JPH07230081A - ガラス基板の回収方法 - Google Patents
ガラス基板の回収方法Info
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- JPH07230081A JPH07230081A JP2022494A JP2022494A JPH07230081A JP H07230081 A JPH07230081 A JP H07230081A JP 2022494 A JP2022494 A JP 2022494A JP 2022494 A JP2022494 A JP 2022494A JP H07230081 A JPH07230081 A JP H07230081A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 9
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 15
- -1 alkyl diol Chemical class 0.000 abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0075—Cleaning of glass
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
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- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、製造工程で多量に発生して従来は廃
棄処分していた、液晶ディスプレイ用などのカラーフィ
ルターの不良基板の、カラーフィルター層とオーバーコ
ート層とを剥離してガラス基板を回収する、製造工程で
再利用できるガラス基板の回収方法を提供するものであ
る。 【構成】製造工程で発生した液晶ディスプレイ用などの
カラーフィルターの不良基板を、必要に応じて濃硫酸に
浸漬した後に、アルキルジオールとグリコールエーテル
とを含有したアルカリ水溶液に浸漬して、カラーフィル
ター層とオーバーコート層とを剥離することを特徴とす
る、ブラックマトリックスを形成したガラス基板の回収
方法。
棄処分していた、液晶ディスプレイ用などのカラーフィ
ルターの不良基板の、カラーフィルター層とオーバーコ
ート層とを剥離してガラス基板を回収する、製造工程で
再利用できるガラス基板の回収方法を提供するものであ
る。 【構成】製造工程で発生した液晶ディスプレイ用などの
カラーフィルターの不良基板を、必要に応じて濃硫酸に
浸漬した後に、アルキルジオールとグリコールエーテル
とを含有したアルカリ水溶液に浸漬して、カラーフィル
ター層とオーバーコート層とを剥離することを特徴とす
る、ブラックマトリックスを形成したガラス基板の回収
方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、製造工程で発生した液
晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不良基板
の、カラーフィルター層とオーバーコート層とを剥離し
て、ブラックマトリックスを形成したガラス基板を回収
する、製造工程で再利用できるガラス基板の回収方法に
関するものである。
晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不良基板
の、カラーフィルター層とオーバーコート層とを剥離し
て、ブラックマトリックスを形成したガラス基板を回収
する、製造工程で再利用できるガラス基板の回収方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在の、例えば顔料分散法による液晶デ
ィスプレイ用などのカラーフィルター基板の、一般的な
製造工程については、ブラックマトリックスを形成し
たガラス基板の洗浄工程と、適宜の感光性樹脂に顔料
を分散した顔料分散レジストの塗布工程と、温風で顔
料分散レジスト塗布層を定着固化させるプリベーク工程
と、フォトマスクを用いて、例えばＲedパターンを露
光現像するＲedパターニング工程と、同様にから
を繰返す、例えばＧreenパターニング工程と、また同
様にからを繰返す、例えばＢlueパターニング工程
と、最終的な検査,修正工程とオーバーコート層の形
成工程とを経て、完成した液晶ディスプレイ用などのカ
ラーフィルター基板が、次工程の透明電極(ＩＴＯ)層の
形成工程に供給されるものである。
ィスプレイ用などのカラーフィルター基板の、一般的な
製造工程については、ブラックマトリックスを形成し
たガラス基板の洗浄工程と、適宜の感光性樹脂に顔料
を分散した顔料分散レジストの塗布工程と、温風で顔
料分散レジスト塗布層を定着固化させるプリベーク工程
と、フォトマスクを用いて、例えばＲedパターンを露
光現像するＲedパターニング工程と、同様にから
を繰返す、例えばＧreenパターニング工程と、また同
様にからを繰返す、例えばＢlueパターニング工程
と、最終的な検査,修正工程とオーバーコート層の形
成工程とを経て、完成した液晶ディスプレイ用などのカ
ラーフィルター基板が、次工程の透明電極(ＩＴＯ)層の
形成工程に供給されるものである。
【０００３】また現在の、例えば印刷法による液晶ディ
スプレイ用などのカラーフィルター基板の、一般的な製
造工程については、ブラックマトリックスを形成した
ガラス基板の洗浄工程と、適宜の印刷インキを用いた
凹版オフセット印刷法などの、例えばＲedパターンの印
刷工程と、同様の、例えばＧreenパターンの印刷工程
と、また同様の、例えばＢlueパターンの印刷工程
と、温風でそれぞれの印刷インキ層を定着固化させる
ポストベーク工程と、最終的な検査,修正工程とオー
バーコート層の形成工程とを経て、完成した液晶ディス
プレイ用などのカラーフィルター基板が、同様に次工程
の透明電極(ＩＴＯ)層の形成工程に供給されるものであ
る。
スプレイ用などのカラーフィルター基板の、一般的な製
造工程については、ブラックマトリックスを形成した
ガラス基板の洗浄工程と、適宜の印刷インキを用いた
凹版オフセット印刷法などの、例えばＲedパターンの印
刷工程と、同様の、例えばＧreenパターンの印刷工程
と、また同様の、例えばＢlueパターンの印刷工程
と、温風でそれぞれの印刷インキ層を定着固化させる
ポストベーク工程と、最終的な検査,修正工程とオー
バーコート層の形成工程とを経て、完成した液晶ディス
プレイ用などのカラーフィルター基板が、同様に次工程
の透明電極(ＩＴＯ)層の形成工程に供給されるものであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述した、液晶ディス
プレイ用などのカラーフィルター基板の製造工程におい
ては、厳重に管理された無塵室内で慎重に製造されてい
るにもかかわらず、種々の原因によって、カラーフィル
ター基板の欠陥発生が避けられないものであって、最終
的なカラーフィルター基板の収率は、決して高いもので
はなかった。
プレイ用などのカラーフィルター基板の製造工程におい
ては、厳重に管理された無塵室内で慎重に製造されてい
るにもかかわらず、種々の原因によって、カラーフィル
ター基板の欠陥発生が避けられないものであって、最終
的なカラーフィルター基板の収率は、決して高いもので
はなかった。
【０００５】本発明は、製造工程で多量に発生して従来
は廃棄処分していた、液晶ディスプレイ用やプロジェク
ション用や撮像デバイス用などの、カラーフィルターの
不良基板の、カラーフィルター層とオーバーコート層と
を剥離して、ブラックマトリックスを形成したガラス基
板を回収する、製造工程で再利用できるガラス基板の回
収方法を提供するものである。
は廃棄処分していた、液晶ディスプレイ用やプロジェク
ション用や撮像デバイス用などの、カラーフィルターの
不良基板の、カラーフィルター層とオーバーコート層と
を剥離して、ブラックマトリックスを形成したガラス基
板を回収する、製造工程で再利用できるガラス基板の回
収方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、製造工程で発
生した液晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不
良基板を、必要に応じて濃硫酸に浸漬した後に、構造式
ＨＯ-Ｒ1-ＯＨ(式中のＲ1はＣnＨ2n(ｎは２〜６)を示
す)のアルキルジオールと、構造式Ｒ2-(Ｏ-ＣＨ2-Ｃ(-
Ｒ3)Ｈ)n-ＯＲ4(式中のＲ2はアルキル基又はアリル基、
Ｒ3はＨ又はメチル基、Ｒ4はＨ又はアルキル基又はアリ
ル基、ｎは正の整数を示す)のグリコールエーテルと、を
含有したアルカリ水溶液に浸漬して、カラーフィルター
層とオーバーコート層とを剥離して、ブラックマトリッ
クスを形成したガラス基板を回収する、製造工程で再利
用できるガラス基板の回収方法である。
生した液晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不
良基板を、必要に応じて濃硫酸に浸漬した後に、構造式
ＨＯ-Ｒ1-ＯＨ(式中のＲ1はＣnＨ2n(ｎは２〜６)を示
す)のアルキルジオールと、構造式Ｒ2-(Ｏ-ＣＨ2-Ｃ(-
Ｒ3)Ｈ)n-ＯＲ4(式中のＲ2はアルキル基又はアリル基、
Ｒ3はＨ又はメチル基、Ｒ4はＨ又はアルキル基又はアリ
ル基、ｎは正の整数を示す)のグリコールエーテルと、を
含有したアルカリ水溶液に浸漬して、カラーフィルター
層とオーバーコート層とを剥離して、ブラックマトリッ
クスを形成したガラス基板を回収する、製造工程で再利
用できるガラス基板の回収方法である。
【０００７】本発明のガラス基板の回収方法における、
アルキルジオールとグリコールエーテルとを含有したア
ルカリ水溶液については、アルキルジオール(例えばプ
ロピレングリコール(ＨＯ-ＣＨ2-Ｃ(-ＣＨ3)Ｈ-ＯＨ))
の２０〜３０重量部と、グリコールエーテル(例えばエ
チレングリコールモノメチルエーテル(ＣＨ3-Ｏ-ＣＨ2-
ＣＨ2-ＯＨ))の５〜２０重量部と、水酸化ナトリウム
(ＮaＯＨ)の１０〜２０重量部とを、３０〜６５重量部
の水(Ｈ2Ｏ)に溶解して、５５℃程度に加温したもので
ある。
アルキルジオールとグリコールエーテルとを含有したア
ルカリ水溶液については、アルキルジオール(例えばプ
ロピレングリコール(ＨＯ-ＣＨ2-Ｃ(-ＣＨ3)Ｈ-ＯＨ))
の２０〜３０重量部と、グリコールエーテル(例えばエ
チレングリコールモノメチルエーテル(ＣＨ3-Ｏ-ＣＨ2-
ＣＨ2-ＯＨ))の５〜２０重量部と、水酸化ナトリウム
(ＮaＯＨ)の１０〜２０重量部とを、３０〜６５重量部
の水(Ｈ2Ｏ)に溶解して、５５℃程度に加温したもので
ある。
【０００８】
【作用】本発明のガラス基板の回収方法においては、製
造工程で発生した液晶ディスプレイ用などのカラーフィ
ルターの不良基板を、前述したアルキルジオールとグリ
コールエーテルとを含有したアルカリ水溶液に、１０〜
１５分間程度浸漬することによって、ガラス基板と定着
固化させたカラーフィルター層との密着力及びこのカラ
ーフィルター層とオーバーコート層との密着力が低下し
て、それぞれ剥離するものであって、硼珪酸ガラス製の
ガラス基板に変質や損傷などを与えないで、支障なく製
造工程で再利用できる状態で、ブラックマトリックスを
形成したガラス基板を回収できるものである。
造工程で発生した液晶ディスプレイ用などのカラーフィ
ルターの不良基板を、前述したアルキルジオールとグリ
コールエーテルとを含有したアルカリ水溶液に、１０〜
１５分間程度浸漬することによって、ガラス基板と定着
固化させたカラーフィルター層との密着力及びこのカラ
ーフィルター層とオーバーコート層との密着力が低下し
て、それぞれ剥離するものであって、硼珪酸ガラス製の
ガラス基板に変質や損傷などを与えないで、支障なく製
造工程で再利用できる状態で、ブラックマトリックスを
形成したガラス基板を回収できるものである。
【０００９】また、本発明のガラス基板の回収方法にお
いては、製造工程で発生した液晶ディスプレイ用などの
カラーフィルターの不良基板を、必要に応じて濃度９８
％程度の濃硫酸に、５〜３０分間浸漬することによっ
て、定着固化させたカラーフィルター層とオーバーコー
ト層との表面が粗化して、アルキルジオールとグリコー
ルエーテルとを含有したアルカリ水溶液の、それぞれの
密着力を低下させて剥離させる作用を容易にするもので
ある。
いては、製造工程で発生した液晶ディスプレイ用などの
カラーフィルターの不良基板を、必要に応じて濃度９８
％程度の濃硫酸に、５〜３０分間浸漬することによっ
て、定着固化させたカラーフィルター層とオーバーコー
ト層との表面が粗化して、アルキルジオールとグリコー
ルエーテルとを含有したアルカリ水溶液の、それぞれの
密着力を低下させて剥離させる作用を容易にするもので
ある。
【００１０】
＜実施例１＞アクリル樹脂系の顔料分散レジストを用い
て、顔料分散法によって製造した液晶ディスプレイ用の
カラーフィルター基板の、製造工程で発生した不良基板
を、濃度９８％の濃硫酸(常温)に１０分間浸漬した後
に、水洗して、５５℃に加温した後述する構成の、アル
キルジオールとグリコールエーテルとを含有したアルカ
リ水溶液に１０分間浸漬して、必要に応じて純水中で軽
くスポンジラビング(手こすり)して、アクリル樹脂系の
カラーフィルター層とアクリル樹脂系のオーバーコート
層とを剥離して、洗浄して乾燥させたところ、硼珪酸ガ
ラス製のガラス基板に変質や損傷などを全く与えない
で、支障なく製造工程で再利用できる状態で、ブラック
マトリックスを形成したガラス基板が回収できたもので
ある。
て、顔料分散法によって製造した液晶ディスプレイ用の
カラーフィルター基板の、製造工程で発生した不良基板
を、濃度９８％の濃硫酸(常温)に１０分間浸漬した後
に、水洗して、５５℃に加温した後述する構成の、アル
キルジオールとグリコールエーテルとを含有したアルカ
リ水溶液に１０分間浸漬して、必要に応じて純水中で軽
くスポンジラビング(手こすり)して、アクリル樹脂系の
カラーフィルター層とアクリル樹脂系のオーバーコート
層とを剥離して、洗浄して乾燥させたところ、硼珪酸ガ
ラス製のガラス基板に変質や損傷などを全く与えない
で、支障なく製造工程で再利用できる状態で、ブラック
マトリックスを形成したガラス基板が回収できたもので
ある。
【００１１】本実施例の、アルキルジオールとグリコー
ルエーテルとを含有したアルカリ水溶液の構成は、プロ
ピレングリコール(ＨＯ-ＣＨ2-Ｃ(-ＣＨ3)Ｈ-ＯＨ))の
２４重量部と、エチレングリコールモノメチルエーテル
(ＣＨ3-Ｏ-ＣＨ2-ＣＨ2-ＯＨ))の８重量部と、水酸化ナ
トリウム(ＮaＯＨ)の１２重量部とを、５６重量部の水
(Ｈ2Ｏ)に溶解したものであった。
ルエーテルとを含有したアルカリ水溶液の構成は、プロ
ピレングリコール(ＨＯ-ＣＨ2-Ｃ(-ＣＨ3)Ｈ-ＯＨ))の
２４重量部と、エチレングリコールモノメチルエーテル
(ＣＨ3-Ｏ-ＣＨ2-ＣＨ2-ＯＨ))の８重量部と、水酸化ナ
トリウム(ＮaＯＨ)の１２重量部とを、５６重量部の水
(Ｈ2Ｏ)に溶解したものであった。
【００１２】＜実施例２＞メラミン-エポキシ樹脂系の
印刷インキを用いて、印刷法によって製造したプロジェ
クション用のカラーフィルター基板の、製造工程で発生
した不良基板を、濃度９８％の濃硫酸(常温)に２０分間
浸漬した後に、水洗して、５５℃に加温した実施例１と
同一構成の、アルキルジオールとグリコールエーテルと
を含有したアルカリ水溶液に１５分間浸漬して、純水中
で軽くスポンジラビング(手こすり)して、メラミン-エ
ポキシ樹脂系のカラーフィルター層とアクリル樹脂系の
オーバーコート層とを剥離して、洗浄して乾燥させたと
ころ、実施例１と同様に、硼珪酸ガラス製のガラス基板
に変質や損傷などを全く与えないで、支障なく製造工程
で再利用できる状態で、ブラックマトリックスを形成し
たガラス基板が回収できたものである。
印刷インキを用いて、印刷法によって製造したプロジェ
クション用のカラーフィルター基板の、製造工程で発生
した不良基板を、濃度９８％の濃硫酸(常温)に２０分間
浸漬した後に、水洗して、５５℃に加温した実施例１と
同一構成の、アルキルジオールとグリコールエーテルと
を含有したアルカリ水溶液に１５分間浸漬して、純水中
で軽くスポンジラビング(手こすり)して、メラミン-エ
ポキシ樹脂系のカラーフィルター層とアクリル樹脂系の
オーバーコート層とを剥離して、洗浄して乾燥させたと
ころ、実施例１と同様に、硼珪酸ガラス製のガラス基板
に変質や損傷などを全く与えないで、支障なく製造工程
で再利用できる状態で、ブラックマトリックスを形成し
たガラス基板が回収できたものである。
【００１３】
【発明の効果】以上、作用及び実施例に示すとおり、本
発明のガラス基板の回収方法においては、製造工程で発
生した液晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不
良基板を、必要に応じて濃硫酸に浸漬した後に、構造式
ＨＯ-Ｒ1-ＯＨ(式中のＲ1はＣnＨ2n(ｎは２〜６)を示
す)のアルキルジオールと、構造式Ｒ2-(Ｏ-ＣＨ2-Ｃ(-
Ｒ3)Ｈ)n-ＯＲ4(式中のＲ2はアルキル基又はアリル基、
Ｒ3はＨ又はメチル基、Ｒ4はＨ又はアルキル基又はアリ
ル基、ｎは正の整数を示す)のグリコールエーテルと、を
含有したアルカリ水溶液に、１０〜１５分間程度浸漬す
ることによって、カラーフィルター層とオーバーコート
層とを、それぞれの密着力を低下させて剥離して、硼珪
酸ガラス製のガラス基板に変質や損傷などを全く与えな
いで、支障なく製造工程で再利用できる状態で、ブラッ
クマトリックスを形成したガラス基板を回収できるもの
であって、原材料費(製品価格)の低減と資源の有効活用
とに寄与できるものである。
発明のガラス基板の回収方法においては、製造工程で発
生した液晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不
良基板を、必要に応じて濃硫酸に浸漬した後に、構造式
ＨＯ-Ｒ1-ＯＨ(式中のＲ1はＣnＨ2n(ｎは２〜６)を示
す)のアルキルジオールと、構造式Ｒ2-(Ｏ-ＣＨ2-Ｃ(-
Ｒ3)Ｈ)n-ＯＲ4(式中のＲ2はアルキル基又はアリル基、
Ｒ3はＨ又はメチル基、Ｒ4はＨ又はアルキル基又はアリ
ル基、ｎは正の整数を示す)のグリコールエーテルと、を
含有したアルカリ水溶液に、１０〜１５分間程度浸漬す
ることによって、カラーフィルター層とオーバーコート
層とを、それぞれの密着力を低下させて剥離して、硼珪
酸ガラス製のガラス基板に変質や損傷などを全く与えな
いで、支障なく製造工程で再利用できる状態で、ブラッ
クマトリックスを形成したガラス基板を回収できるもの
であって、原材料費(製品価格)の低減と資源の有効活用
とに寄与できるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３７６ 7610−5Ｇ
Claims (1)
- 【請求項１】製造工程で発生した液晶ディスプレイ用な
どのカラーフィルターの不良基板を、必要に応じて濃硫
酸に浸漬した後に、構造式ＨＯ-Ｒ1-ＯＨ(式中のＲ1は
ＣnＨ 2n(ｎは２〜６)を示す)のアルキルジオールと、構
造式Ｒ2-(Ｏ-ＣＨ2-Ｃ(-Ｒ3)Ｈ)n-ＯＲ4(式中のＲ2はア
ルキル基又はアリル基、Ｒ3はＨ又はメチル基、Ｒ4はＨ又
はアルキル基又はアリル基、ｎは正の整数を示す)のグリ
コールエーテルと、を含有したアルカリ水溶液に浸漬し
て、カラーフィルター層とオーバーコート層とを剥離す
ることを特徴とする、ブラックマトリックスを形成した
ガラス基板の回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022494A JPH07230081A (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | ガラス基板の回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022494A JPH07230081A (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | ガラス基板の回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07230081A true JPH07230081A (ja) | 1995-08-29 |
Family
ID=12021204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022494A Pending JPH07230081A (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | ガラス基板の回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07230081A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009041126A1 (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶パネルの製造方法 |
| JP2010015080A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用ガラス基板の再生方法 |
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1994
- 1994-02-17 JP JP2022494A patent/JPH07230081A/ja active Pending
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