JPH0713328A - 基板の洗浄装置および方法 - Google Patents
基板の洗浄装置および方法Info
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- JPH0713328A JPH0713328A JP17739293A JP17739293A JPH0713328A JP H0713328 A JPH0713328 A JP H0713328A JP 17739293 A JP17739293 A JP 17739293A JP 17739293 A JP17739293 A JP 17739293A JP H0713328 A JPH0713328 A JP H0713328A
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- Japan
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- substrate
- pattern
- wear
- abrasion
- cleaning
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄に先立って基板の表面に形成されたパタ
ーンの耐磨耗性を高めた後に基板表面に物理力を作用さ
せて基板を洗浄することのできる洗浄装置および方法を
提供することを目的とする。 【構成】 本発明の基板の洗浄装置は、基板に形成され
たパターンを酸化させて該表面の磨耗を抑制するための
磨耗抑制手段と、基板表面に物理力を作用させて該表面
の異物を除去するための異物除去手段とを備えているこ
とを特徴とする。また本発明の基板の洗浄方法は、洗浄
すべき基板に形成されたパターンの耐磨耗性を高めるた
めの磨耗抑制工程と、前記磨耗抑制工程を経て磨耗が抑
制されたパターンを有する基板表面に物理力を作用させ
て該表面の異物を除去するための異物除去工程とを備え
ていることを特徴とする。
ーンの耐磨耗性を高めた後に基板表面に物理力を作用さ
せて基板を洗浄することのできる洗浄装置および方法を
提供することを目的とする。 【構成】 本発明の基板の洗浄装置は、基板に形成され
たパターンを酸化させて該表面の磨耗を抑制するための
磨耗抑制手段と、基板表面に物理力を作用させて該表面
の異物を除去するための異物除去手段とを備えているこ
とを特徴とする。また本発明の基板の洗浄方法は、洗浄
すべき基板に形成されたパターンの耐磨耗性を高めるた
めの磨耗抑制工程と、前記磨耗抑制工程を経て磨耗が抑
制されたパターンを有する基板表面に物理力を作用させ
て該表面の異物を除去するための異物除去工程とを備え
ていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板を洗浄するための装
置および方法に関し、特に半導体製造工程で使用される
レチクルやフォトマスク等のガラス基板に付着した異物
（微小なゴミやシミあるいは油分）を除去する洗浄装置
および方法に関する。
置および方法に関し、特に半導体製造工程で使用される
レチクルやフォトマスク等のガラス基板に付着した異物
（微小なゴミやシミあるいは油分）を除去する洗浄装置
および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レチクルやフォトマスク等のガラス基板
に付着した塵埃等の異物を放置すると、これらの異物が
ウェハ上に転写され、製造されるウェハの欠陥の原因と
なる。基板に付着する汚染物が多種に亘ることから、付
着する汚染物の種類に応じた種々の洗浄法が従来より提
案されている。
に付着した塵埃等の異物を放置すると、これらの異物が
ウェハ上に転写され、製造されるウェハの欠陥の原因と
なる。基板に付着する汚染物が多種に亘ることから、付
着する汚染物の種類に応じた種々の洗浄法が従来より提
案されている。
【０００３】たとえば、油脂などの有機物系汚染物の除
去法として、紫外線照射法が知られている。一方、金属
酸化物、塵埃等の無機物系汚染物の除去法として、一対
の回転ブラシを使用するブラシスクラブ法および清浄な
氷粒子を基板表面に加圧噴射するアイススクラブ法があ
る。ブラシスクラブ法およびアイススクラブ法は、原則
として物理的作用によって基板表面の汚染物を直接除去
する方法である。
去法として、紫外線照射法が知られている。一方、金属
酸化物、塵埃等の無機物系汚染物の除去法として、一対
の回転ブラシを使用するブラシスクラブ法および清浄な
氷粒子を基板表面に加圧噴射するアイススクラブ法があ
る。ブラシスクラブ法およびアイススクラブ法は、原則
として物理的作用によって基板表面の汚染物を直接除去
する方法である。
【０００４】このように、紫外線照射法は有機物系汚染
物に対して有効であり、ブラシスクラブ法およびアイス
スクラブ法は無機物系汚染物に対して有効である。一般
に、基板表面には有機物および無機物の双方が汚染物と
して付着するため、基板を洗浄するには種々の洗浄処理
を適用する必要がある。ところで、レチクルやフォトマ
スク等のガラス基板には、たとえばクロムによってパタ
ーン（印刷物）が形成されている。基板を洗浄する場
合、特に基板の表面に物理力を作用させて基板を洗浄す
る場合には、基板に形成されたパターンが磨耗し易い。
近年、パターンの微細化に伴いパターンを形成する線の
幅がさらに細くなっているので、基板に形成されたパタ
ーンが磨耗し易い傾向は顕著である。
物に対して有効であり、ブラシスクラブ法およびアイス
スクラブ法は無機物系汚染物に対して有効である。一般
に、基板表面には有機物および無機物の双方が汚染物と
して付着するため、基板を洗浄するには種々の洗浄処理
を適用する必要がある。ところで、レチクルやフォトマ
スク等のガラス基板には、たとえばクロムによってパタ
ーン（印刷物）が形成されている。基板を洗浄する場
合、特に基板の表面に物理力を作用させて基板を洗浄す
る場合には、基板に形成されたパターンが磨耗し易い。
近年、パターンの微細化に伴いパターンを形成する線の
幅がさらに細くなっているので、基板に形成されたパタ
ーンが磨耗し易い傾向は顕著である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板の洗浄装置ではパターンの磨耗を抑制または防止す
る手段が全く講じられていないので、特に基板の表面に
物理力を作用させて洗浄する場合、ガラス基板上のパタ
ーンが磨耗し易い。したがって、投影露光すべきパター
ンが度重なる洗浄に起因して過度に磨耗し、その結果半
導体製造工程における不良品が発生し易いという不都合
があった。また、ガラス基板の寿命が短かくなってしま
うという不都合があった。
基板の洗浄装置ではパターンの磨耗を抑制または防止す
る手段が全く講じられていないので、特に基板の表面に
物理力を作用させて洗浄する場合、ガラス基板上のパタ
ーンが磨耗し易い。したがって、投影露光すべきパター
ンが度重なる洗浄に起因して過度に磨耗し、その結果半
導体製造工程における不良品が発生し易いという不都合
があった。また、ガラス基板の寿命が短かくなってしま
うという不都合があった。
【０００６】したがって、パターンの過度の磨耗を予め
回避するために洗浄の回数を抑制しなければならなかっ
た。本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであ
り、洗浄に先立って基板の表面に形成されたパターンの
耐磨耗性を高めた後に基板表面に物理力を作用させて基
板を洗浄することのできる洗浄装置および方法を提供す
ることを目的とする。
回避するために洗浄の回数を抑制しなければならなかっ
た。本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであ
り、洗浄に先立って基板の表面に形成されたパターンの
耐磨耗性を高めた後に基板表面に物理力を作用させて基
板を洗浄することのできる洗浄装置および方法を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、基板に形成されたパターンを酸
化させて該表面の磨耗を抑制するための磨耗抑制手段
と、基板表面に物理力を作用させて該表面の異物を除去
するための異物除去手段とを備えていることを特徴とす
る基板の洗浄装置を提供する。本発明の好ましい態様に
よれば、前記パターンはクロムからなり、前記磨耗抑制
手段は過酸化水素水を収容した処理槽を有し、該処理槽
の過酸化水素水に基板を浸すことにより前記パターンを
酸化させて前記パターンの表面の耐磨耗性を高める。
に、本発明においては、基板に形成されたパターンを酸
化させて該表面の磨耗を抑制するための磨耗抑制手段
と、基板表面に物理力を作用させて該表面の異物を除去
するための異物除去手段とを備えていることを特徴とす
る基板の洗浄装置を提供する。本発明の好ましい態様に
よれば、前記パターンはクロムからなり、前記磨耗抑制
手段は過酸化水素水を収容した処理槽を有し、該処理槽
の過酸化水素水に基板を浸すことにより前記パターンを
酸化させて前記パターンの表面の耐磨耗性を高める。
【０００８】また、本発明によれば、洗浄すべき基板に
形成されたパターンの耐磨耗性を高めるための磨耗抑制
工程と、前記磨耗抑制工程を経て磨耗が抑制された前記
パターンを有する基板表面に物理力を作用させて該表面
の異物を除去するための異物除去工程とを備えているこ
とを特徴とする基板の洗浄方法を提供する。
形成されたパターンの耐磨耗性を高めるための磨耗抑制
工程と、前記磨耗抑制工程を経て磨耗が抑制された前記
パターンを有する基板表面に物理力を作用させて該表面
の異物を除去するための異物除去工程とを備えているこ
とを特徴とする基板の洗浄方法を提供する。
【０００９】
【作用】本発明の基板の洗浄装置および方法では、基板
表面に物理力を作用させる洗浄に先立ち、基板に形成さ
れたパターンの耐磨耗性を高めることによってパターン
表面の磨耗を抑制するための処理を行う。レチクルやフ
ォトマスク等のガラス基板では、クロムによってパター
ンが形成されているのが一般的である。この場合、過酸
化水素やオゾンを基板表面に作用させ、クロムを酸化す
ることによって磨耗を抑制することができる。清浄空気
雰囲気中において基板表面に紫外線を照射してオゾンを
発生させ、発生したオゾンを基板表面に作用させてもよ
い。また、たとえばモリブデンのようなクロム以外の物
質でパターンが形成されている場合でも、酸化等の化学
作用により磨耗に対する抵抗性（耐磨耗性）を適宜高め
ることによって、パターン表面の磨耗を抑制することが
できる。
表面に物理力を作用させる洗浄に先立ち、基板に形成さ
れたパターンの耐磨耗性を高めることによってパターン
表面の磨耗を抑制するための処理を行う。レチクルやフ
ォトマスク等のガラス基板では、クロムによってパター
ンが形成されているのが一般的である。この場合、過酸
化水素やオゾンを基板表面に作用させ、クロムを酸化す
ることによって磨耗を抑制することができる。清浄空気
雰囲気中において基板表面に紫外線を照射してオゾンを
発生させ、発生したオゾンを基板表面に作用させてもよ
い。また、たとえばモリブデンのようなクロム以外の物
質でパターンが形成されている場合でも、酸化等の化学
作用により磨耗に対する抵抗性（耐磨耗性）を適宜高め
ることによって、パターン表面の磨耗を抑制することが
できる。
【００１０】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の実施例にかかる基板の洗浄装置
の構成を模式的に説明する図である。図示の装置は、基
板に形成されたパターンの磨耗を抑制するための磨耗抑
制処理槽１、基板表面に物理力を作用させて洗浄するた
めのブラシスクラブ槽２、および基板を乾燥させるため
のＩＰＡ（イソプロピルアルコール液）乾燥処理槽３か
らなる。また、図示の装置はさらに、基板の搬送機構を
備えている。
する。図１は、本発明の実施例にかかる基板の洗浄装置
の構成を模式的に説明する図である。図示の装置は、基
板に形成されたパターンの磨耗を抑制するための磨耗抑
制処理槽１、基板表面に物理力を作用させて洗浄するた
めのブラシスクラブ槽２、および基板を乾燥させるため
のＩＰＡ（イソプロピルアルコール液）乾燥処理槽３か
らなる。また、図示の装置はさらに、基板の搬送機構を
備えている。
【００１１】磨耗抑制処理槽１には、過酸化水素水１１
を収容した容器１２が設けられている。また、ブラシス
クラブ槽２には、洗浄液を射出する複数のノズル２２
と、このノズル２２の下方に位置決めされた一対のナイ
ロンブラシ２１とが設けられている。さらに、ＩＰＡ乾
燥処理槽３には、ヒーター３１と、このヒーター３１の
上方に位置決めされた容器３４とが設けられている。容
器３４内にはイソプロピルアルコール液３２が収容され
ている。
を収容した容器１２が設けられている。また、ブラシス
クラブ槽２には、洗浄液を射出する複数のノズル２２
と、このノズル２２の下方に位置決めされた一対のナイ
ロンブラシ２１とが設けられている。さらに、ＩＰＡ乾
燥処理槽３には、ヒーター３１と、このヒーター３１の
上方に位置決めされた容器３４とが設けられている。容
器３４内にはイソプロピルアルコール液３２が収容され
ている。
【００１２】一方、基板の搬送機構は、たとえばクロム
によってパターンが形成されたレチクルのようなガラス
基板６を支持して図中上下方向に移動可能な保持金具７
と、図中水平方向に配置されたガイド４と、保持金具７
をガイド４に沿って往復移動させる搬送手段５とからな
る。
によってパターンが形成されたレチクルのようなガラス
基板６を支持して図中上下方向に移動可能な保持金具７
と、図中水平方向に配置されたガイド４と、保持金具７
をガイド４に沿って往復移動させる搬送手段５とからな
る。
【００１３】以下、図面を参照して本実施例の装置の動
作を説明する。たとえばレチクルカセットのような収容
手段（不図示）から取り出された洗浄すべき基板６は保
持金具７によって把持されたまま、まず磨耗抑制処理槽
１の上方に移動する。次いで、搬送手段５の作用により
基板６は下方に鉛直移動し、容器１２内に収容された過
酸化水素水１１に浸される。ここで、過酸化水素水１１
はガラス基板６のパターンを形成するクロムと反応し、
クロムパターンの表面が酸化される。こうして、パター
ンの表面には耐磨耗性の高い酸化クロム膜が形成され、
パターン表面の物理力に対する磨耗が抑制される。
作を説明する。たとえばレチクルカセットのような収容
手段（不図示）から取り出された洗浄すべき基板６は保
持金具７によって把持されたまま、まず磨耗抑制処理槽
１の上方に移動する。次いで、搬送手段５の作用により
基板６は下方に鉛直移動し、容器１２内に収容された過
酸化水素水１１に浸される。ここで、過酸化水素水１１
はガラス基板６のパターンを形成するクロムと反応し、
クロムパターンの表面が酸化される。こうして、パター
ンの表面には耐磨耗性の高い酸化クロム膜が形成され、
パターン表面の物理力に対する磨耗が抑制される。
【００１４】上述のように磨耗抑制処理が施されたガラ
ス基板６は、次いでブラシスクラブ槽２内に移動する。
ブラシスクラブ槽２では、たとえば純水のような適当な
洗浄液がノズル２２を介して一定圧力で基板表面に噴射
される。基板６は搬送手段５の作用によりさらに下方に
鉛直移動し、回転する一対のナイロンブラシ２１の間に
挿入される。こうして、ナイロンブラシ２１の接触摩擦
力を基板６の全面に亘り作用させて基板６を洗浄する。
ス基板６は、次いでブラシスクラブ槽２内に移動する。
ブラシスクラブ槽２では、たとえば純水のような適当な
洗浄液がノズル２２を介して一定圧力で基板表面に噴射
される。基板６は搬送手段５の作用によりさらに下方に
鉛直移動し、回転する一対のナイロンブラシ２１の間に
挿入される。こうして、ナイロンブラシ２１の接触摩擦
力を基板６の全面に亘り作用させて基板６を洗浄する。
【００１５】ブラシスクラブ槽２で洗浄された基板６は
洗浄液で湿潤状態となっており、最後にＩＰＡ乾燥処理
槽３において乾燥処理が行われる。ＩＰＡ乾燥槽３で
は、ヒーター３１の作用により容器３４内のイソプロピ
ルアルコール液３２が気化し、容器３４の上方領域には
イソプロピルアルコール蒸気３３が充満している。基板
６は、搬送機構の作用により乾燥処理槽３の上方に搬送
され、次いでガラス基板６が全体に亘りイソプロピルア
ルコール気体充満部３３に浸される。ここで、基板６の
表面の水分がイソプロピルアルコール気体と結合して揮
発する。こうして、基板６の乾燥処理が終了する。
洗浄液で湿潤状態となっており、最後にＩＰＡ乾燥処理
槽３において乾燥処理が行われる。ＩＰＡ乾燥槽３で
は、ヒーター３１の作用により容器３４内のイソプロピ
ルアルコール液３２が気化し、容器３４の上方領域には
イソプロピルアルコール蒸気３３が充満している。基板
６は、搬送機構の作用により乾燥処理槽３の上方に搬送
され、次いでガラス基板６が全体に亘りイソプロピルア
ルコール気体充満部３３に浸される。ここで、基板６の
表面の水分がイソプロピルアルコール気体と結合して揮
発する。こうして、基板６の乾燥処理が終了する。
【００１６】なお、本実施例では、ブラシスクラビング
処理とＩＰＡ乾燥処理とを行う洗浄装置について本発明
を説明したが、他の適当な物理的作用による洗浄処理お
よび他の適当な乾燥処理を行う洗浄装置についても本発
明が適用されることは明らかである。また、本実施例で
は、クロムによってパターンが形成されたガラス基板に
ついて説明したが、他の適当な物質によってパターンが
形成された他の基板についても、たとえば酸化等の適当
な方法によりパターンの耐磨耗性を高めることができる
ことは明らかである。
処理とＩＰＡ乾燥処理とを行う洗浄装置について本発明
を説明したが、他の適当な物理的作用による洗浄処理お
よび他の適当な乾燥処理を行う洗浄装置についても本発
明が適用されることは明らかである。また、本実施例で
は、クロムによってパターンが形成されたガラス基板に
ついて説明したが、他の適当な物質によってパターンが
形成された他の基板についても、たとえば酸化等の適当
な方法によりパターンの耐磨耗性を高めることができる
ことは明らかである。
【００１７】
【効果】以上説明したように、本発明の基板の洗浄装置
および方法では、基板表面に物理力を作用させる洗浄に
先立ち、基板に形成されたパターンの耐磨耗性を高める
ことによって基板表面の磨耗を抑制するための処理を行
うことができる。この結果、度重なる洗浄に起因して基
板のパターンが過度に磨耗することがなく、またパター
ンの過度の磨耗を回避するために洗浄の回数を抑制する
必要もなくなる。したがって、基板の寿命が結果的に著
しく伸び且つ半導体製造工程における不良品の発生が大
幅に回避される。
および方法では、基板表面に物理力を作用させる洗浄に
先立ち、基板に形成されたパターンの耐磨耗性を高める
ことによって基板表面の磨耗を抑制するための処理を行
うことができる。この結果、度重なる洗浄に起因して基
板のパターンが過度に磨耗することがなく、またパター
ンの過度の磨耗を回避するために洗浄の回数を抑制する
必要もなくなる。したがって、基板の寿命が結果的に著
しく伸び且つ半導体製造工程における不良品の発生が大
幅に回避される。
【図１】本発明の実施例にかかる基板の精密洗浄装置の
構成を概略的に説明する図である。
構成を概略的に説明する図である。
１ 磨耗抑制処理槽 ２ ブラシスクラブ槽 ３ ＩＰＡ乾燥処理槽 ４ ガイド ５ 搬送手段 ６ 基板 ７ 保持金具 １１ 過酸化水素水 ２１ ナイロンブラシ ２２ ノズル ３１ ヒーター ３２ イソプロピルアルコール液
Claims (3)
- 【請求項１】 基板に形成されたパターンを酸化させて
該表面の磨耗を抑制するための磨耗抑制手段と、基板表
面に物理力を作用させて該表面の異物を除去するための
異物除去手段とを備えていることを特徴とする基板の洗
浄装置。 - 【請求項２】 前記パターンはクロムからなり、前記磨
耗抑制手段は過酸化水素水を収容した処理槽を有し、該
処理槽の過酸化水素水に基板を浸すことにより前記パタ
ーンを酸化させて前記パターンの表面の耐磨耗性を高め
ることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 洗浄すべき基板に形成されたパターンの
耐磨耗性を高めるための磨耗抑制工程と、前記磨耗抑制
工程を経て磨耗が抑制された前記パターンを有する基板
表面に物理力を作用させて該表面の異物を除去するため
の異物除去工程とを備えていることを特徴とする基板の
洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17739293A JPH0713328A (ja) | 1993-06-24 | 1993-06-24 | 基板の洗浄装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17739293A JPH0713328A (ja) | 1993-06-24 | 1993-06-24 | 基板の洗浄装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0713328A true JPH0713328A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=16030139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17739293A Pending JPH0713328A (ja) | 1993-06-24 | 1993-06-24 | 基板の洗浄装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713328A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2012086744A1 (ja) * | 2010-12-24 | 2014-06-05 | Hoya株式会社 | マスクブランク及びその製造方法、並びに転写用マスク及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-06-24 JP JP17739293A patent/JPH0713328A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2012086744A1 (ja) * | 2010-12-24 | 2014-06-05 | Hoya株式会社 | マスクブランク及びその製造方法、並びに転写用マスク及びその製造方法 |
| JP5865263B2 (ja) * | 2010-12-24 | 2016-02-17 | Hoya株式会社 | マスクブランク及びその製造方法、並びに転写用マスク及びその製造方法 |
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