JPH07263182A - 高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構Info
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- JPH07263182A JPH07263182A JP6050674A JP5067494A JPH07263182A JP H07263182 A JPH07263182 A JP H07263182A JP 6050674 A JP6050674 A JP 6050674A JP 5067494 A JP5067494 A JP 5067494A JP H07263182 A JPH07263182 A JP H07263182A
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- JP
- Japan
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- gas
- valve
- ignition
- plasma
- nebulizer
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- Plasma Technology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＩＣＰ装置のプラズマ点火を容易に行えるよ
うにする。 【構成】 ガスフローコントローラからネブライザーへ
の流路にバイパス流路を設けて該流路に弁を配置し、プ
ラズマ点火時には前記弁を開いてネブライザーへのガス
をバイパス流路へ分岐させ、ネブライザーかちトーチ管
に流入するガスをほぼ０にすることを特徴とする。
うにする。 【構成】 ガスフローコントローラからネブライザーへ
の流路にバイパス流路を設けて該流路に弁を配置し、プ
ラズマ点火時には前記弁を開いてネブライザーへのガス
をバイパス流路へ分岐させ、ネブライザーかちトーチ管
に流入するガスをほぼ０にすることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高周波誘導結合プラズマ
（ＩＣＰ）装置の点火機構に関するものである。
（ＩＣＰ）装置の点火機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のＩＣＰ装置の点火機構の例
を示す図である。ガスボンベ１からのガスを減圧弁２を
通してガスフローコントローラ３で３系統に分けてトー
チ管７に導入する。３系統の１つはプラズマガス、１つ
は補助ガス、もう１つは試料液５の霧化と搬送とに使用
するため、ネブライザー４へ流し込んでいる。ネブライ
ザー４へ導入されるガスは試料液５の霧と共に、スプレ
ーチャンバー６を経て、トーチ管７の中心軸筒へ導入さ
れる。スプレーチャンバー６には円筒形の内筒６ａが設
けられ、ここで、粒径の大きい霧は内筒に接触して液化
し、霧の粒径が揃えられてキャリアガスと共にトーチ管
７へ供給される。トーチ管７にはその周囲にロードコイ
ル８が設けられており、イグナイター９で点火してロー
ドコイル８で励起してプラズマ１０を形成している。
を示す図である。ガスボンベ１からのガスを減圧弁２を
通してガスフローコントローラ３で３系統に分けてトー
チ管７に導入する。３系統の１つはプラズマガス、１つ
は補助ガス、もう１つは試料液５の霧化と搬送とに使用
するため、ネブライザー４へ流し込んでいる。ネブライ
ザー４へ導入されるガスは試料液５の霧と共に、スプレ
ーチャンバー６を経て、トーチ管７の中心軸筒へ導入さ
れる。スプレーチャンバー６には円筒形の内筒６ａが設
けられ、ここで、粒径の大きい霧は内筒に接触して液化
し、霧の粒径が揃えられてキャリアガスと共にトーチ管
７へ供給される。トーチ管７にはその周囲にロードコイ
ル８が設けられており、イグナイター９で点火してロー
ドコイル８で励起してプラズマ１０を形成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、プラズマ１
０を点火・形成させる際は、ネブライザー４に流すガス
をほぼ０にした状態でイグナイター９からトーチ管７に
高電圧を印加する必要がある。ネブライザー４に流すガ
スは霧化の安定性・再現性を確保するために、ガスフロ
ーコントローラ３としてマスフローコントローラ型を使
用しており、この制御器は流量が０付近では制御が難し
くトーチ管７へガスが流れ込んでしまうという問題があ
る。ガスが流れ込むと、特に、スプレーチャンバー６に
水分があるときは、この水分（水蒸気）をもトーチ内へ
運び込むため、プラズマの点火に不利な条件となり、プ
ラズマの点火が容易ではない。
０を点火・形成させる際は、ネブライザー４に流すガス
をほぼ０にした状態でイグナイター９からトーチ管７に
高電圧を印加する必要がある。ネブライザー４に流すガ
スは霧化の安定性・再現性を確保するために、ガスフロ
ーコントローラ３としてマスフローコントローラ型を使
用しており、この制御器は流量が０付近では制御が難し
くトーチ管７へガスが流れ込んでしまうという問題があ
る。ガスが流れ込むと、特に、スプレーチャンバー６に
水分があるときは、この水分（水蒸気）をもトーチ内へ
運び込むため、プラズマの点火に不利な条件となり、プ
ラズマの点火が容易ではない。
【０００４】本発明は上記課題を解決するためのもの
で、ＩＣＰ装置のプラズマ点火を容易に行うことができ
るようにした高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構を
提供することを目的とする。
で、ＩＣＰ装置のプラズマ点火を容易に行うことができ
るようにした高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の高周波誘導結合
プラズマ装置の点火機構は、ガスフローコントローラを
介して供給されるガスにより、ネブライザーで試料液を
霧化し、点火装置およびロードコイルが設けられたトー
チ管に導入してプラズマ化させるようにした高周波誘導
結合プラズマ装置において、ガスフローコントローラか
らネブライザーへの流路にバイパス流路を設けて該流路
に弁を配置し、プラズマ点火時には前記弁を開いてネブ
ライザーへのガスをバイパス流路へ流すようにしたこと
を特徴とする。
プラズマ装置の点火機構は、ガスフローコントローラを
介して供給されるガスにより、ネブライザーで試料液を
霧化し、点火装置およびロードコイルが設けられたトー
チ管に導入してプラズマ化させるようにした高周波誘導
結合プラズマ装置において、ガスフローコントローラか
らネブライザーへの流路にバイパス流路を設けて該流路
に弁を配置し、プラズマ点火時には前記弁を開いてネブ
ライザーへのガスをバイパス流路へ流すようにしたこと
を特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明はガスフローコントローラを介してネブ
ライザーに流すガスを、プラズマ点火時に弁を介して分
岐させるようにしたので、ネブライザーに流入するガス
をほぼ０にでき、プラズマの点火が極めて容易となり、
また分岐させたガスも他の用途へ利用することも可能で
ある。
ライザーに流すガスを、プラズマ点火時に弁を介して分
岐させるようにしたので、ネブライザーに流入するガス
をほぼ０にでき、プラズマの点火が極めて容易となり、
また分岐させたガスも他の用途へ利用することも可能で
ある。
【０００７】
【実施例】図１は本発明の１実施例を示す図である。図
１は図２における３系統のガスフローのうち、ネブライ
ザーへ導入するガスフローを示したものであり、図２と
同一番号は同一内容を示している。図１において、図２
と相違する点はガスフローコントローラ３の後段にガス
を分岐させるための弁９が配置されている点である。即
ち、弁９は通常閉じた状態で使用し、その際の動作は図
２の場合と同様である。プラズマを点火する時はこの弁
９を開き、ガスフローコントローラ３のガス流量を最小
状態にすると、ガスフローコントローラ３を介して、な
お流れ出てくるガスは弁９を介して流路外へ逃がすよう
にする。この状態で図に示したようなイグナイター９で
点火すれば、トーチ管７へは水分が運び込まれていない
ため、容易にプラズマ点火を行うことができる。プラズ
マが点火したら弁９を閉じる。
１は図２における３系統のガスフローのうち、ネブライ
ザーへ導入するガスフローを示したものであり、図２と
同一番号は同一内容を示している。図１において、図２
と相違する点はガスフローコントローラ３の後段にガス
を分岐させるための弁９が配置されている点である。即
ち、弁９は通常閉じた状態で使用し、その際の動作は図
２の場合と同様である。プラズマを点火する時はこの弁
９を開き、ガスフローコントローラ３のガス流量を最小
状態にすると、ガスフローコントローラ３を介して、な
お流れ出てくるガスは弁９を介して流路外へ逃がすよう
にする。この状態で図に示したようなイグナイター９で
点火すれば、トーチ管７へは水分が運び込まれていない
ため、容易にプラズマ点火を行うことができる。プラズ
マが点火したら弁９を閉じる。
【０００８】なお、上記実施例において、弁９のさらに
後段に流路抵抗の小さい管を接続しておき、弁９を切り
換え弁として使い、他用途へネブライザーガスを利用す
るための弁としても良い。また、弁９は当然、手動、自
動どちらでも良い。
後段に流路抵抗の小さい管を接続しておき、弁９を切り
換え弁として使い、他用途へネブライザーガスを利用す
るための弁としても良い。また、弁９は当然、手動、自
動どちらでも良い。
【０００９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ネブライ
ザーに流入するガスをほぼ０にすることができるため、
プラズマの点火が容易となり、さらにプラズマ点火時に
分岐させる弁を切り換え弁として使用することもでき、
容易に他用途へネブライザーガスの利用を行うことが可
能となる。
ザーに流入するガスをほぼ０にすることができるため、
プラズマの点火が容易となり、さらにプラズマ点火時に
分岐させる弁を切り換え弁として使用することもでき、
容易に他用途へネブライザーガスの利用を行うことが可
能となる。
【図１】 本発明の１実施例を示す図である。
【図２】 従来のＩＣＰ装置の点火機構の例を示す図で
ある。
ある。
１…ガスボンベ、２…減圧弁、３…ガスフローコントロ
ーラ、４…ネブライザー、５…試料液、９…弁。
ーラ、４…ネブライザー、５…試料液、９…弁。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガスフローコントローラを介して供給さ
れるガスにより、ネブライザーで試料液を霧化し、点火
装置およびロードコイルが設けられたトーチ管に導入し
てプラズマ化させるようにした高周波誘導結合プラズマ
装置において、ガスフローコントローラからネブライザ
ーへの流路にバイパス流路を設けて該流路に弁を配置
し、プラズマ点火時には前記弁を開いてネブライザーへ
のガスをバイパス流路へ流すようにしたことを特徴とす
る高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6050674A JP3037058B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | 高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6050674A JP3037058B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | 高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07263182A true JPH07263182A (ja) | 1995-10-13 |
| JP3037058B2 JP3037058B2 (ja) | 2000-04-24 |
Family
ID=12865495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6050674A Expired - Fee Related JP3037058B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | 高周波誘導結合プラズマ装置の点火機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3037058B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016127025A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-11 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
-
1994
- 1994-03-22 JP JP6050674A patent/JP3037058B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016127025A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-11 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3037058B2 (ja) | 2000-04-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000201 |
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