JPH07287999A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH07287999A
JPH07287999A JP6081449A JP8144994A JPH07287999A JP H07287999 A JPH07287999 A JP H07287999A JP 6081449 A JP6081449 A JP 6081449A JP 8144994 A JP8144994 A JP 8144994A JP H07287999 A JPH07287999 A JP H07287999A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mos transistor
wiring
lines
screening
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6081449A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3441154B2 (ja
Inventor
Sumio Tanaka
寿実夫 田中
Hideyuki Kamata
英行 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP08144994A priority Critical patent/JP3441154B2/ja
Publication of JPH07287999A publication Critical patent/JPH07287999A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3441154B2 publication Critical patent/JP3441154B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
    • G11C11/221Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements using ferroelectric capacitors
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
    • G11C11/225Auxiliary circuits
    • G11C11/2273Reading or sensing circuits or methods
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/22Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
    • G11C11/225Auxiliary circuits
    • G11C11/2275Writing or programming circuits or methods

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】強誘電体キャパシタの絶縁膜に対してスクリー
ニングを行う場合に、スクリーニング時間の短縮、スク
リーニングコストの低減を図り得る強誘電体メモリを提
供する。 【構成】通常動作モードおよびスクリーニングモードを
有する強誘電体メモリにおいて、スクリーニングモード
時に通常動作モード時に選択されるメモリセルMCより
多数のメモリセルを同時に選択し、その強誘電体キャパ
シタCの絶縁膜の両端間に極性が交互に反転するパルス
電圧を任意の回数印加するスクリーニング回路(21、
22、23)を具備することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、特に
情報記憶用のキャパシタの絶縁膜に強誘電体を用いたメ
モリセルのアレイを有する強誘電体メモリに係り、キャ
パシタ絶縁膜(強誘電体膜)に対してスクリーニングを
行う回路に関する。
【0002】
【従来の技術】強誘電体膜は、電界が印加された時に一
旦発生した電気分極は上記電界が印加されなくなっても
残留し、上記電界とは反対方向の向きにある程度以上の
強さの電界が印加された時に分極の向きが反転する特性
を有している。この誘電体の分極の向きが反転する分極
特性に着目し、メモリセルの情報記憶用のキャパシタの
絶縁膜に強誘電体を用いて不揮発性の強誘電体メモリセ
ルを実現する技術が開発されている。
【0003】図5は、1トランジスタ・1キャパシタ構
成の強誘電体メモリセルの等価回路を示している。ここ
で、Cはペロブスカイト構造を有する強誘電体を電極間
絶縁膜に用いた情報記憶用のキャパシタ(強誘電体キャ
パシタ)、Qは上記キャパシタに直列に接続されている
電荷転送用のMOSトランジスタ、WLは上記MOSト
ランジスタのゲートに接続されているワード線、BLは
上記MOSトランジスタの一端に接続されているビット
線、PLは上記キャパシタの一端(プレート)に接続さ
れているプレート線、VPLはプレート線電圧である。
【0004】図6(a)乃至(c)および図7(a)乃
至(c)は、図5のメモリセルを2個用いた2トランジ
スタ・2キャパシタ構成の強誘電体メモリセルの書き込
み動作および読みだし動作の原理を説明するために、強
誘電体キャパシタの印加電界、電気分極の状態を示して
いる。
【0005】この強誘電体メモリセルは、ゲートにそれ
ぞれワード線WLが接続された第1のトランジスタQ1
および第2のトランジスタQ2と、プレートにそれぞれ
プレート線PLが接続された第1のキャパシタC1およ
び第2のキャパシタC2とからなり、第1のトランジス
タQ1および第1のキャパシタC1が直列に接続され、
第2のトランジスタQ2および第2のキャパシタC2が
直列に接続されている。
【0006】そして、上記第1のトランジスタQ1およ
び第2のトランジスタQ2の各一端は第1のビット線B
L1および第2のビット線BL2に接続されている。上
記ワード線WLおよびプレート線PLは平行に設けられ
ており、ワード線WLはワード線用のロウデコーダ(図
示せず)からワード線信号が供給され、プレート線PL
はプレート線用のロウデコーダ(図示せず)からプレー
ト線電圧VPLが供給される。
【0007】また、上記2本のビット線BL1、BL2
には、ビット線電位センス増幅用のセンスアンプ(図示
せず)、書き込み回路(図示せず)およびプリチャージ
回路(図示せず)が接続されている。
【0008】上記強誘電体メモリセルに対するデータの
書き込み、読み出しに際しては、選択されたメモリセル
のプレート線PLの電位を図8に示すように0V→例え
ば5V→0Vと変化させることにより、誘電分極の向き
を制御する。
【0009】即ち、書き込み動作に際しては、初期状態
では、プレート線PLを接地電位Vss(0V)に設定
し、2本のビット線ビット線BL1、BL2をそれぞれ
0Vにプリチャージしておく。
【0010】まず、図6(a)に示すように第2のビッ
ト線BL2を例えば5Vに設定し、ワード線WLに5V
を印加して2個のトランジスタQ1、Q2をオン状態に
すると、第2のキャパシタC2の両端間に電位差が生じ
て例えば図中下向きの分極が発生するが、第1のキャパ
シタC1の両端間には電位差が生じないので分極は発生
しない。
【0011】次に、図6(b)に示すように、プレート
線PLを5Vに設定にすると、第1のキャパシタC1の
両端間に電位差が生じ、図中上向きの分極が発生する
が、第2のキャパシタC2の両端間には電位差が生じな
いので分極は反転しない。これにより、2個のキャパシ
タC1、C2に図示したように互いに逆向きの分極が発
生した状態になり、この状態はデータ“1”または
“0”の書き込み状態に対応する。
【0012】次に、図6(c)に示すように、プレート
線PLを0Vに設定し、ワード線WLを0Vにして2個
のトランジスタQ1、Q2をオフ状態にする。読み出し
動作に際しては、初期状態では、プレート線PLを0V
に設定し、2本のビット線BL1、BL2をそれぞれ0
Vにプリチャージしておく。ここで、2個のキャパシタ
C1、C2には例えば図7(a)に示すような向きに分
極が発生した状態のデータが書き込まれている場合を想
定する。
【0013】まず、図7(b)に示すように、プレート
線PLを5Vに設定し、ワード線WLに例えば5Vを印
加して2個のトランジスタQ1、Q2をオン状態にする
と、第2のキャパシタC2の両端間に電位差が生じてそ
の分極の向きが反転するが、第1のキャパシタC1の両
端間には電位差が生じないので分極の向きは反転しな
い。この2個のキャパシタC1、C2からの読み出し電
位はセンスアンプによりセンス増幅され、このセンスア
ンプの出力により2本のビット線BL1、BL2は対応
して0V、5Vに設定され、上記センスアンプの出力に
基づいて読み出しデータの“1”、“0”を判別する。
【0014】次に、図7(c)に示すように、プレート
線PLを0Vに設定すると、第2のキャパシタC2の両
端間に電位差が生じてその分極の向きが反転するが、第
1のキャパシタC1の両端間には電位差が生じないので
分極の向きは反転しない。
【0015】ところで、上記したような強誘電体キャパ
シタを用いたメモリセルのアレイを有する強誘電体メモ
リの製造に際して、ウエハー状態あるいはパッケージン
グ後の状態で強誘電体キャパシタの絶縁膜のスクリーニ
ングを行う場合、各メモリセルを順次選択するようにア
クセスし、選択されたセル毎に前述したような書き込
み、読み出し動作を行う動作を繰り返すと、スクリーニ
ング時間が長くなり、スクリーニングコストが高くな
る。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
強誘電体メモリは、強誘電体キャパシタの絶縁膜に対し
てスクリーニングを行う場合に、スクリーニング時間が
長くなり、スクリーニングコストが高くなるという問題
があった。
【0017】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、強誘電体キャパシタの絶縁膜に対してスクリ
ーニングを行う場合に、スクリーニング時間の短縮、ス
クリーニングコストの低減を図り得る半導体記憶装置を
提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための回路】本発明は、通常動作モー
ドおよびスクリーニングモードを有する半導体記憶装置
において、電極間絶縁膜に強誘電体を用いた情報記憶用
のキャパシタと電荷転送用のMOSトランジスタとが直
列に接続されてなるメモリセルが行列状に配列されたメ
モリセルアレイと、それぞれ同一行のメモリセルのMO
Sトランジスタのゲートに共通に接続された複数本のワ
ード線と、それぞれ同一行のメモリセルのキャパシタの
プレートに共通に接続された複数本のプレート線と、そ
れぞれ同一列のメモリセルのMOSトランジスタの一端
に共通に接続された複数本のビット線と、前記通常動作
モード時にアドレス信号に基づいて前記複数本のワード
線のうちの第1の本数のワード線を選択するワード線選
択回路と、前記通常動作モード時にアドレス信号に基づ
いて前記複数本のプレート線のうちの第1の本数のプレ
ート線を選択し、このプレート線の電圧を制御するプレ
ート線選択回路と、前記スクリーニングモード時に通常
動作モード時に選択されるメモリセルより多数のメモリ
セルを同時に選択し、その強誘電体キャパシタの絶縁膜
の両端間に極性が交互に反転するパルス電圧を任意の回
数印加するスクリーニング回路とを具備することを特徴
とする。
【0019】
【作用】スクリーニングモード時に、スクリーニング回
路は、通常モード時に選択されるメモリセルより多数の
メモリセルを同時に選択し、その強誘電体キャパシタの
絶縁膜の両端間に極性が交互に反転するパルス電圧を任
意の回数印加する。
【0020】これにより、キャパシタの強誘電体絶縁膜
を任意の回数だけ分極反転させることができ、強誘電体
膜に対するスクリーニングを効率良く実施することがで
き、スクリーニング時間の短縮、スクリーニングコスト
の低減が可能になる。
【0021】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図1は、本発明の第1実施例に係る強誘電
体メモリの一部を示している。この強誘電体メモリにお
いて、MCはそれぞれ電極間絶縁膜に強誘電体を用いた
情報記憶用の強誘電体キャパシタCと電荷転送用のMO
SトランジスタQとが直列に接続されてなる複数個の強
誘電体メモリセルであり、このメモリセルMCは行列状
に配列されてメモリセルアレイ10を構成している。
【0022】WL0、WL1、WL2…は上記メモリセ
ルアレイ10における同一行のメモリセルのトランジス
タQのゲートに共通に接続された複数本のワード線、P
L0、PL1、PL2…は上記メモリセルアレイ10に
おける同一行のメモリセルのキャパシタCのプレートに
共通に接続された複数本のプレート線、BL、/BLは
上記メモリセルアレイ10における同一列のメモリセル
のトランジスタの一端に共通に接続されたビット線であ
る。11はワード線選択回路およびプレート線選択回路
である。
【0023】上記強誘電体メモリは、通常動作モード
(以下、通常モードと記す)および前記強誘電体キャパ
シタの絶縁膜に対するスクリーニングモードを有し、さ
らに、スクリーニングモード時に、通常モード時に選択
されるメモリセルより多数のメモリセル(例えば全ての
メモリセル)を同時に選択し、その強誘電体キャパシタ
Cの絶縁膜の両端間に極性が交互に反転するパルス電圧
を任意の回数印加するスクリーニング回路を有する。
【0024】前記ワード線選択回路およびプレート線選
択回路11は、通常モード時にアドレス信号に基づいて
前記複数本のワード線WLのうちの第1の本数のワード
線を選択するワード線用ロウデコーダと、通常モード時
にアドレス信号に基づいて前記複数本のプレート線PL
のうちの第1の本数のプレート線を選択し、このプレー
ト線の電圧を制御するプレート線用ロウデコーダとを有
する。
【0025】前記スクリーニング回路は、スクリーニン
グモード用のワード線選択回路21と、プレート線電圧
印加回路22と、ビット線電圧印加回路23とからな
り、スクリーニングモード時に前記複数本(例えば全て
の本数)のプレート線PLのうちの前記第1の本数のプ
レート線より多い第2の本数のプレート線と複数本(例
えば全ての本数)のビット線BLとの間に電圧の高低関
係が交互に反転する所定の電位差を任意の回数印加する
ものである。
【0026】上記スクリーニングモード用のワード線選
択回路21は、スクリーニングモード時に前記複数本の
ワード線のうちの前記第1の本数のワード線より多い第
2の本数のワード線を同時に選択するものである。
【0027】このワード線選択回路21は、本実施例で
は、スクリーニングモード時にワード線電圧VSTW が供
給される第1の配線211と、この第1の配線211に
接続され、スクリーニングモード時にワード線電圧がメ
モリチップ外部から印加される1個のワード線電圧印加
パッド212と、このワード線電圧印加パッドと前記第
2の本数のワード線との間に接続された複数個の第1の
スイッチ用MOSトランジスタ213群と、この第1の
スイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲートに共通に接
続された第2の配線214と、この第2の配線に接続さ
れ、スクリーニングモード時に上記第1のスイッチ用M
OSトランジスタ群をオン状態に制御する制御電圧がメ
モリチップ外部から印加される1個の制御電圧印加パッ
ド215とを具備する。
【0028】前記プレート線電圧印加回路22は、スク
リーニングモード時に前記複数本のプレート線のうちの
前記第1の本数のプレート線より多い第2の本数のプレ
ート線を同時に選択し、所定の電圧振幅を有する第1の
パルス電圧を任意の回数印加するものである。
【0029】このプレート線電圧印加回路22は、本実
施例では、前記第2の本数のプレート線と第1のパルス
電圧VSTP の供給ノードN1との間に接続された複数個
の第2のスイッチ用MOSトランジスタ221群と、こ
の第2のスイッチ用MOSトランジスタ221群の各ゲ
ートに共通に接続され、スクリーニングモード時に上記
第2のスイッチ用MOSトランジスタ221群をオン状
態に制御する制御電圧VGTP が供給される第3の配線2
22とを具備する。
【0030】前記ビット線電圧印加回路23は、スクリ
ーニングモード時に前記複数本のビット線を同時に選択
し、前記第1のパルス電圧とは逆相で所定の電圧振幅を
有する第2のパルス電圧を任意の回数印加する回路であ
る。
【0031】このビット線電圧印加回路23は、本実施
例では、全てのビット線と第2のパルス電圧VSTB の供
給ノードN2との間に接続された複数個の第3のスイッ
チ用MOSトランジスタ群231と、この第3のスイッ
チ用MOSトランジスタ231群の各ゲートに共通に接
続され、スクリーニングモード時に上記第3のスイッチ
用MOSトランジスタ群をオン状態に制御する制御電圧
VGTB が供給される第4の配線232とを具備する。
【0032】なお、スクリーニングモード時に前記第3
の配線222に供給するための前記制御電圧VGTP がメ
モリチップ外部から印加される1個の制御電圧印加パッ
ド24が設けられている。また、本例では、上記制御電
圧VGTP は前記第4の配線232に供給するための前記
制御電圧VGTB としても使用される。
【0033】また、スクリーニングモード時に前記第1
のパルス電圧供給ノードN1および第2のパルス電圧供
給ノードN2に互いに逆相のパルス電圧VSTP 、VSTB
を供給するために、スクリーニングモード時にパルス電
圧VSTS がメモリチップ外部から印加される1個のパル
ス電圧印加パッド25と、このパルス電圧印加パッドと
上記第1のパルス電圧供給ノードN1との間に接続され
た1個のインバータ回路26と、前記パルス電圧印加パ
ッド25と第2のパルス電圧供給ノードとの間に接続さ
れた二段のインバータ回路271、272とが設けられ
ている。
【0034】また、前記ビット線BL、/BLにはビッ
ト線電位センス増幅用のセンスアンプ28が接続されて
いる。図2は、図1の強誘電体メモリのスクリーニング
モードにおける各部の電圧波形の一例を示している。
【0035】即ち、スクリーニングモード用のワード線
選択回路21においては、第1の配線211にワード線
電圧印加パッド212を介してワード線電圧VSTW が供
給され、第2の配線214に制御電圧印加パッド215
を介して制御電圧がVGTW が供給され、スイッチ用MO
Sトランジスタ213群はオン状態になる。これによ
り、第2の本数のワード線が同時に選択され、通常モー
ド時に選択されるメモリセルよりも多数のメモリセルが
選択される。
【0036】そして、プレート線電圧印加回路22にお
いては、第3の配線222に制御電圧印加パッド24を
介して制御電圧VGTP が供給されることにより、スイッ
チ用MOSトランジスタ221群がオン状態になり、第
2の本数のプレート線が同時に選択される。
【0037】また、ビット線電圧印加回路23において
は、第4の配線232に制御電圧VGTB (=VGTP )が
供給されることにより、スイッチ用MOSトランジスタ
232群がオン状態になり、全てのビット線が同時に選
択される。
【0038】さらに、パルス電圧印加パッド25にパル
ス電圧VSTS が印加され、インバータ回路26から第1
のパルス電圧VSTP が第1のパルス電圧供給ノードN1
に供給され、インバータ回路272から上記第1のパル
ス電圧とは逆相の第2のパルス電圧VSTB が第2のパル
ス電圧供給ノードN2に供給される。
【0039】これにより、スクリーニングモード時に
は、通常モード時に選択される本数よりも多数の本数の
プレート線と全てのビット線との間に電圧の高低関係が
交互に反転する所定の電位差を任意の回数印加する、つ
まり、上記プレート線とビット線との間にMOSトラン
ジスタQを介して接続されている強誘電体キャパシタC
の絶縁膜の両端間に極性が交互に反転するパルス電圧を
任意の回数印加することが可能になる。
【0040】従って、キャパシタCの強誘電体絶縁膜を
任意の回数だけ分極反転させることができ、強誘電体膜
のスクリーニングを効率良く実施することができ、スク
リーニング時間の短縮、スクリーニングコストの低減を
図ることができる。
【0041】なお、制御電圧VGTP 、VGTB を電源電圧
レベル以上に設定することにより、強誘電体絶縁膜に通
常モード時よりも厳しい電圧ストレスを印加することが
可能になる。
【0042】図3は、本発明の第2実施例に係る強誘電
体メモリの一部を示している。この強誘電体メモリは、
図1の強誘電体メモリと比べて、スクリーニング回路が
異なり、その他は同じであるので同一符号を付してい
る。
【0043】上記スクリーニング回路は、スクリーニン
グモード用のワード線選択回路21と、スクリーニング
モード時に前記第2の本数のプレート線に所定の電圧と
接地電位との間で変化する第1のパルス電圧を任意の回
数印加するプレート線電圧印加回路32と、スクリーニ
ングモード時に前記複数本のビット線に所定の電圧と接
地電位との間で変化する第2のパルス電圧を前記第1の
パルス電圧とは逆相の関係を有するタイミングで任意の
回数印加するビット線電圧印加回路33とを有する。
【0044】即ち、上記プレート線電圧印加回路32
は、前記スクリーニングモード時に制御電圧VSTP が供
給される第5の配線321と、この第5の配線と前記第
2の本数のプレート線との間に接続された複数個の第2
のスイッチ用MOSトランジスタ322群と、上記第2
のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲートに共通に
接続され、前記スクリーニングモード時に上記第2のス
イッチ用MOSトランジスタ群をスイッチ制御する第1
のパルス電圧VGTP が供給される第6の配線323と、
前記第2の本数のプレート線と接地電位Vssとの間に接
続された複数個の第3のスイッチ用MOSトランジスタ
324群と、上記第3のスイッチ用MOSトランジスタ
群の各ゲートに共通に接続され、スクリーニングモード
時に上記第3のスイッチ用MOSトランジスタ324群
を第2のスイッチ用MOSトランジスタ322群に対し
て相補的にスイッチ制御する第2のパルス電圧VGTPSが
供給される第7の配線325とを具備する。
【0045】また、前記ビット線電圧印加回路33は、
スクリーニングモード時に制御電圧VSTB が供給される
第8の配線331と、この第8の配線と全てのビット線
との間に接続された複数個の第4のスイッチ用MOSト
ランジスタ332群と、この第4のスイッチ用MOSト
ランジスタ群の各ゲートに共通に接続され、スクリーニ
ングモード時に上記第4のスイッチ用MOSトランジス
タ群をスイッチ制御するための第2のパルス電圧VGTB
が供給される第9の配線333と、上記全てのビット線
と接地電位Vssとの間に接続された複数個の第5のスイ
ッチ用MOSトランジスタ334群と、この第5のスイ
ッチ用MOSトランジスタ群の各ゲートに共通に接続さ
れ、スクリーニングモード時に上記第5のスイッチ用M
OSトランジスタ334群を第4のスイッチ用MOSト
ランジスタ332群に対して相補的にスイッチ制御する
ために第1のパルス電圧VGTBSが供給される第10の配
線335とを具備する。
【0046】なお、スクリーニングモード時に前記第5
の配線321に前記制御電圧VSTP、前記第8の配線3
31に前記制御電圧VSTB を例えば共通に供給するため
に1個の制御電圧印加パッド24が設けられている。
【0047】また、スクリーニングモード時に前記第6
の配線323に前記第1のパルス電圧VGTP 、第10の
配線335に前記第1のパルス電圧VGTBSを例えば共通
に供給し、前記第7の配線325に前記第2のパルス電
圧VGTPS、前記第9の配線333に前記第2のパルス電
圧VGTB を供給するために、スクリーニングモード時に
パルス電圧VSTS が印加される1個のパルス電圧印加パ
ッド25と、このパルス電圧印加パッド25と上記第6
の配線323および第10の配線335との間に接続さ
れた1個のインバータ回路26と、前記パルス電圧印加
パッド25と前記第7の配線325および第9の配線3
33との間に接続された二段のインバータ回路271、
272とが設けられている。
【0048】図4は、図3の強誘電体メモリのスクリー
ニングモードにおける各部の電圧波形の一例を示してい
る。即ち、スクリーニングモード用のワード線選択回路
21においては、第1実施例と同様に、第2の本数のワ
ード線が同時に選択され、通常モード時に選択されるメ
モリセルよりも多数のメモリセルが選択される。
【0049】そして、プレート線電圧印加回路32にお
いては、第5の配線321に制御電圧印加パッド24を
介して制御電圧SGTPが供給され、プレート線電圧印加回
路33においては、第8の配線331に制御電圧VSTB
(=VSTP )が供給される。
【0050】さらに、パルス電圧印加パッド25にパル
ス電圧VSTS が印加され、インバータ回路26から第1
のパルス電圧VGTP (=VGTBS)が第6の配線323お
よび第10の配線335に供給され、インバータ回路2
71から第2のパルス電圧VGTPS(=VGTB )が第7の
配線325および第9の配線333に供給される。
【0051】これにより、スクリーニングモード時に
は、通常モード時に選択される本数よりも多数の本数の
プレート線を選択して所定電圧VSTP を印加すると同時
に全てのビット線を接地電位に設定する状態と、通常モ
ード時に選択される本数よりも多数の本数のプレート線
を選択して接地電位に設定すると同時に全てのビット線
に所定電圧VSTB を印加する状態とが交互に繰り返すよ
うになる。つまり、上記プレート線とビット線との間に
MOSトランジスタQを介して接続されている強誘電体
キャパシタCの絶縁膜の両端間に極性が交互に反転する
パルス電圧を任意の回数印加することが可能になる。
【0052】従って、第1実施例と同様に、キャパシタ
Cの強誘電体絶縁膜を任意の回数だけ分極反転させるこ
とができ、強誘電体膜のスクリーニングを効率良く実施
することができ、スクリーニング時間の短縮、スクリー
ニングコストの低減を図ることができる。
【0053】また、制御電圧VSTP 、VSTB を電源電圧
レベル以上に設定することにより、強誘電体絶縁膜に通
常モード時よりも厳しい電圧ストレスを印加することが
可能になる。
【0054】なお、上記実施例において、スクリーニン
グモード用のワード線選択回路21に代えて、スクリー
ニングモード時に前記ワード線用ロウデコーダが前記第
2の本数のワード線を選択するようにロウデコーダ入力
あるいはロウデコーダ出力を制御する制御回路と、この
制御回路を制御するための制御信号を印加するパッドを
設けてもよい。
【0055】また、上記実施例では、1トランジスタ・
1キャパシタ構成の強誘電体メモリセルのアレイを示し
たが、図6、図7に示したような2トランジスタ・2キ
ャパシタ構成の強誘電体メモリセルのアレイを有する強
誘電体メモリにも、本発明を適用できることはいうまで
もない。
【0056】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、強誘電
体キャパシタの絶縁膜に対してスクリーニングを行う場
合に、スクリーニング時間の短縮、スクリーニングコス
トの低減を図り得る半導体記憶装置を実現することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る強誘電体メモリの一
部を示す回路図。
【図2】図1の強誘電体メモリのスクリーニングモード
における各部の電圧波形の一例を示す波形図。
【図3】本発明の第2実施例に係る強誘電体メモリの一
部を示す回路図。
【図4】図3の強誘電体メモリのスクリーニングモード
における各部の電圧波形の一例を示す波形図。
【図5】1トランジスタ・1キャパシタ構成の強誘電体
メモリセルの等価回路を示す図。
【図6】図5のメモリセルを2個用いた2トランジスタ
・2キャパシタ構成の強誘電体メモリセルの書き込み動
作の原理を説明するために強誘電体キャパシタの印加電
界および電気分極の状態を示す図。
【図7】図5のメモリセルを2個用いた2トランジスタ
・2キャパシタ構成の強誘電体メモリセルの読み出し動
作の原理を説明するために強誘電体キャパシタの印加電
界および電気分極の状態を示す図。
【図8】図6に示した書き込み動作および図7に示した
読み出し動作に際してプレート線PLに印加される電圧
波形の一例を示す波形図。
【符号の説明】
MC…強誘電体メモリセル、C…強誘電体キャパシタ、
Q…MOSトランジスタ、WL0、WL1、WL2…ワ
ード線、PL0、PL1、PL2…プレート線、BL、
/BL…ビット線、10…メモリセルアレイ、11…ワ
ード線選択回路およびプレート線選択回路、21…スク
リーニングモード用のワード線選択回路、211…第1
の配線、212…ワード線電圧印加パッド、213…第
1のスイッチ用MOSトランジスタ、214…第2の配
線、215…制御電圧印加パッド、22…プレート線電
圧印加回路、221…第2のスイッチ用MOSトランジ
スタ、222…第3の配線、23…ビット線電圧印加回
路、231…第3のスイッチ用MOSトランジスタ、2
32…第4の配線、24…制御電圧印加パッド、25…
パルス電圧印加パッド、26、271、272…インバ
ータ回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/8242 27/108 27/10 451

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 通常動作モードおよびスクリーニングモ
    ードを有する半導体記憶装置において、 電極間絶縁膜に強誘電体を用いた情報記憶用のキャパシ
    タと電荷転送用のMOSトランジスタとが直列に接続さ
    れてなるメモリセルが行列状に配列されたメモリセルア
    レイと、 それぞれ同一行のメモリセルのMOSトランジスタのゲ
    ートに共通に接続された複数本のワード線と、 それぞれ同一行のメモリセルのキャパシタのプレートに
    共通に接続された複数本のプレート線と、 それぞれ同一列のメモリセルのMOSトランジスタの一
    端に共通に接続された複数本のビット線と、 前記通常動作モード時にアドレス信号に基づいて前記複
    数本のワード線のうちの第1の本数のワード線を選択す
    るワード線選択回路と、 前記通常動作モード時にアドレス信号に基づいて前記複
    数本のプレート線のうちの第1の本数のプレート線を選
    択し、このプレート線の電圧を制御するプレート線選択
    回路と、 前記スクリーニングモード時に通常動作モード時に選択
    されるメモリセルより多数のメモリセルを同時に選択
    し、その強誘電体キャパシタの絶縁膜の両端間に極性が
    交互に反転するパルス電圧を任意の回数印加するスクリ
    ーニング回路とを具備することを特徴とする半導体記憶
    装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記スクリーニング回路は、前記スクリーニングモード
    時に前記複数本のプレート線のうちの前記第1の本数の
    プレート線より多い第2の本数のプレート線と複数本の
    ビット線との間に電圧の高低関係が交互に反転する所定
    の電位差を任意の回数印加することを特徴とする半導体
    記憶装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記スクリーニング回路は、 前記スクリーニングモード時に前記複数本のワード線の
    うちの前記第1の本数のワード線より多い第2の本数の
    ワード線を同時に選択するスクリーニングモード用のワ
    ード線選択回路と、 前記スクリーニングモード時に前記複数本のプレート線
    のうちの前記第1の本数のプレート線より多い第2の本
    数のプレート線を同時に選択し、所定の電圧振幅を有す
    る第1のパルス電圧を任意の回数印加するプレート線電
    圧印加回路と、 前記スクリーニングモード時に前記複数本のビット線を
    同時に選択し、前記第1のパルス電圧とは逆相で所定の
    電圧振幅を有する第2のパルス電圧を任意の回数印加す
    るビット線電圧印加回路とを具備することを特徴とする
    半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記スクリーニングモード用のワード線選択回路は、 前記スクリーニングモード時にワード線電圧が供給され
    る第1の配線と、 この第1の配線に接続され、上記スクリーニングモード
    時にワード線電圧が印加される1個のワード線電圧印加
    パッドと、 このワード線電圧印加パッドと前記第2の本数のワード
    線との間に接続された複数個の第1のスイッチ用MOS
    トランジスタ群と、 上記第1のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続された第2の配線と、 この第2の配線に接続され、前記スクリーニングモード
    時に上記第1のスイッチ用MOSトランジスタ群をオン
    状態に制御する制御電圧が印加される1個の制御電圧印
    加パッドとを具備することを特徴とする半導体記憶装
    置。
  5. 【請求項5】 請求項3または4記載の半導体記憶装置
    において、 前記プレート線電圧印加回路は、 前記第2の本数のプレート線と第1のパルス電圧供給ノ
    ードとの間に接続された複数個の第2のスイッチ用MO
    Sトランジスタ群と、 この第2のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続され、前記スクリーニングモード時に上記
    第2のスイッチ用MOSトランジスタ群をオン状態に制
    御する制御電圧が供給される第3の配線とを具備するこ
    とを特徴とする半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 請求項3または4記載の半導体記憶装置
    において、 前記ビット線電圧印加回路は、 全てのビット線と第2のパルス電圧供給ノードとの間に
    接続された複数個の第2のスイッチ用MOSトランジス
    タ群と、 この第2のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続され、前記スクリーニングモード時に上記
    第3のスイッチ用MOSトランジスタ群をオン状態に制
    御する制御電圧が供給される第3の配線とを具備するこ
    とを特徴とする半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 請求項3または4記載の半導体記憶装置
    において、 前記プレート線電圧印加回路は、 前記スクリーニングモード時に制御電圧が供給される第
    3の配線と、 この第3の配線と前記第2の本数のプレート線との間に
    接続された複数個の第2のスイッチ用MOSトランジス
    タ群と、 上記第2のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続され、前記スクリーニングモード時に上記
    第2のスイッチ用MOSトランジスタ群をスイッチ制御
    するパルス電圧が供給される第4の配線と、 前記第2の本数のプレート線と接地電位との間に接続さ
    れた複数個の第3のスイッチ用MOSトランジスタ群
    と、 この第3のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続され、前記スクリーニングモード時に上記
    第3のスイッチ用MOSトランジスタ群を前記第2のス
    イッチ用MOSトランジスタ群に対して相補的にスイッ
    チ制御するパルス電圧が供給される第5の配線とを具備
    することを特徴とする半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 請求項3または4記載の半導体記憶装置
    において、 前記ビット線電圧印加回路は、 前記スクリーニングモード時に制御電圧が供給される第
    3の配線と、 この第3の配線と前記全てのビット線との間に接続され
    た複数個の第2のスイッチ用MOSトランジスタ群と、 この第2のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続され、前記スクリーニングモード時に上記
    第2のスイッチ用MOSトランジスタ群をスイッチ制御
    するパルス電圧が供給される第4の配線と、 上記全てのビット線と接地電位との間に接続された複数
    個の第3のスイッチ用MOSトランジスタ群と、 この第3のスイッチ用MOSトランジスタ群の各ゲート
    に共通に接続され、前記スクリーニングモード時に上記
    第3のスイッチ用MOSトランジスタ群を前記第2のス
    イッチ用MOSトランジスタ群に対して相補的にスイッ
    チ制御するパルス電圧が供給される第5の配線とを具備
    することを特徴とする半導体記憶装置。
JP08144994A 1994-04-20 1994-04-20 半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP3441154B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08144994A JP3441154B2 (ja) 1994-04-20 1994-04-20 半導体記憶装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP08144994A JP3441154B2 (ja) 1994-04-20 1994-04-20 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07287999A true JPH07287999A (ja) 1995-10-31
JP3441154B2 JP3441154B2 (ja) 2003-08-25

Family

ID=13746718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08144994A Expired - Fee Related JP3441154B2 (ja) 1994-04-20 1994-04-20 半導体記憶装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3441154B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0928004A2 (en) * 1997-12-31 1999-07-07 Texas Instruments Inc. Ferroelectric memory
US6151243A (en) * 1998-10-28 2000-11-21 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Ferroelectric memory device having folded bit line architecture
JP2000353398A (ja) * 1999-04-28 2000-12-19 Infineon Technologies Ag 集積メモリおよびメモリに対する作動方法
JP2004039220A (ja) * 2002-07-02 2004-02-05 Agilent Technol Inc 高速化疲労試験
JP2008016091A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Toshiba Corp 強誘電体メモリの試験方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0928004A2 (en) * 1997-12-31 1999-07-07 Texas Instruments Inc. Ferroelectric memory
EP0928004A3 (en) * 1997-12-31 1999-12-15 Texas Instruments Inc. Ferroelectric memory
US6363002B1 (en) 1997-12-31 2002-03-26 Texas Instruments Incorporated Ferroelectric memory with bipolar drive pulses
US6151243A (en) * 1998-10-28 2000-11-21 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Ferroelectric memory device having folded bit line architecture
JP2000353398A (ja) * 1999-04-28 2000-12-19 Infineon Technologies Ag 集積メモリおよびメモリに対する作動方法
JP2004039220A (ja) * 2002-07-02 2004-02-05 Agilent Technol Inc 高速化疲労試験
KR100969124B1 (ko) * 2002-07-02 2010-07-09 애질런트 테크놀로지스, 인크. 집적 메모리
JP2008016091A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Toshiba Corp 強誘電体メモリの試験方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3441154B2 (ja) 2003-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6728128B2 (en) Dummy cell structure for 1T1C FeRAM cell array
US6301145B1 (en) Ferroelectric memory and method for accessing same
US5917746A (en) Cell plate structure for a ferroelectric memory
US6574135B1 (en) Shared sense amplifier for ferro-electric memory cell
US6873536B2 (en) Shared data buffer in FeRAM utilizing word line direction segmentation
US5847989A (en) Ferroelectric memory using non-remnant reference circuit
US6707700B2 (en) Nonovolatile ferroelectric memory device and driving method thereof
US5880989A (en) Sensing methodology for a 1T/1C ferroelectric memory
JP2004127496A (ja) 広い動作電圧及びセル当り複数ビット記憶を持つ強誘電体メモリ
JPH07235648A (ja) 半導体記憶装置
US5892728A (en) Column decoder configuration for a 1T/1C ferroelectric memory
JPH05266664A (ja) Dram用保持電圧回路及びビット線クランプ回路とその方法
JPH06176598A (ja) ダイナミック型半導体メモリ回路
JP3863968B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH11238388A (ja) 半導体記憶装置
JP2000011665A (ja) 強誘電体メモリ
US6438020B1 (en) Ferroelectric memory device having an internal supply voltage, which is lower than the external supply voltage, supplied to the memory cells
JP3717097B2 (ja) 強誘電体メモリ
JP3441154B2 (ja) 半導体記憶装置
US5978251A (en) Plate line driver circuit for a 1T/1C ferroelectric memory
JP3397452B2 (ja) 半導体記憶装置
US6639824B1 (en) Memory architecture
US6760247B2 (en) Methods and apparatus for flexible memory access
JPH08195079A (ja) 半導体記憶装置
JP3568876B2 (ja) 集積メモリおよびメモリに対する作動方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030603

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090620

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090620

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100620

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees