JPH07272239A

JPH07272239A - 再生専用領域を含む磁気記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH07272239A
Application number: JP5852894A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Miyamura; 芳徳宮村; Keikichi Ando; 圭吉安藤; Shinkichi Horigome; 信吉堀籠; Masaaki Futamoto; 正昭二本
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1994-03-29
Filing date: 1994-03-29
Publication date: 1995-10-20

Abstract

(57)【要約】【目的】再生専用領域を有する磁気記録媒体及びその
製造方法を提供する。【構成】表面に平坦部Ａと微細な凹凸部Ｂの配列で情
報が形成された基板１又は下地層２の上に磁性層３を設
け、磁性層３に情報に対応して相対的に保磁力の高い領
域７と相対的に保磁力の低い領域６の配列を形成する。
それを最初に強い磁界を印加して磁性層の磁化を初期方
向に配向させ、次に比較的弱い逆向きの磁界を印加して
磁性層中の保磁力の低い領域の磁化のみを反転させる処
理を行うことにより、磁気ヘッドによって再生すること
が可能な記録磁区に変換する。【効果】前記基板はスタンパ等によって大量に複製す
ることができるので、予め情報を記録した磁気記録媒体
を安価に簡易に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報を磁気ヘッドによ
って再生可能な磁区として記録する磁気記録媒体及びそ
の製造方法に関し、特に予め磁気情報が記録された再生
専用領域を有する磁気記録媒体及びその製造方法に関す
る。なお、本明細書では、予め磁気情報が記録された領
域のことを再生専用領域と称する。

【０００２】

【従来の技術】従来の磁気記録媒体は、例えば図２に示
したような断面構造を有し、金属やガラス等の平坦な基
板４０の表面に、クロム等の下地層４１、Ｃｏあるいは
その合金等の磁性層４２、カーボン等の保護層４３を順
次積層して磁気記録媒体４４としている。保護層４３
は、酸化等の腐食から磁性層４２を保護すると共に、ヘ
ッドの衝突によって磁性層４２が損傷するのを防止す
る。

【０００３】情報記録時には、図２に略示するように、
スライダ４８に取り付けられた磁気ヘッド４７により、
記録情報に応じて強度変調された記録磁界を磁気記録媒
体４４に印加すると、磁性層４２の磁化は記録磁界の方
向に向き、記録磁区が形成される。再生時には、磁気ヘ
ッド４７によって記録磁区からの漏洩磁束を検出するこ
とにより、記録磁区の有無、形状や大きさを検出して情
報再生を行うことができる。このような磁気記録媒体の
記録再生方法については、例えば、特開平４−３３９３
１５号公報に記載されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の磁気記録媒
体は、情報の記録に磁気記録ヘッドを用いた記録動作を
必要とする。一方、磁気記録媒体の利用形態の一つとし
て、辞書、百科事典、ナビゲーション用地図、映画等の
ビデオ情報、音楽等のオーディオ情報、ビデオゲーム用
のプログラムやデータなどの大容量の情報を画一的に記
録して頒布し、利用に供することが考えられる。

【０００５】しかし、従来の磁気記録媒体は、前述のよ
うに情報の記録に磁気記録ヘッドを用いた逐次記録動作
を必要とし、光ディスク等のように簡単に複製を作るこ
とができないため、情報記録に非常な時間とコストを要
する。従って、従来の技術では、予め情報が記録された
磁気記録媒体を大量に作製することは現実的ではなかっ
た。本発明は、磁気記録ヘッドを用いない簡便な記録方
法によって予め情報が記録された再生専用領域を有する
磁気記録媒体及びその製造方法を提供することを目的と
する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明においては、磁気
記録媒体の磁性層に情報に対応して相対的に保磁力の高
い領域と相対的に保磁力の低い領域の配列を形成するこ
とにより予め情報が記録された再生専用領域を形成す
る。磁気記録媒体は再生専用領域だけからなっていても
よいし、再生専用領域と共に記録再生領域を有していて
もよい。

【０００７】磁性層中の相対的に保磁力の高い領域と相
対的に保磁力の低い領域の配列は、磁気記録媒体に最初
に強い磁界を印加して磁性層の磁化を初期方向に配向さ
せ、次に比較的弱い逆向きの磁界を印加して磁性層中の
保磁力の低い領域の磁化のみを反転させる処理を行うこ
とにより、磁気ヘッドによって再生することが可能な記
録磁区に変換される。

【０００８】磁気記録媒体の磁性層中の相対的に保磁力
の高い領域と相対的に保磁力の低い領域の配列は、磁気
記録媒体の基板又はその上に設けられた下地層の表面に
平坦部と微細な凹凸部の配列を形成し、その上に磁性層
を設けることによって形成することができる。この時、
磁性層には平坦部の上方に位置する領域に相対的に保磁
力の低い領域が形成され、微細な凹凸部の上方に位置す
る領域に相対的に保磁力の高い領域が形成される。

【０００９】微細な凹凸部の凹の深さあるいは凸の高さ
の平均値は１０〜５０ｎｍの範囲であることが好適であ
り、微細な凹と凹の間隔あるいは凸と凸の間隔の平均値
は４〜６０ｎｍの範囲であることが好適である。また、
平坦部の領域及び微細な凹凸部の領域の幅及び／又は長
さは１００〜６００ｎｍの範囲とするのが望ましい。磁
性層は１層であってもよいし、複数の磁性層を積層した
ものであってもよい。磁性層を積層構造とすると、基板
側の磁性層としてノイズの小さな特性を有する磁性材料
を選択し、その上に形成される磁性層として漏洩磁束の
大きな磁性材料を選択することができるので、低ノイズ
かつ再生出力の大きな特性を有する磁性層のための磁性
材料の選択の幅が広がる。

【００１０】また、磁気記録媒体の磁性層中の相対的に
保磁力の高い領域と相対的に保磁力の低い領域の配列
は、磁気記録媒体の表面が平坦な基板又はその上に設け
られた下地層に凹状領域又は凸状領域を離散的に配置
し、その上に磁性層を設けることによって形成すること
もできる。その場合、凹状領域の深さ又は凸状領域の高
さの平均値は１０〜５０ｎｍの範囲、凹状領域の深さ又
は凸状領域の高さの半値幅の平均値は１００〜５００ｎ
ｍの範囲とするのが好ましい。

【００１１】平坦部と微細な凹凸部の領域を有する基板
は、フォトレジスト等の感光性樹脂又は電子線レジスト
等の層を形成し、レジストに所望の平坦部と微細な凹凸
部の領域のパターンを有するマスクを介して光又は電子
線を照射し、現像によりレジストの表面に微細な凹凸部
を形成して母型を作製し、この母型からスタンパを作製
し、スタンパから光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用い
て複製する、いわゆる露光法及びレプリカ作製方法によ
り作製することができる。このようにして、所望のパタ
ーンの平坦部と微細な凹凸部を有する基板を多数枚再現
性よく作製することができる。こうして作製された基板
上に従来例と同様に、下地層、磁性層及び保護層を形成
することにより、磁性層中に相対的に保磁力の高い領域
と相対的に保磁力の低い領域が配列された媒体が得られ
る。また、前記母型上に磁性層を形成することもでき
る。

【００１２】また、凹状領域又は凸状領域が離散的に配
置された基板は、下地層が設けられた又は設けられてい
ない平坦な基板表面に高エネルギービームを照射して照
射領域を凹状又は凸状に形状変化させることによって形
成することができる。

【００１３】

【作用】図３に基板又は下地層の表面粗さと、その上に
形成された磁性層の保磁力との関係を示す。図３から明
らかなように、表面粗さが粗くなると保磁力が高くな
る。例えば、下地層表面の微細な凹凸の凹と凹の間隔あ
るいは凸と凸の間隔の平均値が３〜５ｎｍの時、その上
に形成された磁性層の保磁力は約１０ｋＯｅとなり、下
地層表面の凹凸が２０〜３０ｎｍの時、その上に形成さ
れた磁性層の保磁力は１２ｋＯｅとなる。

【００１４】このため、基板又はその上に設けられた下
地層の表面に平坦部と微細な凹凸部をディジタル情報に
対応させて形成し、その上に磁性層を設けると、基板又
は下地層表面の平坦部の上方に位置する領域には相対的
に保磁力の低い領域が形成され、微細な凹凸部の上方に
位置する領域には相対的に保磁力の高い領域が形成され
る。次に、この磁気記録媒体に対して最初に強い磁界を
印加して磁性層の磁化を初期方向に配向させ、次に比較
的弱い逆向きの磁界を印加すると、保磁力の低い領域の
磁化のみが反転されて、磁性層中の相対的に保磁力の高
い領域と相対的に保磁力の低い領域の配列は通常の記録
磁区に変換され、磁気ヘッドによって再生することが可
能となる。

【００１５】基板表面に微細な凹凸部の代わりに凹状領
域又は凸状領域を設け、その凹状領域の深さ又は凸状領
域の高さの平均値を１０〜５０ｎｍの範囲、凹状領域の
深さ又は凸状領域の高さの半値幅の平均値を１００〜５
００ｎｍの範囲としても、その凹状領域又は凸状領域の
上方の磁性層領域の保磁力を相対的に高めることが可能
である。

【００１６】また、記録磁区の大きさは、基板又はその
上に設けられた下地層の表面に形成した平坦部と微細な
凹凸部、又は凹状領域又は凸状領域の大きさによって決
定されるので、その平坦部、微細な凹凸部、又は凹状領
域又は凸状領域の大きさを小さくすることによって高密
度記録が可能となる。表面に微細な凹凸部及び平坦部を
所望のパターンで有する基板は、スタンパ等によって大
量に複製することができる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。〔実施例１〕図１に、本発明による磁気記録媒体の一実
施例の概略断面を示す。本実施例の再生専用領域を含む
磁気記録媒体は、本来平坦なディスク状基板１の表面に
後述の方法により、所望のパターンで平坦部Ａと微細な
凹凸部Ｂを設け、その上に下地層２、磁性層３及び保護
層４からなる磁気記録媒体５を形成したものである。

【００１８】基板上に設けた微細な凹凸部Ｂの凹の深さ
又は凸の高さの平均値は約３０ｎｍ、微細な凹凸の凹と
凹あるいは凸と凸の間隔は約５０ｎｍとした。この平坦
部Ａと微細な凹凸部Ｂは、ディスク状基板１の表面に螺
旋状に設けられた幅２μｍのトラック上に配列し、平坦
部Ａは長さ０．５μｍを１単位とし、平坦部Ａと微細な
凹凸部Ｂの配列によって情報を表した。上記微細な凹凸
部の平均高さは上記平坦部と同一面上でもよいし、平坦
部より上に位置していても下に位置していてもよい。

【００１９】磁性層３には膜厚１００ｎｍのＣｏＣｒ₂₀
等の垂直磁気記録に適した磁性材料を用いた。下地層２
としては膜厚１５０ｎｍのＣｒを用い、保護層４として
は膜厚１０ｎｍのカーボンを用いた。前述のように、磁
性層３のうち基板の平坦部Ａの上に位置する部分６は保
磁力が相対的に低くなり、微細な凹凸部Ｂの上に位置す
る部分７は保磁力が相対的に高くなる。従って、図４
（ａ）に示すように、磁気記録媒体に最初強い磁界Ｈ₁
を印加して磁性層３を一様な方向に磁化した後、図４
（ｂ）のように、保磁力が相対的に低い領域の磁化のみ
を反転できる少し弱い逆向きの磁界Ｈ₂を印加すると、
磁性層３中で保磁力が相対的に低く高感度の領域、すな
わち平坦部Ａの上に位置する磁性層の部分６にのみ記録
磁区を形成することができる。

【００２０】このように、図１の構造を有する磁気記録
媒体に、図４に示すように、最初は初期化用の強い一様
磁界を印加し、次に少し弱い逆方向の一様磁界を印加す
る２段階の磁界印加処理を行うことにより、基板１の表
面に平坦部Ａと微細な凹凸部Ｂとして形成された情報が
磁性層３中の記録磁区に変換され、磁気ヘッドによって
再生可能となる。このような方法で予め磁気情報を記録
した領域は再生専用領域として利用することができる。

【００２１】再生専用情報が辞書、百科事典、ナビゲー
ション用地図、映画等のビデオ情報、音楽等のオーディ
オ情報等、利用者が独自の情報を記録する必要がない場
合には、磁気記録媒体の全領域を再生専用領域とするの
が好ましい。一方、再生専用情報がビデオゲーム用のプ
ログラムやデータ等である場合には磁気記録媒体の一部
を再生専用領域として再生専用情報を記録し、他の領域
を記録再生領域として、利用者が所望の情報を記録した
り情報をオーバーライトできるようにしてもよい。記録
再生領域は、その領域下方の基板表面を全て平坦にし
て、その領域内の磁性層の保磁力を均一にすることによ
って形成することができる。

【００２２】表面に微細な凹凸部及び平坦部を所望のパ
ターンで有する基板は、後述のようにスタンパ等によっ
て大量に複製することができる。従って、再生専用領域
を有し、再生専用情報を予め記録した磁気記録媒体を大
量に複製することが容易にできる。本実施例では、磁性
層として垂直磁気異方性層を用いる例について説明した
が、磁性層としてＣｏＣｒＴａ，ＣｏＣｒＰｔ等の面内
方向磁気異方性層を用いてもよい。その場合、前記磁界
Ｈ₁及びＨ₂は磁性層の面内方向に印加する必要があ
る。その場合でも、印加磁界は変調磁界ではなく一様な
磁界であるので、磁界Ｈ₁あるいはＨ₂は、磁気記録媒
体を回転させながら複数のトラックあるいは全てのトラ
ックに同時に印加するようにして処理時間を短縮するこ
とができる。

【００２３】また、本実施例では微細な凹凸部及び平坦
部の配列による情報を基板１の表面に形成したが、基板
表面を平坦にし、その上に形成する下地層表面に微細な
凹凸部及び平坦部を形成しても同様に磁性層３に再生専
用情報を記録することができる。なお、記録トラックは
螺旋状ではなく同心円状としてもよい。

【００２４】〔実施例２〕図５に、本発明による磁気記
録媒体の他の実施例の概略断面を示す。本実施例の再生
専用領域を含む磁気記録媒体は、本来平坦なディスク状
基板１の表面に後述の方法により、所望のパターンで平
坦部Ｃと凹状領域Ｄを設け、その上に下地層２、磁性層
３及び保護層４からなる磁気記録媒体５を形成したもの
である。

【００２５】凹状領域の深さの平均値は１０〜５０ｎ
ｍ、凹状領域の深さの半分のところの幅の平均値は１０
０〜５００ｎｍ、凹状領域と凹状領域の間隔の平均値は
２００〜１０００ｎｍとした。磁性層３には膜厚１００
ｎｍのＣｏＣｒ₂₀等の垂直磁気記録に適した磁性材料を
用いた。下地層２としては膜厚１５０ｎｍのＣｒを用
い、保護層４としては膜厚１０ｎｍのカーボンを用い
た。

【００２６】本実施例の磁気記録媒体では、磁性層３の
うち基板１の平坦部Ｃの上に位置する部分は保磁力が相
対的に低くなり、凹状領域Ｄの上に位置する部分は保磁
力が相対的に高くなる。従って、前記実施例１と同様
に、図４（ａ）に示すように、磁気記録媒体に最初強い
磁界Ｈ₁を印加して磁性層３を一様な方向に磁化した
後、図４（ｂ）のように、保磁力が相対的に低い領域の
磁化のみを反転できる少し弱い逆向きの磁界Ｈ₂を印加
すると、磁性層３中で保磁力が相対的に低く高感度の領
域、すなわち平坦部Ｃの上に位置する磁性層の部分にの
み記録磁区を形成することができる。

【００２７】〔実施例３〕次に、本発明による再生専用
領域を有する磁気記録媒体の製造方法の一実施例を図６
により説明する。まず、厚さ１０ｍｍの透明なガラス板
１０の表面にフォトレジスト又はＸ線レジスト等の感光
性樹脂１１を塗布し、所望の平坦部と微細な凹凸部を形
成するためのパターンを有するマスク１２を介して光又
はＸ線１３を照射する（ａ）。次に、マスク１２を除去
して、現像液２３のシャワー２３であるいは現像液中に
浸積して現像することによって、光又はＸ線に照射され
た領域の感光性樹脂１１の表面に微細な凹凸部の領域１
４を形成して母型１５を作製する（ｂ）。次に、母型１
５に膜厚２０ｎｍのＡｌ−Ｔｉ合金からなる剥離層２２
を形成し（ｃ）、母型１５から光硬化あるいは熱硬化型
樹脂１６を用いて樹脂基板１７に転写して第２母型１８
を作製する（ｃ，ｄ）。さらに、第２母型１８から光硬
化あるいは熱硬化樹脂１９を用いて透明なガラス円板２
０に複製し（ｅ）、平坦部２４と微細な凹凸部の領域１
４を有する基板２１を作製する（ｆ）。

【００２８】これにより、所望のパターンの平坦部と微
細な凹凸部を有する基板を多数枚再現性よく作製するこ
とができる。また、上記の母型表面にＮｉメッキを行っ
てＮｉ製第２母型を作製し、射出成形法あるいはキャス
ティング法により微細な凹凸部を有する基板を作製して
もよい。前記レプリカ基板を走査型電子顕微鏡で観察し
た結果、上記の微細な凹凸部の凸と凸の間隔の平均値は
２０ｎｍであった。

【００２９】上記微細な凹凸部の領域の凹凸の大きさ
は、上記光又はＸ線の照射量及び現像時間を変化させる
ことにより容易に変えることができる。また、微細な凹
凸部を形成後、イオンエッチングなどを行うことにより
微細な凹凸部の凹凸形状を顕著にできる。なお、上記
（ａ）の工程で、フォトレジスト又はＸ線レジスト１１
を塗布後、マスクを介することなく直接光あるいはＸ線
を所望のパターンで照射後、現像して微細な凹凸部を形
成してもよい。

【００３０】上記基板２１に下地層として膜厚１５０ｎ
ｍのＣｒを、磁性層として膜厚１００ｎｍのＣｏＣｒ₂₂
を、保護層として膜厚１０ｎｍのカーボンを順次積層
し、図１に示す従来例と同様の構造の磁気記録媒体５を
形成し、前記実施例と同様に２段階の磁界印加処理を行
った。また、上記母型１５を作製後、これを基板として
従来と同様の積層構造の磁気記録媒体５（図１）を形成
してもよい。その場合は、図６に示すガラス板１０はあ
らかじめ表面にフォトレジスト又はＸ線レジスト１１を
塗布し、所望の平坦部と微細な凹凸部を形成するための
パターンを有するマスク１２を介して光又はＸ線１３を
照射する。それを現像２３することによって光又はＸ線
に照射された領域のフォトレジスト又はＸ線レジスト１
１の表面に微細な凹凸部の領域１４を形成し、これを基
板とする。

【００３１】この場合にも、上記フォトレジスト又はＸ
線レジスト１１を塗布後、上記マスク１２を介すること
なく、光又はＸ線１３を照射し、現像することによって
光又はＸ線に照射された領域のフォトレジスト又はＸ線
レジスト１１の表面に微細な凹凸部の領域１４を形成
し、これを基板としてもよい。上記のレプリカ基板を製
造する工程の剥離を確実に行うための剥離層としては、
Ａｌ−Ｔｉ合金の他にもＡｌ，Ｔｉ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃ
ｕ，Ｐｔ，Ｒｈ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｎｂ，Ｚｒ
及びＳｉから選ばれる少なくとも一種を用いることがで
きる。さらに、必要により剥離剤（例えばシリコンオイ
ル、カルコゲン化合物、すなわちＴｅ，Ｓｅ，Ｓのうち
少なくとも一者を含む混合物又は化合物等）を蒸着等の
方法でコーティングしても同様の効果がある。

【００３２】また、第２母型用のプラスチック基板の表
面に剥離層として下地を用いると良い。下地としてはＳ
ｉＯ₂，Ｓｉ₃Ｎ₄等の酸化物、窒化物等が好ましい。
本実施例では、基板材料としてガラスを用いたが、基板
はアルミ等の金属基板としてもよい。

【００３３】〔実施例４〕下地層の表面に平坦部と微細
な凹凸部を形成して情報を書き込み、その上に磁性層を
形成することによって磁性層に記録磁区を形成した。表
面に平坦部と微細な凹凸部を有する下地層は、下地層の
上にフォトレジスト又はＸ線レジスト等の感光性樹脂層
を形成し、パターン照射及び現像によつてレジストの表
面に所望の形状の微細な凹凸部を形成し、そのレジスト
をマスクとしてイオンエッチングすることにより作製す
る。

【００３４】本実施例による下地層の製造工程を図７に
示す。ガラスからなる基板１上にスパッタリング法等に
よりＣｒからなる下地層３０を、例えば膜厚１５０ｎｍ
に形成する。次に、下地層３０の表面にフォトレジスト
又はＸ線レジスト１１を塗布し、所望の平坦部と微細な
凹凸部を形成するためのパターンを有するマスク１２を
介して光又はＸ線１３を照射し（ａ）、現像液のシャワ
ー２３でレジストの表面層を現像することによって光又
はＸ線に照射された領域のフォトレジスト又はＸ線レジ
スト１１の一部を除去し、微細な凹凸部を有するレジス
トマスク３１を形成する（ｂ）。次に、レジストマスク
３１をマスクとしてイオンエッチング３２して（ｃ）、
下地層３０の表面に微細な凹凸部３６及び平坦部３３を
形成する（ｄ）。

【００３５】こうして、所望のパターンの平坦部と微細
な凹凸部を表面に有する下地層を形成できる。上記下地
層に従来例と同様の方法で膜厚３０ｎｍのＣｏＣｒＰｔ
からなる磁性層を形成し、さらに、ダイヤモンド構造の
カーボンからなる保護層を形成して磁気記録媒体を作製
した。これにより、磁気記録媒体の磁性層には下地層の
平坦部と微細な凹凸部に対応して保磁力が異なる領域が
得られる。したがって、磁気記録媒体を回転させながら
最初トラック方向に強い磁界を印加し、次にトラック方
向逆向きに弱い磁界を印加する２段階の磁界印加処理を
行って磁気記録媒体に記録磁区を形成した。

【００３６】なお、前記工程ｂにおけるレジストマスク
３１は、フォトレジスト又はＸ線レジスト１１を塗布
後、マスク１２を介することなく直接光あるいはＸ線を
所望のパターンで照射した後、現像することによって形
成してもよい。

【００３７】〔実施例５〕表面に平坦部と微細な凹凸部
を有する下地層の製造工程の他の実施例を図８に示す。
本実施例では、表面全体に微細な凹凸を有する下地層を
スパッタリング法等により形成し、後にその一部をイオ
ンエッチングして平坦化することにより平坦部と微細な
凹凸部とを形成する。図８に示すように、ガラス等の基
板１上にスパッタリング法等により表面に微細な凹凸を
有するＣｒ等の下地層３４を、例えば膜厚１５０ｎｍに
形成する。次に、下地層３４の表面にフォトレジスト又
はＸ線レジスト１１を塗布し、所望の平坦部と微細な凹
凸部を形成するためのパターンを有するマスク１２を介
して光又はＸ線１３を照射し（ａ）、現像液のシャワー
２３により現像することによって光に照射された領域の
フォトレジスト又はＸ線レジスト１１を除去して、レジ
ストマスク３５を形成する（ｂ）。次に、このレジスト
マスクク３５をマスクとしてイオンエッチング３２して
（ｃ）、下地層３４の表面に平坦部３３と微細な凹凸部
３６を形成する（ｄ）。

【００３８】これにより、所望のパターンの平坦部と微
細な凹凸部を表面に有する下地層を形成できる。上記下
地層に従来例と同様の方法でＣｏＣｒＰｔからなる膜厚
３０ｎｍの磁性層を形成し、さらに、ダイヤモンド構造
のカーボンからなる保護層を形成して磁気記録媒体を作
製した。こうして、磁気記録媒体の磁性層には下地層の
平坦部と微細な凹凸部に対応して保磁力が異なる領域が
得られる。したがって、前記実施例と同様に磁気記録媒
体を回転させながら最初トラック方向に強い磁界を印加
し、次にトラック方向逆向きに弱い磁界を印加する２段
階の磁界印加処理を行うことにより、磁気記録媒体に記
録磁区が形成される。

【００３９】なお、前記工程ｂにおけるレジストマスク
３１は、フォトレジスト又はＸ線レジスト１１を塗布
後、マスク１２を介することなく直接光あるいはＸ線を
所望のパターンで照射し後、現像することによって形成
してもよい。

【００４０】〔実施例６〕表面に平坦部と微細な凹凸部
を有する基板の製造工程の他の実施例を図９に示す。本
実施例は、基板上に熱によって形状が変化する無機材料
や有機材料の薄膜を形成し、その上に金属材料の薄膜を
形成する。次に、金属材料の薄膜の表面全体をイオンエ
ッチングして、上記熱によって形状変化する薄膜の表面
に微細な凹凸を形成する。その後、熱によって形状変化
する薄膜の表面に光あるいはＸ線を照射して所望の形状
の平坦部の領域を形成するものである。

【００４１】図９に示すように、ガラス等の基板１上に
スパッタリング法等により、熱的に形状変化する薄膜６
１として、例えばＧｅＳｂＴｅを膜厚１００ｎｍに形成
し、その上にマスク材６２として粒状の金属薄膜、例え
ばＴｉ膜を膜厚２０ｎｍに形成する。次に、上記マスク
材６２の表面をイオンエッチング６３して（ａ）、マス
ク材６２の表面全体を順次除去することにより、上記薄
膜６１の表面に上記マスク材６２の金属薄膜の粒状に対
応した微細な凹凸を形成する（ｂ）。次に、上記微細な
凹凸を有する薄膜６１の表面に光を収束したレーザ光を
照射して、照射部分を熱的に融解して形状変化させて平
坦にし（ｃ）、所望のパターンの平坦部の領域６５と微
細な凹凸部の領域６６を形成し母型とする（ｄ）。以
後、前記実施例３に示した第２母型作製工程と基板作製
工程により基板を作製する。

【００４２】こうして、所望のパターンの平坦部と微細
な凹凸部を表面に有する基板を形成できる。この基板上
に直接あるいはＣｒ等の下地層を介して膜厚３０ｎｍの
ＣｏＣｒ₁₅Ｔａ₄からなる磁性層を形成し、さらに、カ
ーボン保護層を形成して磁気記録媒体を作製した。これ
により、磁気記録媒体に基板の平坦部及び微細な凹凸部
に対応して保磁力が異なる領域が得られる。したがっ
て、前記実施例と同様に磁気記録媒体を回転させながら
最初トラック方向に強い磁界を印加し、次にトラック方
向逆向きに弱い磁界を印加する２段階の磁界印加処理を
行うことにより、磁気記録媒体に記録磁区が形成され
る。

【００４３】上記熱的に形状変化する薄膜としては、低
融点材料が好ましく、上記ＧｅＳｂＴｅの成分元素うち
の少なくとも一つを、Ｃｕ，Ｚｎ，Ｇａ，Ａｓ，Ｓｅ，
Ａｇ，Ｃｄ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｂａ，Ａｕ，Ｔｌ，Ｐｂ及び
Ｂｉの少なくとも一者に置き換えた材料でもよいし、合
金又は化合物でもよい。また、上記マスク材のＴｉの一
部又は全部をＡｌ，Ｓｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃ
ｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｇｅ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔ
ｃ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔ
ｅ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕ，
Ｔｌ，Ｐｂ，Ｂｉ又はＣに置き換えても同様の微小凹凸
を形成できる。この場合，融点の高い金属ほど微小凹凸
の間隔を小さく出来き、融点の低い金属ほど微小凹凸の
間隔を大きくできる。

【００４４】上記所望のパターンの平坦部と微細な凹凸
部を有する基板を作製する工程において、上記マスク材
６２の表面をイオンエッチング６３して、マスク材６２
の表面全体を順次除去し、上記薄膜６１の表面に微細な
凹凸を形成後、所望のパターンの平坦部を形成するため
のマスクを介して、上記薄膜６１の照射部分を熱的に形
状変化させて平坦にし、所望のパターンの平坦部の領域
６５と微細な凹凸部の領域６６を形成し母型としてもよ
い。また、上記薄膜６１の表面を熱的に形状変化させた
ものを基板として直接用いてもよい。

【００４５】〔実施例７〕表面に平坦部と凹状領域を有
する基板の製造工程の他の実施例を図１０に示す。本実
施例は、高いエネルギービームを照射して、照射領域を
凹状に形状変化させることにより磁性層内に相対的に保
磁力の高い領域を設けるものである。図１０に示すよう
に、ガラスからなる基板１上に、下地層として膜厚１５
０ｎｍのＣｒを設けた（ａ）。次に、波長８３０ｎｍの
レーザを用い、レーザパワー１０ｍＷでレーザ７４を照
射した。このレーザ照射によって基板が熱変形を起こ
し、その形状に沿って下地層２も変形し凹状領域７５が
形成される（ｂ）。上記凹状領域７５の表面形状を原子
間力顕微鏡により測定したところ、凹状領域の半値幅
（凹状領域の直径に相当）の平均値は１００ｎｍであっ
た。続いて、ＣｏＣｒ₂₅からなる膜厚１００ｎｍの磁性
層４、カーボンからなる膜厚１０ｎｍの保護層４の順に
積層して記録媒体５を形成した（ｃ）。

【００４６】こうして、磁気記録媒体に基板の平坦部及
び凹状領域に対応して保磁力が異なる領域が得られる。
したがって、磁気記録媒体に最初強い磁界を印加して磁
性層３を一様な方向に磁化した後、保磁力が相対的に低
い領域の磁化のみを反転できる少し弱い逆向きの磁界を
印加する２段階の磁界印加処理を行うことにより、磁気
記録媒体に記録磁区が形成される。

【００４７】本実施例では、磁性層の積層前に凹凸を形
成するためのレーザ照射を行ったが、磁性層又は／及び
保護層積層後に同様の処理を行っても、本実施例と同様
の効果が得られる。上記凹状領域の深さ又は凸状領域の
高さの平均値は１０〜５０ｎｍの範囲、深さ又は高さの
半値幅の平均値は１００〜５００ｎｍの範囲が好まし
い。上記深さ又は高さの平均値が１０ｎｍ未満満では保
磁力の差が小さく、上記深さ又は高さの平均値が５０ｎ
ｍを超えるとノイズが増大する。

【００４８】〔実施例８〕図１１に、本発明による磁気
記録媒体の他の実施例の断面を示す。本実施例の磁気記
録媒体は、磁性層を垂直磁気異方性を持つ磁性層と面内
方向磁気異方性を持つ磁性層とからなる２層の積層構造
とした。基板１の表面には、情報を表す平坦部と微細な
凹凸部の配列が形成されている。その基板上にＣｒから
なる下地層を約１５０ｎｍの厚さに形成し（図示せ
ず）、その上に垂直磁気異方性を有するＣｏＣｒ₂₄等の
第１磁性層７０を約１００ｎｍの厚さに形成し、さらに
その上に、面内方向磁気異方性を有するＣｏＣｒ₁₅Ｔａ
₄等の第２磁性層７１を約２５ｎｍの厚さに順次積層
し、最後にカーボン等の保護層（図示せず）を積層して
磁気記録媒体５を作製した。

【００４９】この磁気記録媒体の全面を下向きに強く磁
化した後、全面に上向きの弱い磁界を印加すると、垂直
磁気異方性を有する第１磁性層７０は、平坦部上に形成
された保磁力の小さい領域６だけが上向きに磁化反転
し、微細な凹凸部上に形成された保磁力の大きい領域７
は下向きに強く磁化したままである。第１磁性層７０の
上の第２磁性層７１は面内方向に磁化が向きやすく、第
１磁性層７０の影響で図示したように磁化の向きの配列
ができた。これは、磁気記録媒体に磁気情報が記録され
たことを意味し、磁気ヘッドによって情報再生が可能で
ある。

【００５０】情報を表す平坦部と微細な凹凸部の配列が
形成された基板１の製作は、前記実施例の方法によって
行うことができる。本実施例のように磁性層を２層構造
にすると、平坦部と微細な凹凸部を保磁力の違いに反映
するのに適した磁性材料を第１層に選択し、漏洩磁束の
大きい磁性材料を第２磁性層として選択することで機能
分化を図ることができ、磁性材料の選択の幅が広がる。

【００５１】〔実施例９〕図１２に、本発明による磁気
記録媒体の他の実施例の断面を示す。本実施例の磁気記
録媒体は、磁性層を、第１磁性層７０として面内方向磁
気異方性を持つ磁性層を用い、第２磁性層７１として垂
直磁気異方性を持つ磁性層を用いた２層構造としたもの
である。

【００５２】基板１の表面には、情報を表す平坦部と微
細な凹凸部の配列が形成されている。その基板上にＣｒ
からなる下地層を約１５０ｎｍの厚さに形成し（図示せ
ず）、その上に面内方向磁気異方性を持つＣｏＣｒ₁₅Ｔ
ａ₄等の第１磁性層７０を約２５ｎｍの厚さに形成し、
さらにその上に、垂直磁気異方性を持つＣｏＣｒ₂₀等の
第２磁性層７１を約１００ｎｍの厚さに積層し、最後に
カーボン等の保護層（図示せず）を積層した。

【００５３】この磁気記録媒体５を回転させながら、そ
の全面を面内トラック方向に沿って強く初期磁化した
後、全面をトラック方向逆向きに弱く磁化すると、面内
方向磁気異方性を有する第１磁性層７０は平坦部上に形
成された保磁力の小さい領域６だけが磁化反転し、微細
な凹凸部上に形成された保磁力の大きい領域７は強く初
期磁化したままである。第１磁性層７０の上の第２磁性
層７１は垂直方向に磁化が向きやすく、第１磁性層７０
の影響で図示したように磁化の向きの配列ができ、磁気
ヘッドによって情報再生が可能であった。

【００５４】〔実施例１０〕図１３に、本発明による磁
気記録媒体の他の実施例の断面を示す。本実施例の磁気
記録媒体は、面内方向磁気異方性を有する磁性層を２層
積層した例である。基板１の表面には、情報を表す平坦
部と微細な凹凸部の配列が形成されている。その基板上
にＣｒからなる下地層を約１５０ｎｍの厚さに形成し
（図示せず）、その上に面内方向磁気異方性を持ちノイ
ズの小さいＣｏＣｒＰｔＳｉ等の第１磁性層７０を約１
５ｎｍの厚さに形成し、さらにその上に、面内方向磁気
異方性を有し漏洩磁束の出やすいＣｏＣｒＰｔ等の第２
磁性層７１を約１５ｎｍの厚さに積層し、最後にカーボ
ン等の保護層（図示せず）を積層した。

【００５５】この磁気記録媒体５の全面を面内トラック
方向に沿って強く初期磁化した後、全面をトラック方向
逆向きに弱く磁化すると、面内方向磁気異方性を有する
第１磁性層７０は平坦部上に形成された保磁力の小さい
領域６だけが磁化反転し、微細な凹凸部上に形成された
保磁力の大きい領域７は強く初期磁化したままである。
第１磁性層７０の上の第２磁性層７１には、第１磁性層
７０の影響で図示したように第１磁性層の磁化と同じ方
向に向いた磁化の配列ができ、磁気ヘッドによって情報
再生が可能であった。

【００５６】〔実施例１１〕図１４に、本発明による磁
気記録媒体の他の実施例の断面を示す。本実施例の磁気
記録媒体は、面内方向磁気異方性を有する磁性層を非磁
性層を挟んで２層積層したものである。情報を表す平坦
部と微細な凹凸部の配列が形成されている基板１上にＣ
ｒからなる下地層を約１５０ｎｍの厚さに形成し（図示
せず）、その上に面内方向磁気異方性を持つＣｏＣｒＰ
ｔＳｉ等の第１磁性層７０を約１５ｎｍの厚さに形成
し、その上にＳｉＯ₂等の非磁性層を約１０ｎｍ形成し
た。さらにその上に、面内方向磁気異方性を有するＣｏ
ＣｒＰｔ等の第２磁性層７１を約１５ｎｍの厚さに積層
し、最後にカーボン等の保護層（図示せず）を積層し
た。

【００５７】この磁気記録媒体５を回転させながら、そ
の全面を、前記実施例と同様に、面内トラック方向に沿
って強く初期磁化した後、全面をトラック方向逆向きに
弱く磁化すると、面内方向磁気異方性を有する第１磁性
層７０は平坦部上に形成された保磁力の小さい領域６だ
けが磁化反転し、微細な凹凸部上に形成された保磁力の
大きい領域７は強く初期磁化したままである。第１磁性
層７０の上の第２磁性層７１には、第１磁性層７０の影
響で図示したように第１磁性層の磁化と反対方向に向い
た磁化の配列ができ、磁気ヘッドによって情報再生が可
能であった。

【００５８】〔実施例１２〕図１５に、本発明による磁
気記録媒体の他の実施例の断面を示す。本実施例の磁気
記録媒体は、垂直磁気異方性を有する磁性層を２層積層
した例である。情報を表す平坦部と微細な凹凸部の配列
が形成されている基板１上にＣｒからなる下地層を約１
５０ｎｍの厚さに形成し（図示せず）、その上に垂直磁
気異方性を有するＣｏＣｒ₂₅等の第１磁性層７０を約１
００ｎｍの厚さに形成し、さらにその上に、垂直方向磁
気異方性を有するＣｏＣｒ₂₀等の第２磁性層７１を約１
００ｎｍの厚さに積層し、最後にカーボン等の保護層
（図示せず）を積層した。

【００５９】この磁気記録媒体の全面を下向きに強く磁
化した後、全面に上向きの弱い磁界を印加すると、垂直
磁気異方性を有する第１磁性層７０は、平坦部上に形成
された保磁力の小さい領域６だけが上向きに磁化反転
し、微細な凹凸部上に形成された保磁力の大きい領域７
は下向きに強く磁化したままである。第１磁性層７０の
上の第２磁性層７１は、第１磁性層７０の影響で第１磁
性層と同じ向きに磁化した磁化の向きの配列ができた。
これは、磁気記録媒体に磁気情報が記録されたことを意
味し、磁気ヘッドによって情報再生が可能であった。

【００６０】〔実施例１３〕図１６に示すように、本発
明による磁気記録媒体８０を、磁気記録媒体駆動部８
１、磁気ヘッド８２、磁気ヘッドを磁気記録媒体に対し
て相対的に駆動する磁気ヘッド駆動部８３、及び記録再
生信号処理系８４を備える磁気記録再生装置に装着して
再生専用領域に記録された磁気情報の再生を行ったとこ
ろ、磁気ヘッドによる逐次記録動作を行って記録した通
常の情報と同様に再生することができた。

【００６１】以上の実施例では磁気記録媒体の再生専用
領域についての説明をしたが、ディスク上に予め情報が
記録された再生専用領域と併せて、前述のように磁気ヘ
ッドによって情報の記録再生を行う領域を設けることも
可能である。また、磁気ディスクの情報記録番地を識別
するためのトラック番号情報やセクタ番号情報等を本発
明の方法によって予め記録して、プリフォーマットした
磁気記録媒体を作製することもできる。

【００６２】また、本発明の磁気情報記録方法による
と、磁性層に形成される磁区の大きさは基板又は下地層
に形成した微細な凹凸部又は平坦部の大きさによって決
定されるため、磁区の大きさを小さくすることができ、
再生専用情報を高密度に記録することが可能となる。な
お、図１７に模式的に示すように、例えば幅０．３μｍ
の微細な凹凸部の領域を、隣接する微細な凹凸部の間隔
を１μｍとして基板上に螺旋状に形成し、その上に、下
地層、磁性層、保護層を積層して磁気記録媒体を作製す
ると、前記微細な凹凸部の上方に形成された螺旋状領域
７が高保磁力領域となり、その間の領域６が低保磁力領
域となる。従って、高保磁力領域７をガードバンドとし
て使用すると、記録にじみのない高密度記録が可能とな
る。

【００６３】

【発明の効果】本発明によると、複製の作製が容易な平
坦部と微細な凹凸部、又は平坦部と凹状又は凸状領域の
配列によって情報を形成し、それを磁性層の磁化の配
列、すなわち磁気情報に変換するものであるので、予め
情報が記録された再生専用領域を有する磁気記録媒体を
安価かつ簡易に大量に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による磁気記録媒体の一実施例の断面模
式図。

【図２】従来の磁気記録媒体の断面模式図。

【図３】基板又は下地層の表面粗さとその上に形成され
た磁性膜の保磁力の関係を示す図。

【図４】磁気記録媒体へ磁区を形成する方法の説明図。

【図５】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断面
模式図。

【図６】本発明による基板の製造工程の一実施例を示す
図。

【図７】本発明による下地層の製造工程の一実施例を示
す図。

【図８】本発明による下地層の製造工程の他の実施例を
示す図。

【図９】本発明による基板の製造工程の他の実施例を示
す図。

【図１０】本発明による基板の製造工程の他の実施例を
示す図。

【図１１】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断
面模式図。

【図１２】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断
面模式図。

【図１３】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断
面模式図。

【図１４】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断
面模式図。

【図１５】本発明による磁気記録媒体の他の実施例の断
面模式図。

【図１６】磁気記録再生装置の概略図。

【図１７】ガードバンド領域を有する磁気記録媒体の模
式図。

【符号の説明】

１，４０…基板、２，３０，４１…下地層、３，４２…
磁性層、４，４３…保護層、５，４４…磁気記録媒体、
６…保磁力の低い領域、７…保磁力の高い領域、１０…
ガラス板、１１…レジスト、１２…マスク、１３…光又
はＸ線、１４…微細な凹凸部の領域、１５…母型、１６
…光硬化あるいは熱硬化型樹脂Ａ、１７…レジン樹脂基
板、１８…第２母型、１９…光硬化性樹脂又は熱硬化性
樹脂、２０…ガラス円板、２１…平坦部と微細な凹凸部
を有する基板、２２…剥離層、２４…平坦部、３１…レ
ジストマスク、３２，６３…イオンエッチング、３３…
下地層の平坦部、３６…下地層の微細な凹凸部、４７…
ヘッド、４８…スライダ、５１…磁気記録媒体、５２…
バイアス磁石、５３…バイアス磁界の方向、６１…低融
点材料、６２…マスク材、６３…イオンエッチング、６
４…光あるいはＸ線、６５…平坦部の領域、６６…微細
な凹凸部の領域、７０…第１磁性層、７１…第１磁性
層、８０…磁気記録媒体、８１…磁気記録媒体駆動部、
８２…磁気ヘッド、８３…磁気ヘッド駆動部、８４…記
録再生信号処理系

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者二本正昭東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に直接又は下地層を介して設けら
れた磁性層と、その上に設けられた保護層とを備え、前
記磁性層は情報に対応して相対的に保磁力の高い領域と
相対的に保磁力の低い領域の配列が形成されている再生
専用領域を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】再生専用領域だけからなることを特徴と
する請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】表面の少なくとも一部に平坦部と微細な
凹凸部の配列を有する基板上に直接又は下地層を介して
磁性層が設けられ、前記磁性層は前記平坦部の上方に位
置する相対的に保磁力の低い領域と前記微細な凹凸部の
上方に位置する相対的に保磁力の高い領域とを有し、前
記相対的に保磁力の低い領域と相対的に保磁力の高い領
域の配列は情報に対応していることを特徴とする再生専
用領域を含む磁気記録媒体。
【請求項４】基板上に下地層を介して磁性層が設けら
れ、前記下地層は表面の少なくとも一部に平坦部と微細
な凹凸部の配列を有し、前記磁性層は前記平坦部の上方
に位置する相対的に保磁力の低い領域と前記微細な凹凸
部の上方に位置する相対的に保磁力の高い領域とを有
し、前記相対的に保磁力の低い領域と相対的に保磁力の
高い領域の配列は情報に対応していることを特徴とする
再生専用領域を含む磁気記録媒体。
【請求項５】前記微細な凹凸部の凹の深さあるいは凸
の高さの平均値は１０〜５０ｎｍの範囲であり、該微細
な凹と凹の間隔あるいは凸と凸の間隔の平均値は４〜６
０ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項３又は４記
載の再生専用領域を含む磁気記録媒体。
【請求項６】前記平坦部の領域及び微細な凹凸部の領
域の幅及び／又は長さは１００〜６００ｎｍの範囲であ
ることを特徴とする請求項３、４又は５記載の再生専用
領域を含む磁気記録媒体。
【請求項７】前記磁性層は第１の磁性層と第２の磁性
層を積層したものであることを特徴とする請求項１〜６
のいずれか１項記載の再生専用領域を含む磁気記録媒
体。
【請求項８】前記第１の磁性層は垂直磁気異方性又は
面内方向磁気異方性を有する磁性層であり、前記第２の
磁性層は垂直磁気異方性又は面内方向磁気異方性を有す
る磁性層であることを特徴とする請求項７記載の再生専
用領域を含む磁気記録媒体。
【請求項９】表面の少なくとも一部に平坦な領域中に
凹状領域又は凸状領域が離散的に配置された基板上に直
接又は下地層を介して磁性層が設けられ、前記磁性層は
前記平坦部の上方に位置する相対的に保磁力の低い領域
と前記凹状領域又は凸状領域の上方に位置する相対的に
保磁力の高い領域とを有し、前記相対的に保磁力の低い
領域と相対的に保磁力の高い領域の配列は情報に対応し
ていることを特徴とする再生専用領域を含む磁気記録媒
体。
【請求項１０】前記凹状領域の深さ又は凸状領域の高
さの平均値は１０〜５０ｎｍの範囲、凹状領域の深さ又
は凸状領域の高さの半値幅の平均値は１００〜５００ｎ
ｍの範囲であることを特徴とする請求項９記載の再生専
用領域を含む磁気記録媒体。
【請求項１１】基板上に感光性樹脂膜を形成する工程
と、前記感光性樹脂膜を情報に対応する所望のパターン
で露光する工程と、現像によって前記感光性樹脂膜の表
面に前記パターンに対応する平坦部の領域と微細な凹凸
部の領域を形成する工程と、その上に磁性層を形成する
工程とを含むことを特徴とする再生専用領域を含む磁気
記録媒体の製造方法。
【請求項１２】基板上に感光性樹脂膜を形成する工程
と、前記感光性樹脂膜を情報に対応する所望のパターン
で露光する工程と、現像によって前記感光性樹脂膜の表
面に前記パターンに対する平坦部の領域と微細な凹凸部
の領域を形成する工程と、その上に下地層を形成する工
程と、さらにその上に磁性層を形成する工程とを含むこ
とを特徴とする再生専用領域を含む磁気記録媒体の製造
方法。
【請求項１３】基板上に感光性樹脂膜を形成する工程
と、前記感光性樹脂膜を情報に対応する所望のパターン
で露光する工程と、現像によって前記感光性樹脂膜の表
面に前記パターンに対する平坦部の領域と微細な凹凸部
の領域を形成して母型を作製する工程と、前記母型から
光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いる転写もしくはＮ
ｉメッキによって第２母型を作製する工程と、前記第２
母型から光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いて第２の
基板を複製する工程と、前記第２の基板上に磁性層を形
成する工程とを含むことを特徴とする再生専用領域を含
む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１４】基板上に感光性樹脂膜を形成する工程
と、前記感光性樹脂膜を情報に対応する所望のパターン
で露光する工程と、現像によって前記感光性樹脂膜の表
面に前記パターンに対する平坦部の領域と微細な凹凸部
の領域を形成して母型を作製する工程と、前記母型から
光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いる転写もしくはＮ
ｉメッキによって第２母型を作製する工程と、前記第２
母型から光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いて第２の
基板を複製する工程と、前記第２の基板上に下地層を形
成する工程と、その上に磁性層を形成する工程とを含む
ことを特徴とする再生専用領域を含む磁気記録媒体の製
造方法。
【請求項１５】基板上に下地層を形成する工程と、前
記下地層上に感光性樹脂膜を形成する工程と、前記感光
性樹脂膜を情報に対応する所望のパターンで露光する工
程と、現像によって前記感光性樹脂膜の表面に前記パタ
ーンに対する平坦部の領域と微細な凹凸部の領域を形成
する工程と、前記感光性樹脂層をマスクとしてイオンエ
ッチングして前記下地層の表面に平坦部と微細な凹凸部
を形成する工程と、前記下地層の上に磁性層を形成する
工程とを含むことを特徴とする再生専用領域を含む磁気
記録媒体の製造方法。
【請求項１６】基板上に微細な凹凸を全面に有する下
地層を形成する工程と、前記下地層上に感光性樹脂膜を
形成する工程と、前記感光性樹脂膜を情報に対応する所
望のパターンで露光する工程と、現像によつて前記パタ
ーンを有する感光性樹脂マスクを形成する工程と、前記
感光性樹脂マスクを介してイオンエッチングして前記下
地層の表面に平坦部と微細な凹凸部を形成する工程とを
含むことを特徴とする再生専用領域を含む磁気記録媒体
の製造方法。
【請求項１７】基板上に下地層を形成する工程と、前
記下地層上に熱的に形状変化する材料の薄膜を形成する
工程と、前記薄膜上に粒状の金属薄膜をマスク材として
形成する工程と、該マスク材をイオンエッチングして除
去することにより前記薄膜表面に金属薄膜の粒状に対応
した微細な凹凸を形成する工程と、微細な凹凸が形成さ
れた前記薄膜表面に情報に対応する所望のパターンのエ
ネルギー線を照射して平坦部の領域を形成する工程とを
含むことを特徴とする再生専用領域を含む磁気記録媒体
の製造方法。
【請求項１８】前記所望のパターンはマスクによって
形成することを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか
１項記載の再生専用領域を含む磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項１９】前記所望のパターンはエネルギー線の
微小なスポットを走査して形成することを特徴とする請
求項１１〜１７のいずれか１項記載の再生専用領域を含
む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２０】平坦な基板表面に高エネルギービーム
を照射して該照射領域を凹状又は凸状に形状変化させ、
情報に対応させて平坦部と前記凹状又は凸状領域の配列
を形成する工程と、前記基板上に下地層を形成する工程
と、その上に磁性層を形成する工程とを含むことを特徴
とする再生専用領域を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２１】平坦な基板状に下地層を形成する工程
と、その表面に高エネルギービームを照射して該照射領
域を凹状又は凸状に形状変化させ、情報に対応させて平
坦部と前記凹状又は凸状領域の配列を形成する工程と、
前記下地層上に磁性層を形成する工程とを含むことを特
徴とする再生専用領域を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２２】強い磁界を印加して磁性層の磁化を初
期方向に配向させる工程と、次に比較的弱い逆向きの磁
界を印加して磁性層中の保磁力の低い領域の磁化を反転
させる工程とを更に含むことを特徴とする請求項１１〜
２１のいずれか１項記載の再生専用領域を含む磁気記録
媒体の製造方法。
【請求項２３】請求項１〜１０のいずれか１項に記載
の再生専用領域を含む磁気記録媒体と、前記磁気記録媒
体を駆動する手段と、前記磁気記録媒体からの情報を再
生する磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒
体に対して相対的に移動させるための手段と、再生信号
を処理するための信号処理系を含むことを特徴とする磁
気記録再生装置。