JPH07181317A - Manufacture of color filter board for liquid crystal display device - Google Patents
Manufacture of color filter board for liquid crystal display deviceInfo
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- JPH07181317A JPH07181317A JP34625793A JP34625793A JPH07181317A JP H07181317 A JPH07181317 A JP H07181317A JP 34625793 A JP34625793 A JP 34625793A JP 34625793 A JP34625793 A JP 34625793A JP H07181317 A JPH07181317 A JP H07181317A
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- photosensitive resin
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示装置に用
いるカラーフィルター基板の製造方法に関するものであ
り、詳しくは液晶表示装置の透明電極間の間隙を安定し
て維持でき且つ表示画面のコントラストが良好な液晶表
示装置用カラーフィルター基板の製造方法に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter substrate used in a color liquid crystal display device, and more specifically, it is possible to stably maintain a gap between transparent electrodes of a liquid crystal display device and to improve the contrast of a display screen. The present invention relates to a good method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図３は、従来の透過型液晶表示装置の一
例を示す断面構成図である。2. Description of the Related Art FIG. 3 is a sectional view showing an example of a conventional transmissive liquid crystal display device.
【０００３】これによると、光源１は三波長型蛍光灯、
自然光等であり、光源１を出た光は偏光板２、透明基板
３、画素電極（透明電極）４、配向膜５、液晶６、配向
膜７、対向電極（透明電極）８、透明基板９、偏光板１
０を通過する。液晶６はスペーサー１１で一定間隔に保
たれ、また封止材１２で外気から防護される。画素電極
４と対向電極８間に電圧を印加すると表示装置として動
作する。According to this, the light source 1 is a three-wavelength fluorescent lamp,
The light emitted from the light source 1 is natural light or the like, and the polarizing plate 2, the transparent substrate 3, the pixel electrode (transparent electrode) 4, the alignment film 5, the liquid crystal 6, the alignment film 7, the counter electrode (transparent electrode) 8, the transparent substrate 9 are used. , Polarizing plate 1
Pass 0. The liquid crystal 6 is kept at a constant interval by a spacer 11 and protected by the sealing material 12 from the outside air. When a voltage is applied between the pixel electrode 4 and the counter electrode 8, it operates as a display device.
【０００４】そして、上記の如く、液晶６の厚み即ち電
極間隔はスペーサー１１で規制しており、このスペーサ
ー１１は従来ガラスビーズ、ガラスファイバー、樹脂ビ
ーズ等を用い、これを適宜散布することによって行って
いた。As described above, the thickness of the liquid crystal 6, that is, the electrode interval is regulated by the spacer 11. The spacer 11 is made of conventional glass beads, glass fibers, resin beads, etc., and is dispersed by appropriate dispersion. Was there.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ガラスビーズ等を散布する方法は、用いるガラスビーズ
等の外径を高精度に均一に形成することが困難である
上、このガラスビーズ等を均一に一定量散布することが
実際には困難であり、電極間隔を安定した一定値に維持
できないという問題がある。However, in the above method of spraying glass beads and the like, it is difficult to form the outer diameter of the glass beads and the like to be used with high precision, and the glass beads and the like are evenly formed. However, there is a problem in that it is difficult to spray a fixed amount on the electrode, and the electrode interval cannot be maintained at a stable fixed value.
【０００６】また、この従来の方法では、特定の場所に
スペーサー１１を形成することが困難であり、画素部位
上にもガラスビーズ等が散布されてスペーサーが形成さ
れているのが普通である。ガラスビーズ等は光拡散の原
因となるため、画素部位上にガラスビーズ等のスペーサ
ーが存在すると画質が低下し、さらに表示画面のコント
ラストの低下につながるという問題がある。Further, according to this conventional method, it is difficult to form the spacer 11 at a specific place, and it is usual that the glass beads or the like are also scattered on the pixel portion to form the spacer. Since glass beads and the like cause light diffusion, there is a problem that the presence of spacers such as glass beads and the like on the pixel portion lowers the image quality and further lowers the contrast of the display screen.
【０００７】本発明はこのような従来の問題に鑑みなさ
れたものであり、その課題とするところは、液晶表示装
置の透明電極間の間隙を安定した一定値に維持すること
が出来、しかも表示画面のコントラストが良好な液晶表
示装置用カラーフィルター基板の製造方法を提供するこ
とにある。The present invention has been made in view of such conventional problems, and an object of the present invention is to maintain the gap between the transparent electrodes of the liquid crystal display device at a stable and constant value, and to display An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device having a good screen contrast.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る液晶表示装置用カラーフィルター基板
の製造方法は、透明基板上の画素部位にパターン状に設
けられこの画素部位の透過光を各色毎に着色する透明着
色層と、前記透明基板上の各画素間の隙間部（画素間部
位）にパターン状に設けられこの部位からの光透過を遮
断する遮光部とを備える液晶表示装置用カラーフィルタ
ー基板の製造方法において、前記透明基板上に順次前記
遮光部と前記透明着色層を形成した後、この遮光部およ
び透明着色層を含む全面にオーバーコート層を設け、さ
らにその上の全面に透明電極層を設け、次いで該透明電
極層の上にポジ型の感光性樹脂塗料を印刷又は塗布して
から、これを前記透明基板側から露光し現像して、画素
部位上の前記感光性樹脂を除去することにより、前記透
明電極層の上にギャップ規制層を形成することを特徴と
している。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is provided in a pixel portion on a transparent substrate in a pattern and the pixel portion is transparent. Liquid crystal display including a transparent colored layer for coloring light for each color, and a light-shielding portion that is provided in a pattern in a gap (inter-pixel portion) between pixels on the transparent substrate and blocks light transmission from this portion In the method for manufacturing a color filter substrate for a device, after the light-shielding portion and the transparent colored layer are sequentially formed on the transparent substrate, an overcoat layer is provided on the entire surface including the light-shielding portion and the transparent colored layer, and further on the overcoat layer. A transparent electrode layer is provided on the entire surface, and then a positive photosensitive resin paint is printed or applied on the transparent electrode layer, which is then exposed from the transparent substrate side and developed to develop the photosensitive resin on the pixel portion. By removing the resin, it is characterized in that a gap regulating layer on the transparent electrode layer.
【０００９】また、本発明に係る液晶表示装置用カラー
フィルター基板の製造方法は、前記ポジ型の感光性樹脂
塗料を前記遮光部のパターンの交差する部位上の前記透
明電極層の上に印刷又は塗布することを特徴としてい
る。Further, in the method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device according to the present invention, the positive photosensitive resin coating material is printed or printed on the transparent electrode layer on a portion where the pattern of the light shielding portion intersects. It is characterized by applying.
【００１０】[0010]
【作用】本発明によれば、透明電極層の上にポジ型の感
光性樹脂からなるギャップ規制層が形成されるので、か
かるギャップ規制層の厚みを一定することは容易に可能
であり、透明電極間の間隙を安定した一定値に維持する
ことができる。According to the present invention, since the gap regulating layer made of the positive type photosensitive resin is formed on the transparent electrode layer, it is possible to easily make the thickness of the gap regulating layer constant, and The gap between the electrodes can be maintained at a stable and constant value.
【００１１】また、上記ギャップ規制層は特定の場所に
形成することが出来、しかも画素部位上には上記ギャッ
プ規制層は形成されないので、従来のガラスビーズ等の
スペーサーの欠点を解決でき、表示画面のコントラスト
が良好なものが得られる。Further, since the gap regulating layer can be formed at a specific place and the gap regulating layer is not formed on the pixel portion, the drawbacks of the conventional spacers such as glass beads can be solved, and the display screen can be displayed. A good contrast can be obtained.
【００１２】[0012]
【実施例】以下、添付図面を参照して、本発明を実施例
により詳述するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited thereto.
【００１３】図１は本発明に係る製造方法の一実施例を
その工程順に説明するための断面構成図であり、図２は
同じく一実施例を説明するための要部平面図である。FIG. 1 is a cross sectional view for explaining one embodiment of the manufacturing method according to the present invention in the order of steps, and FIG. 2 is a plan view of an essential part for explaining the same embodiment.
【００１４】同１より明らかなように、透過光を画素毎
にそれぞれ赤色、緑色、青色の三色に着色する三色の透
明着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂがガラス板等の透明基
板２１の画素部位に規制的に配列されている。また、各
画素部位と画素部位との間の透過光を遮断するための遮
光膜２２が同じく透明基板２１上に形成されている。そ
して、上記透明着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂと遮光膜
２２との位置精度を確保するため、上記透明着色層２３
Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂは画素より幅広に形成され、これら
透明着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂと遮光膜２２との境
界部位において両者が互いに重なるように構成されてい
る。As is clear from the same article 1, the three transparent coloring layers 23R, 23G and 23B for coloring the transmitted light into three colors of red, green and blue for each pixel are pixels of the transparent substrate 21 such as a glass plate. It is arranged in a regulated manner on the part. A light blocking film 22 for blocking the transmitted light between each pixel portion is also formed on the transparent substrate 21. In order to ensure the positional accuracy of the transparent colored layers 23R, 23G, 23B and the light shielding film 22, the transparent colored layer 23 is used.
The R, 23G, and 23B are formed wider than the pixel, and are configured such that the transparent colored layers 23R, 23G, and 23B and the light shielding film 22 are overlapped with each other at the boundary portion.
【００１５】上記遮光膜２２は透明基板２１上にクロム
等の金属薄膜をスパッタリング法により形成し、これを
画素と画素との間隙形状の格子状にパターニングするこ
とによって形成する。このパターニングは、まず、上記
クロム薄膜上にフォトレジストを塗布し、マスク露光し
現像して不要部分を露出させ、エッチングしてこの不要
部分を除去し、最後に上記フォトレジストを剥離除去し
て形成したものである。The light-shielding film 22 is formed by forming a thin metal film of chromium or the like on the transparent substrate 21 by a sputtering method and patterning the thin film in a lattice shape of pixels. This patterning is carried out by first applying a photoresist on the chromium thin film, exposing it with a mask to expose an unnecessary portion, etching it to remove the unnecessary portion, and finally peeling and removing the photoresist. It was done.
【００１６】そして、透明基板２１上に上記遮光膜２２
を形成した後、上記三色の透明着色層２３Ｒ、２３Ｇ、
２３Ｂを形成する。すなわち、まず、上記透明基板２１
の遮光膜２２面上にゼラチンに感光性を付与した感光性
樹脂塗料をロールコートにより均一に塗布し乾燥させゼ
ラチン感光膜を形成した後、マスク露光法で１色目の赤
色のストライプパターンを露光し現像する。現像後、残
存するストライプパターン状のゼラチン膜を下記赤色の
染料液で６５℃にて染色を行い、次いで水洗し、７０℃
のタンニン酸水溶液に１分間浸漬して染料の定着を行
い、続いて７０℃の吐酒石水溶液に１分間浸漬して染料
の固着を行なう。こうして、１色目の赤色の透明着色層
２３Ｒを形成する。The light shielding film 22 is formed on the transparent substrate 21.
After the formation of the transparent colored layers 23R, 23G,
23B is formed. That is, first, the transparent substrate 21
The surface of the light-shielding film 22 is uniformly coated with a photosensitive resin coating material that imparts sensitivity to gelatin by roll coating and dried to form a gelatin photosensitive film, and then the first color red stripe pattern is exposed by a mask exposure method. develop. After development, the remaining stripe pattern gelatin film is dyed with the following red dye solution at 65 ° C., then washed with water, and 70 ° C.
The dye is fixed by immersing it in the tannic acid aqueous solution for 1 minute, and then fixed by immersing it in the tartarite aqueous solution at 70 ° C for 1 minute. Thus, the red colored layer 23R for the first color is formed.
【００１７】次に同様にして、上記感光性樹脂塗料を再
度均一に塗布し感光膜を形成した後、マスク露光法で露
光し現像して２色目の緑色のストライプパターンを形成
する。前記と同様に上記２色目のストライプパターンを
下記緑色の染料液で６５℃にて染色を行い、次いで、水
洗及び前記定着・固着処理を施し、２色目の緑色の透明
着色層２３Ｇを形成する。Next, in the same manner, the photosensitive resin paint is applied again uniformly to form a photosensitive film, which is then exposed by a mask exposure method and developed to form a second color green stripe pattern. Similarly to the above, the above-described second color stripe pattern is dyed with the following green dye solution at 65 ° C., and then washed with water and subjected to the fixing / fixing treatment to form a second color green transparent colored layer 23G.
【００１８】更に同様にして、上記感光性樹脂塗料を再
度均一に塗布し感光膜を形成した後、マスク露光法で露
光し現像して３色目の青色のストライプパターンを形成
する。前記と同様に上記３色目のストライプパターンを
下記青色の染料液で６５℃にて染色を行い、次いで、水
洗及び前記定着・固着処理を施し、３色目の青色の透明
着色層２３Ｂを形成する。Further, in the same manner, the photosensitive resin paint is applied again uniformly to form a photosensitive film, which is then exposed by a mask exposure method and developed to form a blue stripe pattern of the third color. Similarly to the above, the third color stripe pattern is dyed with the following blue dye solution at 65 ° C., then washed with water and subjected to the fixing and fixing treatment to form a third color blue transparent colored layer 23B.
【００１９】使用する染料液の配合を以下に示す。赤色 ダイアシドファストルビノール３Ｇ（三菱化成（株）製） ５ｇ カヤノールオレンジＧ（日本化薬（株）製） ３ｇ 酢酸 ５ｃｃ 水 １０００ｃｃ 緑色 パテントグリーン（東京化成（株）製） ３ｇ クリソフェノン（東京化成（株）製） ５ｇ カヤノールミーリングイエロー５ＧＷ（日本化薬（株）製） ２ｇ 酢酸 ５ｃｃ 水 １０００ｃｃ 青色 ソロフェノールターキスブルーＢＲＬ（チバガイギー社製） １０ｇ カヤノールサイアニンＧ（日本化薬（株）製） １ｇ 酢酸 ２ｃｃ 水 １０００ｃｃ なお、上記透明着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの形成
は、いわゆる染色法による場合を説明したが、このよう
な染色を行う代わりに、あらかじめ所望の色の顔料を含
有させた感光性樹脂を使用する、いわゆる顔料分散法を
用いて上記透明着色層を形成するようにしても勿論かま
わない。The formulation of the dye solution used is shown below.red Diacido Fast Rubinol 3G (manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.) 5g Kayanol Orange G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3g Acetic acid 5cc Water 1000cc green Patent Green (Tokyo Kasei Co., Ltd.) 3g Chrysophenone (Tokyo Kasei Co., Ltd.) 5g Kayanol Milling Yellow 5GW (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 2g Acetic acid 5cc Water 1000cc Blue Solophenol Turkis Blue BRL (manufactured by Ciba Geigy) 10 g Kayanol thianin G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1 g Acetic acid 2 cc Water 1000 cc Forming the transparent colored layers 23R, 23G and 23B
Explained the case of the so-called dyeing method.
Instead of dyeing, the pigment of the desired color should be added in advance.
The so-called pigment dispersion method that uses the photosensitive resin
Even if the transparent colored layer is formed by using
I don't know.
【００２０】そして、次に、以上のようにして各透明着
色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂの設けられた透明基板２１
上の全面に、例えばアクリル系樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂等の透明材料を全面に塗布し
てオーバーコート層２４を設けることにより、表面の平
滑化を図る。Then, the transparent substrate 21 provided with the transparent colored layers 23R, 23G and 23B as described above.
A transparent material such as acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, or silicon resin is applied to the entire upper surface to provide the overcoat layer 24, thereby smoothing the surface.
【００２１】そして、さらに、このオーバーコート層２
４の上の全面に、スパッタリング法などにより厚さ８０
０〜１０００Å程度のＩＴＯ薄膜等を成膜して透明電極
層２５を形成する。Further, further, this overcoat layer 2
A thickness of 80 is formed on the entire surface of 4 by a sputtering method or the like.
The transparent electrode layer 25 is formed by forming an ITO thin film or the like having a thickness of 0 to 1000 Å.
【００２２】このようにして、図１（ａ）に示す構造の
カラーフィルター基板が作製される。In this way, the color filter substrate having the structure shown in FIG. 1A is manufactured.
【００２３】そして、次に、図１（ｂ）に示すように、
上記透明電極層２５の上にポジ型の感光性樹脂塗料を所
定位置に印刷又は塗布して所定の膜厚の感光性樹脂層２
６を形成する。上記ポジ型の感光性樹脂塗料（市販品と
して例えば、シプレイ社製ＡＺ−１３５０、東京応化工
業（株）製 ＯＦＰＲなど）は前記遮光膜２２のパター
ンの交差する部位上に例えばスクリーン印刷法、凹版オ
フセット印刷法、ディスペンサー法などを用いて印刷又
は塗布され（図２（ａ）参照）、上記感光性樹脂塗料の
樹脂成分濃度、あるいは印刷又は塗布方法・条件等を適
宜変更することにより感光性樹脂層２６の膜厚は任意に
調整することができる。このようにして、感光性樹脂層
２６をたとえば２〜５μｍ程度の膜厚に形成する。Then, as shown in FIG.
A positive photosensitive resin paint is printed or applied at a predetermined position on the transparent electrode layer 25 to form a photosensitive resin layer 2 having a predetermined film thickness.
6 is formed. The positive type photosensitive resin coating (commercially available products such as AZ-1350 manufactured by Shipley Co., Ltd. and OFPR manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is formed by, for example, a screen printing method or an intaglio printing method on a portion where the pattern of the light shielding film 22 intersects. It is printed or applied using an offset printing method, a dispenser method or the like (see FIG. 2 (a)), and the photosensitive resin can be obtained by appropriately changing the resin component concentration of the above-mentioned photosensitive resin coating material or the printing or applying method or conditions. The film thickness of the layer 26 can be adjusted arbitrarily. In this way, the photosensitive resin layer 26 is formed to have a film thickness of, for example, about 2 to 5 μm.
【００２４】次いで、図１（ｃ）に示すように前記透明
基板２１の裏面側から紫外線露光２７を行う。遮光膜２
２が形成されている部位は遮光されるが、画素部位は各
透明着色層２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ、オーバーコート層
２４、透明電極層２５を通過して感光性樹脂層２６に達
する。なお、画素部位を紫外線が十分透過するよう露光
強度で調整する。Next, as shown in FIG. 1C, ultraviolet exposure 27 is performed from the back surface side of the transparent substrate 21. Shading film 2
The area where 2 is formed is shielded from light, but the pixel area reaches the photosensitive resin layer 26 through the transparent colored layers 23R, 23G, and 23B, the overcoat layer 24, and the transparent electrode layer 25. The exposure intensity is adjusted so that ultraviolet rays can sufficiently pass through the pixel portion.
【００２５】そして、上記露光後、所定の現像液を用い
て現像することにより、画素部位上の前記感光性樹脂層
２６は除去される。次いで、２００℃、１時間で熱処理
して耐有機溶剤性を向上させる。After the above exposure, the photosensitive resin layer 26 on the pixel portion is removed by developing with a predetermined developing solution. Then, heat treatment is performed at 200 ° C. for 1 hour to improve the resistance to organic solvents.
【００２６】したがって、図１（ｄ）および図２（ｂ）
に示すように、遮光部位上の上記感光性樹脂層２６のみ
が残存し、ギャップ規制層２６′を形成する。Therefore, FIG. 1 (d) and FIG. 2 (b)
As shown in FIG. 5, only the photosensitive resin layer 26 on the light-shielded portion remains, forming a gap regulation layer 26 '.
【００２７】このギャップ規制層２６′は一定の膜厚に
形成されるので、透明電極間の間隙を安定した一定値に
維持することができる。また、画素部位上に上記感光性
樹脂層２６は形成されても上記工程によって除去され、
画素部位上にはギャップ規制層２６′が形成されないの
で、表示画面の画質、コントラスト等には全く影響を及
ぼさない。Since the gap regulating layer 26 'is formed to have a constant film thickness, the gap between the transparent electrodes can be maintained at a stable constant value. Further, even if the photosensitive resin layer 26 is formed on the pixel portion, it is removed by the above process,
Since the gap regulating layer 26 'is not formed on the pixel portion, it has no influence on the image quality, contrast, etc. of the display screen.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る液晶表示装置用カラーフィルター基板の製造方法によ
れば、透明電極層の上にポジ型の感光性樹脂からなるギ
ャップ規制層が形成されるので、かかるギャップ規制層
の厚みを一定に形成することが容易であり、このカラー
フィルター基板を用いて作製した液晶表示装置の透明電
極間の間隙を安定した一定値に維持することができると
いう優れた効果を奏する。As described in detail above, according to the method of manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device of the present invention, a gap regulating layer made of a positive photosensitive resin is formed on a transparent electrode layer. Therefore, it is easy to form the gap regulating layer with a constant thickness, and the gap between the transparent electrodes of the liquid crystal display device manufactured using this color filter substrate can be maintained at a stable constant value. It has an excellent effect.
【００２９】また、上記ギャップ規制層は特定の場所に
形成することが出来、しかも画素部位上には上記ギャッ
プ規制層は形成されないので、従来のガラスビーズ等の
スペーサーの欠点を解決でき、表示画面のコントラスト
が良好なものが得られるという優れた効果も奏する。Further, since the gap regulating layer can be formed at a specific place and the gap regulating layer is not formed on the pixel portion, the drawbacks of the conventional spacers such as glass beads can be solved, and the display screen can be solved. It also has an excellent effect that a good contrast can be obtained.
【図１】 本発明に係る製造方法の一実施例をその工程
順に説明するための断面構成図である。FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram for explaining one embodiment of a manufacturing method according to the present invention in the order of steps thereof.
【図２】 同じく一実施例を説明するための要部平面図
である。FIG. 2 is a plan view of relevant parts for similarly explaining the embodiment.
【図３】 従来の透過型液晶表示装置の一例を示す断面
構成図である。FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram showing an example of a conventional transmissive liquid crystal display device.
１ 光源 ２ 偏光板 ３ 透明基板 ４ 画素電極 ５ 配向膜 ６ 液晶 ７ 配向膜 ８ 対向電極 ９ 透明基板 １０ 偏光板 １１ スペーサー １２ 封止材 ２１ 透明基板 ２２ 遮光膜 ２３Ｒ 赤色の透明着色層 ２３Ｇ 緑色の透明着色層 ２３Ｂ 青色の透明着色層 ２４ オーバーコート層 ２５ 透明電極層 ２６ 感光性樹脂層 ２６′ギャップ規制層 ２７ 紫外線露光 1 Light source 2 Polarizing plate 3 Transparent substrate 4 Pixel electrode 5 Alignment film 6 Liquid crystal 7 Alignment film 8 Counter electrode 9 Transparent substrate 10 Polarizing plate 11 Spacer 12 Sealant 21 Transparent substrate 22 Light-shielding film 23R Red transparent coloring layer 23G Green transparent Coloring layer 23B Blue transparent coloring layer 24 Overcoat layer 25 Transparent electrode layer 26 Photosensitive resin layer 26 'Gap control layer 27 UV exposure
Claims (2)
けられこの画素部位の透過光を各色毎に着色する透明着
色層と、前記透明基板上の各画素間の隙間部（画素間部
位）にパターン状に設けられこの部位からの光透過を遮
断する遮光部とを備える液晶表示装置用カラーフィルタ
ー基板の製造方法において、前記透明基板上に順次前記
遮光部と前記透明着色層を形成した後、この遮光部およ
び透明着色層を含む全面にオーバーコート層を設け、さ
らにその上の全面に透明電極層を設け、次いで該透明電
極層の上にポジ型の感光性樹脂塗料を印刷又は塗布して
から、これを前記透明基板側から露光し現像して、画素
部位上の前記感光性樹脂を除去することにより、前記透
明電極層の上にギャップ規制層を形成することを特徴と
する液晶表示装置用カラーフィルター基板の製造方法。1. A transparent colored layer provided in a pattern on a pixel portion on a transparent substrate for coloring transmitted light of the pixel portion for each color, and a gap portion (inter-pixel portion) between each pixel on the transparent substrate. In a method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device, which is provided with a pattern and which shields light transmission from this portion, after forming the light shielding portion and the transparent colored layer on the transparent substrate in sequence. An overcoat layer is provided on the entire surface including the light-shielding portion and the transparent coloring layer, a transparent electrode layer is further provided on the entire surface, and then a positive photosensitive resin paint is printed or applied on the transparent electrode layer. After that, the liquid crystal display is characterized in that a gap regulating layer is formed on the transparent electrode layer by exposing and developing the same from the transparent substrate side to remove the photosensitive resin on the pixel portion. For equipment Color filter substrate manufacturing method.
部のパターンの交差する部位上の前記透明電極層の上に
印刷又は塗布することを特徴とする請求項１記載の液晶
表示装置用カラーフィルター基板の製造方法。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the positive type photosensitive resin coating material is printed or applied on the transparent electrode layer on a portion where the pattern of the light shielding portion intersects. Color filter substrate manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34625793A JPH07181317A (en) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | Manufacture of color filter board for liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34625793A JPH07181317A (en) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | Manufacture of color filter board for liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07181317A true JPH07181317A (en) | 1995-07-21 |
Family
ID=18382179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34625793A Pending JPH07181317A (en) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | Manufacture of color filter board for liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07181317A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6031593A (en) * | 1996-08-23 | 2000-02-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing spacing layer for liquid crystal display using light shielding layer as a mask |
| KR100374272B1 (en) * | 1999-07-29 | 2003-03-03 | 캐논 가부시끼가이샤 | Color Filter, Process for Producing It, and Liquid Crystal Panel |
| KR100790935B1 (en) * | 2001-12-07 | 2008-01-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | A method for fabricating substrate for LCD |
-
1993
- 1993-12-22 JP JP34625793A patent/JPH07181317A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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