JPH0746654B2 - Soft magnetic thin film - Google Patents
Soft magnetic thin filmInfo
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- JPH0746654B2 JPH0746654B2 JP60230466A JP23046685A JPH0746654B2 JP H0746654 B2 JPH0746654 B2 JP H0746654B2 JP 60230466 A JP60230466 A JP 60230466A JP 23046685 A JP23046685 A JP 23046685A JP H0746654 B2 JPH0746654 B2 JP H0746654B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えば薄膜磁気ヘッドに用いて好適な軟磁性薄
膜に係わる。The present invention relates to a soft magnetic thin film suitable for use in, for example, a thin film magnetic head.
本発明は、窒素含有のFe−Co−Si−Al系組成の軟磁性薄
膜であり、その組成の特定により保磁力Hcが小さく透磁
率μが高く特に耐蝕性及び硬度にすぐれた軟磁性薄膜を
得るものである。The present invention is a soft magnetic thin film of a nitrogen-containing Fe-Co-Si-Al-based composition, which has a low coercive force Hc and a high magnetic permeability μ due to the composition of the soft magnetic thin film, which is particularly excellent in corrosion resistance and hardness. I will get it.
各種磁気記録再生装置において、高密度記録化、高周波
数化の要求が高まり、これに対応して高い飽和磁化、高
い保磁力の磁気記録媒体が用いられる。この種の磁気記
録媒体としては、Fe,Co,Ni等の強磁性金属の粉末を用い
たいわゆるメタルテープや、強磁性金属材料をベースフ
ィルム上に被着して成るいわゆる蒸着テープなどが用い
られるに至っている。In various magnetic recording / reproducing devices, there is an increasing demand for higher density recording and higher frequency, and correspondingly, magnetic recording media having high saturation magnetization and high coercive force are used. As this kind of magnetic recording medium, a so-called metal tape using a powder of a ferromagnetic metal such as Fe, Co, or Ni, a so-called vapor deposition tape formed by coating a ferromagnetic metal material on a base film, and the like are used. Has reached.
これに伴い、この種の磁気記録媒体に対する磁気ヘッド
としては、高い飽和磁束密度と高透磁率のヘッド材料に
よることが要求されると共に、磁気異方性が小さく磁歪
が零であり、また保磁力が小さく、更にヘッド材料とし
てできるだけ、耐摩耗性が高く、耐蝕性にすぐれている
など、磁気特性はもとより、化学的に安定で機械的特性
にすぐれていることなどが要求される。Accordingly, a magnetic head for this type of magnetic recording medium is required to be made of a head material having a high saturation magnetic flux density and a high magnetic permeability, and has a small magnetic anisotropy and zero magnetostriction, and a coercive force. Is required, and the head material is required to have not only magnetic characteristics but also chemical stability and excellent mechanical characteristics such as high wear resistance and excellent corrosion resistance as a head material.
一方、高密度記録化に伴って記録トラック幅、したがっ
て磁気ヘッドにおける、作動磁気ギャップのトラック幅
の狭小化が要求され、この要求に対応し、しかも特に多
トラック磁気ヘッドにおいて著しく量産性の向上をはか
ることができるものとして非磁性ないしは磁性基板上に
軟磁性薄膜による磁気ヘッドコアを被着形成する薄膜技
術を用いた薄膜磁気ヘッドの普及がめざましい。この種
の軟磁性薄膜としてはFe,Al,Siを主成分とするセンダス
ト合金薄膜が注目を集めている。On the other hand, along with the high density recording, it is required to reduce the recording track width, and hence the track width of the working magnetic gap in the magnetic head, and to meet this requirement, particularly, the mass productivity is remarkably improved in the multi-track magnetic head. As a measure that can be measured, a thin film magnetic head using a thin film technique for forming a magnetic head core of a soft magnetic thin film on a non-magnetic or magnetic substrate is remarkably popularized. As a soft magnetic thin film of this kind, a sendust alloy thin film containing Fe, Al and Si as main components has been attracting attention.
このセンダスト合金薄膜は、高い飽和磁束密度Bsを有
し、比較的高硬度を有するので、上述したメタルテープ
等のように高い残留磁束密度を有する磁気記録媒体に対
しても適用することが可能である。Since this sendust alloy thin film has a high saturation magnetic flux density Bs and a relatively high hardness, it can be applied to a magnetic recording medium having a high residual magnetic flux density such as the metal tape described above. is there.
しかしながら、このセンダスト合金薄膜は比較的高硬度
を有するものの例えばフェライト材等に比し耐摩耗性及
び耐蝕性に劣る。また、このセンダスト合金薄膜は比較
的比抵抗が低いためにこれを磁気ヘッドのコアとして使
用した場合には、いわゆる渦電流損による高周波領域で
の透磁率の低下が問題となっており、高周波数領域で充
分な再生出力が得られないおそれがあるなどの問題点が
ある。However, although this sendust alloy thin film has a relatively high hardness, it is inferior in wear resistance and corrosion resistance to, for example, a ferrite material. Further, since this Sendust alloy thin film has a relatively low specific resistance, when it is used as a core of a magnetic head, a decrease in magnetic permeability in a high frequency region due to so-called eddy current loss is a problem, and high frequency There is a problem that sufficient reproduction output may not be obtained in the area.
これに比し、センダスト合金薄膜の代わりに高周波数領
域での透磁率の低下が少なく高い飽和磁束密度Bsを有す
る非晶質（アモルファス）磁性合金材料を用いることが
考えられているが、この非晶質磁性合金材料は耐熱性に
難点があり、長時間の加熱や熱サイクルにより透磁率が
大きく劣化し再生効率が悪くなる。特に結晶化の可能性
が大きいので500℃以上の温度を長時間加えることはで
きないものであり、これがため、磁気ヘッドの製造工程
において例えばガラス融着のように500℃以上の温度で
の処理を必要とする工程を採ることは好ましくないなど
の問題点がある。On the other hand, it is considered to use an amorphous magnetic alloy material having a high saturation magnetic flux density Bs with a small decrease in permeability in the high frequency region instead of the sendust alloy thin film. Amorphous magnetic alloy materials have a difficulty in heat resistance, and their magnetic permeability is greatly deteriorated by long-term heating and thermal cycles, resulting in poor reproduction efficiency. In particular, since there is a high possibility of crystallization, it is not possible to apply a temperature of 500 ° C or higher for a long time, and for this reason, in the manufacturing process of the magnetic head, for example, glass fusion treatment at a temperature of 500 ° C or higher is required. There is a problem that it is not preferable to take the necessary steps.
このような状況から、さらに良好な軟磁気特性を示す軟
磁性材料の研究が進められ、例えば山本達治・千葉久喜
共著，「日本金属学会誌」第14巻B,第２号（1950年）に
は、Fe,Co,Siを主成分とするFe−Co−Si系合金材料が良
好な軟磁気特性を示すことが報告されている。Under such circumstances, research on soft magnetic materials exhibiting even better soft magnetic properties has been promoted. For example, in Tatsuharu Yamamoto and Kuki Chiba, “Journal of the Japan Institute of Metals”, Volume 14, B, No. 2 (1950). Have reported that an Fe-Co-Si based alloy material containing Fe, Co, and Si as main components exhibits excellent soft magnetic properties.
しかしながら、このFe−Co−Si系合金材は、極めて脆弱
で実用性に乏しく、そのまま磁気ヘッドのコア材料とし
て用いることには問題がある。However, this Fe-Co-Si alloy material is extremely fragile and poor in practicality, and there is a problem in using it as it is as a core material of a magnetic head.
本発明は上述した諸問題の改善をはかり、磁気特性、す
なわち飽和磁束密度Bsが大、保磁力Hcが小、磁歪λｓが
殆ど零、磁気異方性が小さく、しかも機械的特性、すな
わち、高い硬度を有し、耐摩耗性にすぐれ、更に熱的に
安定で耐熱性が高く、また化学安定性に、すなわち耐蝕
性にすぐれた軟磁性薄膜を提供するものである。The present invention has improved the above-mentioned various problems, and has magnetic characteristics, that is, a large saturation magnetic flux density Bs, a small coercive force Hc, a magnetostriction λs of almost zero, a small magnetic anisotropy, and a mechanical characteristic, that is, high. It is intended to provide a soft magnetic thin film having hardness, excellent wear resistance, thermal stability and high heat resistance, and chemical stability, that is, excellent corrosion resistance.
本発明は、Fe,Co,Si及びAlを主成分とする結晶質合金に
よる磁性薄膜に窒素Ｎを添加することにより飽和磁束密
度等を低下することなく上述した諸問題を改善すること
ができることを見出したことに基づくものである。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can improve the above-mentioned problems without lowering the saturation magnetic flux density by adding nitrogen N to a magnetic thin film made of a crystalline alloy containing Fe, Co, Si and Al as the main components. It is based on the findings.
すなわち、本発明は、Fe,Co,Si及びAlを主成分とし、そ
の組成を、Coが0.5〜15原子％、Siが９〜17原子％、Al
が７〜15原子％、Ｎが0.01〜10原子％、残部Feとする。That is, in the present invention, Fe, Co, Si and Al are main components, and the composition thereof is 0.5 to 15 atomic% for Co, 9 to 17 atomic% for Si, and Al.
Is 7 to 15 atom%, N is 0.01 to 10 atom%, and the balance is Fe.
尚、上述の組成を有する本発明による軟磁性薄膜の膜厚
としては、100Å以上1mm以下であることが好ましく、さ
らに100Å以上100μｍ以下であることがより好ましい。The thickness of the soft magnetic thin film according to the present invention having the above composition is preferably 100 Å or more and 1 mm or less, and more preferably 100 Å or more and 100 μm or less.
上述したように本発明による軟磁性薄膜は、Fe,Co,Si及
びAlを主成分とするもので、Alの添加によってFe−Co−
Si系軟磁性体に比し、保磁力や磁歪の小さい透磁率の高
い軟磁性体が得られるものであるが、加えて本発明にお
いては、これに窒素Ｎを含有することに特徴があり、こ
れにより、特に透磁率及び硬度が大幅に改善され比抵抗
が向上する。As described above, the soft magnetic thin film according to the present invention contains Fe, Co, Si and Al as the main components, and by adding Al, Fe-Co-
As compared with the Si-based soft magnetic material, a soft magnetic material having a high coercive force and a small magnetostriction and a high magnetic permeability can be obtained. In addition, the present invention is characterized by containing nitrogen N, As a result, the magnetic permeability and hardness are greatly improved, and the specific resistance is improved.
本発明者等の実験によれば、磁性薄膜中の窒素Ｎの含有
量が増加するのに伴って透磁率が急激に向上し、例えば
窒素Ｎの含有量が約1.7原子％で窒素Ｎを全く含まない
磁性薄膜に比べて透磁率がおよそ2.5倍にも達すること
が分かった。また、この透磁率は、その磁性薄膜に含ま
れる窒素Ｎの含有量が余り多くなると却って低下してく
る。しかしながら、この磁性薄膜は窒素Ｎの含有量の増
加とともに比抵抗が増加することから、より高周波数領
域での使用、例えばデジタルVTR用磁気ヘッド等への使
用を考えると、Ｎの含有量は10原子％程度までが実用可
能となる。According to the experiments conducted by the present inventors, the magnetic permeability rapidly increases as the content of nitrogen N in the magnetic thin film increases. For example, when the content of nitrogen N is about 1.7 atomic%, nitrogen N is completely eliminated. It was found that the magnetic permeability reached about 2.5 times that of the magnetic thin film that did not contain it. Further, this magnetic permeability rather decreases when the content of nitrogen N contained in the magnetic thin film becomes too large. However, since the specific resistance of this magnetic thin film increases with an increase in the content of nitrogen N, the N content is 10 when considering its use in a higher frequency region, such as a magnetic head for a digital VTR. Practical use is possible up to about atomic%.
また、磁性薄膜に含まれるＮの含有量の増加に伴って、
ビッカース硬度も急激に高くなり、Ｎの含有量が約２原
子％を越えるとほぼ一定の硬度を確保することができる
ことが分かった。In addition, as the content of N contained in the magnetic thin film increases,
The Vickers hardness also rapidly increased, and it was found that a substantially constant hardness can be secured when the N content exceeds about 2 atomic%.
つまり、本発明に係るFe−Co−Si−Al系磁性薄膜に含有
される窒素Ｎの含有量は、その含有量が0.01原子％未満
であると充分な効果が期待できず、またその含有量が10
原子％を越えると却って透磁率が低下してしまい保磁力
Hcも大きくなってしまうおそれがあることから１〜10原
子％に選定する。That is, with respect to the content of nitrogen N contained in the Fe-Co-Si-Al magnetic thin film according to the present invention, if the content is less than 0.01 atomic%, a sufficient effect cannot be expected, and the content thereof cannot be expected. Is 10
If it exceeds atomic%, the magnetic permeability will rather decrease and the coercive force will decrease.
Hc may increase, so select 1 to 10 atom%.
また、本発明による軟磁性薄膜において、Coの含有量は
0.5〜15原子％とする。これはこの範囲を外れると、保
磁力の増大や透磁率の低下が見られることによる。In the soft magnetic thin film according to the present invention, the Co content is
0.5 to 15 atomic percent. This is because if it deviates from this range, the coercive force increases and the magnetic permeability decreases.
また、Si,Alについては、それぞれSiが９〜17原子％、A
lが７〜15原子％とする必要がある。これは、Si及びAl
の含有量がこれら範囲を外れると、例えば保磁力が大と
なり磁気ヘッドのコア材料としては使用し得なくなると
同時に、飽和磁束密度の低下や透磁率の低下が見られる
ことによる。これに対し、上述の範囲とすれば、低保磁
力化、高飽和磁束密度化、高透磁率化が達せられ、更に
零磁歪化が得られる。Regarding Si and Al, Si is 9 to 17 atomic%, A
l must be 7 to 15 atomic%. This is Si and Al
When the content of is out of these ranges, for example, the coercive force becomes large and it cannot be used as the core material of the magnetic head, and at the same time, the saturation magnetic flux density and the magnetic permeability decrease. On the other hand, in the above range, low coercive force, high saturation magnetic flux density and high magnetic permeability can be achieved, and further zero magnetostriction can be obtained.
本発明による軟磁性薄膜の製造方法としては、いわゆる
気相薄膜生成技術によるのが良い。何故なら、例えば一
般の溶解による方法では均一に多量の窒素を導入するこ
とは難しい。すなわち、通常窒素は合金溶融中にスラグ
として浮上し不純物として合金と分離されてしまうので
ある。As a method of manufacturing the soft magnetic thin film according to the present invention, a so-called vapor phase thin film forming technique is preferable. This is because, for example, it is difficult to uniformly introduce a large amount of nitrogen by a general melting method. That is, nitrogen is usually floated as slag during alloy melting and separated from the alloy as impurities.
そこで、本発明による軟磁性薄膜は、蒸着法やイオンイ
ンプランテーション法等により作製するのが好ましい。
蒸着の手法としては、例えばフラッシュ蒸着、ガス中蒸
着法、イオンプレーティング、スパッタリング、クラス
ター・イオンビーム法等が挙げられ、また蒸着とイオン
インプランテーションを同時に行ってもよい。また、磁
性薄膜に窒素Ｎを導入する方法としては、 （１）窒素ガスを含む雰囲気中で蒸着等を行い、この窒
素ガスの濃度によって得られる磁性薄膜中の窒素Ｎの含
有量を調節して導入する方法。Therefore, the soft magnetic thin film according to the present invention is preferably manufactured by a vapor deposition method, an ion implantation method, or the like.
Examples of the vapor deposition method include flash vapor deposition, vapor deposition in gas, ion plating, sputtering, cluster ion beam method, and the like, and vapor deposition and ion implantation may be performed simultaneously. As a method of introducing nitrogen N into the magnetic thin film, (1) vapor deposition or the like is performed in an atmosphere containing nitrogen gas, and the content of nitrogen N in the obtained magnetic thin film is adjusted by the concentration of this nitrogen gas. How to introduce.
（２）窒素Ｎと各成分のうちの少なくとも１種の元素と
の化合物と、残りの成分の合金とを蒸発源として使用
し、得られる磁性薄膜中に窒素Ｎを導入する方法、 等が挙げられる。さらに、磁性薄膜を構成するFe,Co,Si
等の各成分元素の組成を調節する方法としては、 （１）Fe,Co,Siや他の添加剤、置換金属等を所定の割合
となるように秤量し、これらをあらかじめ例えば高周波
溶解炉等で溶解して合金インゴットを形成しておき、こ
の合金インゴットを蒸発源として使用する方法、 （２）各成分の単独元素の蒸発源を用意し、これら蒸発
源の数で組成を制御する方法、 （３）各成分の単独元素の蒸発源を用意し、これら蒸発
源に加える出力（印加電圧）を制御して蒸発スピードを
コントロールし組成を制御する方法、 （４）合金を蒸発源として蒸着しながら他の元素を打ち
込む方法、 等が挙げられる。(2) A method of using a compound of nitrogen N and at least one element of each component, and an alloy of the remaining components as an evaporation source, and introducing nitrogen N into the obtained magnetic thin film, and the like. To be In addition, Fe, Co, Si that compose the magnetic thin film
As a method of adjusting the composition of each component element such as (1) Fe, Co, Si and other additives, substitution metals, etc. are weighed so as to have a predetermined ratio, and these are preliminarily used, for example, in a high frequency melting furnace, etc. A method of melting the alloy ingot to form an alloy ingot and using the alloy ingot as an evaporation source, (2) a method of preparing an evaporation source for each element of a single element, and controlling the composition by the number of these evaporation sources, (3) A method of preparing evaporation sources of individual elements of each component and controlling the output (applied voltage) applied to these evaporation sources to control the evaporation speed to control the composition. (4) Deposition with an alloy as an evaporation source. While implanting other elements, etc.
実施例１ 電解鉄、電解コバルト、金属シリコン及びアルミニウム
を原料として用い、これら各原料を秤量して分取した
後、高周波溶解炉を用いて真空中で溶解し、鋳型に流し
込んで成形して直径50mm、厚さ1mmの電極用ターゲット
を作製した。Example 1 Electrolytic iron, electrolytic cobalt, metallic silicon and aluminum were used as raw materials, and each of these raw materials was weighed and separated, then melted in a vacuum using a high-frequency melting furnace, poured into a mold and molded to obtain a diameter. An electrode target having a thickness of 50 mm and a thickness of 1 mm was produced.
上記ターゲットを用い、下記のスパッタ条件に従ってマ
グネトロン型スパッタリング装置によるスパッタリング
を行った。Using the above target, sputtering was performed by a magnetron type sputtering device under the following sputtering conditions.
スパッタ条件 RFパワー 250W ターゲット・基板間距離 35mm 基板温度 〜20℃（水冷） 到達真空度 ３×10-6Torr ガス圧力 ８×10-3Torr 膜厚 約2.8〜3.1μｍ 上記スパッタ条件に従い、不活性ガスとしてArガスを用
い、このArガスにN2を混入してスパッタリングを行っ
た。ここで、N2の混入量を分圧で制御し、このN2の割合
を変えながらスパッタリングを行い、結晶化ガラス基板
上にFe−Co−Si−Al系合金薄膜を形成した。得られたFe
−Co−Si−Al系合金薄膜を500℃,650℃で夫々１時間熱
処理（アニール）した。この熱処理によって、上記Fe−
Co−Si−Al系合金薄膜は、結晶質合金薄膜となる。Sputtering conditions RF power 250W Target-substrate distance 35mm Substrate temperature -20 ° C (water cooling) Ultimate vacuum 3 × 10 -6 Torr Gas pressure 8 × 10 -3 Torr Film thickness 2.8-3.1 μm Inert according to the above sputtering conditions Ar gas was used as a gas, and N 2 was mixed in this Ar gas for sputtering. Here, the amount of N 2 mixed was controlled by partial pressure, and sputtering was performed while changing the ratio of N 2 to form a Fe-Co-Si-Al alloy thin film on the crystallized glass substrate. Obtained Fe
The —Co—Si—Al alloy thin film was heat-treated (annealed) at 500 ° C. and 650 ° C. for 1 hour, respectively. By this heat treatment, the Fe-
The Co-Si-Al alloy thin film becomes a crystalline alloy thin film.
実施例１において、そのN2ガスの分圧を変化させた場合
の得られた膜組成と、保磁力Hcと5MHzにおける透磁率μ
5MHzと、耐蝕性を測定した結果を第２図面に示す。尚、
各組成の測定は、Ｎに関してはインナートガスディフュ
ージョン（熱伝導度）法によってその測定を行ったもの
であり、他については、EPMA（Electric Probe Micro A
nalsis）によった。また、ここで耐蝕性の測定は、測定
試料を１規定のNaCl溶液中に９時間浸漬し、表面の発錆
状態を目視観察したもので、◎印は鏡面が保たれたも
の、○印は表面に曇りが生じたもの、△印は部分的に薄
い錆が発生したものを示す。In Example 1, the film composition obtained when the partial pressure of the N 2 gas was changed, the coercive force Hc and the magnetic permeability μ at 5 MHz
The result of measuring corrosion resistance at 5 MHz is shown in the second drawing. still,
Each composition was measured by an inner gas diffusion (thermal conductivity) method for N, and EPMA (Electric Probe Micro A) for others.
nalsis). The corrosion resistance was measured by immersing the measurement sample in a 1N NaCl solution for 9 hours and visually observing the rusting state of the surface. ◎ indicates that the mirror surface was kept, ○ indicates The surface is fogged, and the mark Δ indicates that thin rust is partially generated.
尚、比較のために同図面の表中にＮを含有させないもの
についてもその測定結果を示した。For comparison, the measurement results are also shown for those containing no N in the table of the same drawing.
これら測定結果から明らかなように、本発明によるＮ含
有の軟磁性薄膜はＮを含有しない軟磁性薄膜に比して保
磁力Hcをさほど高めることなく、透磁率の向上と耐蝕性
の向上がはかられている。As is clear from these measurement results, the N-containing soft magnetic thin film according to the present invention can improve the magnetic permeability and the corrosion resistance without significantly increasing the coercive force Hc as compared with the N-free soft magnetic thin film. I'm sick.
以上述べたように、本発明による軟磁性薄膜において
は、その成分として窒素Ｎを含有していることにより、
高透磁率及び耐蝕性の向上がはかられるものであるが更
に高硬度が達成されて耐摩耗性の向上がはかられるもの
であり、このとき飽和磁束密度や保磁力等の磁気特性の
劣化も見られない。そして特に、窒素Ｎを含有すること
により比抵抗が増加し、高周波領域での渦電流損失が小
さくなることから透磁率の周波数特性が向上して10MHz
以上の高周波数領域で使用される磁気ヘッド等に対して
極めて有用となる。As described above, since the soft magnetic thin film according to the present invention contains nitrogen N as a component thereof,
Although high permeability and corrosion resistance can be achieved, even higher hardness can be achieved and wear resistance can be improved. At this time, deterioration of magnetic properties such as saturation magnetic flux density and coercive force. Can not be seen. In particular, the inclusion of nitrogen N increases the specific resistance and reduces the eddy current loss in the high frequency region.
This is extremely useful for magnetic heads and the like used in the above high frequency range.
尚、この磁性薄膜中における窒素Ｎの果たす役割につい
ては、その詳細は不明であるが、硬度が著しく向上する
ことからFeの窒化や窒化ケイ素等の高硬度粒子の生成等
も予想される。Although the details of the role played by nitrogen N in this magnetic thin film are unknown, it is expected that nitridation of Fe and generation of high hardness particles such as silicon nitride will occur because the hardness is remarkably improved.
また、上述の本発明による軟磁性薄膜において、更に耐
蝕性や耐摩耗性そのほか各種特性を改善するために各種
元素を添加剤として加えてもよい。この添加剤として使
用される元素としては、Ti,Zr,Hf等のIVa族元素、V,Nb,
Ta等のVa族元素、Cr,Mo,W等のVIa族元素、Mn等のVIIa族
元素、さらに白金族元素として第５周期の白金族元素、
すなわちRu,Rh,Rd、第６周期の白金族元素、すなわちO
s,Ir,Pt等を挙げることができるものであり、これら添
加剤の１種または２種以上を組み合わせて、上記磁性薄
膜に対して０〜100重量％の範囲で添加し得る。Further, in the above-mentioned soft magnetic thin film according to the present invention, various elements may be added as an additive in order to further improve various properties such as corrosion resistance and abrasion resistance. As the element used as this additive, Ti, Zr, IVa group elements such as Hf, V, Nb,
Va group element such as Ta, VIa group element such as Cr, Mo, W, VIIa group element such as Mn, and platinum group element of the fifth period as a platinum group element,
That is, Ru, Rh, Rd, platinum group element of the 6th period, that is, O
s, Ir, Pt and the like can be mentioned, and one or more of these additives can be combined and added in the range of 0 to 100% by weight with respect to the magnetic thin film.
また、或る場合は、窒素Ｎと共に酸素を含有させること
もできる。Further, in some cases, oxygen can be contained together with nitrogen N.
〔発明の効果〕 上述したように本発明による軟磁性薄膜によれば、飽和
磁束密度の低下や、保磁力を高めることなく、高透磁率
を有し、耐蝕性にすぐれ、高硬度の耐摩耗性にすぐれ、
更にアモルファス磁性薄膜におけるような熱的に不安定
性のない耐熱性にすぐれた軟磁性薄膜を得ることができ
るので、例えば高密度記録用の膜薄磁気ヘッドの薄膜磁
気コアとして用いて、その利益は極めて大である。[Effects of the Invention] As described above, according to the soft magnetic thin film of the present invention, the saturation magnetic flux density is not lowered, and the coercive force is not increased, the magnetic permeability is high, the corrosion resistance is excellent, and the wear resistance is high. Excellent in sex,
Furthermore, it is possible to obtain a soft magnetic thin film that is not thermally unstable and is excellent in heat resistance as in an amorphous magnetic thin film. Therefore, for example, when used as a thin film magnetic core of a thin film magnetic head for high density recording, its profit It is extremely large.
図は軟磁性薄膜の組成と各特性の測定結果を示す表図で
ある。The figure is a table showing the composition of the soft magnetic thin film and the measurement results of each characteristic.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 落合 祥隆 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 松田 秀樹 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 岩崎 洋 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 阿蘇 興一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−27941（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−47817（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yoshitaka Ochiai 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Hideki Matsuda 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Hiroshi Iwasaki 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Koichi Aso 6-735 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni -Incorporated (56) Reference JP 58-27941 (JP, A) JP 54-47817 (JP, A)
Claims (1)
素Ｎが添加されて構成され、Coが0.5〜15原子％、Siが
９〜17原子％、Alが７〜15原子％、窒素Ｎが１〜10原子
％、残部Feの組成を有することを特徴とする軟磁性薄
膜。1. A crystalline alloy thin film containing Fe, Co, Si and Al to which nitrogen N is added, wherein Co is 0.5 to 15 atom%, Si is 9 to 17 atom%, and Al is 7 to 15 atom. %, Nitrogen N is 1 to 10 atom%, and the balance is Fe.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60230466A JPH0746654B2 (en) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Soft magnetic thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60230466A JPH0746654B2 (en) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Soft magnetic thin film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6289310A JPS6289310A (en) | 1987-04-23 |
| JPH0746654B2 true JPH0746654B2 (en) | 1995-05-17 |
Family
ID=16908273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60230466A Expired - Lifetime JPH0746654B2 (en) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | Soft magnetic thin film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0746654B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070098977A1 (en) * | 2005-10-27 | 2007-05-03 | General Electric Company | Soft magnetic materials and methods of making |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5447817A (en) * | 1977-09-26 | 1979-04-14 | Hitachi Metals Ltd | High permeability alloy |
| JPH06104870B2 (en) * | 1981-08-11 | 1994-12-21 | 株式会社日立製作所 | Method for producing amorphous thin film |
-
1985
- 1985-10-16 JP JP60230466A patent/JPH0746654B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6289310A (en) | 1987-04-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |