JPH0716959B2 - 透明プラスチツク体の製造方法 - Google Patents
透明プラスチツク体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0716959B2 JPH0716959B2 JP3231186A JP3231186A JPH0716959B2 JP H0716959 B2 JPH0716959 B2 JP H0716959B2 JP 3231186 A JP3231186 A JP 3231186A JP 3231186 A JP3231186 A JP 3231186A JP H0716959 B2 JPH0716959 B2 JP H0716959B2
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- JP
- Japan
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- transparent plastic
- plastic body
- acrylate
- ultraviolet rays
- meth
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報記録媒体としての光ディスク基板，レン
ズ，プリズム等の光学用透明プラスチック体の製造方法
に利用される。
ズ，プリズム等の光学用透明プラスチック体の製造方法
に利用される。
従来の技術 従来の光ディスク用樹脂基板は、射出成型可能な、ポリ
カーボネイト樹脂（以下PCと略す）やポリメチルメタア
クリレート樹脂（以下PMMAと略す）などが用いられてお
りディスクの種類によっては、キャスラィングPMMA等が
用いられている。又、プラスチックレンズ等も、PC,PMM
A等の射出成形用加熱塑性樹脂はもちろん、アリール，
エポキシやCR−39（UCC社製）等の熱硬化性の樹脂も用
いられていた。
カーボネイト樹脂（以下PCと略す）やポリメチルメタア
クリレート樹脂（以下PMMAと略す）などが用いられてお
りディスクの種類によっては、キャスラィングPMMA等が
用いられている。又、プラスチックレンズ等も、PC,PMM
A等の射出成形用加熱塑性樹脂はもちろん、アリール，
エポキシやCR−39（UCC社製）等の熱硬化性の樹脂も用
いられていた。
発明が解決しようとする問題点 光ディスク用樹脂基板は、記録膜の相転移による光の屈
折率の変化を利用するものでは、200℃付近の耐熱性が
要求され、光磁気ディスク用樹脂基板では、光学的歪
（複屈折率など）の小さい光透過性均質性が要求され
る。
折率の変化を利用するものでは、200℃付近の耐熱性が
要求され、光磁気ディスク用樹脂基板では、光学的歪
（複屈折率など）の小さい光透過性均質性が要求され
る。
このため、熱可塑性樹脂基板では不充分であり、熱硬化
性の樹脂等が用いられようとしている。しかしながら熱
硬化性樹脂は、硬化速度の点で遅く不充分であり第１の
問題点があった。又、紫外線で硬化させる材料は、もち
ろん硬化速度が速いが、耐熱性が高い材料は、硬化反応
収縮が大きく型内で硬化させると、基板が割れてしまう
ため第２の問題点があった。
性の樹脂等が用いられようとしている。しかしながら熱
硬化性樹脂は、硬化速度の点で遅く不充分であり第１の
問題点があった。又、紫外線で硬化させる材料は、もち
ろん硬化速度が速いが、耐熱性が高い材料は、硬化反応
収縮が大きく型内で硬化させると、基板が割れてしまう
ため第２の問題点があった。
問題点を解決するための手段 本発明は、上記問題点を解決するために、紫外線硬化型
材料による透明プラスチック体の製造方法において、両
面共に紫外線透過可能な型に紫外線硬化型材料を注液
し、両面から、完全硬化以内の紫外線量の紫外線を照射
してプリキュアし、次いで脱型したプリキュア透明プラ
スチック体の両面から、さらに完全硬化するまで紫外線
を照射してポストキュアすることを特徴とするものであ
る。
材料による透明プラスチック体の製造方法において、両
面共に紫外線透過可能な型に紫外線硬化型材料を注液
し、両面から、完全硬化以内の紫外線量の紫外線を照射
してプリキュアし、次いで脱型したプリキュア透明プラ
スチック体の両面から、さらに完全硬化するまで紫外線
を照射してポストキュアすることを特徴とするものであ
る。
さらに詳しくは、紫外線硬化型材料は、多官能アクリレ
ートとの配合組成物であるのが良く上記多官能性アクリ
レート化合物としては下記一般式 〔式中、R1は炭素数２〜50のアルコール残基であり、R2
はＨまたはCH3であり、ｎは２〜６の数である。〕 で表わされる化合物で、これをラジカル重合して得られ
る硬化物のガラス転移温度が110℃以上を有する化合物
が使用される。
ートとの配合組成物であるのが良く上記多官能性アクリ
レート化合物としては下記一般式 〔式中、R1は炭素数２〜50のアルコール残基であり、R2
はＨまたはCH3であり、ｎは２〜６の数である。〕 で表わされる化合物で、これをラジカル重合して得られ
る硬化物のガラス転移温度が110℃以上を有する化合物
が使用される。
かかる多官能性アクリレート化合物の具体例としては、
2,2′−ビス〔４−（β−メタクハイルオキシ）シクロ
ヘキシル〕プロパン、2,2′−ビス〔４−（β−メタク
ロイルオキシジエトキシ）シクロヘキシル）プロパン、
ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.2.1.02,5〕デカン
ジメタクリレート、1,4−ビス（メタクロイルオキシメ
チル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、1,3−ブタンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、2,2′−ビス〔４−（メタアクロイルジエトキシ）
フエニルプロパン等メタクリル酸エステル及びアクリル
酸エステル化合物単独及びそれらの混合物等があげられ
るが光学的性質上、特に好ましくは2,2′−ビス〔４−
（β−メタクロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル〕
プロパン、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.2.1.0
2,5〕デカンジメタクリレート、1,4−ビス（メタクロイ
ルオキシメチル）シクロヘキサンが利用できる。ここで
（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタクリレー
トの両者を総称して示す。
2,2′−ビス〔４−（β−メタクハイルオキシ）シクロ
ヘキシル〕プロパン、2,2′−ビス〔４−（β−メタク
ロイルオキシジエトキシ）シクロヘキシル）プロパン、
ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.2.1.02,5〕デカン
ジメタクリレート、1,4−ビス（メタクロイルオキシメ
チル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、1,3−ブタンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、2,2′−ビス〔４−（メタアクロイルジエトキシ）
フエニルプロパン等メタクリル酸エステル及びアクリル
酸エステル化合物単独及びそれらの混合物等があげられ
るが光学的性質上、特に好ましくは2,2′−ビス〔４−
（β−メタクロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル〕
プロパン、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.2.1.0
2,5〕デカンジメタクリレート、1,4−ビス（メタクロイ
ルオキシメチル）シクロヘキサンが利用できる。ここで
（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタクリレー
トの両者を総称して示す。
更に、上記の如き一般式（Ｉ）化合物に加えて、一般的
に粘度調整剤として用いられるラジカル重合性モノマー
を10重量％以下の範囲で使用することが可能である。か
かる他の重合性モノマーとしては、例えばスチレン、ク
ロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニルトルエン、ジ
ビニルベンゼン、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル化
合物、メチルメタアクリレート、フエニル（メタ）アク
リレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フエノ
キシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、
エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アク
リレート等の（メタ）アクリル化合物、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート、ジアリルフタレート等
アリル化合物が挙げられる。
に粘度調整剤として用いられるラジカル重合性モノマー
を10重量％以下の範囲で使用することが可能である。か
かる他の重合性モノマーとしては、例えばスチレン、ク
ロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニルトルエン、ジ
ビニルベンゼン、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル化
合物、メチルメタアクリレート、フエニル（メタ）アク
リレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フエノ
キシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、
エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アク
リレート等の（メタ）アクリル化合物、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネート、ジアリルフタレート等
アリル化合物が挙げられる。
これらのモノマーの重合の際に使用されるラジカル開始
剤は特に限定されず、ベンゾフェノン系，チオキサント
ン系，ミヒラーズケトン系などから選択される少くとも
１種以上の光増感剤を0.1wt％〜10wt％の範囲で配合し
ていれば良い。
剤は特に限定されず、ベンゾフェノン系，チオキサント
ン系，ミヒラーズケトン系などから選択される少くとも
１種以上の光増感剤を0.1wt％〜10wt％の範囲で配合し
ていれば良い。
作用 完全硬化以内の紫外線量の紫外線を照射して、ラジカル
反応を起こさせプリキュア状態にし、又収縮量が少い間
に脱型することにより、型との密着力のバランスの不均
衡によって割れ及び歪を誘発するのを防ぐことが可能と
なる。又脱型後に、プリキュア透明プラスチック体の両
面から、さらに完全硬化するまで紫外線を照射してポス
トキュアすることにより、全体特に両面間の収縮が同等
に誘発され、歪の少い透明プラスチック体を製造するこ
とができる。又、ポストキュア時には両面を開放してい
るため割れが発生する心配もない。
反応を起こさせプリキュア状態にし、又収縮量が少い間
に脱型することにより、型との密着力のバランスの不均
衡によって割れ及び歪を誘発するのを防ぐことが可能と
なる。又脱型後に、プリキュア透明プラスチック体の両
面から、さらに完全硬化するまで紫外線を照射してポス
トキュアすることにより、全体特に両面間の収縮が同等
に誘発され、歪の少い透明プラスチック体を製造するこ
とができる。又、ポストキュア時には両面を開放してい
るため割れが発生する心配もない。
実施例 第１図には、本発明に用いた注液型の平面図（ａ）と正
面断面図（ｂ）を示した。表面粗さ0.02μｍ以下のオプ
ティカルフラット面を有するガラス型1,2は、外周と内
周にシリコーンゴムスペーサ3,4によって円板状の空間
が形成され、クランプ５によって固定されている。比較
例3,4及び実施例における材料は注射器によって注型口
６から静かに注液され脱気口７から気泡が追い出された
点を終点として、比較例3,4は熱によって硬化し、実施
例は紫外線を照射して硬化させた。
面断面図（ｂ）を示した。表面粗さ0.02μｍ以下のオプ
ティカルフラット面を有するガラス型1,2は、外周と内
周にシリコーンゴムスペーサ3,4によって円板状の空間
が形成され、クランプ５によって固定されている。比較
例3,4及び実施例における材料は注射器によって注型口
６から静かに注液され脱気口７から気泡が追い出された
点を終点として、比較例3,4は熱によって硬化し、実施
例は紫外線を照射して硬化させた。
実施例の製造方法を第１図の断面図Ｂの部分で示したの
が第２図である。
が第２図である。
注液された状態（第２図（ａ））の両面から紫外線UVを
照射してプリキュア状態（第２図（ｂ））まで重合さ
せ、その後脱型して（第２図（ｃ）），プリキュア透明
プラスチック体９を取り出し、その後、周囲をN2置換し
た状態で紫外線UVを照射し（第２図（ｄ）），ポストキ
ュア透明プラスチック体10を得る。PCとPMMAの射出成形
透明プラスチック体を比較例1,2として、CR−39と表−
２に示したエポキシ組成物，メタアクリル組成物を熱硬
化及び光硬化させて得られた透明プラスチック体の特性
と生産性を表−１に示した。この結果より、吸水性では
劣るものの、耐熱特性と生産性の点で、メタアクリル組
成物による、光硬化透明プラスチック体の製造方法が最
も優れていることが解った。
照射してプリキュア状態（第２図（ｂ））まで重合さ
せ、その後脱型して（第２図（ｃ）），プリキュア透明
プラスチック体９を取り出し、その後、周囲をN2置換し
た状態で紫外線UVを照射し（第２図（ｄ）），ポストキ
ュア透明プラスチック体10を得る。PCとPMMAの射出成形
透明プラスチック体を比較例1,2として、CR−39と表−
２に示したエポキシ組成物，メタアクリル組成物を熱硬
化及び光硬化させて得られた透明プラスチック体の特性
と生産性を表−１に示した。この結果より、吸水性では
劣るものの、耐熱特性と生産性の点で、メタアクリル組
成物による、光硬化透明プラスチック体の製造方法が最
も優れていることが解った。
発明の効果 以上の様に、透明プラスチック体の製造方法においてプ
リキュアを型内で行い、脱型の後ポストキュアを行うと
いう本発明は、割れも無く、低歪の耐熱性透明プラスチ
ック体が得られるという点で効果は大なるものがある。
リキュアを型内で行い、脱型の後ポストキュアを行うと
いう本発明は、割れも無く、低歪の耐熱性透明プラスチ
ック体が得られるという点で効果は大なるものがある。
第１図（ａ）は、本発明に用いた両面ガラス型の平面
図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）のＡ−Ａ′面の正面断
面図、第２図は第１図のＢ部を着目した製造方法の硬化
プロセスを示す断面図である。 1,2……型、８……注液された紫外線硬化型材料、９…
…プリキュア透明プラスチック体、10……ポストキュア
中の透明プラスチック体。
図、第１図（ｂ）は第１図（ａ）のＡ−Ａ′面の正面断
面図、第２図は第１図のＢ部を着目した製造方法の硬化
プロセスを示す断面図である。 1,2……型、８……注液された紫外線硬化型材料、９…
…プリキュア透明プラスチック体、10……ポストキュア
中の透明プラスチック体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｋ 105:32 Ｂ２９Ｌ 11:00 17:00
Claims (1)
- 【請求項１】紫外線硬化型材料による透明プラスチック
体の製造方法において、両面共に紫外線透過可能な型に
紫外線硬化型材料を注液し、両面から、完全硬化以内の
紫外線量の紫外線を照射してプリキュアし、次いで脱型
したプリキュア透明プラスチック体の両面から、さらに
完全硬化するまで紫外線を照射してポストキュアする透
明プラスチック体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3231186A JPH0716959B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 透明プラスチツク体の製造方法 |
| EP86116782A EP0226123A3 (en) | 1985-12-03 | 1986-12-03 | Method for producing transparent plastic article |
| US07/291,352 US4983335A (en) | 1985-12-03 | 1988-12-29 | Method for producing transparent plastic article |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3231186A JPH0716959B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 透明プラスチツク体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62189121A JPS62189121A (ja) | 1987-08-18 |
| JPH0716959B2 true JPH0716959B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=12355393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3231186A Expired - Fee Related JPH0716959B2 (ja) | 1985-12-03 | 1986-02-17 | 透明プラスチツク体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0716959B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5793330B2 (ja) * | 2010-04-02 | 2015-10-14 | 東芝機械株式会社 | 成形品の製造方法および成形品の製造装置 |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP3231186A patent/JPH0716959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62189121A (ja) | 1987-08-18 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |