JPH07248499A - 液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 有効視野角が広く且つ、良好な表示品位を有
する液晶表示素子を提供することを目的とする。 【構成】 表面に電極を有した第１及び第２の基板上に
配向膜を形成し、次に前記電極が相対向するように前記
第１、第２の基板に液晶が狭持された液晶表示素子にお
いて、配向方向が異なる領域が市松模様状に形成されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は広い視野角を有する液晶
表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＴＮ型液晶表示素子は種々の優れた特性
を備えているために、最も広く用いられている。しかし
ながら、このＴＮ型液晶表示素子は、見る角度や方向に
よってコントラスト比や表示色が変化するという視野角
依存性がある。この原因は、電圧印加時の液晶分子の立
ち上がり方向が一方向に規定されているため、液晶表示
素子を鉛直方向から見た場合と斜め方向から見た場合で
は、液晶分子の立ち上がりの角度が見かけ上異なるから
である。

【０００３】このような問題を解決するものとして、１
画素内に液晶分子の立ち上がり方向が１８０度異なる二
領域を設けた液晶表示素子を用いて視角依存性を改善す
る方法（Two Domain TN ：ＴＤＴＮと称する）が提案さ
れている。これは液晶分子の立ち上がり方向を互いに逆
方向にして、視角特性を相互補償させるものである。

【０００４】このような液晶表示素子を図１５に示す。
図中１５１は配向方向１５２はディスクリネーションラ
インを示す。このようにＴＤＴＮセルは、異なる配向領
域の境界においてＯＮ状態の時に境界線上でディスクリ
ネーションライン１５２が発生するという問題がある。
このディスクリネーションラインが著しく光抜けを生じ
るため、液晶表示素子のコントラストを低下させるとい
う問題があった。上記問題を解決するために図１６に示
すように、異なる配向領域の境界にマスク１６１を設け
ることが為されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、図１５
や図１６に示すタイプの液晶表示素子を真正面以外の角
度から見ると、表示した色や形によっては細かい筋が見
えるという問題点を見いだした。これは、画素が横一行
全て同じ視角特性を有する配向方向領域で、行毎に上下
方向の視角方向が異なる配向領域が並んでいるので、真
正面以外の角度から見ると、色ずれして一行一行が筋状
に見えるからである。この筋は図形などの直線で構成さ
れる画像を表示する際に明瞭に観察でき、場合によって
は表示がかなり見づらくなるものである。また、異なる
配向方向領域のストライプのパターンと平行に線を表示
させると、線のエッジが鈍ったり、上下方向で視角が違
ったりする問題があることも分かった。本発明は上記問
題点に鑑み為されたもので、パネルが筋状に鈍って見え
ることのない広視野角な液晶表示素子を提供することを
目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明による液晶表示素子は、表面に電極と配向膜を
有する第１の基板と、表面に電極と配向膜を有する第２
の基板と、前記第１及び第２の基板は前記配向膜が互い
に向かい合うように対向配置され、第１及び第２の基板
間に液晶が挟持された液晶表示素子であって、前記第１
或いは第２の基板上の配向膜の内少なくとも一方は異な
る配向方向を有する領域に分割されており、第１の配向
方向を有する第１の配向領域の辺を介して隣接する上下
方向及び左右方向の領域は第１の配向領域とは異なる配
向方向を有する配向領域を有することを特徴とするもの
である。

【０００７】また、本発明による液晶表示素子は前記第
１及び第２の基板上の電極の内少なくとも一方は非透光
性の電極であり、前記第１の領域と前記異なる配向方向
を有する領域との境界は前記非透光性電極上に位置する
ことによりマスクされていることを特徴とするものであ
る。こうすることによってディスクリネーションライン
による光漏れを防ぐことができ、高いコントラストを実
現できる。更にマスクとして信号線や走査線を利用する
ことにより、別途別のマスクを必要としないので開口率
を低下させることもない。

【０００８】また、第１の配向領域に隣接する上下方向
及び左右方向の配向領域はそれぞれ同じ配向方向を有し
ても良いし、異なっていても良い。但し少なくとも前記
第１の配向領域とは異なる配向方向を有することが必要
である。

【０００９】好ましくは、第１の配向領域に隣接する上
下方向及び左右方向の配向領域は前記第１の配向方向と
１８０゜異なる配向方向でそれぞれ同じ配向方向を有す
るほうがよい。こうすることにより、２回のラビング工
程で十分に高品質な液晶表示素子を提供することが可能
となる。

【００１０】また、本発明による液晶表示装置は、表面
に電極と配向膜を有する第１の基板と、表面に電極と配
向膜を有する第２の基板と、前記第１及び第２の基板は
前記配向膜が互いに向かい合うように対向配置され、第
１及び第２の基板間に液晶が挟持された液晶表示素子で
あって、前記第１或いは第２の基板上の配向膜の内少な
くとも一方は異なる配向方向を有する領域に分割されて
おり、前記異なる配向方向を有する領域は市松模様状に
配置されていることを特徴とするものである。

【００１１】市松模様状に画面を分割しても、視角依存
性を補償する効果や、視角の広さには影響はない。こう
することによってパネル全面に渡って均一で広視野な液
晶パネルを実現できる。

【００１２】ここで上記異なる配向領域は、画素を単位
としても良いし、Ｒ，Ｇ，Ｂを一つの単位とするいわゆ
る絵素を単位としても良い。即ち液晶分子の立ち上がり
方向を画素或いは絵素同士で視角を補償し合うようにで
きる。

【００１３】本発明において、配向方向の異なるＡとＢ
という画素（あるいは複数の画素群）が隣接していると
すると、表示画面全面に渡ってＡとＢの画素数がほぼ同
じであれば、視角を補償することができる。好ましく
は、表示画面上において１ｍｍ×１ｍｍの領域のどこを
選んでも、ＡとＢの画素数が一致していると完全に視角
を補償することができる。但しＡとＢの画素数の一方が
他方の８０％〜１２０％の範囲であれば、肉眼で見て十
分に視角を補償することができる。

【００１４】しかし、ＡとＢの画素数が大きく異なって
いる場合、例えばＡの画素数がＢの２倍以上ある場合に
は、補償しきれずに、視角依存性が生じ階調反転が起こ
ってしまう。但し、車載用や駅、空港などの公共施設で
の表示板など特定用途に用いる液晶表示素子で、主に素
子を見る方向が決まっている場合は、その見る方向に応
じて視角を補償したほうがよく、前記割合にする必要は
ない。

【００１５】

【作用】本発明の液晶表示素子は、液晶分子の配向方向
が異なった複数の領域を互いに辺を介して隣接するよう
に配置させることによって、液晶の立ち上がり方向が前
記領域で異なるため、隣接する領域同士で視角を補償し
合い、階調反転のない広い視野角を有し、筋状の線が見
えない液晶表示素子を提供できる。

【００１６】また、本発明の液晶表示素子は配向方向が
互いに異なった領域と領域の境界部分は、信号線、ゲー
ト線、ブラックマトリックス等が配置された非画素部上
となる。その結果、前記ディスクリネーションライン
は、信号線、走査線、ブラックマトリックス等の画素電
極以外の非画素部上に生じるため、これら非画素部で隠
すことができる。カラーフィルタ側基板は、Ｒ（赤色フ
ィルタ）とＧ（緑色フィルタ）とＢ（青色フィルタ）の
間にあるブラックマトリックスで隠すことができる。ゆ
えに、従来のアレイ基板およびカラーフィルタ基板をそ
のまま使用することができ、液晶の配向方向（立ち上が
り方向）が異なる領域の境界部分に生じる前記ディスク
リネーションラインを隠すための新たなブラックマトリ
ックス部分の追加は必要ない。

【００１７】

【実施例】以下本発明の液晶表示素子の実施例を詳細に
説明する。 （実施例１）図１から図７を用いて本実施例における液
晶表示素子の製造工程を示す。

【００１８】先ず、透明共通電極が形成されたカラーフ
ィルタ（図示せず）付き１０インチガラス基板１１（図
１（ａ））と、画素電極及びＴＦＴ駆動素子が形成され
た１０インチガラス基板１４（図１（ｂ））を用意す
る。画素サイズは１００×３００μｍ、絵素サイズは３
００×３００μｍである。基板１１、基板１４ともに既
にイミド化されているポリイミド（ＪＳＲシリーズ、例
えばＪＳＲ−１０５１（日本合成ゴム社製））を印刷法
で１０００オングストローム厚に形成し配向膜１２、１
５とする。

【００１９】次に、配向膜１２、１５付きの基板１３、
１６をセルを組み立てたとき液晶分子が９０°捻れにな
るように第１回目のラビング配向処理を行う。図２は基
板１３、１６を配向膜側からみた平面図であり、第１回
目のラビング配向処理の方向は図の矢印の方向とする。
図１はカラーフィルタ付き基板１３及びＴＦＴ付き基板
１６の断面図であり、ラビング方向は便宜上右斜め上か
ら左斜め下の方向を左の矢印、左斜め下から右斜め上方
向を右の矢印で示している。

【００２０】次に、図３に示すようにこの基板１３、１
６のラビング処理した配向膜１２、１５上にアクリル系
ポジ型レジストを塗布して露光・現像し、レジストパタ
ーン１７を１絵素毎に図４に示すような市松模様状に形
成する。レジストパターン１７の厚さは、１μｍとし
た。

【００２１】次に、レジストパターン１７が形成されて
いる基板１３、１６を第１回目のラビング方向と１８０
°方向を変えて、つまり図２の矢印と反対方向に第２回
目のラビング配向処理を行う。図３に示すようにレジス
トパターン１７のない部分は第２回目のラビング方向に
配向処理され、レジストパターン１７のあるところは第
１回目のラビング方向の配向方向が維持される。

【００２２】図５はレジストパターン１７を剥離した基
板１３、１６の配向膜側からみた平面図である。次に、
基板１３と基板１６のラビング配向処理回数の同じ配向
領域が重なるようにスペーサ（図示せず）を介して配置
し、シール剤３０によりシールして液晶セルを作製す
る。ここでは図５において基板１３、１６の角Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄが重なるようにセルを形成した。この液晶セルに
液晶組成物ＺＬＩ−１１３２（Ｅ．Ｍｅｒｃｋ社製）を
注入し、液晶表示素子を作製した。

【００２３】この様子を図６、図７に示す。図７はセル
のＴＦＴ基板１６側からみた平面図であり図７はセルの
断面図である。図６において破線で示した矢印はカラー
フィルタ基板１３の配向方向を示し、実線で示した矢印
はＴＦＴ基板１６の配向方向を示している。また、図７
においてＴＦＴ基板１６の配向方向を示す矢印は、右斜
め下から左斜め上方向を左向き、左斜め上から右斜め下
方向を右向きに表している。

【００２４】図８はＴＦＴ基板の配向方向を示す拡大平
面図である。図中１８はゲート線、１９は信号線、２０
はＴＦＴ、矢印はそれぞれ配向方向を表す。この様に本
実施例においてはＲ，Ｇ，Ｂを単位とする１絵素毎に異
なる配向領域を設けている。この様にして作製された液
晶表示素子では、それぞれの配向領域は辺を介して隣接
する上下方向左右方向の領域が異なる配向方向を有して
いる。

【００２５】この液晶表示素子について液晶の配向を調
べたところ、９０°ツイストの均一な配向が得られた。
この液晶表示素子を駆動したところ、全方位よりほぼ均
一な高品位表示が得られた。通常のＴＮ型セルと比べて
上下方向の視角が大幅に広がり、全方位から見て階調反
転はほとんど起こっていなかった。図９にコントラスト
曲線を示す。この様に極めて良好な視角特性を得ること
ができた。

【００２６】本実施例では、１絵素ごとに市松模様状に
液晶分子の配向方向が異なった領域を有している。従っ
て素子を駆動したとき、行毎に発生する筋状の線は観察
されなかった。液晶分子の配向方向が互いに異なった領
域と領域の境界部分は、信号線１９及びゲート線１８上
に存在する。従って境界部分に発生するディスクリネー
ションラインは信号線１９及びゲート線１８上に存在す
るので、本素子の光抜けは信号線１９及びゲート線１８
で隠されることにより、極めて良好なコントラストを得
ることができる。

【００２７】また、対向するカラーフィルタ基板１１側
から本実施例による液晶表示素子を見た場合には、前記
境界部分はＲＧＢのカラーフィルタの境目にあるブラッ
クマトリックス下に存在するため、光抜けは発生しな
い。

【００２８】本実施例では、２回目のラビング前に形成
するレジストの厚さを１μｍとした。レジストの厚みを
変化させてラビングを行った結果、レジストの厚さは５
μｍ未満、０．０２μｍ以上が適当であることがわかっ
た。この理由は、厚さが５μｍ以上だとラビング方向に
対してレジストパターンの陰となる部分が正常にラビン
グされずに液晶配向不良が起こり、ラビング１回と２回
の境目の輝線が太くなってしまう。場合によっては、こ
の輝線が、ブラックマトリックス、信号線、ゲート線で
隠しきれなくなる。また、レジストが０．０２μｍより
薄くなると、レジストの下地のポリイミドも延伸され、
ラビング方向が１方向だけになってしまう。つまり、Ｔ
ＤＴＮが形成されなくなる。

【００２９】なお、スーパーツイステッドネマティック
（ＳＴＮ）において、強くラビングを行う場合は、レジ
ストの厚みは、３μｍ未満、０．０３μｍ以上が好まし
い。 （実施例２）本実施例は投射型液晶表示素子であり、画
素サイズが３０μｍ角と小さいために画素ごとに液晶の
配向方向を変えるのが困難であるので、２画素単位で液
晶の配向方向を変た。実施例１と同一部分は同一符号を
用い詳しい説明は省略する。

【００３０】透明共通電極が形成された３インチのガラ
ス基板１１と画素電極およびＴＦＴ駆動素子が形成され
た３インチガラス基板１４を用意する。画素サイズは３
０×３０μｍである。

【００３１】基板１１、基板１４にポリアミック酸溶液
を塗布し、１９０℃で１時間焼成することでイミド化率
が９２％のポリイミドを１０００オングストローム厚に
形成し配向膜１２、１５とする。

【００３２】このようにして得られた基板１３、１６を
セルを組み立てたとき液晶分子が９０°捻れになるよう
に第１回目のラビング配向処理を行った。この基板１
３、１６のラビング処理した配向膜１２、１５上にエポ
キシ系ポジ型レジストを塗布して露光・現像し、厚さ
０．５μｍのレジストパターン１７を２画素ごとに市松
模様状に形成する。この基板を第２回目のラビング配向
処理を施す。ラビング方向は、第１回目のラビング方向
と１８０°変えて行う。

【００３３】１画素ごとに配向方向を変えると、３０×
３０μｍのレジストパターンが市松模様上に形成された
上をラビングしなければならない。ラビング布がレジス
トの端面に引っかかるため、３０×３０μｍという狭い
領域は正常にラビング（２回目）ができなかった。本実
施例では２画素ごとに配向方向を変えたので、レジスト
パターンは６０×３０μｍと粗になり、２回目のラビン
グは正常にできた。

【００３４】このレジストを剥離後、基板１と２のラビ
ング配向処理数の同じ配向膜同士が内側になるようにス
ペーサを介して配置し、シール剤３０によりシールして
液晶セルを作製した。この液晶セルに液晶組成物ＺＬＩ
−１６９５（Ｅ．Ｍｅｒｃｋ社製：Δｎ＝０．０６２
５）を注入し、液晶層厚ｄ＝４．０μｍにて液晶表示素
子を作製した。図１０はＴＦＴ基板１６側の配向の様子
を示す。

【００３５】この液晶表示素子について液晶の配向を調
べたところ、均一な配向が得られた。この液晶表示素子
を駆動し、コントラストの視角依存性を測定したとこ
ろ、全方位よりほぼ均一な高品位な表示が得られた。

【００３６】液晶の配向方向が１方向である通常の投射
型液晶表示素子では、レンズで集光してスクリーンに映
し出すので、視角特性は存在しないと考えられている。
しかし、実際に投射型液晶表示素子を作製したところ、
レンズが持つわずかな集差（ゆがみ）によって、スクリ
ーン上でも視角依存性が発生してしまう。本実施例で
は、液晶の配向方向を２画素ごとに変えたので、隣接す
る２画素同士の液晶分子の立ち上がり方向が異なるため
視角が補償され、投射したスクリーン上で全方位より均
一な高品位表示が得られた。また、全方位から見て階調
反転は起こっていなかった。ゆえに、本発明は投射型に
も有効である。

【００３７】本実施例では、２画素ごとに配向方向を変
えたが、画素サイズが9.5"ＶＡＧの１／３３と小さいた
め、表示には何等問題はなかった。本実施例では、２画
素ごとに市松模様状に液晶分子の配向方向が異なった領
域を有している。従って素子を駆動するとき行毎に発生
する筋状の線は観察されなかった。また、液晶分子の配
向方向が互いに異なった領域と領域の境界部分は、信号
線およびゲート線上に存在する。従って境界部分に発生
するディスクリネーションラインは信号線及びゲート線
上に存在し、本素子の光抜けは信号線およびゲート線で
隠されるため、発生しない。信号線、ゲート線は薄膜ト
ランジスタを有するアレイ基板側にあるが、対向する基
板側から本素子を見た場合には、前記境界部分はブラッ
クマトリックス下に存在するため、光抜けは発生しなか
った。 （実施例３）本実施例はカラースーパーツイスティッド
型液晶表示素子であり、信号線、ゲート線、薄膜トラン
ジスタを有しないため、カラーフィルタ基板に設けられ
たブラックマトリックスで、配向方向の異なる領域間の
境界に発生するデスクリネーションラインを隠した。

【００３８】透明電極が形成された１０インチのガラス
基板及び透明電極とカラーフィルタが形成された１０イ
ンチガラス基板を用意した。画素サイズは４５０×４５
０μｍである。

【００３９】基板１１、基板１４にポリアミック酸溶液
を塗布し、２６０℃で１時間焼成することでイミド化率
が９９％のポリイミドを７００オングストローム厚に形
成し配向膜１２、１５とした。

【００４０】このようにして得られた基板１３、１６を
セルを形成したとき液晶分子が２４０°捻れになるよう
に第１回目のラビング配向処理を行った。この基板１
３、１６のラビング処理した配向膜上に環化ゴム系ネガ
型レジストを塗布して露光・現像し、厚さ２μｍのレジ
ストパターン１７を１画素ごとに市松模様状に形成し
た。この基板を第２回目のラビング配向処理した。ラビ
ング方向は、第１回目のラビング方向と１８０°を変え
た。

【００４１】このレジストを剥離後、基板１１と１６の
ラビング配向処理数の同じ配向膜同士が内側になるよう
にスペーサを介して配置し、シール剤３０によりシール
して液晶セルを作製した。この液晶セルに液晶組成物Ｚ
ＬＩ−１６９５（Ｅ．Ｍｅｒｃｋ社製：Δｎ＝０．０６
２５）を注入し、液晶層厚ｄ＝６．５μｍにて液晶表示
素子を作製した。図１１はこの液晶表示素子の平面図を
表す。図中２１はＹ軸方向の電極、２２はＸ軸方向の電
極を表す。図中破線の矢印は上基板のラビング方向を示
し、実線の矢印は下基板のラビング方向を示す。ここで
破線の矢印方向はＸ電極に対して１５０゜、実線の矢印
はＸ電極に対して３０゜傾いている。

【００４２】この液晶表示素子について液晶の配向を調
べたところ、均一な配向が得られた。この液晶表示素子
を駆動し、コントラストの視角依存性を測定したとこ
ろ、全方位よりほぼ均一な高品位な表示が得られた。

【００４３】本実施例では、市松模様状に液晶分子の配
向方向が異なった領域を有している。従って素子を駆動
するとき行毎に発生する筋状の線は観察されなかった。
また、液晶分子の配向方向が互いに異なった領域と領域
の境界部分は、表示電極のないところ（非画素部）に存
在する。境界部分に発生するディスクリネーションライ
ンは、カラーフィルタ基板のブラックマトリックス下に
存在するため、光抜けは発生しなかった。 （実施例４）本実施例はＴＦＴ型液晶表示素子での実施
例で、液晶分子の配向方向が異なった領域の分割法が違
う以外は（実施例１）と同様にして本発明の液晶表示素
子を形成した。

【００４４】透明共通電極が形成された６インチのガラ
ス基板１１と画素電極およびＴＦＴ駆動素子が形成され
た６インチガラス基板１４を用意した。画素サイズは１
００×３００μｍである。

【００４５】基板１１、基板１４にポリイミド溶液を塗
布し、１８０℃で１時間焼成することでポリイミド配向
膜を５００オングストローム厚に形成し配向膜１２、１
３とした。

【００４６】このようにして得られた基板１３、１６を
セルを組み立てたとき液晶分子が９０°捻れになるよう
に第１回目のラビング配向処理を行った。この基板１
３、１６のラビング処理した配向膜上にポリイミド系ネ
ガ型レジストを塗布して露光・現像し、レジストパター
ン１７を形成した。この基板をラビング配向処理した。
ラビング方向は、第１回目のラビング方向と１８０°を
変えた。

【００４７】基板１３と１６のラビング配向処理数の同
じ配向膜同士が内側になるようにスペーサを介して配置
し、シール剤３０によりシールして液晶セルを作製し
た。この液晶セルに液晶組成物ＺＬＩ−１６９５（Ｅ．
Ｍｅｒｃｋ社製：Δｎ＝０．０６２５）を注入し、液晶
層厚ｄ＝５．０μｍにて液晶表示素子を作製した。図１
１はこの液晶表示素子のＴＦＴ基板の配向の様子を示す
図である。

【００４８】この液晶表示素子について液晶の配向を調
べたところ、均一な配向が得られた。この液晶表示素子
を駆動し、コントラストの視角依存性を測定したとこ
ろ、全方位よりほぼ均一な高品位な表示が得られた。ま
た、階調反転が起こらなくなり、ＣＲＴ並みの視野角が
得られた。また行毎に発生する筋状の線は観察されなか
った。 （実施例５）本実施例はＴＦＴ型液晶表示素子で、液晶
分子の配向方向が異なった領域の分割法が違う以外は
（実施例１）と同様にして本発明の液晶表示素子を形成
した。

【００４９】透明共通電極が形成された６インチのガラ
ス基板１１と画素電極およびＴＦＴ駆動素子が形成され
た６インチガラス基板１４を用意した。画素サイズは１
００×３００μｍである。

【００５０】基板１１、基板１４にポリイミド溶液を塗
布し、１８０℃で１時間焼成することでポリイミド配向
膜を５００オングストローム厚に形成し配向膜１２、１
５とした。

【００５１】このようにして得られた基板１３、１６を
セルを組み立てたとき液晶分子が９０°捻れになるよう
に第１回目のラビング配向処理を行った。この基板１
３、１６を図１３のように市松模様状にプレチルト角が
低くなるように処理した。プレチルト角を下げる処理と
は、プレチルトを下げたい部分に２００ｎｍ〜５００ｎ
ｍの紫外光を照射したり、赤外光（熱線）を当てたり、
アルカリ性溶液を浸漬したり、アセトン等の有機溶剤を
浸漬したりすることである。好ましい有機溶剤は、アセ
トン、乳酸エチル、エチルセルソルブアセテート、ジア
セトンアルコール、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル等溶解パラメータが８．７から１２．６ｃａｌ
^1/2 ・ｃｍ^-3/2、好ましくは９．２から１０．０ｃａｌ
^1/2 ・ｃｍ^-3/2のものがよい。

【００５２】基板１３と１６のプレチルト角を下げる処
理をした領域としなかった領域が対向するようにスペー
サを介して配置し、シール剤３０によりシールして液晶
セルを作製した。この液晶セルに液晶組成物ＺＬＩ−１
６９５（Ｅ．Ｍｅｒｃｋ社製：Δｎ＝０．０６２５）を
注入し、液晶層厚ｄ＝５．０μｍにて液晶表示素子を作
製した。

【００５３】この液晶表示素子について液晶の配向を調
べたところ、均一な配向が得られた。プレチルト角を下
げる処理をした領域としなかった領域では、液晶分子の
立ち上がり方向が逆になり、互いに視角を補償し合っ
た。この液晶表示素子を駆動し、コントラストの視角依
存性を測定したところ、全方位よりほぼ均一な高品位な
表示が得られた。また、素子を駆動したとき、行毎に発
生する筋状の線は観測されなかった。また、階調反転が
起こらなくなり、ＣＲＴ並みの視野角が得られた。 （実施例６）本実施例は液晶分子の配向方向が異なった
領域の分割法が画素或いは絵素単位ではなく、画素中央
の補助容量線の上下で分割されているものである。

【００５４】透明共通電極が形成された６インチのガラ
ス基板１１と画素電極およびＴＦＴ駆動素子が形成され
た６インチガラス基板１４を用意した。画素サイズは１
００×３００μｍである。

【００５５】基板１１、基板１４にポリイミド溶液を塗
布し、１８０℃で１時間焼成することでポリイミド配向
膜を５００オングストローム厚に形成し配向膜１２、１
５とした。

【００５６】このようにして得られた基板１３、１６を
セルを組み立てたとき液晶分子が９０°捻れになるよう
に第１回目のラビング配向処理を行った。この基板１
３、１６のラビング処理した配向膜上にポリイミド系ネ
ガ型レジストを塗布して露光・現像し、レジストパター
ン１７を形成した。この基板を第２回目のラビング配向
処理した。ラビング方向は、第１回目のラビング方向と
１８０°変えた。レジストを剥離して、図１４のように
配向処理した配向膜を得た。図中２３は補助容量線を示
す。

【００５７】基板１３と１６のラビング配向処理数の同
じ配向膜同士が内側になるようにスペーサを介して配置
し、シール剤３０によりシールして液晶セルを作製し
た。この液晶セルに液晶組成物ＺＬＩ−１６９５（Ｅ．
Ｍｅｒｃｋ社製：Δｎ＝０．０６２５）を注入し、液晶
層厚ｄ＝５．０μｍにて液晶表示素子を作製した。

【００５８】この液晶表示素子について液晶の配向を調
べたところ、均一な配向が得られた。この液晶表示素子
は補助容量線上にディスクリネーションラインが発生し
たため、補助容量線上にブラックマトリックスを設け
た。その結果、コントラストがやや低下しが、コントラ
ストの視角依存性を測定したところ、全方位よりほぼ均
一な高品位な表示が得られた。また、素子を駆動したと
き、行毎に発生する筋状の線は観測されなかった。ま
た、階調反転が起こらなくなり、ＣＲＴ並みの視野角が
得られた。

【００５９】なお、本発明はＴＦＴを用いたＴＮ−ＬＣ
Ｄのみならず、駆動手段としては、ＭＩＭを用いたアク
ティブマトリックス駆動でも、スイッチング素子を用い
ない単純な電極構造によるマルチプレックス駆動でも優
れた効果が得られることはいうまでもなく、ＴＮ以外の
ＳＴＮ，ＦＬＣ，ＰＣ，ＥＣＢモードや、これらに染料
を添加したＧＨモードの液晶表示素子に応用しても優れ
た効果を期待できる。

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、液晶分子の配向方向が
異なった複数の領域を互いに辺を介して隣接するように
配置させることによって、液晶の立ち上がり方向が前記
領域で異なるため、隣接する領域同士で視角を補償し合
い、階調反転のない広い視野角を有し、筋状の線が見え
ない液晶表示素子を提供できる。また、異なる配向領域
の境界を電極やブラックマトリックスにより隠すことに
より、光抜けのなく高いコントラストを有する液晶表示
素子を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図２】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図３】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図４】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図５】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図６】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図７】 本発明による液晶表示素子の製造方法を説明
する図

【図８】 本発明の第１の実施例の液晶表示素子のＴＦ
Ｔ基板の配向の様子を示す図

【図９】 本発明の第１の実施例の液晶表示素子のコン
トラスト曲線を示す図

【図１０】 本発明の第２の実施例の液晶表示素子のＴ
ＦＴ基板の配向の様子を示す図

【図１１】 本発明の第３の実施例の液晶表示素子の平
面図

【図１２】 本発明の第４の実施例の液晶表示素子のＴ
ＦＴ基板の配向の様子を示す図

【図１３】 本発明の第５の実施例の液晶表示素子のＴ
ＦＴ基板の配向の様子を示す図

【図１４】 本発明の第６の実施例の液晶表示素子のＴ
ＦＴ基板の配向の様子を示す図

【図１５】 従来の液晶表示素子の配向の様子を示す図

【図１６】 従来の液晶表示素子の配向の様子を示す図

【符号の説明】

１１ 基板 １２ 配向膜 １４ 基板 １５ 配向膜 １７ レジストパターン １８ ゲート線 １９ 信号線 ２０ ＴＦＴ ３０ シール剤

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】表面に電極と配向膜を有する第１の基板
   と、 表面に電極と配向膜を有する第２の基板と、 前記第１及び第２の基板は前記配向膜が互いに向かい合
   うように対向配置され、第１及び第２の基板間に液晶が
   挟持された液晶表示素子であって、 前記第１或いは第２の基板上の配向膜の内少なくとも一
   方は異なる配向方向を有する領域に分割されており、 第１の配向方向を有する第１の配向領域の辺を介して隣
   接する上下方向及び左右方向の領域は第１の配向領域と
   は異なる配向方向を有する配向領域を有することを特徴
   とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】表面に電極と配向膜を有する第１の基板
   と、 表面に電極と配向膜を有する第２の基板と、 前記第１及び第２の基板は前記配向膜が互いに向かい合
   うように対向配置され、第１及び第２の基板間に液晶が
   挟持された液晶表示素子であって、 前記第１或いは第２の基板上の配向膜の内少なくとも一
   方は異なる配向方向を有する領域に分割されており、 前記異なる配向方向を有する領域は市松模様状に配置さ
   れていることを特徴とする液晶表示装置。
3. 【請求項３】前記第１及び第２の基板上の電極の内少な
   くとも一方は非透光性の電極であり、前記第１の領域と
   前記異なる配向方向を有する領域との境界は前記非透光
   性電極上に位置することによりマスクされていることを
   特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。