JPH0742573B2 - 光照射有機薄膜作成法 - Google Patents
光照射有機薄膜作成法Info
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- JPH0742573B2 JPH0742573B2 JP61117406A JP11740686A JPH0742573B2 JP H0742573 B2 JPH0742573 B2 JP H0742573B2 JP 61117406 A JP61117406 A JP 61117406A JP 11740686 A JP11740686 A JP 11740686A JP H0742573 B2 JPH0742573 B2 JP H0742573B2
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- Japan
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- thin film
- organic
- light
- nbps
- light irradiation
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光を照射すると、色、構造、電子状態、結合
状態、極性等が変化する有機物を薄膜化する際に、機能
性薄膜とするために用いる薄膜作成法に関する。
状態、極性等が変化する有機物を薄膜化する際に、機能
性薄膜とするために用いる薄膜作成法に関する。
有機物の薄膜作成法としては、スパツタ法、真空蒸着
法、スピンコート法、デイツピング法、キヤスト法、LB
法等がある。
法、スピンコート法、デイツピング法、キヤスト法、LB
法等がある。
このうち、真空蒸着法は溶媒や、分散剤等を使用せず、
乾式(ドライ)プロセスで薄膜を作成できるため多層薄
膜や数種類の有機物を任意の割合で混合した混合薄膜を
作成することができる。
乾式(ドライ)プロセスで薄膜を作成できるため多層薄
膜や数種類の有機物を任意の割合で混合した混合薄膜を
作成することができる。
また、蒸着の際に、昇華精製過程が必然的に加わるため
に、純物質から成る薄膜を得ることができる。
に、純物質から成る薄膜を得ることができる。
しかしながら、加熱ボートで少なくとも減圧下における
沸点や、昇華点付近まで加熱しなければならず、有機物
によつては、熱分解してしまうものがあつた。また、基
板上で有機物が薄膜を形成する際、真空蒸着法では高分
子分散剤等を用いないために、結晶化が進行し、白濁化
したり、真空中ではガラス状態であつたものも、空気中
にさらすと、結晶化や、酸化等によつて、白濁化、酸化
する有機物があつた。
沸点や、昇華点付近まで加熱しなければならず、有機物
によつては、熱分解してしまうものがあつた。また、基
板上で有機物が薄膜を形成する際、真空蒸着法では高分
子分散剤等を用いないために、結晶化が進行し、白濁化
したり、真空中ではガラス状態であつたものも、空気中
にさらすと、結晶化や、酸化等によつて、白濁化、酸化
する有機物があつた。
本発明の目的は、有機物の真空蒸着法による有機薄膜作
成法において、従来技術では分解、酸化、結晶化のため
にガラス状の有機蒸着膜を得られなかつた有機物でもガ
ラス状有機蒸着膜を作製することができる真空蒸着法を
提供することにある。
成法において、従来技術では分解、酸化、結晶化のため
にガラス状の有機蒸着膜を得られなかつた有機物でもガ
ラス状有機蒸着膜を作製することができる真空蒸着法を
提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明は光照射有機薄膜作成法に
関する発明であつて、真空蒸着法による1′,3′,3′−
トリメチル−6−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾピラン
−2,2′−インドリン〕なる有機物の薄膜形成法におい
て、該有機物に紫外光を照射しながら該有機物を蒸着さ
せることを特徴とする。
関する発明であつて、真空蒸着法による1′,3′,3′−
トリメチル−6−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾピラン
−2,2′−インドリン〕なる有機物の薄膜形成法におい
て、該有機物に紫外光を照射しながら該有機物を蒸着さ
せることを特徴とする。
従来の前記有機物の真空蒸着法では、分解、酸化、結晶
化による白濁等が生じていた。しかし、本発明を用いれ
ば、光を照射することにより、有機物の色や、構造、電
子状態、結合状態、極性が変化するため、従来の技術で
は得られなかつた有機真空蒸着膜を得ることができる。
化による白濁等が生じていた。しかし、本発明を用いれ
ば、光を照射することにより、有機物の色や、構造、電
子状態、結合状態、極性が変化するため、従来の技術で
は得られなかつた有機真空蒸着膜を得ることができる。
有機物に対する光の照射は真空蒸着装置中のいかなる有
機物に対して行つてもよい。例えば、気相状態となつて
いる有機物、蒸着中の加熱ボート上にある有機物に対し
て行つてよい。
機物に対して行つてもよい。例えば、気相状態となつて
いる有機物、蒸着中の加熱ボート上にある有機物に対し
て行つてよい。
またその光照射は透明な基板を用い基板を通して有機物
に光照射してもよい。
に光照射してもよい。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1 第1図は、実施例1で使用する光照射有機蒸着装置の断
面概略図である。第1図において符号11はベルジヤー、
12は基板、13は紫外光、14は超高圧水銀灯、15はスリツ
ト、16は試料、17は加熱ボート、18は温度コントローラ
ー、19は石英製窓を意味する。有機物としては、紫外光
照射により構造の変化する1′,3′,3′−トリメチル−
6−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−イ
ンドリン〕〔略号:NBPS〕を用いた。その構造変化を下
記式で示す。
面概略図である。第1図において符号11はベルジヤー、
12は基板、13は紫外光、14は超高圧水銀灯、15はスリツ
ト、16は試料、17は加熱ボート、18は温度コントローラ
ー、19は石英製窓を意味する。有機物としては、紫外光
照射により構造の変化する1′,3′,3′−トリメチル−
6−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−イ
ンドリン〕〔略号:NBPS〕を用いた。その構造変化を下
記式で示す。
第1図中18の温度コントローラーによつて、第1図中17
の加熱ボートを170℃にし、真空度は10-4Torr、紫外光
源として100Wの超高圧水銀灯の360nmの輝線を用いて、
光照射真空蒸着を行つた。NBPSは前記式に示すように、
紫外光を照射すると、その構造を変化させ、スピロピラ
ン形から、メロシアニン形となる。このNBPSを通常の真
空蒸着法によつて、蒸着すると、結晶化により、不透明
な薄膜しか得られなかつた。しかし、本発明による第1
図の構成の様に、紫外光を照射しながら、蒸着をする
と、NBPS分子の形がメロシアニン形となり、しかも、対
イオン形となるため、その極性も変化することから、結
晶化を防ぎ、ガラス状の透明な薄膜を得ることができ
た。第2図に通常の真空蒸着法によつて得られたNBPS薄
膜と本発明によつて、作製したNBPS薄膜のそれぞれの表
面の凸凹を接触型、表面粗さ測定器によつて調べた結果
をスペクトル図として示す。第2−1図は従来の方法で
得たNBPS薄膜の表面、第2−2図は本発明による方法で
得たNBPS薄膜の表面である。明らかに本発明による方法
で作製したNBPS薄膜の方が結晶化していないために表面
の凸凹がなく、滑らかであることが分る。また第3図に
従来の方法(破線a)と、本発明による方法(実線b)
とで得たNBPS薄膜の吸収スペクトル図〔横軸は波長(n
m)、縦軸は吸光度を示す〕を示す。基板はどちらも透
明な石英基板を用いた。従来の方法で得たNBPS薄膜は結
晶化により白濁し不透明なため、測定波長全域にわたつ
て、光の散乱による吸光度の増加が観察された。それに
対し、本発明によつて得られたNBPS薄膜は、メロシアニ
ン形による吸収以外の領域では全く吸収がなく、完全に
透明であつた。また、メロシアニン形による吸収も加熱
又は可視光照射によつて、NBPSをスピロピラン形に戻す
ことで減少し第3図、実線cに示す通り、無色透明なガ
ラス状NBPS蒸着膜を、本発明により初めて得ることがで
きた。この膜に再び、紫外光を照射すると発色し、非晶
質のまま、可逆なフオトクロミズムを示すNBPS非晶質膜
を初めて得ることができた。
の加熱ボートを170℃にし、真空度は10-4Torr、紫外光
源として100Wの超高圧水銀灯の360nmの輝線を用いて、
光照射真空蒸着を行つた。NBPSは前記式に示すように、
紫外光を照射すると、その構造を変化させ、スピロピラ
ン形から、メロシアニン形となる。このNBPSを通常の真
空蒸着法によつて、蒸着すると、結晶化により、不透明
な薄膜しか得られなかつた。しかし、本発明による第1
図の構成の様に、紫外光を照射しながら、蒸着をする
と、NBPS分子の形がメロシアニン形となり、しかも、対
イオン形となるため、その極性も変化することから、結
晶化を防ぎ、ガラス状の透明な薄膜を得ることができ
た。第2図に通常の真空蒸着法によつて得られたNBPS薄
膜と本発明によつて、作製したNBPS薄膜のそれぞれの表
面の凸凹を接触型、表面粗さ測定器によつて調べた結果
をスペクトル図として示す。第2−1図は従来の方法で
得たNBPS薄膜の表面、第2−2図は本発明による方法で
得たNBPS薄膜の表面である。明らかに本発明による方法
で作製したNBPS薄膜の方が結晶化していないために表面
の凸凹がなく、滑らかであることが分る。また第3図に
従来の方法(破線a)と、本発明による方法(実線b)
とで得たNBPS薄膜の吸収スペクトル図〔横軸は波長(n
m)、縦軸は吸光度を示す〕を示す。基板はどちらも透
明な石英基板を用いた。従来の方法で得たNBPS薄膜は結
晶化により白濁し不透明なため、測定波長全域にわたつ
て、光の散乱による吸光度の増加が観察された。それに
対し、本発明によつて得られたNBPS薄膜は、メロシアニ
ン形による吸収以外の領域では全く吸収がなく、完全に
透明であつた。また、メロシアニン形による吸収も加熱
又は可視光照射によつて、NBPSをスピロピラン形に戻す
ことで減少し第3図、実線cに示す通り、無色透明なガ
ラス状NBPS蒸着膜を、本発明により初めて得ることがで
きた。この膜に再び、紫外光を照射すると発色し、非晶
質のまま、可逆なフオトクロミズムを示すNBPS非晶質膜
を初めて得ることができた。
実施例2 第4図は実施例2で使用する光照射有機蒸着装置の断面
概略図である。第4図において、符号51は超高圧水銀
灯、52は反射ミラー、53はベルジヤー、54は基板、55は
試料、56は加熱ボート、57は温度コントローラー、58は
光線を意味する。この場合は基板に透明な石英基板を用
いているため、基板の後方から、光を照射しているが、
蒸着する側から基板に光を照射しても、同様な結果が得
られた。蒸着物質は実施例1と同じNBPSで、それ以外の
諸条件は、実施例1と同じにした。この様に基板に、直
接、紫外光を照射しても、実施例1で得られた、NBPSの
透明なガラス状蒸着膜を得ることができ、その性質も、
実施例1と同じであつた。
概略図である。第4図において、符号51は超高圧水銀
灯、52は反射ミラー、53はベルジヤー、54は基板、55は
試料、56は加熱ボート、57は温度コントローラー、58は
光線を意味する。この場合は基板に透明な石英基板を用
いているため、基板の後方から、光を照射しているが、
蒸着する側から基板に光を照射しても、同様な結果が得
られた。蒸着物質は実施例1と同じNBPSで、それ以外の
諸条件は、実施例1と同じにした。この様に基板に、直
接、紫外光を照射しても、実施例1で得られた、NBPSの
透明なガラス状蒸着膜を得ることができ、その性質も、
実施例1と同じであつた。
以上説明したように、本発明の真空蒸着法を用いること
により、従来、真空蒸着が不可能であつた有機物も蒸着
が可能となり、現在、湿式でしか薄膜が得られなかつた
有機物も乾式で薄膜化が可能となる。
により、従来、真空蒸着が不可能であつた有機物も蒸着
が可能となり、現在、湿式でしか薄膜が得られなかつた
有機物も乾式で薄膜化が可能となる。
また、光照射により、有機物が励起状態のまま、薄膜化
されるため、従来の方法で作製した薄膜では実現できな
かつた機能、例えば、有機物乾式太陽電池の作製等が可
能となる。
されるため、従来の方法で作製した薄膜では実現できな
かつた機能、例えば、有機物乾式太陽電池の作製等が可
能となる。
更にまた、実施例で示したように、従来の方法では結晶
化してしまい白濁化したNBPS膜も非晶質になり、しかも
非晶質のまま、紫外光、可視光により、可逆な色の着色
・消色、いわゆるフオトクロミズムを示すので、書換え
型の光デイスク媒体として用いることができ、非晶質の
NBPS単独の薄膜なので、高SN比を得ることができる。
化してしまい白濁化したNBPS膜も非晶質になり、しかも
非晶質のまま、紫外光、可視光により、可逆な色の着色
・消色、いわゆるフオトクロミズムを示すので、書換え
型の光デイスク媒体として用いることができ、非晶質の
NBPS単独の薄膜なので、高SN比を得ることができる。
第1図及び第4図は本発明方法で使用する光照射有機蒸
着装置の1例の断面概略図、第2−1図は従来の方法に
よるNBPS真空蒸着膜の接触型表面粗さ測定スペクトル
図、第2−2図は本発明によるNBPS真空蒸着膜の接触型
表面粗さ測定スペクトル図、第3図はNBPS真空蒸着膜の
吸収スペクトル図である。 11、53:ベルジヤー、12、54:基板、13:紫外光、14、51:
超高圧水銀灯、15:スリツト、16、55:試料、17、56:加
熱ボート、18、57:温度コントローラー、19:石英製窓、
52:反射ミラー、58:光線
着装置の1例の断面概略図、第2−1図は従来の方法に
よるNBPS真空蒸着膜の接触型表面粗さ測定スペクトル
図、第2−2図は本発明によるNBPS真空蒸着膜の接触型
表面粗さ測定スペクトル図、第3図はNBPS真空蒸着膜の
吸収スペクトル図である。 11、53:ベルジヤー、12、54:基板、13:紫外光、14、51:
超高圧水銀灯、15:スリツト、16、55:試料、17、56:加
熱ボート、18、57:温度コントローラー、19:石英製窓、
52:反射ミラー、58:光線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 舩越 宣博 茨城県那珂郡東海村大字白方字白根162番 地 日本電信電話株式会社茨城電気通信研 究所内 (56)参考文献 特開 昭61−69960(JP,A)
Claims (3)
- 【請求項1】真空蒸着法による1′,3′,3′−トリメチ
ル−6−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′
−インドリン〕なる有機物の薄膜形成法において、該有
機物に紫外光を照射しながら該有機物を蒸着させること
を特徴とする光照射有機薄膜作成法。 - 【請求項2】該光照射を、蒸着中の基板を通した紫外光
を気相状態の該有機物に対して照射することにより行う
特許請求の範囲第1項記載の光照射有機薄膜作成法。 - 【請求項3】該光照射を、蒸着中の加熱ボート上の該有
機物に対して行う特許請求の範囲第1項記載の光照射有
機薄膜作成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61117406A JPH0742573B2 (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 光照射有機薄膜作成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61117406A JPH0742573B2 (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 光照射有機薄膜作成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62274063A JPS62274063A (ja) | 1987-11-28 |
JPH0742573B2 true JPH0742573B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=14710856
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61117406A Expired - Fee Related JPH0742573B2 (ja) | 1986-05-23 | 1986-05-23 | 光照射有機薄膜作成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0742573B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2796902B2 (ja) * | 1991-04-01 | 1998-09-10 | 日本電信電話株式会社 | 光スイッチング素子 |
SG138466A1 (en) | 2000-12-28 | 2008-01-28 | Semiconductor Energy Lab | Luminescent device |
TW550672B (en) * | 2001-02-21 | 2003-09-01 | Semiconductor Energy Lab | Method and apparatus for film deposition |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6129592A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 二次元光学用パタ−ンの形成方法 |
JPS6169960A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-10 | Hitachi Ltd | 保護膜形成方法及びその装置 |
-
1986
- 1986-05-23 JP JP61117406A patent/JPH0742573B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62274063A (ja) | 1987-11-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |