（６、１８）を備えると共に、前記噴霧室（１、１７）は下端ないし上端にはプロセスガスを排出するプロセスガス出口（７、２１）を備え、粒状ないし微粒子状の製品を形成するために原液を噴霧室（１、１７）内で噴射し、前記プロセスガスの勢力下に置いて処理するものにおいて、前記上部胴（２、２０）の隔壁（９、２６）に近く、しかも前記プロセスガス出口（７、２１）から遠い該上部胴（２、２０）にある噴射位置で圧縮ガスを少なくとも１系統の噴流ををなすように噴射し、そのとき前記上部胴（２、２０）の前記噴射位置と、前記プロセスガス出口（７、２１）との間の少なくとも前記隔壁（９、２６）に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために前記圧縮ガス噴流を該プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記噴射位置の該プロセスガス流速よりも高流速に保ち、その主流が前記隔壁（９、２６）のほぼ接線方向に、かつ水平に前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とする噴霧室（１、１７）の内面に付く製品の堆積物を最少にする方法。
２．前記噴霧室の天井面（５）の下側および前記下部胴内にプロセスガス入口（６）および出口（７）をそれぞれ設け、前記ガス噴流を該天井面（５）と前記隔壁（９、２６）との間のコーナ部から吹き出すように構成したことを特徴とする請求の範囲第１項記載の方法。
３．前記天井面（５）の下側に流れる前記プロセスガスに作用させるために比較的短い休止時間に限り、前記天井面（５）の方向に前記ガス噴流を転じながら、比較的長い時間連続して前記ガス噴流を噴射するようにしたことを特徴とする請求の範囲第２項記載の方法。
４．前記上部胴（２０）の天井面（２２）に、あるいは天井面（２２）の近くに前記プロセスガス出口（２１）を備え、特に流動床を形成する種類の噴霧室に用いられる方法であって、前記上部胴（２０）と前記下部胴（１９）とのほぼ境界部から前記ガス噴流を吹き出すようにしたことを特徴とする請求の範囲第１項記載の方法。
５．前記ガス噴流流量比を前記プロセスガス流量比の３ないし２０％とし、前記ガス噴流の圧力を１．０１９７ｋｇ／ｃｍ２ないし１０．１９７ｋｇ／ｃｍ２に保つようにしたことを特徴とする請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか１項に記載の方法。
６．前記プロセスガスに乾きガスを用いて行うものにおいて、前記圧縮ガスを前記乾きガス温度よりも低い適当な温度に予熱することを特徴とする請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の方法。
７．噴霧域に原液を吹き出す噴霧装置（４、２４）にかけて前記原液を供給する手段を有する噴霧室（１、１７）と、前記噴霧域にかけてプロセスガスを導くガス供給および分配手段（６、２５）とを備え、前記噴霧室（１、１７）は円筒状の上部胴（２、２０）と、この上部胴（２、２０）の下側に連設された円錐状ないし円錐台状の下部胴（３、１９）とから構成されており、前記上部胴（２、２０）は上端に前記ガス供給および分配手段のプロセスガス人口（６、２５）を備えると共に、前記噴霧室（１、１７）は下端ないし上端にプロセスガス出口（７、２１）を備えたものにおいて、前記上部胴（２、２０）の隔壁（９、２６）に近く、しかも前記プロセスガス出口（７、２１）から遠い位置にノズル手段（８、２３）を設け、前記ノズル位置と前記プロセスガス出口（７、２１）との間の少なくとも隔壁（９、２６）に沿う区域を流れる前記プロセスガスの流速を上昇させるために圧縮ガスを前記ノズル手段（８、２３）から少なくとも１系統の噴流をなし、前記プロセスガス流量比よりも低流量比で、前記ノズル位置の該プロセスガス流速よりも高流速に保ち、その主流が前記隔壁（９、２６）のほぼ接線方向に、かつ水平に前記プロセスガスに作用するように吹き出すことを特徴とする噴霧室。
８．前記プロセスガス入口（６、２５）および出口（７、２１）を前記噴霧室の天井面（５）よりも下の上部胴（２）および下部胴（３）の底部にそれぞれ設け、前記ノズル手段（８）を前記天井面（５）と前記隔壁（９）との間のコーナ部に配置したことを特徴とする請求の範囲第７項記載の噴霧室。
９．前記ノズル手段（８）を予め規定される角度内を往復回動させるために前記天井面（５）に吊り下げると共に、その往復回動動作を行うために間欠的に操作される駆動手段と連結したことを特徴とする請求の範囲第８項記載の噴霧室。
１０．前記ノズル手段（８）が前記天井面に設けられた支持手段に吊り下げた縦方向に延びる第１の管（１１）と、この第１の管（１１）の下端に設けられた水平方向に延びる第２の管（１２）と、この第２の菅の自由端に装着されたノズルマウスピース（１３）とからなる管状要素（１０）を備えることを特徴とする請求の範囲第９項記載の噴霧室。
１１．前記噴霧室（１、１７）の外に延びる前記第１の管の一の部分を操作レバー（１４）の一端と接続し、他の部分を前記往復動作を生じる油圧ないし空気圧駆動装置（１６）の駆動部材（１５）と回動可能に連結したことを特徴とする請求の範囲第１０項記載の噴霧室。
１２．前記下部胴（１９）内に流動床を生じる空気供給および分配手段（１８ａ）を備えると共に、前記上部胴（２０）の上部に前記プロセスガス出口（２１）を備えたものにおいて、前記ノズル手段（２３）を前記上部胴（２０）と前記下部胴（１９）とのほぼ境界部で、前記流動床の上方に配置するようにしたことを特徴とする請求の範囲第７項記載の噴霧室。
１３．前記プロセスガスが加熱された乾きガスであるものにおいて、前記ガス噴流を前記プロセスガス温度よりも低い適当な温度に予熱する加熱手段を備えることを特徴とする請求の範囲第７項ないし第１０項のいずれか１項に記載の噴霧室。
１４．前記唄露室の軸心を囲む平面内を円軌跡で移動するように前記ノズル手段を吊り下げたことを特徴とする請求の範囲第７項ないし第１３項記載のいずれか１項に記載の噴霧室。