JPH07120935A - 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 - Google Patents
感放射線性組成物用アルカリ性現像液Info
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- JPH07120935A JPH07120935A JP26634493A JP26634493A JPH07120935A JP H07120935 A JPH07120935 A JP H07120935A JP 26634493 A JP26634493 A JP 26634493A JP 26634493 A JP26634493 A JP 26634493A JP H07120935 A JPH07120935 A JP H07120935A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性
現像液は、 [A]アルカリ性化合物および [B]非イオン性界面活性剤を含む水溶液であって、 (i) pHが9〜13であり、かつ(ii)上記の非イオン性
界面活性剤を0.01〜1.0重量%の量で含有してい
る。 【効果】本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現
像液を用いて塗膜を現像してレジストパターンあるいは
カラーフィルタを形成すると、膜はがれを生じることな
くかつ不要な塗膜を充分に溶解して除去することがで
き、スカム、膜残りなどを発生することなくシャープな
パターンエッジを有する画素(カラーフィルタ)または
レジスト膜などを形成することができる。
現像液は、 [A]アルカリ性化合物および [B]非イオン性界面活性剤を含む水溶液であって、 (i) pHが9〜13であり、かつ(ii)上記の非イオン性
界面活性剤を0.01〜1.0重量%の量で含有してい
る。 【効果】本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現
像液を用いて塗膜を現像してレジストパターンあるいは
カラーフィルタを形成すると、膜はがれを生じることな
くかつ不要な塗膜を充分に溶解して除去することがで
き、スカム、膜残りなどを発生することなくシャープな
パターンエッジを有する画素(カラーフィルタ)または
レジスト膜などを形成することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感放射線性組成物用ア
ルカリ性現像液に関し、より詳しくは、集積回路、プリ
ント基板回路などにレジスト膜を形成する際に、あるい
はカラー液晶装置、撮像管素子用のカラーフィルタを形
成する際に、感放射線性組成物から形成される塗膜を現
像する際に用いられるアルカリ性現像液に関する。
ルカリ性現像液に関し、より詳しくは、集積回路、プリ
ント基板回路などにレジスト膜を形成する際に、あるい
はカラー液晶装置、撮像管素子用のカラーフィルタを形
成する際に、感放射線性組成物から形成される塗膜を現
像する際に用いられるアルカリ性現像液に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、集積回路、プリント基板回路、カ
ラーフィルタなどの微細加工分野において広く利用され
ているレジスト膜は、通常、レジスト膜形成用感放射線
性組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜に
放射線を照射し、その後アルカリ性現像液で現像して、
不要部分の塗膜を除去してパターン形状に形成すること
により製造されている。
ラーフィルタなどの微細加工分野において広く利用され
ているレジスト膜は、通常、レジスト膜形成用感放射線
性組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜に
放射線を照射し、その後アルカリ性現像液で現像して、
不要部分の塗膜を除去してパターン形状に形成すること
により製造されている。
【0003】このような感放射線性組成物からなる塗膜
の現像は、浸漬現像、揺動現像、ディップ現像、シャワ
ー・スプレー現像、パドル現像などの方法により行われ
るが、この現像の際には、アルカリ性現像液が用いられ
ている。
の現像は、浸漬現像、揺動現像、ディップ現像、シャワ
ー・スプレー現像、パドル現像などの方法により行われ
るが、この現像の際には、アルカリ性現像液が用いられ
ている。
【0004】従来このようなアルカリ性現像液として
は、一般的に、2〜3重量%テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液が広く用いられている。
は、一般的に、2〜3重量%テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液が広く用いられている。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】上記のような従来の
アルカリ性現像液は、たとえばノボラック樹脂とナフト
キノンジアジド系感光剤とからなるフォトレジスト膜な
どの分子量のあまり大きくない有機物質を溶解するよう
に設計されている。
アルカリ性現像液は、たとえばノボラック樹脂とナフト
キノンジアジド系感光剤とからなるフォトレジスト膜な
どの分子量のあまり大きくない有機物質を溶解するよう
に設計されている。
【0006】しかしながらこのような従来公知の現像液
を用いて、比較的分子量の大きいバインダーポリマー
と、感放射線性化合物とを含み、顔料あるいは微粒子が
分散された感放射線性組成物たとえばカラーフィルタ用
感放射線性組成物あるいは層間膜用シリカ粒子分散感放
射線性組成物などからなる塗膜を現像してレジスト膜あ
るいはカラーフィルタなどを形成しようとすると、不要
な塗膜を充分に溶解除去することができないことがあっ
た。すなわちレジスト膜の非形成部分に粒子あるいは未
溶解物が残存しやすく、スカム、地汚れ、膜残りなどが
生じて、シャープなパターンエッジを有するレジストパ
ターンあるいは画素を形成することができないという問
題点があった。
を用いて、比較的分子量の大きいバインダーポリマー
と、感放射線性化合物とを含み、顔料あるいは微粒子が
分散された感放射線性組成物たとえばカラーフィルタ用
感放射線性組成物あるいは層間膜用シリカ粒子分散感放
射線性組成物などからなる塗膜を現像してレジスト膜あ
るいはカラーフィルタなどを形成しようとすると、不要
な塗膜を充分に溶解除去することができないことがあっ
た。すなわちレジスト膜の非形成部分に粒子あるいは未
溶解物が残存しやすく、スカム、地汚れ、膜残りなどが
生じて、シャープなパターンエッジを有するレジストパ
ターンあるいは画素を形成することができないという問
題点があった。
【0007】このため従来は、現像液のアルカリ濃度を
高めたり、あるいは機械的な刺激を与えながら現像した
りしているが、このようにすると必要なレジスト膜まで
剥離することがあり、たとえばカラーフィルタの製造で
は画素部分が欠落することがあった。
高めたり、あるいは機械的な刺激を与えながら現像した
りしているが、このようにすると必要なレジスト膜まで
剥離することがあり、たとえばカラーフィルタの製造で
は画素部分が欠落することがあった。
【0008】このため、顔料あるいは微粒子が分散され
た感放射線性組成物から形成された塗膜を現像してレジ
ストパターンあるいはカラーフィルタなどを製造するに
際して、膜はがれを生じることなく不要塗膜を溶解除去
することができるとともに、スカム、地汚れ、膜残りな
どを生じたりすることなく、シャープなパターンエッジ
を有するレジストパターンあるいはカラーフィルタを形
成することができるような感放射線性組成物用アルカリ
性現像液の出現が望まれていた。
た感放射線性組成物から形成された塗膜を現像してレジ
ストパターンあるいはカラーフィルタなどを製造するに
際して、膜はがれを生じることなく不要塗膜を溶解除去
することができるとともに、スカム、地汚れ、膜残りな
どを生じたりすることなく、シャープなパターンエッジ
を有するレジストパターンあるいはカラーフィルタを形
成することができるような感放射線性組成物用アルカリ
性現像液の出現が望まれていた。
【0009】
【問題点を解決するための手段】本発明者らは、特定範
囲のpHを有し、かつ非イオン性界面活性剤を特定の量
で含有するアルカリ性水溶液である感放射線性組成物用
アルカリ性現像液が、上記のような問題点を解決できる
ことを見出して本発明を完成するに至った。
囲のpHを有し、かつ非イオン性界面活性剤を特定の量
で含有するアルカリ性水溶液である感放射線性組成物用
アルカリ性現像液が、上記のような問題点を解決できる
ことを見出して本発明を完成するに至った。
【0010】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係る感放射線性組
成物用アルカリ性現像液について詳細に説明する。
成物用アルカリ性現像液について詳細に説明する。
【0011】本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ
性現像液は、 [A]アルカリ性化合物および [B]非イオン性界面活性剤を含む水溶液であって、
(i) pHが9〜13であり、かつ(ii)上記の非イオン性
界面活性剤を0.01〜1.0重量%の量で含有してい
る。
性現像液は、 [A]アルカリ性化合物および [B]非イオン性界面活性剤を含む水溶液であって、
(i) pHが9〜13であり、かつ(ii)上記の非イオン性
界面活性剤を0.01〜1.0重量%の量で含有してい
る。
【0012】以下まず成分[A]および[B]について
説明する。[A]アルカリ性化合物 本発明ではアルカリ性化合物として、無機アルカリ性化
合物、有機アルカリ性化合物のいずれをも用いることが
できる。
説明する。[A]アルカリ性化合物 本発明ではアルカリ性化合物として、無機アルカリ性化
合物、有機アルカリ性化合物のいずれをも用いることが
できる。
【0013】本発明で用いられる無機アルカリ性化合物
としては、具体的に、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水
素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素
二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水
素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウ
ム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、
ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが
挙げられる。
としては、具体的に、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水
素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素
二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水
素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウ
ム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、
ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが
挙げられる。
【0014】また有機アルカリ性化合物としては、具体
的に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化
2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム、モノメチ
ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ
イソピルアミン、ジイソピルアミン、エタノールアミン
などが挙げられる。
的に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化
2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム、モノメチ
ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ
イソピルアミン、ジイソピルアミン、エタノールアミン
などが挙げられる。
【0015】これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムハイドロ
オキサイドなどが好ましい。
カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムハイドロ
オキサイドなどが好ましい。
【0016】これらは2種以上組合わせて用いることも
できる。[C]非イオン性界面活性剤 本発明で用いられる非イオン性界面活性剤(ノニオン界
面活性剤)としては、具体的には、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリ
オキシエチレン誘導体、オキシエチレン・オキシプロピ
レンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、
ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
できる。[C]非イオン性界面活性剤 本発明で用いられる非イオン性界面活性剤(ノニオン界
面活性剤)としては、具体的には、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリ
オキシエチレン誘導体、オキシエチレン・オキシプロピ
レンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、
ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
【0017】これらのうち、ポリオキシエチレンアリル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエ
チレン誘導体などが好ましい。
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエ
チレン誘導体などが好ましい。
【0018】これらは2種以上組合せて用いることもで
きる。その他の成分 本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現像液は、
得られるレジスト膜あるいはカラーフィルタに対して残
留イオンあるいは残留塩などが問題にならない場合など
には、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じてア
ニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤を含有していて
もよい。
きる。その他の成分 本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現像液は、
得られるレジスト膜あるいはカラーフィルタに対して残
留イオンあるいは残留塩などが問題にならない場合など
には、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じてア
ニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤を含有していて
もよい。
【0019】このようなアニオン界面活性剤としては、
具体的には、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウ
ム、オレイルアルコール硫酸エステルナトリウムなどの
高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、ラウリル硫酸アンモニウムなどのアルキル硫酸塩
類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル
ナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリー
ルスルホン酸塩類などが挙げられる。
具体的には、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウ
ム、オレイルアルコール硫酸エステルナトリウムなどの
高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、ラウリル硫酸アンモニウムなどのアルキル硫酸塩
類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル
ナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルアリー
ルスルホン酸塩類などが挙げられる。
【0020】カチオン界面活性剤としては、具体的に
は、ステアリルアミン塩酸塩、ラウリルトリメチルアン
モニウムクロライド、アルキルベンゼンジメチルアンモ
ニウムクロライドなどの第4級アンモニウム塩などが挙
げられる。
は、ステアリルアミン塩酸塩、ラウリルトリメチルアン
モニウムクロライド、アルキルベンゼンジメチルアンモ
ニウムクロライドなどの第4級アンモニウム塩などが挙
げられる。
【0021】感放射線性組成物用アルカリ性現像液 本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現像液は、
上記のようなアルカリ性化合物[A]と非イオン性界面
活性剤[B]とを含む水溶液であって、(i) pHが9〜
13であり、かつ(ii)上記の非イオン性界面活性剤を
0.01〜1.0重量%の量で含有している。
上記のようなアルカリ性化合物[A]と非イオン性界面
活性剤[B]とを含む水溶液であって、(i) pHが9〜
13であり、かつ(ii)上記の非イオン性界面活性剤を
0.01〜1.0重量%の量で含有している。
【0022】この感放射線性組成物用アルカリ性現像液
のpHは、アルカリ性化合物[A]によって9〜13、
特に好ましくは10.0〜12.5に調整されている。
また本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現像液
は、非イオン性界面活性剤[B]を上記のように0.0
1〜1.0重量%、特に好ましくは0.05〜0.5重
量%の量で含有している。
のpHは、アルカリ性化合物[A]によって9〜13、
特に好ましくは10.0〜12.5に調整されている。
また本発明に係る感放射線性組成物用アルカリ性現像液
は、非イオン性界面活性剤[B]を上記のように0.0
1〜1.0重量%、特に好ましくは0.05〜0.5重
量%の量で含有している。
【0023】このような本発明に係る感放射線性組成物
用アルカリ性現像液を用いて感放射線性組成物から形成
された塗膜を現像すれば、レジスト膜の膜はがれを生じ
ることなく、不要な塗膜を充分に溶解除去することがで
き、スカム、膜残りなどを発生することがない。したが
ってシャープなパターンエッジを有する画素(カラーフ
ィルタ)またはレジスト膜などを形成することができ
る。
用アルカリ性現像液を用いて感放射線性組成物から形成
された塗膜を現像すれば、レジスト膜の膜はがれを生じ
ることなく、不要な塗膜を充分に溶解除去することがで
き、スカム、膜残りなどを発生することがない。したが
ってシャープなパターンエッジを有する画素(カラーフ
ィルタ)またはレジスト膜などを形成することができ
る。
【0024】なおpHが9未満のアルカリ性現像液は、
膜残りを発生しやすく、一方pHが13を超えるアルカ
リ性現像液は、画素などの必要なレジスト膜を欠落させ
たり、膜はがれなどを生じることがある。
膜残りを発生しやすく、一方pHが13を超えるアルカ
リ性現像液は、画素などの必要なレジスト膜を欠落させ
たり、膜はがれなどを生じることがある。
【0025】またアルカリ性現像液は、非イオン性界面
活性剤の含有量が0.01重量%未満であると、スカ
ム、膜残りを発生しやすく、一方1.0重量%を超える
と現像液が泡立ちやすく、現像作業性が低下することが
ある。
活性剤の含有量が0.01重量%未満であると、スカ
ム、膜残りを発生しやすく、一方1.0重量%を超える
と現像液が泡立ちやすく、現像作業性が低下することが
ある。
【0026】また本発明に係る感放射線性組成物用アル
カリ性現像液を用いれば、シリカ粒子、顔料などの微粒
子が分散された感放射線性組成物の塗膜を現像しても、
微粒子あるいは未溶解物が残存することがなく、また画
素が欠落したり、レジスト膜の膜はがれなどを生じたり
することもない。
カリ性現像液を用いれば、シリカ粒子、顔料などの微粒
子が分散された感放射線性組成物の塗膜を現像しても、
微粒子あるいは未溶解物が残存することがなく、また画
素が欠落したり、レジスト膜の膜はがれなどを生じたり
することもない。
【0027】上記のような本発明に係る感放射線性組成
物用アルカリ性現像液は、たとえば下記のような組成を
有するカラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物からカラ
ーフィルタを形成する際に、あるいはレジスト膜形成用
感放射線性樹脂組成物からレジスト膜を形成する際に好
ましく用いられる。
物用アルカリ性現像液は、たとえば下記のような組成を
有するカラーフィルタ用感放射線性樹脂組成物からカラ
ーフィルタを形成する際に、あるいはレジスト膜形成用
感放射線性樹脂組成物からレジスト膜を形成する際に好
ましく用いられる。
【0028】このようなカラーフィルタ用感放射線性樹
脂組成物は、通常、有機または無機顔料、アルカリ可溶
性のバインダーポリマーおよび感放射線化合物が、有機
溶剤に、溶解または分散されたものである。
脂組成物は、通常、有機または無機顔料、アルカリ可溶
性のバインダーポリマーおよび感放射線化合物が、有機
溶剤に、溶解または分散されたものである。
【0029】アルカリ溶解性のバインダーポリマーとし
ては、具体的には、メチルメタクリレート/ビニルフェ
ノール/スチレン/メタクリル酸共重合体、ベンジルメ
タクリレート/メタクリル酸/スチレン共重合体、メチ
ルメタクリレート/メタクリル酸/スチレン共重合体、
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、メチルメタクリレート/メタ
クリル酸/ポリスチレンマクロモノマー共重合体などが
挙げられる。
ては、具体的には、メチルメタクリレート/ビニルフェ
ノール/スチレン/メタクリル酸共重合体、ベンジルメ
タクリレート/メタクリル酸/スチレン共重合体、メチ
ルメタクリレート/メタクリル酸/スチレン共重合体、
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、メチルメタクリレート/メタ
クリル酸/ポリスチレンマクロモノマー共重合体などが
挙げられる。
【0030】このようなバインダーポリマーの分子量
は、通常5000〜200000、好ましくは2000
0〜80000であることが望ましい。感放射線化合物
は、放射線が照射されると、カルベン、ナイトレンなど
のラジカル(活性分子片)を生じて反応し、バインダー
ポリマーに三次元架橋構造を形成させる化合物であり、
具体的には、光重合開始剤、光重合性モノマー、光重合
性オリゴマー、光架橋剤などが挙げられる。
は、通常5000〜200000、好ましくは2000
0〜80000であることが望ましい。感放射線化合物
は、放射線が照射されると、カルベン、ナイトレンなど
のラジカル(活性分子片)を生じて反応し、バインダー
ポリマーに三次元架橋構造を形成させる化合物であり、
具体的には、光重合開始剤、光重合性モノマー、光重合
性オリゴマー、光架橋剤などが挙げられる。
【0031】このようなカラーフィルタ用感放射線性樹
脂組成物は、上述のように顔料あるいは微粒子を含んで
いてもよい。なお本発明において、「放射線」という語
は、紫外線、電子線、X線などを含んで意味している。
脂組成物は、上述のように顔料あるいは微粒子を含んで
いてもよい。なお本発明において、「放射線」という語
は、紫外線、電子線、X線などを含んで意味している。
【0032】
【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例により限定されるものではな
い。
が、本発明はこれら実施例により限定されるものではな
い。
【0033】なお以下の実施例において用いたカラーフ
ィルター用顔料分散レジストの組成を、表1に示す。
ィルター用顔料分散レジストの組成を、表1に示す。
【0034】
【表1】
【0035】
【実施例1】表面にナトリウムイオンの溶出を防止する
SiO2膜が形成されたソーダガラス基板表面上(5cm
×5cm)に、20μm×20μmのパターン形状の遮光
層を形成し、さらに表1に示すカラーフィルター用顔料
分散レジストをスピンコーターにより所望厚さ(1.5
μm)に塗布した後、得られた塗膜を80℃で10分間
プレベークして乾燥塗膜を得た。
SiO2膜が形成されたソーダガラス基板表面上(5cm
×5cm)に、20μm×20μmのパターン形状の遮光
層を形成し、さらに表1に示すカラーフィルター用顔料
分散レジストをスピンコーターにより所望厚さ(1.5
μm)に塗布した後、得られた塗膜を80℃で10分間
プレベークして乾燥塗膜を得た。
【0036】次いで該乾燥塗膜を、フォトマスクを通し
て、高圧水銀ランプによって100mj/cm2の紫外線
で露光した。一方表2に示すような各成分からアルカリ
性現像液を調製した。表2に示すような量の非イオン性
界面活性剤が溶解された水1000gに、表2に示すア
ルカリ性化合物の20重量%水溶液を添加してpHを1
1.3に調整することによりアルカリ性現像液を調製し
た。
て、高圧水銀ランプによって100mj/cm2の紫外線
で露光した。一方表2に示すような各成分からアルカリ
性現像液を調製した。表2に示すような量の非イオン性
界面活性剤が溶解された水1000gに、表2に示すア
ルカリ性化合物の20重量%水溶液を添加してpHを1
1.3に調整することによりアルカリ性現像液を調製し
た。
【0037】このように調整されたアルカリ性現像液2
00gを用いて、上記のように得られた乾燥塗膜を有す
る基板1枚をゆるやかに揺動させながらディップして現
像した。現像後、基板を純水でリンスし、基板上に形成
された画素を顕微鏡で観察したところ、画素が欠落する
ことがなく、シャープなパターンエッジを有する画素が
形成されており、また非画素基板上にスカム、膜残りな
どはなかった。
00gを用いて、上記のように得られた乾燥塗膜を有す
る基板1枚をゆるやかに揺動させながらディップして現
像した。現像後、基板を純水でリンスし、基板上に形成
された画素を顕微鏡で観察したところ、画素が欠落する
ことがなく、シャープなパターンエッジを有する画素が
形成されており、また非画素基板上にスカム、膜残りな
どはなかった。
【0038】
【実施例2】表2に示すような各成分から実施例1と同
様にしてpH10.5のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
様にしてpH10.5のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
【0039】得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
画素が欠落することがなく、シャープなパターンエッジ
を有する画素が形成されており、また非画素基板上にス
カム、膜残りなどはなかった。
画素が欠落することがなく、シャープなパターンエッジ
を有する画素が形成されており、また非画素基板上にス
カム、膜残りなどはなかった。
【0040】
【実施例3】表2に示すような各成分から実施例1と同
様にしてpH12.0のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
様にしてpH12.0のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
【0041】得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
画素が欠落することがなく、シャープなパターンエッジ
を有する画素が形成されており、また非画素基板上にス
カム、膜残りなどはなかった。
画素が欠落することがなく、シャープなパターンエッジ
を有する画素が形成されており、また非画素基板上にス
カム、膜残りなどはなかった。
【0042】
【比較例1】実施例1において、非イオン性界面活性剤
を含まない表2に示すようなpH11.5のアルカリ性
現像液を用いた以外は、実施例1と同様にして乾燥塗膜
を形成し、現像した。
を含まない表2に示すようなpH11.5のアルカリ性
現像液を用いた以外は、実施例1と同様にして乾燥塗膜
を形成し、現像した。
【0043】得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
画素が欠落することはなかったが、パターンエッジがシ
ャープではなく、またスカムの発生が見られた。
画素が欠落することはなかったが、パターンエッジがシ
ャープではなく、またスカムの発生が見られた。
【0044】
【比較例2】表2に示すような各成分から実施例1と同
様にしてpH10.6のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
様にしてpH10.6のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
【0045】得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
画素が欠落することはなかったが、非画素基板上に膜残
りが見られた。
画素が欠落することはなかったが、非画素基板上に膜残
りが見られた。
【0046】
【比較例3】表2に示すような各成分から実施例1と同
様にしてpH8.5のアルカリ性現像液を調製した。こ
のアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様に
して乾燥塗膜を形成し、現像した。
様にしてpH8.5のアルカリ性現像液を調製した。こ
のアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様に
して乾燥塗膜を形成し、現像した。
【0047】得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
非画素基板上に膜残りが顕著に見られ、シャープなパタ
ーンは得られなかった。
非画素基板上に膜残りが顕著に見られ、シャープなパタ
ーンは得られなかった。
【0048】
【比較例4】表2に示すような各成分から実施例1と同
様にしてpH13.5のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
様にしてpH13.5のアルカリ性現像液を調製した。
このアルカリ性現像液を用いた以外は、実施例1と同様
にして乾燥塗膜を形成し、現像した。
【0049】得られた画素を顕微鏡で観察したところ、
画素の欠落が認められた。
画素の欠落が認められた。
【0050】
【表2】
【0051】
【発明の効果】上述したように、本発明に係る感放射線
性組成物用アルカリ性現像液を用いて塗膜を現像してレ
ジストパターンあるいはカラーフィルタを形成すると、
膜はがれが生じることなくかつ不要な塗膜を充分に溶解
して除去することができ、スカム、膜残りなどが発生す
ることなくシャープなパターンエッジを有する画素(カ
ラーフィルタ)またはレジスト膜などを形成することが
できる。
性組成物用アルカリ性現像液を用いて塗膜を現像してレ
ジストパターンあるいはカラーフィルタを形成すると、
膜はがれが生じることなくかつ不要な塗膜を充分に溶解
して除去することができ、スカム、膜残りなどが発生す
ることなくシャープなパターンエッジを有する画素(カ
ラーフィルタ)またはレジスト膜などを形成することが
できる。
【0052】このような本発明に係る感放射線性組成物
用アルカリ性現像液は、高分子量のバインダーポリマー
を含み、シリカ粒子、顔料などの微粒子が分散された感
放射線性組成物から形成された塗膜を現像する際にも好
適に用いられる。
用アルカリ性現像液は、高分子量のバインダーポリマー
を含み、シリカ粒子、顔料などの微粒子が分散された感
放射線性組成物から形成された塗膜を現像する際にも好
適に用いられる。
Claims (1)
- 【請求項1】[A]アルカリ性化合物および [B]非イオン性界面活性剤 を含む水溶液であって、 (i) pHが9〜13であり、かつ(ii)上記の非イオン性
界面活性剤を0.01〜1.0重量%の量で含有するこ
とを特徴とする感放射線性組成物用アルカリ性現像液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26634493A JPH07120935A (ja) | 1993-10-25 | 1993-10-25 | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26634493A JPH07120935A (ja) | 1993-10-25 | 1993-10-25 | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07120935A true JPH07120935A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17429636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26634493A Pending JPH07120935A (ja) | 1993-10-25 | 1993-10-25 | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07120935A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000073787A (ko) * | 1999-05-14 | 2000-12-05 | 마쯔모또 에이찌 | 감방사선성 조성물용 알칼리성 현상액 |
US6180322B1 (en) | 1998-03-05 | 2001-01-30 | Jsr Corporation | Alkaline developing solution for radiation sensitive composition and development method |
JP2001312072A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Advanced Color Tec Kk | 感光性樹脂用現像液、現像方法、および光学的カラーフィルターの製造方法 |
US7150960B2 (en) | 2005-01-27 | 2006-12-19 | Everlight Usa, Inc. | Developer composition |
KR100840530B1 (ko) * | 2002-11-19 | 2008-06-23 | 주식회사 동진쎄미켐 | 포토레지스트 현상액 조성물 |
US7427168B2 (en) | 2002-03-01 | 2008-09-23 | Tokyo Electron Limited | Developing method and developing unit |
CN101813896A (zh) * | 2010-04-01 | 2010-08-25 | 江阴市江化微电子材料有限公司 | 一种低张力正胶显影液 |
CN102540772A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-07-04 | 江阴江化微电子材料股份有限公司 | 一种低张力正胶显影液及其制备方法 |
CN103955119A (zh) * | 2014-04-17 | 2014-07-30 | 富士胶片电子材料(苏州)有限公司 | 一种用于半导体集成电路中的显影液 |
US8808976B2 (en) | 2005-06-13 | 2014-08-19 | Tokuyama Corporation | Photoresist developer and method for fabricating substrate by using the developer thereof |
CN104028536A (zh) * | 2014-05-27 | 2014-09-10 | 上海展华电子有限公司 | 废弃物减量***及方法 |
-
1993
- 1993-10-25 JP JP26634493A patent/JPH07120935A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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