JPH07277744A - 合成石英ガラスの製造方法 - Google Patents
合成石英ガラスの製造方法Info
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Abstract
原料としてゾル−ゲル法によりゲルを得、これを乾燥、
加熱処理して合成石英ガラスを製造する方法において、
200℃から1300℃未満までの加熱処理の少なくと
も一部を分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行い、更に昇
温して1700℃以上の温度まで行う加熱処理の少なく
とも一部を分子状水素含有ガスの雰囲気下で行い、且つ
前記分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理と分
子状水素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理の間に1T
orr以下の減圧下で行う加熱処理工程を設けることを
特徴とする合成石英ガラスの製造方法。 【効果】 ガラスの気泡の発生や構造欠陥の発生を抑制
した合成石英ガラスを得ることができる。この合成石英
ガラスは特に、紫外線レーザ光を透過する光学部材とし
て優れる。
Description
置のレンズ、液晶ディスプレイ用TFT基板、プリズ
ム、ビ−ムスプリッタ、分光器等の光学部品、特に紫外
線レーザ光を透過する光学部材として応用可能な合成石
英ガラスのゾル−ゲル法による製造方法に関する。
て、ゾル−ゲル法が知られている。例えば、特開昭60
−215532号公報には、シリコンアルコキシドを用
いて合成したシリカ微粒子とシリコンアルコキシドとを
混合して合成したゲルを、乾燥、焼結、ガラス化するこ
とにより透明石英ガラス体を製造する方法が開示されて
いる。
ガラスには種々の構造欠陥等が存在し、例えば石英ガラ
スに紫外線等の短波長の光を照射した場合、ラジカル種
の発生等石英ガラスの構造変化を伴う光学特性の劣化が
起こるという問題が生じていた。従来のゾル−ゲル法に
より製造された石英ガラスにKrFエキシマレーザ光
(248nm)を照射すると、200nmから300n
mまでの波長域において光吸収量が増加し、紫外線透過
率が低下する。この現象は、石英ガラスに存在する酸素
欠乏欠陥あるいは酸素過剰欠陥が、エキシマレーザ光の
照射により、前記の紫外線波長域に吸収帯をもつラジカ
ル種に変化した結果引き起こされるとされている。更
に、エキシマレーザ光の照射により、紫外線を励起光と
する640nm付近の赤色の発光が観測される。これも
前記した酸素過剰欠陥が、エキシマレーザ光の照射によ
り、赤色の発光帯をもつラジカル種に変化した結果引き
起こされるとされている。
として、石英ガラスを水素雰囲気中で加熱して石英ガラ
スに水素を含有させ、ラジカル種等光学特性を劣化させ
る構造欠陥種の発生を抑制しようとするものがある(特
公平5−31510号公報)。ガラスを水素雰囲気中で
処理する従来の方法では、ガラス中に水素を含有させよ
うとする場合、非常に長時間又は高温度あるいは高圧力
下での処理が必要となり、効率良く、しかも安価に石英
ガラスを製造することが困難であった。
−ゲル法による石英ガラスの製造において、効果的にガ
ラス中に水素を含有させることにより紫外線レーザを照
射しても紫外線透過率の低下を抑制した気泡のない合成
石英ガラスの製造方法を提供することにある。
コキシド及びシリカ微粒子を主原料としてゾル−ゲル法
によりゲルを得、これを乾燥、加熱処理して合成石英ガ
ラスを製造する方法において、200℃から1300℃
未満までの加熱処理の少なくとも一部を分子状酸素含有
ガスの雰囲気下で行い、更に昇温して1700℃以上の
温度まで行う加熱処理の少なくとも一部を分子状水素含
有ガスの雰囲気下で行い、且つ前記分子状酸素含有ガス
の雰囲気下で行う加熱処理と分子状水素含有ガスの雰囲
気下で行う加熱処理の間に1Torr以下の減圧下で行
う加熱処理工程を設けることを特徴とする合成石英ガラ
スの製造方法である。
シドとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラ
ン等を挙げることができ、好ましくはテトラメトキシシ
ラン及びテトラエトキシシランである。
水、アルコール、アンモニアの混合溶液にシリコンアル
コキシドを滴下して合成したシリカ微粒子である。こう
して得られたシリカ微粒子はアルコール、水等の溶媒に
分散した、いわゆるシリカゾルの状態にあるが、シリカ
ゾルの溶媒を蒸発させたり、水を加える等の処理を施し
てシリカゾル中のシリカ微粒子濃度を調節することがで
きる。
キシドを主原料としてゾル−ゲル法によりゲルを得る方
法は公知の方法を採用できるが、例えば次のような方法
が好ましい。まず、シリカ微粒子を含むシリカゾルに、
酸性水溶液を加えてpHを1〜2に調節し、シリコンア
ルコキシドを適当量加える。加えたシリコンアルコキシ
ドは、酸性条件下で加水分解される。その後、塩基性水
溶液を加えてpHを4〜5に調節し、加水分解したシリ
コンアルコキシドの重合を行わせる。pHの調節を行っ
た後、速やかに、適当な容器に注いで室温で静置して固
化させ、適当な時間をかけて最高200℃まで加熱し
て、水やアルコール等の液体成分を蒸発させることによ
り、乾燥した白色のゲルが得られる。
積は、例えば数10〜1000m2/g程度である。水
やアルコール等がゲル表面やゲル内部の細孔等に吸着し
て残留しており、乾燥によってこれら残留成分を除去す
ることは極めて困難である。水やアルコール等の残留成
分は、ガラス中の気泡生成の原因となるばかりではな
く、ガラス中の構造欠陥を引き起こし、ガラスの光学特
性を劣化させる原因ともなる。そこで光学特性の優れた
ガラスを合成するには、まず前記の残留成分の除去が必
要である。本発明はこのようにして得られたゲルの加熱
処理方法に特徴がある。
ゲルを分子状酸素含有ガスの雰囲気下で加熱処理(酸素
処理ということがある)して残留成分を燃焼除去する方
法や、あるいは1Torr以下の減圧下、好ましくは
0.1Torr以下の減圧下で加熱処理(減圧処理とい
うことがある)する方法が効果的である。シリカゲルは
1300℃付近の温度でゲルの細孔が消失して緻密化す
るので、前記酸素処理や減圧処理はゲルが緻密化に至ら
ない、1300℃未満までの温度範囲で行うのがよい。
ゲルを酸素処理して残留成分を燃焼させた後、引き続い
て減圧処理を行い、ゲルの細孔中の燃焼生成物を排気す
ることで一層効果的に残留成分を除去することができ
る。例えば、900℃±100℃まで酸素処理を行った
後、連続して1100℃±100℃まで減圧処理を行う
か、好ましくは200℃から1300℃未満までの加熱
処理を酸素処理と減圧処理とを交互に1回以上づつ行う
方法により効果的に残留成分を除去することができる。
また、酸素処理や減圧処理による残留成分の除去処理は
長時間行うほど効果的であり、少なくとも100時間以
上行うことが好ましい。
活性ガス雰囲気下、あるいは減圧下で1700℃以上の
温度に加熱して石英ガラスを合成することもできるが、
紫外線を照射した際の紫外線透過率の低下を引き起こす
原因となるガラス中の構造欠陥の生成を防ぐことは困難
である。本発明において、残留成分の除去処理を行った
後の多孔質なゲルを分子状水素含有ガス雰囲気下で加熱
処理(水素処理ということがある)することにより、効
果的にゲル、あるいはガラス中に水素を含有させ、構造
欠陥の生成を防いだガラスを作製することができる。少
なくとも残留成分の除去処理を行った後、1700℃以
上の温度までの加熱処理の一部を水素処理とする。特
に、1100℃前後から1300℃前後までの温度範囲
で前記水素処理を行うと、1300℃付近でゲルの細孔
が消失して緻密化する際に、細孔中に存在する水素がゲ
ルの緻密化に伴って容易にシリカ内部に拡散するため、
最も効果的に水素を含有したガラスを作製することがで
きる。水素処理を開始する温度は低温であるほど良い
が、400℃未満の温度では前記残留成分がゲル中に残
留しており、効果的に水素処理を行うことができない。
分子状水素含有ガス雰囲気下での加熱処理は長時間行う
ほど効果的であり、少なくとも10時間以上行うことが
好ましい。
以上の温度で水素等の還元雰囲気ガス中で処理すると、
合成したガラス中に酸素欠乏欠陥が生成するため、ガラ
スに紫外線を照射した時に照射した紫外線を吸収して、
石英ガラスから例えば青色等の光を発光することがあ
る。酸素欠乏欠陥の生成に伴う青色発光の発生を抑制し
た、水素含有合成石英ガラスを製造しようとする場合
は、例えば残留成分の除去処理を施したゲルを水素処理
した後、1700℃以上までの加熱処理を不活性ガス雰
囲気下で行い石英ガラスを合成する方法が好ましい。水
素処理を行った後に酸素処理や減圧処理を行うと、ゲル
中の水素の脱離が促進されるため、水素処理を行った後
は不活性ガス雰囲気下で加熱処理することが好ましい。
ことが好ましい。使用する不活性ガスとしてはヘリウム
ガス、ネオンガス、アルゴンガス、窒素ガス等が挙げら
れるが、安価で且つシリカ中の拡散速度が水素分子より
遅い高純度のアルゴンガスが好ましい。減圧下を除く各
雰囲気の圧力は特に規定されないが、0.1〜20気圧
の範囲が好ましい。1700℃以上まで加熱した後は、
分子状水素含有ガス雰囲気下あるいは不活性ガス雰囲気
下で室温まで冷却することが好ましい。本発明により、
ゾルゲル法を用いて、特に紫外線レーザ光を透過する光
学部材として優れた合成石英ガラスを製造することがで
きる。
て、石英ガラスの前駆体である多孔質なゲルを分子状酸
素含有ガス雰囲気下で加熱処理した後、減圧下で加熱処
理して残留成分を十分に除去することにより、石英ガラ
ス中の気泡の生成や構造欠陥の生成を抑制でき、引き続
き、分子状水素含有ガス雰囲気下で加熱処理することに
より、石英ガラス中に効果的に水素を含有させることが
できる。また、石英ガラス中の水素は紫外線照射による
ラジカルの発生を抑制する効果があり、耐レーザ性が強
化され、且つ紫外線による発光を抑制した合成石英ガラ
スの製造を実現できる。
説明する。なお、以下の実施例では、シリコンアルコキ
シドより合成したシリカ微粒子を用いる場合を説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。 実施例1 水8モル/リットル、アンモニア1モル/リットル組成
のメタノール溶液中に撹拌条件下で、テトラメトキシシ
ランを前記メタノール溶液1リットルに対し1モルを滴
下し、シリカ微粒子を含むシリカゾルを合成した。シリ
カゾル中の溶媒を蒸発させることによりシリカ微粒子分
が30重量%になるよう調節した。このシリカゾルに塩
酸水溶液を加えpHを2に調節した後、撹拌条件下でテ
トラメトキシシランを加え加水分解した。さらにアンモ
ニア水溶液を加えpHを5に調節しゲル化させた。
の窒素ガスの混合ガス雰囲気下で200℃まで段階的に
加熱し、ゲルを乾燥させた。続いて900℃まで前記混
合ガス気流中にて約380時間かけて段階的に加熱し、
残留成分の除去を行った。さらに900℃から1100
℃まで、1×10-2Torr以下の減圧下で約80時間
かけて加熱した後、1100℃にて高純度水素ガスを1
0%含有するアルゴンガス約1気圧を雰囲気ガスとして
導入し、続いて1800℃まで約85時間かけて段階的
に加熱し、透明な合成石英ガラスを作成した。
ために、12mm×12mm×20mmの角柱に光学研
磨した。耐レーザ性を評価するために、照射エネルギー
密度が50〜400mJ/cm2 、総照射パルス数が1
×105 パルスの条件でKrFエキシマレーザ光をガラ
スに照射した。レーザ照射によるガラスの光学特性の変
化を評価するために、レーザ照射前後の200〜300
nmの紫外線透過率、及び紫外線励起による発光強度を
測定し、変化の有無、割合等を調べ、表1に示した。ま
た、電子スピン共鳴の手法を用いて、レーザ照射により
ガラス中に生成したラジカル種を観測した結果を表1に
示した。ガラス中の気泡の個数、及び直径を実体顕微鏡
により観察した。
様に行った。続いて1100℃にて高純度水素ガスを1
0%含有するアルゴンガス約1気圧を雰囲気ガスとして
導入し、1300℃まで約80時間かけて段階的に加熱
した。1300℃で雰囲気ガスを水素とアルゴンの混合
ガスから高純度アルゴンガス約1気圧に置換した後、1
800℃まで約5時間かけて段階的に加熱し、透明な合
成石英ガラスを作成した。ガラスの光学特性の評価、及
び耐レーザ性の評価は実施例1と同様に行った。
に行った。続いてゲルを、高純度酸素ガス2リットル/
分の速度で流通させた雰囲気下、900℃で2時間処理
した後、同温度で10-2Torr以下の減圧下で2時間
処理した。さらに1000℃、1100℃に昇温させた
時にもこの酸素処理と減圧処理を行い、900℃から1
100℃まで合計約80時間処理した。その後1100
℃にて、高純度水素ガスを10%含有する高純度アルゴ
ンガス約1気圧を雰囲気ガスとして導入し、続いて18
00℃まで約85時間かけて段階的に加熱し、透明な合
成石英ガラスを作成した。ガラスの光学特性の評価、及
び耐レーザ性の評価は実施例1と同様に行った。
様に行った。続いて1100℃にて高純度水素ガスを1
0%含有する高純度アルゴンガス約1気圧を雰囲気ガス
として導入し、1300℃まで約80時間かけて段階的
に加熱した。1300℃で雰囲気ガスを水素とアルゴン
の混合ガスから高純度アルゴンガス約1気圧に置換した
後、1800℃まで約5時間かけて段階的に加熱し、透
明な合成石英ガラスを作成した。ガラスの光学特性評
価、及び耐レーザ性の評価は実施例1と同様に行った。
と同様に行った。続いて200℃にて高純度水素ガスを
10%含有する高純度アルゴンガス約1気圧を雰囲気ガ
スとして導入し、1800℃まで約385時間かけて段
階的に加熱し、合成石英ガラスを作成した。作製された
ガラスには、直径10μmから数mmの気泡が多数存在
した。気泡の少ない部分を選択し、実施例1と同様に耐
レーザ性の評価を行った。
に行った。続いて900℃から1300℃までの加熱を
10-2Torr以下の減圧下で約150時間かけて行
い、その後高純度アルゴンガス約1気圧を雰囲気ガスと
して導入し、1800℃まで約5時間かけて段階的に加
熱し、透明な合成石英ガラスを作成した。光学特性評
価、及び耐レーザ性の評価は実施例1と同様に行った。
おいて、石英ガラスの前駆体である多孔質なゲルを分子
状酸素含有ガス雰囲気下で加熱処理した後減圧下で加熱
処理し、さらに分子状水素含有ガス雰囲気下で加熱処理
して石英ガラス中に効果的に水素を含有させることによ
り、ガラスの気泡の発生や構造欠陥の発生を抑制し、集
積回路用投影露光装置のレンズ、液晶ディスプレイ用T
FT基板、プリズム、ビ−ムスプリッタ、分光器等の光
学部品、特に紫外線レーザ光を透過する光学部材として
応用可能な合成石英ガラスを製造することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 シリコンアルコキシド及びシリカ微粒子
を主原料としてゾル−ゲル法によりゲルを得、これを乾
燥、加熱処理して合成石英ガラスを製造する方法におい
て、200℃から1300℃未満までの加熱処理の少な
くとも一部を分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行い、更
に昇温して1700℃以上の温度まで行う加熱処理の少
なくとも一部を分子状水素含有ガスの雰囲気下で行い、
且つ前記分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理
と分子状水素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理の間に
1Torr以下の減圧下で行う加熱処理工程を設けるこ
とを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。 - 【請求項2】 シリコンアルコキシド及びシリカ微粒子
を主原料としてゾル−ゲル法によりゲルを得、これを乾
燥、加熱処理して合成石英ガラスを製造する方法におい
て、200℃から900℃±100℃までの加熱処理の
少なくとも一部を分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行
い、900℃±100℃から1100℃±100℃まで
の加熱処理を1Torr以下の減圧下で行い、1100
℃±100℃から1300℃±100℃までの加熱処理
を分子状水素含有ガスの雰囲気下で行い、1300℃±
100℃から1500℃±100℃までの加熱処理を分
子状水素含有ガス又は不活性ガスの雰囲気下で行い、1
500℃±100℃から1800℃±100℃までの加
熱処理を不活性ガスの雰囲気下で行うことを特徴とする
合成石英ガラスの製造方法。 - 【請求項3】 200℃から1300℃未満までの加熱
処理を、分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行う加熱処理
と1Torr以下の減圧下で行う加熱処理とを交互に1
回以上行うことにより行う請求項1記載の合成石英ガラ
スの製造方法。 - 【請求項4】 200℃から1100℃±100℃まで
の加熱処理を、分子状酸素含有ガスの雰囲気下で行う加
熱処理と1Torr以下の減圧下で行う加熱処理とを交
互に1回以上行うことにより行い、1100℃±100
℃から1300℃±100℃までの加熱処理を分子状水
素含有ガスの雰囲気下で行い、1300℃±100℃か
ら1500℃±100℃までの加熱処理を分子状水素含
有ガス又は不活性ガスの雰囲気下で行い、1500℃±
100℃から1800℃±100℃までの加熱処理を不
活性ガスの雰囲気下で行うことを特徴とする合成石英ガ
ラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08910894A JP3702904B2 (ja) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08910894A JP3702904B2 (ja) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07277744A true JPH07277744A (ja) | 1995-10-24 |
JP3702904B2 JP3702904B2 (ja) | 2005-10-05 |
Family
ID=13961702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08910894A Expired - Lifetime JP3702904B2 (ja) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3702904B2 (ja) |
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US8733127B2 (en) | 2009-07-15 | 2014-05-27 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
WO2011007491A1 (ja) | 2009-07-15 | 2011-01-20 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
WO2011016177A1 (ja) | 2009-08-05 | 2011-02-10 | 信越石英株式会社 | シリカ容器及びその製造方法 |
US8815403B2 (en) | 2009-08-05 | 2014-08-26 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
US9145325B2 (en) | 2009-08-05 | 2015-09-29 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Silica container and method for producing the same |
WO2011045888A1 (ja) | 2009-10-14 | 2011-04-21 | 信越石英株式会社 | シリカ粉及びシリカ容器並びにそれらの製造方法 |
US8460769B2 (en) | 2009-10-14 | 2013-06-11 | Shin-Estu Quartz Products Co., Ltd. | Powdered silica, silica container, and method for producing them |
WO2013088617A1 (ja) | 2011-12-12 | 2013-06-20 | 信越石英株式会社 | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 |
US9382640B2 (en) | 2011-12-12 | 2016-07-05 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Single crystal silicon pulling silica container and manufacturing method thereof |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3702904B2 (ja) | 2005-10-05 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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