JPH08146403A - 遮光性塗膜を形成した基板等の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】透明基板上に、格子状または縞状等の微細な模
様の遮光性塗膜を精度よく形成した基板およびそれを用
いたカラーフィルターの製造法を提供する。 【構成】（a）透明基板表面に、ポジ型またはネガ型フ
ォトレジストを塗布して、塗膜を形成し、遮光性塗膜を
形成する予定の部分以外の部分を覆う塗膜にマスクを重
ねて、露光する工程、（b）遮光性塗膜を形成する予定
の部分に存在する塗膜を除去する現像工程、（c）透明
基板表面に遮光性付与添加剤を含有するネガ型フォトレ
ジストを塗布して、塗膜を形成、露光する工程、（d）
（b）工程で形成された塗膜の未硬化部分を除去する現
像工程、（e）上記（b）工程で形成された塗膜のみを除
去する工程、を上記の順に行なうことを特徴とする方
法。上記製造方法によって得られる遮光性塗膜を有する
基板の画素部に、三原色の塗膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、格子状または縞状等の
微細な模様を有する遮光性塗膜を形成した基板およびカ
ラー液晶表示装置（ＬＣＤ）に使用されるカラーフィル
ターの製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶を利用したＬＣＤは、いわゆ
るポケットテレビ等に使われてきたが、近年大型化、大
画面化が急速に進められている。画質もTN液晶からSTN
液晶やTFTに代表されるアクティブ駆動素子の開発でCRT
に迫るものが商品化されている。カラー表示装置の画
質向上と生産性の改善については、様々な検討が行われ
ているが、その重要な技術の一つとして、光リーク防止
及び画質向上（見かけのコントラスト) のためのブラッ
クマトリックスと呼ばれる遮光膜の形成方法及び形状の
問題がある。ＬＣＤのカラー化に使用されるカラーフィ
ルターのカラーの画素の塗膜以外の部分を埋める、格子
状または縞状の遮光性塗膜（ブラックマトリックス）の
形成に使用される方法としては、シルクスクリーン法、
オフセット法などの印刷技術による方法が知られてい
る。また、基板上にクロムなどの金属薄膜をスパッタリ
ングなどにより形成した後、フォトリソグラフィー、エ
ッチングによりブラックマトリックスを形成する方法が
知られている。最近、黒色顔料を含むネガレジストが開
発され、直接フォトリソグラフィーによりブラックマト
リックスを形成する方法が検討されている。また、複数
の平行な帯状の導電性回路上に帯状のカラーの塗膜を電
着法により形成し、次いで遮光性塗膜を与えるネガ型フ
ォトレジストを全面に塗布して、前記カラーの塗膜をマ
スク代わりにして基板背面から露光して、帯状のカラー
の塗膜の間隙にブラックマトリックスとしての遮光性塗
膜を形成する方法が知られている（特開昭５９−１１４
５７２公報、特開平３−４２６０２）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし最近、将来が有
望視されているTFT 方式のLCD においては、スイッチン
グ素子の光リークを防ぐため、遮光膜の遮光率向上が要
求されている。更に、画質向上のため、遮光膜のパター
ンは、格子状その他の複雑な形状が望まれることが多く
なった。しかしながら、従来の方法において、遮光性塗
膜を印刷により形成する方法は、格子状の場合、格子間
が約１００μｍの空隙程度のパターンのものしかでき
ず、もっと微細な格子状の遮光性塗膜を精度よく形成す
ることはできなかった。また、黒色顔料を含むネガレジ
ストを用いて直接フォトリソグラフィーにより遮光性塗
膜（ブラックマトリックス）を形成する方法が検討され
ているが、遮光率が高くなるとレジストの光硬化が進ま
ず、精度よく遮光性塗膜を形成することが困難となる。
また、従来の電着法により形成した帯状のカラー塗膜を
マスク代わりにして基板背面から露光する方法は、遮光
性塗膜を帯状のカラー塗膜間に精度よく形成できるが、
帯状のカラー塗膜を横切る方向に遮光性塗膜を形成すこ
とが困難であるという課題があった。

【０００４】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決し、透明基板上に、格子状または縞状等
の微細な模様の遮光性塗膜を精度よく形成した基板およ
びそれを用いたカラーフィルターの製造法を提供するこ
とである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、フォトリ
ソグラフィーにおいて使用するレジストにおいて、露光
により透過率が低下するものがあることに着眼し、従来
の背面露光法による遮光膜の形成方法を応用しその他い
ろいろの工夫をすることにより、上記の目的を達成しう
ることを見出し本発明を完成させたものである。すなわ
ち、本発明は次のとおりである。 （１）微細な模様の遮光性塗膜を形成した基板を製造す
る方法において、（a）透明基板表面に、その塗膜に露
光を行うことにより光透過率を低下させることができる
性質を有するポジ型またはネガ型フォトレジストを塗布
して、塗膜を形成する工程、（b）形成されたポジ型ま
たはネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、遮光性塗膜を
形成する予定の部分以外の部分を覆う塗膜を次の現像工
程で与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、光
線を照射する露光工程、（c）遮光性塗膜を形成する予
定の部分に存在する塗膜を除去する現像工程、（d）必
要に応じて現像工程で残った塗膜を再露光する工程、
（e）以上の工程を経て得られた透明基板表面に遮光性
付与添加剤を含有するネガ型フォトレジストを塗布し
て、塗膜を形成する工程、（f）透明基板の背面より露
光する工程、（g）下地に上記（ｃ）または（d）工程で
形成された塗膜が存在するために十分露光されなかっ
た、（e）工程で形成された塗膜の未硬化部分を除去す
る現像工程、（h）上記（c）または（d）工程で形成さ
れた塗膜のみを除去する工程、を上記の順に行なうこと
を特徴とする方法。

【０００６】（２）遮光性塗膜の模様が格子状または縞
状であり、模様状の塗膜の空間の最短幅が約２００μm
以下である上記（１）記載の方法。 （３）上記（２）または（３）に記載された製造方法に
よって得られる、ブラックマトリックスとしての微細な
模様の遮光性塗膜を有する基板の画素部に、三原色の塗
膜を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造
法。 （４）上記（２）または（３）に記載された製造方法に
よって得られる、ブラックマトリックスとしての微細な
模様の遮光性塗膜を有する基板の画素部に、三原色の塗
膜を形成し、オーバーコート膜を形成し、さらにその上
に液晶駆動用の透明導電膜を形成することを特徴とする
カラーフィルターの製造法。

【０００７】本発明において使用される透明基板材料と
しては、ガラスあるいはプラスチックの板等があげられ
る。ＬＣＤ用のカラーフィルターを製造する場合、ブラ
ックマトリックス形成後、画素部にR（赤）、G（緑）、
B（青）の着色層を形成するためには、電着法、顔料分
散法、印刷法などが利用されている。電着法により着色
層を形成する場合、この基板上に導電層あるいは導電性
回路が必要となる。導電層および導電性回路は、ITO 膜
（錫をドーブした酸化インジウム膜）あるいは、ネサ膜
（アンチモンドープした酸化錫膜）等の透明導電性材料
により作られる。これらは、従来より良く知られている
方法で作られる。

【０００８】本発明において、一例として格子状の模様
をもつ遮光性塗膜を形成した基板を製造する場合に、
（ａ）〜（ｈ）の各工程で得られる製品の断面の模式図
を図１に示した。また、本発明における（ｈ）工程で得
られる格子状（Ａ）および縞状（Ｂ）の機能性塗膜の平
面の模式図を図２に示した。本発明において、遮光性塗
膜の模様（平面）は格子状、縞状のほか任意の模様とす
ることができる。一般的なLCDに用いられるカラーフィ
ルターの遮光性塗膜（ブラックマトリックス）の場合、
その塗膜の空間の最短幅は約２００μm以下である。本
発明方法は、そのような遮光性塗膜を形成するのに特に
有効である。本発明において、塗膜の空間の最短幅と
は、図２で説明すると塗膜の空間部分１の幅をいう。

【０００９】本発明における（ａ）の工程は、導電層を
有するまたは有しない透明基板表面に、遮光性膜を与え
るネガ型またはポジ型フォトレジストを塗布して塗膜を
形成する工程である。ここで用いられるフォトレジスト
は、フォトリソグラフィーにおける露光工程、その後の
現像工程後の再露光によりレジスト塗膜の光透過率が大
きく低下するものが用いられる。好ましくは、その塗膜
に露光を行うことにより、その塗膜の光透過率を可視領
域（４００〜７００ｎｍ）で約１０％以下、さらに好ま
しくは約５％以下に低下させることができる性質を有す
るものである。この場合の塗膜の厚さは０．５から３μ
ｍ程度である。好ましいものとして、クレゾールノボラ
ック系樹脂およびナフトキノンジアジド系の感光剤を含
むフォトレジストがあげられる。クレゾールノボラック
系樹脂は、クレゾール類とアルデヒド類とを縮合させて
得られる樹脂である。クレゾール類としては、ｍー、ｐ
ーまたはｏークレゾールがあげられる。アルデヒド類と
しては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、クロト
ンアルデヒド、サリチルアルデヒド等があげられる。と
くに、ｐークレゾール、またはこれと他のクレゾールも
しくはフェノール類との混合物と、アルデヒド類とを縮
合させて得られる樹脂が好ましい。クレゾールノボラッ
ク系樹脂の分子量は、ポリスチレン換算の重量平均分子
量で３０００〜１２０００が好ましい。フォトレジスト
中には、樹脂および感光剤の他に有機溶剤、必要に応じ
て顔料、架橋剤等が加えられる。有機溶剤としては、例
えば、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルおよびエチレングリコールモノイ
ソロピルエーテル等のエーテル類、メチルイソブチルケ
トン、メチルエチルケトン、シクロペンタノンおよびシ
クロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、乳酸メチルおよび乳酸エチル等のエステル
類、Ｎ，ＮージメチルホルムアミドおよびＮ，Ｎージメ
チルアセトアミド等のアミド類、Ｎーメチルピロリドン
等のピロリドン類、γーブチロラクトン等のラクトン類
ならびにジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等が
あげられる。フォトレジストの例として、商品名ＰＦＩ
−２５（ポジ型フォトレジスト、住友化学工業株式会社
製）があげられる。

【００１０】透明基板上にポジ型またはネガ型フォトレ
ジスト塗膜を形成する方法としては、スクリーン印刷
法、オフセット印刷法、ロールコート法、バーコート
法、スピンコート法等が使用できる。これらの中で、ス
ピンコート法により塗膜を形成する場合には、回転数
は、二段階とし、初めに１００〜４００rpm でレジスト
を基板上に広げ、次に８００〜５０００rpm でそのレジ
ストの膜厚を均一にすることが推奨される。スピンコー
ト法は、透明基板上に忠実に精度良く塗膜を形成するこ
とができるため有用である。透明基板上に塗布されたネ
ガ型またはポジ型フォトレジストは、次に、必要に応じ
て、６０〜１００℃、時間５〜６０分の条件で熱処理さ
れる。熱処理をすることにより、ネガ型またはポジ型フ
ォトレジスト中の樹脂が予備硬化され、その塗膜と透明
基板との密着性がが向上する。

【００１１】（ｂ）の工程は、形成されたネガ型または
ポジ型フォトレジストの塗膜の表面に、遮光性を形成す
る予定の部分以外の部分を覆う塗膜を次の現像工程で与
えるようなパターンを有するマスクを重ねて、光線を照
射する露光工程である。（ｂ）の工程での露光には、ネ
ガ型またはポジ型フォトレジスト塗膜の種類により種々
の範囲の波長光を使用できるが、一般にUV領域が望まし
く、光源として超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等
を使用した装置を用いることができる。この装置は、パ
ターンニングの精度のためにも、ミラー式の平行光のも
のが望ましい。

【００１２】露光条件は、ポジ型フォトレジスト塗膜の
場合は、使用する光量および塗膜の種類により異なる
が、通常、１０〜５００ｍＪ／ｃｍ² である。露光され
た部分は分解反応が進行して、後述する薬剤に可溶とな
る。また、ネガ型フォトレジスト塗膜の場合は、使用す
る光量および塗膜の種類により異なるが、通常、露光量
は１０〜５００ｍＪ／ｃｍ² である。露光されない部分
は硬化が進まず、後述する薬剤に可溶となる。

【００１３】(C) の工程は、遮光性塗膜を形成する予定
の部分に存在する塗膜を除去する現像工程である。ポジ
型フォトレジスト塗膜の場合は、塗膜の露光部分が溶解
され、除去される。その除去には、適当な溶解力を有す
る薬剤（現像液）に接触させることによって行なうこと
ができる。このような薬剤は、ポジ型フォトレジスト塗
膜の種類によって種々選択されるが、通常は、カ性ソー
ダ、炭酸ナトリウム、４級アンモニウム塩及び有機アミ
ン等を水に溶かして得られる、アルカリ性水溶液、ある
いはエステル、ケトン、アルコール、芳香族炭化水素、
塩素化炭化水素の有機溶剤から適宜選択使用する。その
除去は、浸漬あるいはシャワーなどの方法により、５秒
ないし３分程度で行なうことができる。その後、残った
塗膜を水、純水等でよく洗浄する。

【００１４】また、ネガ型フォトレジスト塗膜の場合
は、塗膜の未露光部分が未硬化部分となり除去される。
その除去は、上記のポジ型フォトレジスト塗膜の場合と
同様にして行なうことができる。この工程により、マス
クのパターン形状に応じて、ネガ型またはポジ型フォト
レジスト塗膜からなる遮光性塗膜が形成される。ここで
形成される塗膜の模様の例として、図２のＡ、Ｂがあげ
られる。

【００１５】（ｄ）工程は、（ｃ）工程で形成したポジ
型またはネガ型フォトレジストの塗膜を必要に応じて再
露光する工程である。この再露光は、（ｃ）工程で形成
したポジ型またはネガ型フォトレジストの塗膜の透過率
を低下させる働きをする。この塗膜パターン自身が
（ｅ）工程で塗布されたネガ型フォトレジスト塗膜の微
細パターンを形成するためのフォトマスクを形成するこ
とになる。再露光の条件は、フォトレジストの種類によ
り種々の範囲の波長の光が選択されるできるが、一般に
は、UV領域が望ましく、光源として超高圧水銀灯、メタ
ルハライドランブ等を使用した装置を用いることができ
る。露光条件は、使用する光量およびフォトレジストの
種類により異なるが、通常は、露光量１００〜２０００
ｍＪ／ｃｍ²である。再露光によりその塗膜の可視光
（４００〜７００ｎｍ）の透過率を約１０％以下に低下
させることが好ましい。（ｂ）工程での露光でその塗膜
の光透過率がこの水準以下に低下している場合は、この
再露光工程を省略することができる。

【００１６】（ｅ) の工程は、以上の工程により得られ
た透明基板表面に遮光性付与添加剤を含有するネガ型フ
ォトレジストを塗布して、塗膜を形成する工程である。
この塗布は、スピンコート法、ロールコート法、スクリ
ーン印刷、オフセット印刷、浸漬コート法などの比較的
均質な塗膜が得られる方法で行う。ネガ型フォトレジス
トとしては、UV領域の光源で硬化反応する、いわゆるUV
硬化型の材料が好ましい。それらの主成分として、アク
リル系、ウレタン系、エポキシ系、合成ゴム系、ポリビ
ニルアルコール系等の各種の樹脂あるいは、ゴムまたは
ゼラチンがあり、それぞれ単独あるいは混合して使用す
ることができる。それらは、光硬化型塗料、インキある
いはネガ型レジストとして市販されている。これらの材
料には、遮光性付与添加剤である適当な顔料あるいは遮
光剤が加えられる。また、反応性希釈剤、反応開始剤、
光増感剤などを適宜加えることができる。

【００１７】ネガ型フォトレジストは塗布するに際し、
その作業性をよくするために、有機溶剤希釈型の材料で
は、炭化水素、エステル、ケトンなどの適当な有機溶剤
で、また、水希釈型の材料では、水で、適当な粘度ある
いは固形分まで希釈して使用する。

【００１８】（ｆ）の工程は、透明基板の背面より露光
する工程である。露光は、ネガ型フォトレジストの種類
により種々の範囲の波長の光が使用できるが、一般に
は、UV領域が望ましく、光源として超高圧水銀灯、メタ
ルハライドランプ等を使用した装置を用いることができ
る。露光条件は、使用する光量およびネガ型フォトレジ
ストの種類により異なるが、通常は、露光量１００〜２
０００ｍＪ／ｃｍ² である。露光された部分は、架橋反
応が進行し不溶性となり硬化する。

【００１９】（ｇ）の工程は、下地に上記（ｃ）または
（ｄ）工程で形成された透過率が低下した塗膜が存在す
るために十分に露光されなかった（ｅ）工程で形成され
た塗膜の未硬化部分を除去する現像工程である。その部
分の除去は、適当な溶解力を有する薬剤、例えば、現像
液、に接触させ、溶出することにより行われる。このよ
うな薬剤は、ネガ型フォトレジスト塗膜の種類により選
択されるが、通常はカ性ソーダ、炭酸ソーダ、４級アン
モニウム塩又は有機アミン等を水に溶かしたアルカリ水
溶液、あるいはエステル、ケトン、アルコール、塩素化
炭化水素等の有機溶剤が適宜使用される。溶出は浸潰あ
るいはシャワーなどにより３０秒ないし５分程度行えば
よい。その後に、水、有機溶剤などを使用してよく洗浄
を行なう。必要であれば、１００〜２００℃、５〜６０
分間の条件で熱処理される。この工程により、遮光性塗
膜が形成される。

【００２０】（ｈ）の工程は（ｃ）または（ｄ）工程で
形成されたポジ型またはネガ型フォトレジスト塗膜のみ
をはく離除去する工程である。除去は適当な溶解力を有
する薬剤、例えば、いわゆる現像液に接触させることに
より行われる。かかる薬剤は塗膜により種々選択される
が、通常カ性ソーダ、アミン等のアルカリ水溶液、ある
いはエステル、ケトン、アルコール、エーテル、塩素化
炭化水素等の有機溶剤が、適宜使用される。この塗膜の
除去は、浸漬あるいはシャワーなどにより３０秒ないし
２０分程度行えばよい。適宜、ブラシ、織布などによる
ラビングが使用される。この工程により、格子状または
縞状等の微細な模様の遮光性塗膜が残りブラックマトリ
ックスが形成される。その後に有機溶剤、水などを使用
して良く洗浄を行ない、次に必要があれば求められる性
能を出すために必要により、１００〜２８０℃、１０〜
１２０分間の条件で熱処理される。

【００２１】ＬＣＤ用等のカラーフィルターをつくる場
合、本発明方法を使って透明基板上にブラックマトリッ
クス塗膜を形成後、それらの間隙（画素部）に通常の電
着塗装法、顔料分散法あるいは印刷法により三原色
（赤、緑、青）の塗膜を所定の配列で形成させる。この
後、この上にオーバーコート膜（保護膜）が形成され
る。オーバーコート材としては、エポキシ、ポリイミ
ド、アクリレート系などの樹脂が用いられる。オーバー
コート膜の形成は、スピンコーター又はロールコーター
などにより樹脂を塗布後、熱硬化することにより行なわ
れる。そして、さらにその上に液晶駆動電極用として、
透明導電膜が形成され、必要に応じて回路パターンが形
成され、カラーフィルターが完成する。

【００２２】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明
する。

【実施例】

（１）ポジ型フォトレジスト塗膜の形成 透明基板全体にポジ型フォトレジスト（商品名ＰＦＩ−
２５、ｐークレゾールとｍークレゾールとホルムアルデ
ヒドを縮合させて得られるクレゾールノボラックおよび
ｏーナフトキノンジアジドー５ースルホン酸エステルを
主成分として含む、住友化学工業株式会社製）の塗布を
スピンコート法で２００rpm／５秒、１０００rpm／２０
秒の二段階を順に行い、９０℃で３０分間熱処理して、
膜厚１．５ μｍのポジ型フォトレジスト塗膜を形成し
た。（以上（ａ）工程）

【００２３】（２）露光 ポジ型フォトレジスト塗膜上に、格子状にパターニング
された（開口部：６０μm×２００μm）パターンマスク
をセットし（ギャップ：３０μm）、超高圧水銀灯を光
源としたプロキシミティ露光機（大日本科研製 MAP - 1
200 ）により露光量１００ｍＪ／ｃｍ²で露光を行っ
た。（以上（ｂ）工程）

【００２４】（３）現像 露光後、現像液（商品名 SOPD、住友化学工業株式会社
製、温度25℃）に６０秒浸漬して現像し、露光部分を除
去し、純水リンスおよびエアーブロー乾燥により格子の
窓部にポジ型フォトレジスト膜を形成した。（以上
（ｃ）工程）

【００２５】（４）再露光 上記（ｃ）工程で得られた、格子の窓部のポジ型フォト
レジスト塗膜を有する基板を超高圧水銀灯を光源とした
プロキシミティ露光機（大日本科研製 MAP - 1200 ）に
より露光量５００ｍＪ／ｃｍ²で再露光を行った。〔以
上（ｄ）工程〕

【００２６】（５）ネガ型フォトレジスト塗膜の形成 上記（ｄ）の工程を経た基板の全面にブラックマスク用
フォトレジストCK2000（ネガ型フォトレジスト）（富士
ハントエレクトロニクステクノロジー社製）をスピンコ
ート法で２００rpm／５秒、１０００rpm／２０秒の二段
階を順に行い、塗布した。塗布後、１００℃で１０分間
熱処理を行った。形成された膜の厚さは約２μｍであっ
た。〔以上（ｅ）工程〕

【００２７】（６）ネガ型フォトレジスト塗膜の露光 上記（ｅ）の工程を経た基板に対し、背面（回路を有す
る面の反対側）１０cmの距離から８０W のUV光線を１０
秒照射した。露光量１０００ｍＪ／ｃｍ² 。この時用い
たUV光線の主波長は３１３nmおよび３６５nmであった。
〔以上（ｆ）工程〕

【００２８】（７）現像および洗浄 上記（ｆ）の工程を経た基板を、現像液（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー社製、商品名ＣＤ液１重量
部に対して純水１０重量部を混合したもの）に５分間浸
漬して、未露光部分（下地に上記（ｄ）の工程で形成さ
れた透過率の低いポジ型レジスト塗膜が存在するために
露光が妨げられた部分）の塗膜を除去した。次に純水リ
ンスおよびエアーブロー乾燥を行なった後、１２０°C
、３０分間加熱し、硬化させた。〔（ｇ）工程〕

【００２９】（８）ポジ型フォトレジスト塗膜の除去 格子の窓部に形成されているポジ型フォトレジスト塗膜
を、４０℃に加温した１重量％苛性ソーダ水溶液に５分
間浸漬した後、純水シャワーをかけながらブラシにより
ポジ型フォトレジスト塗膜のみの剥離除去を行なった。
この後、よく洗浄してエアーブロー乾燥した後、２３０
℃、３０分で加熱乾燥を行なった。（以上（ｈ）工程）

【００３０】この結果、（ｂ）工程で用いたパターンマ
スクの形状に準じた格子状の遮光性塗膜（ブラックマト
リックス、膜厚１．２μｍ）が透明基板上に形成され
た。この遮光性塗膜を光学顕微鏡（ニコン社製、商品名
OPTIPHOT - 88）を用い倍率２００倍で観察すると、格
子状の枠部の遮光性塗膜が精度よく形成されていた。遮
光性塗膜の可視光の透過率は５％以下であった。

【００３１】

【発明の効果】本発明の方法に従うと、格子状または縞
状等の微細な模様の遮光性塗膜を精度よく形成した基板
を製造することができる。とくに模様状の塗膜の空間の
最短幅が約２００μm以下のような微細な遮光性塗膜の
パターンを精度よく形成した基板を製造することができ
る。また、本発明方法によれば、光のリークがよく防止
されており、カラー部が鮮明であり、光学特性の極めて
すぐれたカラーフィルターを製造することができる。こ
うして得られるカラーフィルターは、とくに、TFTとカ
ラーフィルターとを用いたマトリックス型カラー表示装
置用に好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法の各工程で得られる製品等の断面の
模式図である。

【図２】本発明方法の（ｈ）工程で得られる遮光性塗膜
の平面の模式図である。

【符号の説明】

１．透明基板 ２．フォトレジスト塗膜 ３．光線 ４．フォトマスク（透明部） ５．フォトマスク（遮光部） ６．遮光性塗膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 茂樹 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】微細な模様の機能性塗膜を形成した基板を
   製造する方法において、 （a）透明基板表面に、その塗膜に露光を行うことによ
   り光透過率を低下させることができる性質を有するポジ
   型またはネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成
   する工程、 （b）形成されたポジ型またはネガ型フォトレジスト塗
   膜の表面に、遮光性塗膜を形成する予定の部分以外の部
   分を覆う塗膜を次の現像工程で与えるようなパターンを
   有するマスクを重ねて、光線を照射する露光工程、 （c）遮光性塗膜を形成する予定の部分に存在する塗膜
   を除去する現像工程、 （d）必要に応じて現像工程で残った塗膜に再露光を行
   う工程、 （e）以上の工程を経て得られた透明基板表面に遮光性
   付与添加剤を含有するネガ型フォトレジストを塗布し
   て、塗膜を形成する工程、 （f）透明基板の背面より露光する工程、 （g）下地に上記（c）または（d）工程で形成された塗
   膜が存在するために十分露光されなかった、（e）工程
   で形成された塗膜の未硬化部分を除去する現像工程、 （h）上記（c）または（d）工程で形成された塗膜のみ
   を除去する工程、を上記の順に行なうことを特徴とする
   方法。
2. 【請求項２】遮光性塗膜の模様が格子状または縞状であ
   り、模様状の塗膜の空間の最短幅が約２００μm以下で
   ある請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載された製造方法に
   よって得られる、ブラックマトリックスとしての微細な
   模様の遮光性塗膜を有する基板の画素部に、三原色の塗
   膜を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造
   法。
4. 【請求項４】請求項１または２に記載された製造方法に
   よって得られる、ブラックマトリックスとしての微細な
   模様の遮光性塗膜を有する基板の画素部に、三原色の塗
   膜を形成し、オーバーコート膜を形成し、さらにその上
   に液晶駆動用の透明導電膜を形成することを特徴とする
   カラーフィルターの製造法。