JPH0743849B2 - Magneto-optical disk manufacturing method - Google Patents
Magneto-optical disk manufacturing methodInfo
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- JPH0743849B2 JPH0743849B2 JP61018365A JP1836586A JPH0743849B2 JP H0743849 B2 JPH0743849 B2 JP H0743849B2 JP 61018365 A JP61018365 A JP 61018365A JP 1836586 A JP1836586 A JP 1836586A JP H0743849 B2 JPH0743849 B2 JP H0743849B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、光磁気ディスクの製造方法において、光磁気
記録媒体の酸化を防止するため、炭化物と希土類金属と
を同時にスパッタリングすることにより上記記録媒体の
保護膜を作製するようにしたものである。このようにす
れば、上記炭化物中の酸素を上記希土類金属でトラップ
することができるので、記録媒体の酸化を防止し、長寿
命化を測ることができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Outline] The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical disk, wherein a protective film for the recording medium is formed by simultaneously sputtering a carbide and a rare earth metal in order to prevent oxidation of the magneto-optical recording medium. Is produced. By doing so, oxygen in the carbide can be trapped by the rare earth metal, so that oxidation of the recording medium can be prevented and the life can be extended.
本発明は、光磁気ディスクの製造方法、特には光磁気記
録媒体の酸化防止のための保護膜の製造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical disk, and more particularly to a method for manufacturing a protective film for preventing oxidation of a magneto-optical recording medium.
レーザ光を照射して情報の消去、記録及び再生を行う光
磁気ディスクは、大容量ファイルとして期待されてい
る。しかし、光磁気記録媒体として使用される材料は、
非常に活性である希土類金属を含むため、酸化等により
劣化しやすい。従って、上記光磁気ディスクの実用化の
ためには、上記記録媒体の寿命を保証することが必須で
あり、そのため、上記記録媒体を保護するための保護膜
の開発が急がれている。A magneto-optical disk that irradiates a laser beam to erase, record and reproduce information is expected as a large capacity file. However, the material used as the magneto-optical recording medium is
Since it contains a very active rare earth metal, it is easily deteriorated by oxidation or the like. Therefore, in order to put the magneto-optical disk into practical use, it is essential to guarantee the life of the recording medium. Therefore, development of a protective film for protecting the recording medium is urgently needed.
上記光磁気ディスクは、一般にPMMA等でできた基板上
に、希上類金属および遷移金属（Tb、Fe、Co、等）の記
録膜を真空蒸着もしくはスパッタリング等で成膜し、そ
の上から保護膜を形成することによりできている。上記
保護膜の材料としては、従来から、SiO、AlN等で代表さ
れる酸化物や窒化物の他、TiC等の炭化物が検討されて
きた。その中でも炭化物は、それ自体で上記記録膜中の
希土類元素を酸化するという性質が、上記酸化物ほど顕
著でないため、保護膜の材料として特に注目されてい
る。The above magneto-optical disk is generally formed by depositing a recording film of a rare metal and a transition metal (Tb, Fe, Co, etc.) on a substrate made of PMMA or the like by vacuum deposition or sputtering, and protecting it from that. It is made by forming a film. As materials for the protective film, oxides and nitrides represented by SiO, AlN, and the like, and carbides such as TiC have been studied. Among them, carbides are particularly noteworthy as a material for the protective film because the property of themselves oxidizing the rare earth elements in the recording film is not so remarkable as that of the oxides.
上記炭化物で保護膜を作製する方法としてスパッタリン
グがある。ところが、炭化物をスパッタリングすると、
その過程において、残留ガス成分である酸素が炭化物膜
中に取込まれてしまう。このようにして保護膜中に酸素
が存在すると、その酸素によって記録媒体中の希土類金
属が選択的に酸化されることにより、記録媒体の保磁力
が変化してしまうという問題が生じる。このように、炭
化物でできた保護膜は上述したような利点はあるが、ま
たその保護効果は万全ではない。Sputtering is a method of forming a protective film from the above carbide. However, when carbide is sputtered,
In the process, oxygen which is a residual gas component is taken into the carbide film. Thus, when oxygen is present in the protective film, the oxygen causes the rare earth metal in the recording medium to be selectively oxidized, which causes a problem that the coercive force of the recording medium changes. Thus, although the protective film made of carbide has the above-mentioned advantages, the protective effect is not perfect.
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、記録媒体の酸化を
防止して長寿命化を実現できる、光磁気ディスクの製造
方法を提供することを目的とする。In view of the above-mentioned conventional problems, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a magneto-optical disk, which can prevent oxidation of a recording medium and realize a long life.
本発明は、上記目的を達成するために、炭化物からなる
ターゲットと希土類金属からなるターゲットとを用い
て、これら炭化物と希土類金属とを同時に光磁気記録媒
体上にスパッタリングすることにより、光磁気記録媒体
の保護膜を作製するようにしたものである。In order to achieve the above object, the present invention uses a target made of a carbide and a target made of a rare earth metal, and simultaneously sputters the carbide and the rare earth metal on the magneto-optical recording medium to obtain a magneto-optical recording medium. The protective film is prepared.
希土類金属は、他の金属に比べて非常に酸化されやす
い。そのため、保護膜を作製する際、希土類金属を炭化
物と同時にスパッタリングすると、残留ガス中の酸素を
上記希土類金属がトラップし、もしくは上記希土類金属
がそのまま炭化物膜中に入って膜中の酸素をトラップす
るので、そのトラップされた酸素は安定な希土類酸化物
として炭化物膜中に存在することになる。従って、保護
膜中の酸素による記録媒体への影響がなくなり、すなわ
ち酸化が防止される。Rare earth metals are much more susceptible to oxidation than other metals. Therefore, when a rare earth metal is sputtered at the same time as a carbide when forming a protective film, the rare earth metal traps oxygen in the residual gas, or the rare earth metal enters the carbide film as it is and traps oxygen in the film. Therefore, the trapped oxygen is present in the carbide film as a stable rare earth oxide. Therefore, the influence of oxygen in the protective film on the recording medium is eliminated, that is, oxidation is prevented.
以下、本発明の実施例について、図面を参照うしながら
説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例を説明するための概略的な
製造段階図である。FIG. 1 is a schematic manufacturing stage diagram for explaining one embodiment of the present invention.
まず同図（ａ）に示すように、ガラス等でできた透明な
ディスク状の基板１を用意し、これを不図示の基板ホル
ダー上に固定する。次に、この基板１上に、同図（ｂ）
に示すように、Tb、Fe、Co、等の光磁気記録材料ででき
た記録膜２をスパッタリングで形成する。続いて、Tic
等の炭化物とDy等の希土類金属とを同時にスパッタリン
グすることにより、同図（ｃ）に示すように、上記記録
膜２上に保護膜３を形成する。この保護膜３のスパッタ
リングは、例えば第２図に示すように、上記炭化物（例
えばTiC）でできたディスク状のターゲット４を記録膜
２の上方に所定距離で配置し、このターゲット４上に上
記希土類金属（例えばDy）の複数個のチップ５を所定の
面積比（例えばターゲット４対チップ５を10対１）に並
べて行う。First, as shown in FIG. 3A, a transparent disc-shaped substrate 1 made of glass or the like is prepared and fixed on a substrate holder (not shown). Next, on this substrate 1, the same figure (b)
As shown in, the recording film 2 made of a magneto-optical recording material such as Tb, Fe, Co, etc. is formed by sputtering. Then, Tic
The protective film 3 is formed on the recording film 2 as shown in FIG. 2C by simultaneously sputtering a carbide such as Al and a rare earth metal such as Dy. For example, as shown in FIG. 2, the sputtering of the protective film 3 is carried out by disposing a disk-shaped target 4 made of the above-mentioned carbide (for example, TiC) above the recording film 2 at a predetermined distance, and on the target 4. A plurality of chips 5 of rare earth metal (for example, Dy) are arranged in a predetermined area ratio (for example, target 4 to chip 5 10: 1).
上記保護膜３の作製中は、前述したように、残留ガス中
の酸素を上記希土類金属がトラップし、もしくは、上記
希土類金属がそのまま炭化物の膜の中に入って膜中の酸
素をトラップする。そのため、形成された保護膜３の中
に酸素は存在せずに、その代わり安定な希土類酸化物が
存在している。従って、保護膜３中の酸素によって記録
膜２が酸化されるということはなくなる。During the production of the protective film 3, as described above, the rare earth metal traps oxygen in the residual gas, or the rare earth metal enters the carbide film as it is and traps oxygen in the film. Therefore, oxygen is not present in the formed protective film 3, but a stable rare earth oxide is present instead. Therefore, the recording film 2 is not oxidized by the oxygen in the protective film 3.
そこで、上記保護膜３による酸化防止の効果を明らかに
するため、記録膜２の保持力Hcの経時変化（初期値Hc゜
で規格化）を各試料ごとに測定してみた（第３図）。こ
こで保持力Hcは、各試料を150℃で加熱して、カールー
プから得られる保持力である。同図には、希土類金属と
してDy、炭化物としてTiCを用い、第２図中のチップ５
のターゲット４に対する面積比をそれぞれ０、1/20、1/
10とした３つの試料Ａ、Ｂ、Ｃについての測定結果を示
した。なお、スパッタリング時のArガス圧を２×10-2To
rr、RF電力を400W、ターゲット４と基板ホルダーとの距
離を50mm、保護膜３の膜厚を100nmとした。Therefore, in order to clarify the effect of the protective film 3 for preventing oxidation, the temporal change of the holding power Hc of the recording film 2 (normalized at the initial value Hc °) was measured for each sample (Fig. 3). . Here, the holding power Hc is the holding power obtained from the curl loop by heating each sample at 150 ° C. In the figure, Dy is used as the rare earth metal and TiC is used as the carbide, and the chip 5 in FIG.
Area ratio of the target to 0, 1/20, 1 /
The measurement results of three samples A, B, and C set to 10 are shown. The Ar gas pressure during sputtering should be 2 × 10 -2 To
rr, RF power was 400 W, the distance between the target 4 and the substrate holder was 50 mm, and the film thickness of the protective film 3 was 100 nm.
すると、第３図に明らかなように、Dyの比率の大きい試
料Ｃのみが、約10時間経過後でも保持力Hcの変化がな
く、一方、他の試料Ａ、Ｂは大きく変化している。ま
た、試料ＡとＢを比較してみても、Dyを全く用いない試
料Ａより、少量であるが、Dyを用いた試料Ｂの方が比較
的安定した保持力が得ているのがわかる。Then, as is clear from FIG. 3, only in the sample C having a large Dy ratio, the holding force Hc does not change even after the elapse of about 10 hours, while the other samples A and B greatly change. Further, comparing Samples A and B, it can be seen that the sample B using Dy has a relatively stable holding force, although the amount is smaller than that of Sample A using no Dy.
なお、上記保護膜の作製に使用される希土類金属として
は、上記Dyの他に、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、
Tb、Ho、Er、Tm、Yb、もしくはLuであってもよい。As the rare earth metal used for forming the protective film, in addition to Dy, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd,
It may be Tb, Ho, Er, Tm, Yb, or Lu.
また、炭化物としては、上記TiCの他に、SiC、Cr3C2、M
o2CもしくはWCを用いてもよい。Further, as the carbide, in addition to the above TiC, SiC, Cr 3 C 2 , M
o 2 C or WC may be used.
以上説明したように本発明によれば、保護膜の作製のた
めのスパッタリング時に上記保護膜内に取込まれた酸素
は、保護膜内で安定な希土類酸化物になるため、記録媒
体が酸化されることなく、従って、記録媒体の長寿命化
を実現できる。As described above, according to the present invention, the oxygen taken into the protective film at the time of sputtering for producing the protective film becomes a stable rare earth oxide in the protective film, so that the recording medium is oxidized. Therefore, the life of the recording medium can be extended.
第１図（ａ），（ｂ），（ｃ）は、本発明の一実施例を
説明するための概略的な製造段階図、 第２図は、同実施例により保護膜を作成するときのター
ゲットとチップの配置図、 第３図は、第２図中のターゲットに対するチップの比率
の異なる３つの試料Ａ、Ｂ、Ｃについて保持力の経時変
化を示す図である。 １……基板、 ２……記録膜、 ３……保護膜、 ４……ターゲット、 ５……チップ。1 (a), (b), and (c) are schematic manufacturing step diagrams for explaining an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a protective film formed in the same embodiment. FIG. 3 is a layout diagram of the target and the chip, and FIG. 3 is a diagram showing the time-dependent change in the holding force for three samples A, B, and C having different ratios of the chip to the target in FIG. 1 ... Substrate, 2 ... Recording film, 3 ... Protective film, 4 ... Target, 5 ... Chip.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 一紀 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−143460（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−38781（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazuki Naito 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited (56) References JP-A-60-143460 (JP, A) JP-A-59-38781 (JP, A)
Claims (3)
の光磁気記録媒体を用いた光磁気ディスクの製造方法に
おいて、 炭化物からなるターゲットと希土類金属からなるターゲ
ットとを用いて、該炭化物と該希土類金属とを同時に前
記光磁気記録媒体上にスパッタリングすることにより前
記光磁気記録媒体の保護膜を作製することを特徴とする
光磁気ディスクの製造方法。1. A method for manufacturing a magneto-optical disk using an amorphous magneto-optical recording medium composed of a rare earth metal and a transition metal, wherein a carbide target and a rare earth metal target are used. A method for manufacturing a magneto-optical disk, characterized in that a protective film for the magneto-optical recording medium is produced by simultaneously sputtering and the rare earth metal on the magneto-optical recording medium.
もしくはWCを用いることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の光磁気ディスクの製造方法。2. TiC, SiC, Cr 3 C 2 , Mo 2 C as the carbide
Alternatively, the method of manufacturing a magneto-optical disk according to claim 1, characterized in that WC is used.
金属としてLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Cd、Tb、Dy、
Ho、Er、Tm、Yb、もしくは、Luを用いることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項または第２項記載の光磁気ディ
スクの製造方法。3. The rare earth metal used for forming the protective film is La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Cd, Tb, Dy,
The method for manufacturing a magneto-optical disk according to claim 1 or 2, wherein Ho, Er, Tm, Yb, or Lu is used.
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP61018365A JPH0743849B2 (en) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | Magneto-optical disk manufacturing method |
| EP86402530A EP0231672B1 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-14 | Optical memory device and process for fabricating same |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61018365A JPH0743849B2 (en) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | Magneto-optical disk manufacturing method |
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|---|---|
| JPS62175947A JPS62175947A (en) | 1987-08-01 |
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ID=11969671
Family Applications (1)
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Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0315487B1 (en) * | 1987-11-06 | 1993-05-12 | Victor Company Of Japan, Limited | Cartridge for a printer system |
| JPH04105974A (en) * | 1990-08-24 | 1992-04-07 | Sony Corp | Recording apparatus |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143460A (en) * | 1983-12-13 | 1985-07-29 | Toshiba Corp | Optothermomagnetic recording medium and its production |
-
1986
- 1986-01-29 JP JP61018365A patent/JPH0743849B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62175947A (en) | 1987-08-01 |
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