JPH0712886U - Substrate dryer - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の回転中心に洗浄液が残留することを防
止すると共に、基板を回転時にて安定した状態で固定す
ることができる基板乾燥装置を提供する。 【構成】ガラス基板４を載置しながら当該ガラス基板を
回転させる回転板５と、回転板５をベース１に対して回
転自在に支持する回転軸３と、ガラス基板の裏面の回転
中位近傍に気体を噴射するノズル６と、ガラス基板を吸
着する吸着部３６とを有する。回転軸３には気体が流れ
る流路７が形成され、環状流路１２およびフランジ８に
設けられ継手部１１等を介して気体供給源からの気体が
ガラス基板の裏面に噴射される。一方、回転軸３に固定
されたフランジ３０には吸引力を伝達する管路３２が形
成され、環状管路４０およびフランジ３６に設けられた
継手部３８等を介して吸引装置からの吸引力が吸着部３
６に伝達され、ガラス基板が回転板５に安定した状態で
固定される。 (57) [Summary] [Object] To provide a substrate drying device capable of preventing a cleaning liquid from remaining at the center of rotation of a substrate and fixing the substrate in a stable state during rotation. [Structure] A rotary plate 5 for rotating the glass substrate 4 while placing the glass substrate 4, a rotary shaft 3 for rotatably supporting the rotary plate 5 with respect to a base 1, and a position near the middle of rotation on the back surface of the glass substrate. It has a nozzle 6 for injecting a gas into and a suction portion 36 for sucking a glass substrate. A flow path 7 through which gas flows is formed on the rotary shaft 3, and gas from a gas supply source is jetted to the back surface of the glass substrate via a joint portion 11 and the like provided on the annular flow path 12 and the flange 8. On the other hand, the flange 30 fixed to the rotary shaft 3 is formed with a pipe 32 for transmitting the suction force, and the suction force from the suction device is transmitted through the annular pipe 40 and the joint portion 38 provided on the flange 36. Adsorption part 3
6, and the glass substrate is fixed to the rotary plate 5 in a stable state.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、たとえば、液晶表示板などに使用されるガラス基板を回転させて乾 燥する基板乾燥装置に関し、特に、回転時に回転板に対してガラス基板を安定し た状態で固定することができる基板乾燥装置に関する。 The present invention relates to a substrate drying apparatus for rotating and drying a glass substrate used for a liquid crystal display panel, for example, and particularly, the glass substrate can be stably fixed to the rotating plate during rotation. The present invention relates to a substrate drying device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

たとえば、液晶表示板の製造工程では、液晶表示板のガラス基板に樹脂（ポリ ビニルアルコールやポリイミド）の配向膜を塗布して焼成した後や、真空蒸着や 電子ビーム蒸着、スパッタリングなどの処理を行うことによりガラス基板に薄膜 トランジスタなどの素子を一体に形成した後に、純水などの洗浄液を用いたガラ ス基板の洗浄が行われているが、この洗浄を行うと、その後にガラス基板を乾燥 させる必要がある。そのため、従来より、洗浄液が残留したガラス基板を基板乾 燥装置まで搬送し、ガラス基板を基板乾燥装置の回転板に載置または保持したの ち、回転板を高速回転させることにより遠心力を利用した洗浄液の乾燥を行って いた。 For example, in the manufacturing process of liquid crystal display panels, after applying an alignment film of resin (polyvinyl alcohol or polyimide) to the glass substrate of the liquid crystal display panel and baking it, processing such as vacuum vapor deposition, electron beam vapor deposition, and sputtering is performed. By doing so, after the elements such as thin film transistors are integrally formed on the glass substrate, the glass substrate is cleaned using a cleaning liquid such as pure water.If this cleaning is performed, the glass substrate is dried after that. There is a need. Therefore, conventionally, the glass substrate with the cleaning liquid remaining was transported to the substrate drying device, and the glass substrate was placed or held on the rotating plate of the substrate drying device, and then the rotating plate was rotated at high speed to utilize centrifugal force. The cleaning liquid was dried.

【０００３】 しかしながら、回転板を高速回転させて乾燥する方法では、遠心力が作用しな いガラス基板の回転中心近傍に洗浄液が残留してしまうという問題があった。However, the method in which the rotary plate is rotated at a high speed to dry has a problem that the cleaning liquid remains near the center of rotation of the glass substrate on which centrifugal force does not act.

【０００４】 このような問題を解決するために、たとえば、特開平２−８３９２７号公報は 、ガラス基板の回転中心近傍に不活性ガスなどの気体を吹き付けるガラス基板の 乾燥装置を開示する。 図５は上記公報が開示するガラス基板の乾燥装置の一部の断面図である。図６ は図５に示すガラス基板の乾燥装置の平面図である。In order to solve such a problem, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-83927 discloses a glass substrate drying apparatus which blows a gas such as an inert gas near the center of rotation of the glass substrate. FIG. 5 is a sectional view of a part of the glass substrate drying apparatus disclosed in the above publication. FIG. 6 is a plan view of the glass substrate drying apparatus shown in FIG.

【０００５】 このガラス基板の乾燥装置は、たとえば図５に示すように、ベース１には軸受 け２を介して回転軸３が回転自在に支持されており、この回転軸３の先端にはガ ラス基板４が載置される回転板５が固定されている。 回転板５には図６に示すように４個の支持腕１８がほぼ放射状に固定されてい る。各支持腕１８の先端には横腕２０が固定され、支持腕１８と横腕２０とがほ ぼＴ字型を形成する。各支持腕１８にはほぼ垂直に起立する支持ピン２２が設け られ、また横腕２０の両端には支持ピン２２よりも長いピン２４が設けられてい る。 ガラス基板４は、その４隅の直交する２辺が各横腕２０の２本のピン２４に挟 まれることによって回転板５に固定される。このとき、ガラス基板４の裏面は４ 本の支持ピン２２の上端に当接する。したがって、ガラス基板４は回転板５と一 体となって水平面上で回転する。In this glass substrate drying device, for example, as shown in FIG. 5, a rotating shaft 3 is rotatably supported by a base 1 via a bearing 2, and a tip of the rotating shaft 3 is covered with a gas. The rotary plate 5 on which the lath substrate 4 is placed is fixed. As shown in FIG. 6, four support arms 18 are fixed to the rotary plate 5 in a substantially radial manner. A lateral arm 20 is fixed to the tip of each supporting arm 18, and the supporting arm 18 and the lateral arm 20 form a substantially T-shape. Each support arm 18 is provided with a support pin 22 which stands up substantially vertically, and each side of the lateral arm 20 is provided with a pin 24 longer than the support pin 22. The glass substrate 4 is fixed to the rotary plate 5 by sandwiching the two orthogonal sides of the four corners between the two pins 24 of each lateral arm 20. At this time, the back surface of the glass substrate 4 contacts the upper ends of the four support pins 22. Therefore, the glass substrate 4 rotates together with the rotary plate 5 on a horizontal plane.

【０００６】 また、回転板５には、ガラス基板４の回転中心近傍に向かって気体を吹き付け るための噴出ノズル６が取り付けられている。回転軸３には噴出ノズル６へ不活 性ガスを導くための流路７が形成されており、この流路７の先端は噴出ノズル６ に連通するとともに、基端は回転軸３の側面に開口（開口部７ａ）している。 そして、ベース１に取り付けられたフランジ８には継手を介して気体供給源か らの配管が接続されており（何れも図示せず）、気体供給源から所定圧力で気体 を圧送すると、フランジ８から開口部７ａを介して流路７を通り、この流路７か ら噴出ノズル６に至ったのち、ガラス基板４の裏面に吹き付けられる。 尚、図５における符号「９」は、流路の開口部７ａとフランジ８との接続部を シールするためのオイルシールである。Further, a jet nozzle 6 for blowing gas toward the vicinity of the center of rotation of the glass substrate 4 is attached to the rotary plate 5. A flow path 7 for guiding an inert gas to the jet nozzle 6 is formed in the rotary shaft 3, the tip of the flow path 7 communicates with the jet nozzle 6, and the base end is located on the side surface of the rotary shaft 3. It has an opening (opening 7a). A pipe from a gas supply source is connected to the flange 8 attached to the base 1 via a joint (none of them is shown). When the gas is pumped at a predetermined pressure from the gas supply source, the flange 8 After passing through the flow path 7 through the opening 7a to reach the ejection nozzle 6 from the flow path 7, the liquid is sprayed on the back surface of the glass substrate 4. The reference numeral "9" in FIG. 5 is an oil seal for sealing the connection between the opening 7a of the flow path and the flange 8.

【０００７】 ガラス基板４に対して前記噴出ノズル６と対向する位置には、ガラス基板４の 回転中心に向かって噴射ノズル５０が設けられており、この噴射ノズル５０から の気体はガラス基板４の回転中心に向かって噴射ノズル６とは相対する方向から 噴射される。A jet nozzle 50 is provided at a position facing the jet nozzle 6 with respect to the glass substrate 4 toward the center of rotation of the glass substrate 4, and the gas from the jet nozzle 50 is directed to the glass substrate 4. Injection is performed from the direction facing the injection nozzle 6 toward the center of rotation.

【０００８】 ところで、ガラス基板４を高速に回転させると通常、ガラス基板４に上下方向 の力が加わりガラス基板４が上下に移動することがある。そのため、上記公報の 乾燥装置では、噴射ノズル５０からの気体の噴射圧力を、噴射ノズル６からの気 体の噴射圧力に対して大きくすることで、ガラス基板４を回転板５に向けて押圧 し、回転時におけるガラス基板４の上下方向の移動を抑制する試みがなされてい る。 上記公報が開示するガラス基板の乾燥装置によれば、ガラス基板の回転中心近 傍に洗浄液が残留することを防止できる共に、回転時におけるガラス基板４の上 下方向の移動をある程度、抑制することができる。By the way, when the glass substrate 4 is rotated at a high speed, a vertical force is usually applied to the glass substrate 4 and the glass substrate 4 may move up and down. Therefore, in the drying device of the above publication, the glass substrate 4 is pressed toward the rotary plate 5 by increasing the gas injection pressure from the injection nozzle 50 with respect to the gas injection pressure from the injection nozzle 6. Attempts have been made to suppress the vertical movement of the glass substrate 4 during rotation. According to the glass substrate drying device disclosed in the above publication, it is possible to prevent the cleaning liquid from remaining near the center of rotation of the glass substrate, and to suppress the upward and downward movement of the glass substrate 4 to some extent during rotation. You can

【０００９】[0009]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

ところが、上述した乾燥装置では、ガラス基板４の上下方向の移動を抑制する ためには、噴射ノズル５０からかなり高い噴射圧力で気体をガラス基板４に噴射 させる必要があり、装置の規模が大きくなるといった問題がある。また、大量の 気体をガラス基板４に噴射させることからコスト面でも問題がある。 一方、上述した乾燥装置では、ピン２４はガラス基板４がある程度の余裕をも って装着できる位置に設けられており、装着時にガラス基板４とピン２４との間 には多少の隙間が生じる。そのため、回転板５が回転すると、加速時または減速 時にガラス基板４とピン２４とが衝突する。 However, in the above-mentioned drying device, in order to suppress the movement of the glass substrate 4 in the vertical direction, it is necessary to inject a gas onto the glass substrate 4 from the ejection nozzle 50 at a considerably high ejection pressure, which increases the scale of the device. There is such a problem. Moreover, since a large amount of gas is jetted onto the glass substrate 4, there is a problem in terms of cost. On the other hand, in the above-mentioned drying device, the pin 24 is provided at a position where the glass substrate 4 can be mounted with some allowance, and a slight gap is generated between the glass substrate 4 and the pin 24 at the time of mounting. Therefore, when the rotary plate 5 rotates, the glass substrate 4 and the pins 24 collide with each other during acceleration or deceleration.

【００１０】 このようなガラス基板４とピン２４との衝突を抑制するためには、ピン２４を 、ガラス基板４が装着された際にガラス基板４との間に隙間が生じないように位 置決めして回転板５に配設する必要がある。しかしながら、上述したピン２４の 位置決めに関しては、ガラス基板４の搬送装置（ロボットなど）による装着を容 易にするために、ある程度の余裕が必要である。しかし、ピン２４とガラス基板 ４との隙間は上述した理由から小さく設定されているため、基板表面に洗浄液が 残留したガラス基板４を回転板５に載置したときにガラス基板４が斜めになった りして正しく載置されなかった場合に、それを検出する手段が無く、そのまま回 転板５を回転させるとガラス基板４が回転板５から飛び出して破損するおそれが あり非常に危険であるといった問題がある。 このような問題はガラス基板の乾燥装置以外の基板乾燥装置においても生じる 。In order to suppress such a collision between the glass substrate 4 and the pin 24, the pin 24 is arranged so that no gap is created between the pin 24 and the glass substrate 4 when the glass substrate 4 is mounted. It is necessary to determine and dispose on the rotary plate 5. However, with respect to the positioning of the pin 24 described above, a certain margin is required to facilitate the mounting of the glass substrate 4 by the transport device (robot or the like). However, since the gap between the pin 24 and the glass substrate 4 is set small for the above-mentioned reason, when the glass substrate 4 with the cleaning liquid remaining on the substrate surface is placed on the rotating plate 5, the glass substrate 4 becomes inclined. If it is not placed properly, there is no means to detect it, and if the rotating plate 5 is rotated as it is, the glass substrate 4 may jump out of the rotating plate 5 and be damaged, which is very dangerous. There is such a problem. Such a problem also occurs in a substrate drying apparatus other than the glass substrate drying apparatus.

【００１１】 本考案は上述した従来技術の問題に鑑みてなされ、基板の回転中心近傍に洗浄 液などが残留することを防止すると共に、回転時にて基板を安定した状態で回転 板に固定することができる基板乾燥装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and it is possible to prevent the cleaning liquid and the like from remaining near the rotation center of the substrate and to fix the substrate to the rotating plate in a stable state during rotation. It is an object of the present invention to provide a substrate drying apparatus capable of performing the above.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

上述した従来技術の問題を解決し上述した目的を達成するために本考案の基板 乾燥装置は、基板を載置する範囲を規定する位置決めピンおよび基板を下面から 支持する接触ピンが設けられ、載置された基板を回転させる回転板と、該回転板 を回転自在に支持する回転機構と、該回転機構内に設けられ、前記基板の載置方 向と対向する方向から前記基板のほぼ回転中心部に向けて気体を噴射させる噴射 部と、前記回転機構内に設けられ前記回転板に載置された基板を、前記基板の載 置方向と対向する方向から吸引力によって前記回転板に固定する吸着部とを有す る。 In order to solve the above-mentioned problems of the prior art and achieve the above-mentioned object, the substrate drying apparatus of the present invention is provided with a positioning pin that defines a range on which the substrate is placed and a contact pin that supports the substrate from the lower surface. A rotating plate that rotates the placed substrate, a rotating mechanism that rotatably supports the rotating plate, and a rotation center that is provided in the rotating mechanism and that faces the mounting direction of the substrate and that is substantially the center of rotation of the substrate. An injecting unit that injects gas toward the unit and a substrate mounted on the rotating plate, which is provided in the rotating mechanism, is fixed to the rotating plate by a suction force from a direction opposite to the mounting direction of the substrate. And an adsorption part.

【００１３】 本考案の基板乾燥装置によれば、噴射部から気体を基板のほぼ回転中心部に向 けて噴射するため基板の回転中心部の近傍に洗浄液が残留することを防止できる 。 また、本考案の基板乾燥装置によれば、回転時において回転板に設けられた吸 着部からの吸引力によって基板を吸着するため、安価に基板を安定した状態で回 転板に固定することができる。According to the substrate drying apparatus of the present invention, since the gas is sprayed from the spraying unit toward substantially the center of rotation of the substrate, the cleaning liquid can be prevented from remaining near the center of rotation of the substrate. Further, according to the substrate drying apparatus of the present invention, the substrate is adsorbed by the suction force from the adsorbing portion provided on the rotating plate during rotation, so that the substrate can be stably and inexpensively fixed to the rotating plate. You can

【００１４】[0014]

【作用】[Action]

洗浄液などを用いて洗浄を終えた基板が回転板に載置されると、たとえば、吸 着部からの吸引力によって載置されたガラス基板が回転板に安定した状態で固定 される。 基板が回転板に固定されると回転板が高速回転し、基板に付着した洗浄液など が遠心力により除去される。これと同時に、前記基板の載置方向と対向する方向 から前記基板のほぼ回転中心部に向けて気体が噴射され、遠心力によって除去で きない洗浄液などが遠心力が作用する位置まで移動する。 When the substrate that has been cleaned using a cleaning liquid or the like is placed on the rotating plate, the glass substrate placed on the rotating plate is fixed in a stable state by the suction force from the suction portion, for example. When the substrate is fixed to the rotating plate, the rotating plate rotates at high speed, and the cleaning liquid and the like adhering to the substrate are removed by centrifugal force. At the same time, gas is jetted from the direction opposite to the mounting direction of the substrate toward substantially the center of rotation of the substrate, and the cleaning liquid that cannot be removed by the centrifugal force moves to a position where the centrifugal force acts.

【００１５】[0015]

【実施例】【Example】

以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明する。 第１実施例について説明する。 本実施例では、液晶表示板などに使用されるガラス基板を回転させて乾燥する 基板乾燥装置について説明する。 図１は本実施例に係わるガラス基板の乾燥装置を示す縦断面図、図２は同実施 例に係わる回転板を示す平面図である。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The first embodiment will be described. In this embodiment, a substrate drying apparatus for rotating and drying a glass substrate used for a liquid crystal display panel will be described. FIG. 1 is a vertical sectional view showing a glass substrate drying apparatus according to this embodiment, and FIG. 2 is a plan view showing a rotary plate according to the embodiment.

【００１６】 図１に示すように、本実施例に係わるガラス基板の乾燥装置は、ベース１に軸 受け２を介して回転部材としての回転軸３が回転自在に設けられており、基端に 取り付けられたモータ（図示せず）により回転するようになっている。回転軸３ の先端には、回転板５が取り付けられており、この回転板５から外方に伸延する アーム５ａに液晶表示板のガラス基板４が載置される。 具体的には、図２に示すようにアーム５ａの先端に設けられた位置決めピン１ ０ａに側面を案内され、接触ピン２０ａに下面を案内されるようにガラス基板４ を載置することにより、当該ガラス基板４は回転板５とともに回転する。なお、 図２に示すように、ガラス基板４の外形寸法に応じてアーム５ａの長さと位置決 めピン１０ａおよび接触ピン１０ｂの設定位置が選択されている。As shown in FIG. 1, in the glass substrate drying apparatus according to this embodiment, a rotating shaft 3 as a rotating member is rotatably provided on a base 1 via a bearing 2 and is provided at a base end thereof. It is designed to be rotated by an attached motor (not shown). A rotary plate 5 is attached to the tip of the rotary shaft 3, and a glass substrate 4 of a liquid crystal display plate is placed on an arm 5a extending outward from the rotary plate 5. Specifically, as shown in FIG. 2, by placing the glass substrate 4 so that the side surface is guided by the positioning pin 10a provided at the tip of the arm 5a and the lower surface is guided by the contact pin 20a, The glass substrate 4 rotates together with the rotating plate 5. As shown in FIG. 2, the length of the arm 5a and the setting positions of the positioning pin 10a and the contact pin 10b are selected according to the outer dimensions of the glass substrate 4.

【００１７】 回転軸３には図１に示すようにその軸方向に沿って流路７が形成されており、 当該流路７の一端は回転軸３の先端で開口するとともに、他端は回転軸３の側面 に開口している。なお、この回転軸３の側面に開口された開口部７ａの数は、例 えば導入される気体圧やガラス基板への吹き付け圧などの諸条件によって適宜選 択することができる。As shown in FIG. 1, a flow path 7 is formed in the rotary shaft 3 along its axial direction. One end of the flow path 7 opens at the tip of the rotary shaft 3 and the other end rotates. It has an opening on the side surface of the shaft 3. The number of the openings 7a opened on the side surface of the rotary shaft 3 can be appropriately selected depending on various conditions such as the pressure of the introduced gas and the pressure of blowing the glass substrate.

【００１８】 回転軸３の側面に開設された開口部７ａの周囲には、一対のオイルシール９が 設けられており、ベース１側に固定されたフランジ８によって当該オイルシール ９は回転軸３の側面に押圧されている。また、このフランジ８には気体の配管が 接続される継手部１１が形成されており、この継手部１１から一対のオイルシー ル９に挟まれた環状流路１２に気体が導入されるようになっている。これにより 、図示しない気体供給源から不活性ガス（例えば窒素ガス）などの気体を配管を 介して継手部１１に送ると、環状流路１２から回転軸の開口部７ａに至り、ここ から回転軸３の軸方向に伸延した流路７を通って当該回転軸３の先端に吹き出さ れることになる。A pair of oil seals 9 are provided around the opening 7 a formed on the side surface of the rotary shaft 3, and the oil seal 9 is fixed to the rotary shaft 3 by the flange 8 fixed to the base 1 side. It is pressed to the side. Further, a joint portion 11 to which a gas pipe is connected is formed on the flange 8, and the gas is introduced from the joint portion 11 into the annular flow passage 12 sandwiched between the pair of oil seals 9. Has become. As a result, when a gas such as an inert gas (for example, nitrogen gas) is sent from a gas supply source (not shown) to the joint portion 11 through the pipe, the annular flow passage 12 reaches the opening 7a of the rotary shaft, and from there, the rotary shaft is reached. It will be blown out to the tip of the rotating shaft 3 through the flow path 7 extending in the axial direction of 3.

【００１９】 回転軸３の先端に対向する回転板５の中心には、流路７から導かれた気体を噴 出させる噴出口６ａを有する噴出ノズル６が取り付けられており、ガラス基板４ の載置方向と対向する方向からガラス基板の裏面の回転中心近傍に向かって気体 が吹き出される。 また、回転軸３の先端と噴出ノズル６との間には、オイルシール９と回転軸３ との摩擦によって発生しる粉塵や流路内に存在する塵埃がガラス基板４に噴射さ れることを防止するために、フィルタ１６が設けられている。At the center of the rotary plate 5 facing the tip of the rotary shaft 3, a jet nozzle 6 having a jet port 6 a for jetting the gas guided from the flow path 7 is attached, and the glass substrate 4 is mounted on the jet nozzle 6. Gas is blown toward the vicinity of the center of rotation on the back surface of the glass substrate from the direction opposite to the placement direction. Further, between the tip of the rotary shaft 3 and the jet nozzle 6, dust generated due to friction between the oil seal 9 and the rotary shaft 3 or dust existing in the flow path is jetted to the glass substrate 4. A filter 16 is provided to prevent this.

【００２０】 一方、フランジ８の上方では、フランジ３０が回転軸３の外周に固定して取り 付けられている。本実施例では回転軸３とフランジ３０とで回転部材を構成する 。 フランジ３０にはその軸方向に沿って、吸引装置（図示せず）からの吸引力を 伝達するための管路３２が形成されている。この管路３２は先端にて開口すると ともに、他端はフランジ３０の側面に開口している。 管路３２の先端の開口は、回転板５に形成された貫通口３４の一端の開口と連 通し、貫通口３４の他端の開口は、回転板５の表面に接触ピン１０ｂと同じ高さ 又は低い高さで設定された吸着部３６と連通している。 吸着部３６の高さを接触ピン１０ｂの高さより低く設定すれば、大型のガラス 基板４を回転させた場合に生じる回転中心付近の撓みによって、加速時または減 速時にガラス基板４と吸着部３６と擦れることでガラス基板４に傷がつくことを 防止できる。On the other hand, above the flange 8, the flange 30 is fixedly attached to the outer periphery of the rotary shaft 3. In this embodiment, the rotary shaft 3 and the flange 30 constitute a rotary member. A flange 32 is formed along the axial direction thereof with a conduit 32 for transmitting a suction force from a suction device (not shown). The conduit 32 is opened at the tip and the other end is opened at the side surface of the flange 30. The opening at the tip of the pipe 32 communicates with the opening at one end of the through hole 34 formed in the rotary plate 5, and the opening at the other end of the through hole 34 has the same height as the contact pin 10b on the surface of the rotary plate 5. Alternatively, it communicates with the suction portion 36 set at a low height. If the height of the suction portion 36 is set lower than the height of the contact pin 10b, the glass substrate 4 and the suction portion 36 will not move at the time of acceleration or deceleration due to the deflection near the center of rotation that occurs when the large glass substrate 4 is rotated. It is possible to prevent the glass substrate 4 from being scratched by being rubbed with.

【００２１】 フランジ３０の側面に開設された開口部３２ａの周囲には一対のオイルシール ３４が設けられており、フランジ８を介してベース１側に固定されているフラン ジ３６によって当該オイルシール３４はフランジ３０の側面に押圧されている。 また、このフランジ３６には吸引装置（図示せず）からの吸引力を伝達する管 路（図示せず）が接続される継手部３８が形成されており、この継手部３８から 一対のオイルシール３４に挟まれた環状管路４０を介して、吸引力が伝達される ようになっている。これにより、吸引装置からの吸引力が継手部３８、環状流路 ４０、流路３２および貫通口３４を介して吸着部３６に伝達され、吸着部３６に ガラス基板４が吸着される。 このフランジ３０の側面に開口された開口部３２ａの数は、適宜選択すること ができる。本実施例では、図２に示すように、回転中心から等距離の位置に等間 隔で４個の吸着部３６が設けられており、これらに対応して開口部３２ａも４個 設けられている。A pair of oil seals 34 are provided around the opening 32 a formed on the side surface of the flange 30, and the oil seal 34 is fixed by the flange 36 fixed to the base 1 side via the flange 8. Is pressed against the side surface of the flange 30. Further, a joint portion 38 to which a pipe (not shown) for transmitting a suction force from a suction device (not shown) is connected is formed on the flange 36, and a pair of oil seals are formed from the joint portion 38. The suction force is transmitted through the annular conduit 40 sandwiched by the 34. As a result, the suction force from the suction device is transmitted to the suction portion 36 via the joint portion 38, the annular flow passage 40, the flow passage 32, and the through hole 34, and the glass substrate 4 is suctioned to the suction portion 36. The number of the openings 32a opened on the side surface of the flange 30 can be appropriately selected. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, four suction portions 36 are provided at equal distances from the center of rotation, and four suction portions 36 are provided correspondingly. There is.

【００２２】 次に作用を説明する。 液晶表示板の製造工程では、液晶表示板のガラス基板にポリビニルアルコール やポリイミドなどの樹脂配向膜を塗布して焼成した後や、真空蒸着や電子ビーム 蒸着、スパッタリングなどの処理を行うことによりガラス基板に薄膜トランジス タなどの素子を一体に形成した後に、純水などの洗浄液を用いてガラス基板を洗 浄する。このような洗浄は、ガラス基板を乾燥装置の回転板に載置した状態で行 うこともできるし、他の洗浄装置で洗浄処理を施すこともできる。Next, the operation will be described. In the manufacturing process of liquid crystal display panels, the glass substrate of the liquid crystal display panel is coated with a resin alignment film such as polyvinyl alcohol or polyimide and baked, or by processing such as vacuum deposition, electron beam deposition, and sputtering. After an element such as a thin film transistor is integrally formed on the glass substrate, the glass substrate is washed with a cleaning liquid such as pure water. Such cleaning can be performed while the glass substrate is placed on the rotary plate of the drying device, or can be subjected to cleaning treatment by another cleaning device.

【００２３】 この洗浄を終えたガラス基板４を位置決めピン１０で案内されるように回転板 ５に載置する。ガラス基板４を回転板５に載置した状態で吸引装置を作動させ、 回転板５の表面に設けられた吸着部３６にガラス基板４を吸着し、ガラス基板４ を回転板５に安定した状態で固定する。 その後、回転軸３に取り付けられたモータ（図示せず）を作動させ、回転板５ を高速回転させる。これにより、ガラス基板４に付着した洗浄液の水滴などが遠 心力によって除去されるが、これと同時に、高速回転しているガラス基板４の裏 面の回転中心近傍に、噴出ノズル６から気体を吹き付け、遠心力によって除去で きない水滴などを遠心力が作用する位置まで移動させる。The glass substrate 4 that has been cleaned is placed on the rotating plate 5 so as to be guided by the positioning pins 10. The suction device is operated with the glass substrate 4 placed on the rotary plate 5, the glass substrate 4 is sucked by the suction portion 36 provided on the surface of the rotary plate 5, and the glass substrate 4 is stabilized on the rotary plate 5. Fix with. Then, a motor (not shown) attached to the rotary shaft 3 is operated to rotate the rotary plate 5 at high speed. As a result, water droplets of the cleaning liquid adhering to the glass substrate 4 are removed by the centrifugal force, but at the same time, a gas is blown from the jet nozzle 6 near the center of rotation of the back surface of the glass substrate 4 which is rotating at high speed. , Move water drops that cannot be removed by centrifugal force to the position where centrifugal force acts.

【００２４】 特に、ガラス基板４の裏面から吹き付けられる気体は、気体供給源から配管（ 何れも図示せず）を介してフランジ８に導かれ、一対のオイルシール９の間に形 成された環状流路１２から回転軸３の開口部７ａに至る。この開口部７ａに至っ た気体は、流路７を経て噴出ノズル６の開口部６ａからガラス基板４の裏面中心 に向かって吹き出される。In particular, the gas blown from the back surface of the glass substrate 4 is guided from the gas supply source to the flange 8 via a pipe (none of which is shown), and is formed into an annular shape between a pair of oil seals 9. From the flow path 12 to the opening 7 a of the rotating shaft 3. The gas reaching the opening 7a is blown out from the opening 6a of the ejection nozzle 6 toward the center of the back surface of the glass substrate 4 through the flow path 7.

【００２５】 このとき、回転軸３と噴出ノズル６との間にフィルタ１６が設けられているた め、オイルシール９からの粉塵が流路７内に侵入したとしても、これらのフィル タ１６によって除去されることになる。At this time, since the filter 16 is provided between the rotary shaft 3 and the jet nozzle 6, even if dust from the oil seal 9 enters the flow path 7, the filter 16 can be used. Will be removed.

【００２６】 上述したように本実施例の基板乾燥装置によれば、ガラス基板４の回転中心付 近に水滴などが残留することを防止できるとともに、安価にガラス基板４を回転 時にて安定した状態で回転板５に固定させることができる。As described above, according to the substrate drying apparatus of the present embodiment, it is possible to prevent water droplets and the like from remaining near the center of rotation of the glass substrate 4, and to keep the glass substrate 4 in a stable state at low cost. It can be fixed to the rotary plate 5 with.

【００２７】 第２実施例について説明する。 本実施例の基板乾燥装置は、上述した第１実施例の基板乾燥装置とほぼ同一の 構成であるが、上述した構成に加えて回転板５にガラス基板４が載置されいるか 否かを検出するための構成を有している。 この基板乾燥装置は、図３に示すように、吸引装置５６からの吸引力を管路７ に伝達する図１に示す継手部１１に接続された管路５２に気圧測定装置５４が取 り付けられており、この気圧測定装置５４が測定した気圧に基づいてガラス基板 ４が回転板５に載置されているか否かを検出することができる。 具体的には、ガラス基板４が回転板５に載置されると吸着部３６とガラス基板 ４とが面着して外部からの流入する空気量が減少し、管路５２内の気圧が上昇す ることから、気圧測定装置５４を用いて管路５２内の気圧を測定することでガラ ス基板４が回転板５に載置されているか否かを検出することができる。すなわち 、気圧測定装置５４が測定した気圧を所定の基準に達したときにガラス基板４が 回転板５に載置されているとして検出を行う。 また、本実施例の基板乾燥装置は、たとえば、図３に示す管路５２に乾燥用の 通路とバイパス用の通路とを有しており、ガラス基板４の乾燥停止時においては フィルタ１６の目ずまりを防止するためにバイパス用の通路を介して少量の気体 を流し、一方、ガラス基板４の乾燥時においては乾燥用の通路を介して大量の気 体を流すように構成される。このとき、管路５２における乾燥用の通路とバイパ ス用の通路との切り換えを上述したガラス基板４が回転板５に載置されているか 否かの検出に基づいて行う。 本実施例の基板乾燥装置では、搬送機構によって回転板５にガラス基板４が正 しく載置されたか否を検出することができるため、管路４２における通路の切り 換えを行うタイミングおよび回転軸３の回転駆動を開始するタイミングを適切に 決定することができる。A second embodiment will be described. The substrate drying apparatus of this embodiment has almost the same configuration as the substrate drying apparatus of the first embodiment described above, but in addition to the configuration described above, it detects whether the glass substrate 4 is placed on the rotating plate 5. It has a structure for doing. In this substrate drying apparatus, as shown in FIG. 3, a barometric pressure measuring device 54 is attached to a pipe line 52 connected to the joint portion 11 shown in FIG. 1 for transmitting the suction force from a suction device 56 to the pipe line 7. It is possible to detect whether or not the glass substrate 4 is placed on the rotary plate 5 based on the atmospheric pressure measured by the atmospheric pressure measuring device 54. Specifically, when the glass substrate 4 is placed on the rotating plate 5, the suction portion 36 and the glass substrate 4 are surface-contacted with each other, the amount of air flowing in from the outside is reduced, and the air pressure in the conduit 52 is increased. Therefore, it is possible to detect whether or not the glass substrate 4 is placed on the rotary plate 5 by measuring the atmospheric pressure in the conduit 52 using the atmospheric pressure measuring device 54. That is, when the atmospheric pressure measured by the atmospheric pressure measuring device 54 reaches a predetermined reference, it is detected that the glass substrate 4 is placed on the rotating plate 5. Further, the substrate drying apparatus of the present embodiment has, for example, a drying passage and a bypass passage in the pipe line 52 shown in FIG. 3, and when the drying of the glass substrate 4 is stopped, the filter 16 is opened. A small amount of gas is caused to flow through the bypass passage in order to prevent jamming, while a large amount of gas is caused to flow through the drying passage when the glass substrate 4 is dried. At this time, switching between the passage for drying and the passage for bypass in the conduit 52 is performed based on detection of whether or not the above-mentioned glass substrate 4 is placed on the rotating plate 5. In the substrate drying apparatus of this embodiment, it is possible to detect whether or not the glass substrate 4 is correctly placed on the rotary plate 5 by the transport mechanism, and therefore, the timing of switching the passage in the conduit 42 and the rotary shaft 3 can be detected. It is possible to appropriately determine the timing for starting the rotation drive of the.

【００２８】 次に作用を説明する。 図４は、本実施例の基板乾燥装置がガラス基板の乾燥を行う際の手順を示すフ ローチャートである。Next, the operation will be described. FIG. 4 is a flow chart showing the procedure when the glass substrate drying apparatus of this embodiment dries the glass substrate.

【００２９】 ステップＳ１：先ず、洗浄を終えたガラス基板４を位置決めピン１０ａおよび 接触ピン１０ｂに案内されるように回転板５に載置する。 ステップＳ２：吸着装置を作動させて吸着部３６にガラス基板４を吸着させる 。これによりガラス基板４は回転板５に安定した状態で固定される。 ステップＳ３：上述したように、気圧測定装置５４が測定した気圧に基づいて ガラス基板４が回転板５に載置されているか否かを検出し、載置されていると判 断した場合にはステップＳ４の処理を行い、載置されていないと判断した場合に はステップＳ９の処理を行う。ステップＳ９では、基板載置が不良である場合の 予め定められた所定の処理を行う。Step S1: First, the cleaned glass substrate 4 is placed on the rotary plate 5 so as to be guided by the positioning pins 10a and the contact pins 10b. Step S2: The adsorption device is operated to adsorb the glass substrate 4 to the adsorption unit 36. Thereby, the glass substrate 4 is fixed to the rotating plate 5 in a stable state. Step S3: As described above, whether or not the glass substrate 4 is placed on the rotating plate 5 is detected based on the atmospheric pressure measured by the atmospheric pressure measuring device 54, and when it is determined that the glass substrate 4 is placed, When the process of step S4 is performed and it is determined that the device is not placed, the process of step S9 is performed. In step S9, a predetermined process that is performed when the substrate placement is defective is performed.

【００３０】 ステップＳ４：回転軸３に取り付けられたモータ（図示せず）を作動させて回 転板５を高速回転させ、ガラス基板４に付着した水滴などを遠心力によって除去 する。このとき、噴射ノズル６からは管路５２の乾燥用の通路を介して気体がガ ラス基板４の裏面に向かって噴射され、ガラス基板４の裏面の回転中心近傍に付 着した水滴などは遠心力が使用する位置まで移動される。 ステップＳ５：ステップＳ４における回転板５の高速回転を継続すると共に、 ステップＳ３と同様に回転板５にガラス基板４が適切に載置れているか否かを検 出し、載置されていると判断した場合にはステップＳ６の処理を行い、載置され ていないと判断した場合にはステップＳ９において異常事態発生用の処理を行う 。Step S4: A motor (not shown) attached to the rotary shaft 3 is operated to rotate the rotating plate 5 at a high speed, and water droplets and the like adhering to the glass substrate 4 are removed by centrifugal force. At this time, gas is jetted from the jet nozzle 6 toward the back surface of the glass substrate 4 through the drying passage of the pipe 52, and water droplets and the like attached near the rotation center of the glass substrate 4 are centrifuged. The force is moved to the position used. Step S5: While continuing the high speed rotation of the rotary plate 5 in step S4, it is determined whether the glass substrate 4 is properly mounted on the rotary plate 5 as in step S3, and it is determined that the glass substrate 4 is mounted. If so, the process of step S6 is performed, and if it is determined that the device is not placed, the process for occurrence of an abnormal situation is performed in step S9.

【００３１】 ステップＳ６：回転回数など所定の回転パターンを終了したか否かを判断し、 終了したと判断した場合には再びステップＳ５の処理を行い、終了していないと 判断した場合にはステップＳ７の処理を行う。 ステップＳ７：回転軸３に取り付けられたモータの作動を停止させて回転板５ の回転を停止させると共に、噴射ノズル６からの気体噴射を管路５２のバイパス 用の通路を介して少量だけ行うようにする。 ステップＳ８：吸着装置を作動を停止させ、ガラス基板４の吸着を解除する。Step S6: It is determined whether or not a predetermined rotation pattern such as the number of rotations has been completed. If it is determined that the pattern has been completed, the process of step S5 is performed again, and if it is determined that it has not been completed, the step is performed. The process of S7 is performed. Step S7: The operation of the motor attached to the rotary shaft 3 is stopped to stop the rotation of the rotary plate 5, and a small amount of gas is jetted from the jet nozzle 6 through the bypass passage of the pipe line 52. To Step S8: The operation of the suction device is stopped and the suction of the glass substrate 4 is released.

【００３２】 なお、以上説明した実施例は、本考案の理解を容易にするために記載されたも のであって、本考案を限定するために記載されたものではない。したがって、上 記の実施例に開示された各要素は、本考案の技術的範囲に属する全ての設計変更 や均等物をも含む趣旨である。 たとえば、上述した実施例では乾燥対象として液晶表示板のガラス基板を具体 例に挙げて本考案の乾燥装置を説明したが、本考案の乾燥装置により乾燥できる ワークは液晶表示板のガラス基板にのみ限定されることはなく、遠心力を用いて 基板を乾燥させるその他種々の場合にも適用できる。また、噴射ノズルから噴射 されるガスは窒素ガスに限らず、その他のエアなどを用いることができる。It should be noted that the embodiments described above are provided for facilitating the understanding of the present invention, and are not intended to limit the present invention. Therefore, each element disclosed in the above-described embodiments is intended to include all design changes and equivalents within the technical scope of the present invention. For example, in the above-mentioned embodiment, the drying device of the present invention has been described by taking the glass substrate of the liquid crystal display plate as a specific example of the drying object. The present invention is not limited, and can be applied to various other cases in which the substrate is dried using centrifugal force. The gas injected from the injection nozzle is not limited to nitrogen gas, and other air or the like can be used.

【００３３】[0033]

【考案の効果】[Effect of device]

上述したように本考案の基板乾燥装置によれば基板の回転中心近傍に洗浄液な どが残留することを防止できるとともに、基板を回転時にて安定した状態で回転 板に固定できる。 また、本考案の基板乾燥装置によれば、基板が回転板に正しく載置されたか否 かを正確に検出することができる。 As described above, according to the substrate drying apparatus of the present invention, the cleaning liquid can be prevented from remaining near the rotation center of the substrate, and the substrate can be fixed to the rotating plate in a stable state during rotation. Further, according to the substrate drying apparatus of the present invention, it is possible to accurately detect whether or not the substrate is properly placed on the rotating plate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本考案の第１実施例に係わるガラス基板の乾燥
装置を示す縦断面図である。FIG. 1 is a vertical sectional view showing a glass substrate drying apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図２】同実施例に係わる回転板を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a rotary plate according to the embodiment.

【図３】本考案の第２実施例に係わるガラス基板の乾燥
装置で用いられる基板載置検出部を説明するための図で
ある。FIG. 3 is a view for explaining a substrate placement detector used in a glass substrate drying device according to a second embodiment of the present invention.

【図４】本考案の第２実施例に係わるガラス基板の乾燥
装置がガラス基板の乾燥を行う際の手順を示すフローチ
ャートである。FIG. 4 is a flowchart showing a procedure for drying a glass substrate by a glass substrate drying device according to a second embodiment of the present invention.

【図５】従来のガラス基板の乾燥装置を示す縦断面図で
ある。FIG. 5 is a vertical cross-sectional view showing a conventional glass substrate drying apparatus.

【図６】図５に示すガラス基板の乾燥装置の平面図であ
る。FIG. 6 is a plan view of the glass substrate drying apparatus shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１・・・ベース ２・・・軸受け ４・・・ガラス基板 ５・・・回転板 ６・・・噴射ノズル ６ａ・・・噴出口 ７・・・流路 ９、３４・・・オイルシール １０・・・位置決めピン ３２・・・管路 ３６・・・吸着部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base 2 ... Bearing 4 ... Glass substrate 5 ... Rotating plate 6 ... Jet nozzle 6a ... Jet outlet 7 ... Flow path 9, 34 ... Oil seal 10. ..Positioning pins 32 ... Pipe line 36 ... Suction part

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項１】基板を載置する範囲を規定する位置決めピ
ンおよび基板を下面から支持する接触ピンが設けられ、
載置された基板を回転させる回転板と、 該回転板を回転自在に支持する回転機構と、 該回転機構内に設けられ、前記基板の載置方向と対向す
る方向から前記基板のほぼ回転中心部に向けて気体を噴
射させる噴射部と、 前記回転機構内に設けられ前記回転板に載置された基板
を、前記基板の載置方向と対向する方向から吸引力によ
って前記回転板に固定する吸着部とを有することを特徴
とする基板乾燥装置。1. A positioning pin that defines a range on which a substrate is placed and a contact pin that supports the substrate from the lower surface are provided.
A rotating plate for rotating the placed substrate, a rotating mechanism for rotatably supporting the rotating plate, and a rotation center provided in the rotating mechanism and substantially in the center of rotation of the substrate from a direction opposite to the placing direction of the substrate. A jetting unit for jetting gas toward the unit and a substrate mounted on the rotary plate, which is provided in the rotating mechanism, are fixed to the rotary plate by a suction force from a direction opposite to the mounting direction of the substrate. A substrate drying apparatus comprising: an adsorption unit. 【請求項２】前記前記吸引力を測定する測定手段をさら
に有し、 該測定手段の測定結果に基づいて、前記回転板に前記基
板が載置されているか否かを検出することを特徴とする
請求項１記載の基板乾燥装置。2. A measuring means for measuring the suction force is further provided, and whether or not the substrate is placed on the rotary plate is detected based on a measurement result of the measuring means. The substrate drying device according to claim 1.