JPH071173A - 観察機能付レーザ加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 偏光観察とレーザ加工とを同時に実行でき
る、アナライザがレーザ光によって損壊されることがな
い、レーザ加工時にもアナライザの離脱を不要にでき
る、レーザ加工がアナライザの影響を受けないようにす
る。 【構成】 ポラライザ５２、７３及びアナライザ６６を
備えて試料５６の偏光観察像を得ることができる、試料
に向かう加工用レーザ光の光路と、この加工用レーザ光
に逆進する試料の像を含む光の観察系光路とが一部光路
を共有する観察機能付レーザ加工装置を前提とする。そ
して、試料に向かう加工用レーザ光の光路から分離して
いる観察系の専用光路上にアナライザを設けたことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被加工対象物（試料）
の観察機能及び被加工対象物のレーザ光を用いた加工機
能を有する観察機能付レーザ加工装置に関し、特に、液
晶表示パネルの欠陥のレーザ光による修正装置に適用し
て好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネルは、周知のようにクリー
ンルーム内で行なわれる微細加工等を製造工程に含むも
のであるが、埃や塵等によって欠陥が生じるものであ
る。クリーン度を高めて欠陥を抑えることも考えられる
が、欠陥をほぼ完全に抑えるクリーン度を有するクリー
ンルームを完成するための設備投資は膨大であり、その
ため、ある程度のクリーン度を有する既存のクリーンル
ームで製造されていることが多く、欠陥発生率は高い
（例えば８０％）。また、液晶表示パネルは高価なもの
であり、欠陥が存在する液晶表示パネルを廃棄すること
は経済的な損失が大きい。最近の技術発達によって大型
の液晶表示パネルが実現可能となり、ますます高価にな
る傾向にある。

【０００３】そこで、液晶表示パネルの欠陥を発見して
修正する工程が液晶表示パネルの製造工程の一部工程と
して設けられ、観察機能付レーザ加工装置によって欠陥
の存在の検査（観察）及び欠陥の修正が行なわれてい
る。例えば、配線パターンの短絡やはみ出しを発見して
レーザ光によって切断、除去したり、異物を発見してレ
ーザ光を照射し、粉砕して問題がない大きさにしたりす
るようなことが実行される。

【０００４】図３は、液晶表示パネルの概略断面構造を
示すものである。液晶表示パネル１は、例えば、上部側
から、偏光板２、ガラス基板３、コモン電極４、分子配
向処理層５、液晶層６、分子配向処理層７、スイッチン
グアレイ層（走査電極や信号電極やスイッチング素子を
含む層）８、ガラス基板９、偏光板１０及び光拡散性反
射板（バックライト）１１からなる。

【０００５】このような液晶表示パネル１の各要素は、
概ね以下のような順番で形成される。(1) まず、ガラス
基板３上にコモン電極４が形成され、また、並行してガ
ラス基板９上にスイッチングアレイ層８が形成される。
(2) 次に、コモン電極４の表面に対して分子配向処理層
５が形成され、また、スイッチングアレイ層８の表面に
対して分子配向処理層５が形成される。(3) 以上のよう
にして表面に所定層が形成されたガラス基板３及び９が
図示しないスペーサを介在させて張り合わされ、その間
に液晶が封入されて液晶層６が形成される。(4) その
後、偏光板２、偏光板１０及び光拡散性反射板（バック
ライト）１１が形成される。

【０００６】そして、欠陥の検査及び修正は、上記(1)
（又は(2) ）の形成処理が終了したガラス基板３上にコ
モン電極４（及び分子配向処理層５）が形成された状態
や、ガラス基板９上にスイッチングアレイ層８（及び分
子配向処理層７）が形成された状態等の第１の形成状態
で行なわれることもあり、また、上記(3) の形成処理が
終了した液晶層６も形成された第２の形成状態で行なわ
れることもあり、さらに、上記(4) の形成処理が終了し
た液晶表示パネル１として完成した第３の形成状態で行
なわれることもある。

【０００７】第１の形成状態での検査は、コモン電極４
やスイッチングアレイ層８が表面に露出しているので、
通常の顕微鏡構成を用いて視覚的に欠陥が発見し易い状
態である（なお、電気的にも欠陥検査がし易い状態であ
る）。しかし、第１の形成状態での検査によって欠陥を
発見し、その欠陥を修正しても液晶の封入工程で異物が
入り込むこともある。そのため、液晶表示パネル１を廃
棄しないで済むように、第２又は第３の形成状態での検
査、修正も必要となる。

【０００８】しかし、例えば、第２の形成状態は、ガラ
ス基板３、コモン電極４、分子配向処理層５、液晶層
６、分子配向処理層７、スイッチングアレイ層８及びガ
ラス基板９からなる状態であり、すなわち、第１の形成
状態以上に構成要素が多く、しかも厚いガラス基板や液
晶層が存在するため、通常の顕微鏡構成を用いて欠陥を
発見しようとしても、第１の形成状態のように容易に発
見することができない。そのため、従来は、欠陥発見を
熟練者の経験にたよっている。

【０００９】このような不都合を解決するため、偏光顕
微鏡構成を利用した偏光観察によって欠陥を高精度に発
見できるようにした、図４に示すような観察機能付レー
ザ加工装置２０も既に提案されている。このような観察
機能付レーザ加工装置２０を用いれば、第２の形成状態
で欠陥を発見して修正が可能であるので、第１の形成状
態での欠陥発見、修正を省略することもできる。

【００１０】図４は、説明を簡単にするため落射照明系
だけを備えた観察機能付レーザ加工装置２０を示してい
る。

【００１１】以下、欠陥発見動作及びレーザ光を用いた
修正動作を順次説明し、この動作説明を通じて、従来の
観察機能付レーザ加工装置２０の構成も明らかにする。

【００１２】図４において、落射照明光源２１から射出
された光線は、集光光学系２２を介して集束された後、
ポラライザ２３を介して偏光光にされ、ハーフミラー２
４によって光路が折曲され、対物レンズ２５を介してほ
ぼ平行光にされて試料としての液晶表示パネル２６に照
射される。この液晶表示パネル２６によって反射された
光（液晶表示パネル２６の像を含む光）は、逆に対物レ
ンズ２５を透過してハーフミラー２４に到達し、このハ
ーフミラー２４を直進した後、装着状態にある着脱自在
なアナライザ２７によって偏光検出（検光）され、光路
切換プリズム２８に至る。この観察機能付レーザ加工装
置２０は、観察系として接眼系及びモニタ系が設けられ
ており、光路切換プリズム２８は接眼系及びモニタ系
（場合によってはレーザ照射系）の光路切換用のもので
ある。光路切換プリズム２８を介して接眼レンズ２９側
に光路が折曲された光は、接眼レンズ２９によって、そ
の接眼部に液晶表示パネル２６の像を結像させる。一
方、光路切換プリズム２８によって直進光路（モニタ系
光路）に選択された光は、ハーフミラー３０によって光
路が折曲され、リレーレンズ３１によって像点位置が変
化され、全反射ミラー３２によって光路が折曲されて２
次元ＣＣＤセンサを中心として構成されているビデオカ
メラ部３３の入射面上に液晶表示パネル２６の像を結像
させる。このような偏光観察像がモニタ３４によって表
示される。

【００１３】以上のように、１個のアナライザ２７によ
って、偏光観察像を接眼系及びモニタ系のいずれにも結
像させることができるようになっている。

【００１４】例えば、モニタ３４によって表示された液
晶表示パネル２６の偏光観察像によって、欠陥を知得し
たオペレータは、アナライザ２７を装置２０から離脱さ
せた後、レーザ発振器３５を起動させる。レーザ発振器
３５から射出されたレーザ光は、ハーフミラー３０を直
進し、直進光路選択状態にある光路切換プリズム２８の
部位を直進し、さらにハーフミラー２４を直進し、対物
レンズ２５によって集光されて液晶表示パネル２６の欠
陥部位に照射される。

【００１５】この照射レーザ光の集光エネルギーによっ
て、配線パターンの短絡やはみ出しの切断、除去が行な
われたり、混入異物が粉砕されたりして、液晶表示パネ
ル２６の欠陥が修正される。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
観察機能付レーザ加工装置２０においては、液晶表示パ
ネル（試料）２６の欠陥検査時（観察時）にはアナライ
ザ２７を装着し、レーザによる欠陥修正時にはアナライ
ザ２７を離脱しなければならず、多くの液晶表示パネル
２６の検査、修正を行なうことを考慮すると、その着脱
操作に係るオペレータの手間は非常に大きい。

【００１７】また、アナライザ２７が装着されているか
否かによって偏光観察できるか、修正できるかが決まっ
ており、偏光観察と修正とを同時に行なうことができな
いという問題がある。勿論、レーザ光を用いた修正時に
は、オペレータの眼を保護するために接眼系による観察
は必ず防止しなければならない。しかし、モニタ３４に
よる偏光観察像の表示がレーザ光の照射時（欠陥修正
時）にもなされていることは修正の評価を迅速にできて
好ましい。なお、偏光観察以外の通常観察の像は修正と
同時に表示することはできるが、偏光観察像に比較して
観察精度は低くなる。

【００１８】ところで、アナライザ２７としては、図１
２に示すような偏光性を有するプラスチックフィルム４
０をガラス板４１及び４２で挾み込んだものが入手面や
偏光特性等の利点から採用されていることが多い。オペ
レータがこのような構成のアナライザ２７の装置２０か
らの離脱を行なうことなく、レーザ発振器３５を誤って
起動した場合には、レーザ光エネルギーによって、アナ
ライザ２７（特にプラスチックフィルム４０）が損壊し
てしまい、以降の欠陥検査に利用できないものとなる可
能性が高い。当該観察機能付レーザ加工装置２０に適用
される上述のような構成のアナライザ２７は、実際上数
万円程度するものであり、損壊の問題は大きい。しか
も、アナライザ２７を装着した状態でのレーザ修正は、
レーザ光とアナライザ２７の偏光面の相違によって、液
晶表示パネル２６に到達するレーザ光のエネルギーが小
さくなるため、十分にはなされない。

【００１９】そこで、アナライザ２７の光路上への着脱
を動作モードに応じて自動的に実行させる機構や構成を
設けることも考えられるが、このような機構や構成を設
ける分だけ装置全体が複雑、高価になると共に、このよ
うな対策を施しても、偏光観察とレーザ修正の同時実行
をなし得ないという問題は残る。

【００２０】以上のような問題は、落射照明光源に代え
又は落射照明光源に加えて透過照明光源を有する観察機
能付レーザ加工装置や、装置が意図している試料が液晶
表示パネル以外の観察機能付レーザ加工装置についても
同様に生じている。

【００２１】本発明は、以上の点を考慮してなされたも
のであり、偏光観察のために必要なアナライザに関連し
て生じている上述した問題を一挙に解決できる観察機能
付レーザ加工装置を提供しようとしたものである。

【００２２】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明は、ポラライザ及びアナライザを備えて試料
の偏光観察像を得ることができる、試料に向かう加工用
レーザ光の光路と、この加工用レーザ光に逆進する試料
の像を含む光の観察系光路とが一部光路を共有する観察
機能付レーザ加工装置において、試料に向かう加工用レ
ーザ光の光路から分離している観察系の専用光路上にア
ナライザを設けたことを特徴とする。

【００２３】ここで、観察系として接眼系及びモニタ系
を有し、モニタ系の専用光路上にのみ偏光観察機能を担
うアナライザを設けることは好ましい一態様である。

【００２４】

【作用】本発明は、偏光観察機能を担うアナライザを、
試料に向かう加工用レーザ光の光路から分離している観
察系の専用光路上に設けたものである。

【００２５】これにより、偏光観察とレーザ加工とを同
時に実行できる、アナライザがレーザ光によって損壊さ
れることがない、レーザ加工時にもアナライザの離脱を
不要にできる、レーザ加工がアナライザの影響を受けな
いようにできる。

【００２６】なお、レーザ光を用いた欠陥修正時には、
オペレータの眼を保護するため接眼系光路を確実に遮断
するので、接眼系による観察は２次的なものであり、そ
こで、装置の小形化や低廉化を考慮するとモニタ系にの
みアナライザを設けることが好ましい。

【００２７】

【実施例】以下、本発明による観察機能付レーザ加工装
置の一実施例を図面を参照しながら詳述する。ここで、
図１がこの実施例の構成を示すものである。

【００２８】この実施例は、上述した第２の形成状態に
ある液晶表示パネル、すなわち、ガラス基板、コモン電
極、分子配向処理層、液晶層、分子配向処理層、スイッ
チングアレイ層及びガラス基板からなる状態にある液晶
表示パネル（図３参照）を、試料として特に意識したも
のである。勿論、他の形成状態にある液晶表示パネルを
対象とすることもできる。

【００２９】また、この実施例も、高精度の観察を実行
すべく、ポラライザ及びアナライザを利用した偏光観察
を観察の基本としている。

【００３０】以下では、この実施例の観察機能付レーザ
加工装置５０の欠陥発見動作及びレーザ光を用いた修正
動作を順次説明し、これら動作説明を通じて、実施例の
観察機能付レーザ加工装置５０の構成も明らかにする。

【００３１】図１において、例えば最下部に位置する透
過照明光源（ここでは集光光学系を含んでいるとする）
５１から射出された光は、ポラライザ５２を介して偏光
光に変換される。ポラライザ５２は、ステージコントロ
ーラ５４によって十字動可能になされているステージ５
３の下面に９０°以上回転可能に設けられており、自己
の外周に設けられているレバー５２ａの操作位置に応じ
て射出偏光光の偏光面を規定している。ポラライザ５２
を通過した光（偏光光）は、ステージ５３の中央部分に
設けられている貫通孔５３ａを通過し、さらにステージ
５３上面に設けられている試料載置用のガラス板５５を
透過して、そのガラス板５５に載置されている液晶表示
パネル５６を照明する。

【００３２】液晶表示パネル５６を透過した光（偏光照
明光による液晶表示パネル５６の像）は、対物レンズ５
７によって拡大され、ハーフミラー５８を直進して光路
切換プリズム５９の位置に至る。

【００３３】すなわち、この実施例においては、観察動
作時にも光路切換プリズム５９に至る前の光路上にアナ
ライザは存在しない。

【００３４】この実施例の観察機能付レーザ加工装置５
０も、観察系として接眼系及びモニタ系が設けられてお
り、光路切換プリズム５９は接眼系及びモニタ系（場合
によってはレーザ照射系）の光路切換用のものである。
すなわち、接眼系による観察と、モニタ系による観察と
は択一的にしか実行できない。例えば、蟻溝をガイドと
した直進機構に取り付けられて光路切換プリズム５９が
設けられており、接眼系による観察時には、光路切換プ
リズム５９はハーフミラー５８を直進してきた光の光路
を折曲し、モニタ系による観察時には、光路切換プリズ
ム５９はハーフミラー５８を直進してきた光の光路から
ずれてその光をそのまま直進させる。

【００３５】光路切換プリズム５９によって光路が折曲
された光（液晶表示パネル５６の像）は、その時点で開
放状態にあるメカニカルシャッタ（従来でも設けられて
いるが、従来説明では省略している）６０を通過して接
眼レンズ６１に到達し、この接眼レンズ６１によって、
その接眼部に液晶表示パネル５６の像を結像させる。

【００３６】一方、光路切換プリズム５９による光路操
作がなされることなく直進した光（液晶表示パネル５６
の像）は、その時点で開放状態にあるメカニカルシャッ
タ（従来でも設けられているが、従来説明では省略して
いる）６２を通過した後ハーフミラー６３によって光路
が折曲され、リレーレンズ６４によって像点位置が変化
され、全反射ミラー６５によって光路が折曲される。

【００３７】この実施例の場合、全反射ミラー６５によ
って光路が折曲された光（液晶表示パネル５６の像）
は、光電変換部であるビデオカメラ部６７上に直接照射
されるのではなく、ビデオカメラ部６７の入射面側に９
０°以上回転可能に設けられているアナライザ６６によ
って偏光検出（検光）された後ビデオカメラ部６７上に
照射され、ビデオカメラ部６７上に液晶表示パネル５６
の像を結像される。このような偏光観察像がモニタ６８
によって表示される。

【００３８】なお、上述した光路切換プリズム５９、メ
カニカルシャッタ６０及びメカニカルシャッタ６２は、
オペレータの機構構成に対する手動操作によって、又
は、後述する電気的コントローラ６９からの指令によっ
て連動動作するものであり、上述したように、接眼系観
察時とモニタ系観察時とでは逆の動作及び状態をとるも
のである。

【００３９】また、この実施例のアナライザ６６は、上
述したようにビデオカメラ部６７の入射側に回転可能に
設けられており、例えば、自己の外周に設けられている
レバー６６ａの操作位置に応じて検出し得る偏光面を任
意に規定できるようになされている。

【００４０】この実施例においては、ポラライザ５２及
びアナライザ６６を共に回転可能としているので、偏光
観察を種々の観点から行なうことができる。

【００４１】上述したように、この実施例は、ガラス基
板、コモン電極、分子配向処理層、液晶層、分子配向処
理層、スイッチングアレイ層及びガラス基板からなる状
態にある液晶表示パネル５６を試料として特に意識して
おり、逆に言えば、完成品から上下の偏光板及び光拡散
性反射板（バックライト）がない状態にある液晶表示パ
ネル５６を試料として特に意識している（図３参照）。
しかし、あたかも完成品と同様なパネルとして、液晶表
示パネル５６内部の欠陥検査を行なうことができる。透
過照明光源５１は、バックライト（図３符号１１参照）
として見なすことができる。ポラライザ５２の偏光面を
バックライト側偏光板（図３符号１０参照）と同じにす
ることでその偏光板と見なすことができる。アナライザ
６６の偏光面を液晶層透過側偏光板（図３符号２参照）
と同じにすることでその偏光板と見なすことができる。

【００４２】以上のような静的な観察だけでなく、図２
に示すように、液晶表示パネル５６に液晶ドライバ８０
を接続して駆動すれば、あたかも完成品と同様なパネル
状態にある液晶表示パネル５６内部の欠陥検査を動的に
行なうことができる。すなわち、現実に近い状態で観察
できて欠陥を評価できる。

【００４３】また、ポラライザ５２及び又はアナライザ
６６を適宜回転し、モニタ６８による偏光観察像のコン
トラストを最大にすれば、欠陥を評価し易くなる。

【００４４】なお、この実施例のアナライザ６６も着脱
自在になされている。しかし、着脱できるようにしてい
る理由は、観察を偏光観察と通常観察とで切り替えるた
めであり、従来のような観察時と修正時とで着脱状態を
切り替えるためではない。

【００４５】モニタ６８によって表示された液晶表示パ
ネル５６の偏光観察像によって、修正し得る欠陥を知得
したオペレータは、アナライザ６６を離脱させることな
く、電気的コントローラ６９を操作してレーザ発振器７
０を起動させてレーザ光をパルス発振させる。なお、電
気的コントローラ６９に対して、パルス周期やレーザパ
ワーやレーザ光のスポット形状や発振時間等を適宜設定
できる（なお、この実施例ではパルス幅は固定）。

【００４６】レーザ発振器（ここではレーザ光の発散又
は集束やスポット形状を所定のものとする構成を含む）
７０から射出されたレーザ光は、ハーフミラー６３を直
進し、開放状態にあるメカニカルシャッタ６２を通過
し、光路切換プリズム５９によって光路が操作されるこ
となく、ハーフミラー５８に到達し、このハーフミラー
５８を直進し、対物レンズ５７によって集光されて液晶
表示パネル５６の欠陥部位に照射される。

【００４７】この照射レーザ光の集光エネルギーによっ
て、配線パターンの短絡やはみ出しの切断、除去が行な
われたり、混入異物が粉砕されたりして、液晶表示パネ
ル５６の欠陥が修正される。

【００４８】なお、照射エネルギーが液晶表示パネル５
６によってほとんど吸収されるため、液晶表示パネル５
６を透過したレーザ光がポラライザ５２等に悪影響を与
えることはない。

【００４９】この実施例の場合、このようなレーザ光に
よる欠陥修正時にも、透過照明光源５１からの射出光が
上述したようなモニタ系の観察光路によってビデオカメ
ラ部６７に到達し、偏光観察像が継続してモニタ６８に
表示される。従って、今回のレーザ発振によって修正が
十分になされたか否かを直ちに認識でき、観察動作状態
への切換を行なうことなく、修正が不十分な場合には直
ちに次のレーザ発振を指示することができる。

【００５０】なお、この実施例の場合、試料が所定の液
晶表示パネル５６に限定された装置を意図しており、そ
のため、対物レンズ５７の焦点距離は液晶表示パネル５
６の上部側ガラス（図３符号３参照）を考慮して選定さ
れている。また、レーザ発振器７０の発振レーザ周波数
及び波長も固定のものであり、対物レンズ５７はその波
長において収差が少ないように選定されている。

【００５１】従って、試料としての液晶表示パネル５６
を変更する場合や、レーザ周波数をレーザ発振器７０を
取り替えることで変更する場合には、対物レンズ５７も
変更することが好ましい。

【００５２】この実施例の観察機能付レーザ加工装置５
０は、上述のような透過照明光源５１からの照明光によ
る観察機能に加えて、落射照明による観察も可能となさ
れている。試料としての液晶表示パネル５６が完成した
状態のものであると、すなわち、光拡散性反射板（バッ
クライト）（図３符号１１参照）を備えていると、透過
照明光源５１からの照明光が液晶表示パネル５６を透過
できないので、落射照明による観察しか適用できない。

【００５３】落射照明光源７１から射出された光線は、
集光光学系７２を介して集束された後、ポラライザ７３
を介して偏光光にされ、ハーフミラー５８によって光路
が折曲され、対物レンズ５７を介してほぼ平行光にされ
て試料としての液晶表示パネル５６を照明する。液晶表
示パネル５６から反射された以降の光路は、透過照明に
よる観察の場合と同様であり、モニタ系による偏光観察
が可能となる。また、モニタ系で偏光観察しているとき
には、透過照明による観察の場合と同様に、レーザ光を
用いた欠陥修正を同時に行なうことができる。

【００５４】このような落射照明による偏光観察は、上
述した第２の形成状態にある液晶表示パネル、すなわ
ち、ガラス基板、コモン電極、分子配向処理層、液晶
層、分子配向処理層、スイッチングアレイ層及びガラス
基板からなる状態にある液晶表示パネル（図３参照）に
対しても適用できる。しかし、この形成状態では、液晶
表示パネル５６に反射構成要素がないため反射光強度が
弱くなり、そのため、透過照明による場合に比べて偏光
観察像のコントラストが弱くなる。

【００５５】以上のように、上記実施例の観察機能付レ
ーザ加工装置５０によれば、アナライザ６６を修正用レ
ーザ光の光路とは無関係な位置に設けているので、偏光
観察像を表示させた状態で、レーザによる欠陥修正を行
なうことができる。従って、修正内容を直ちに評価で
き、必要ならば続いて修正させることができる。

【００５６】また、上記実施例によれば、アナライザ６
６を修正用レーザ光の光路とは無関係な位置に設けてい
るので、修正動作時にアナライザ６６を離脱する必要が
なく、従来に比べてオペレータの手間を省くことができ
る。

【００５７】さらに、上記実施例によれば、同じ理由に
より、当然にアナライザ６６がレーザ光によって損壊さ
れることもなくなり、また、アナライザ６６が修正用レ
ーザ光の強度を減少させることもなくなる。

【００５８】以上のように、上記実施例によれば、偏光
観察機能を確保した状態で、従来の課題を解決すること
ができる。

【００５９】なお、上記実施例においては、アナライザ
６６をビデオカメラ部６７の入射面に設けたものを示し
たが、アナライザ６６の設置位置はこれに限定されるも
のではなく、ハーフミラー６３でレーザ光の光路から分
離されたモニタ系専用の光路上であればいかなる位置で
あっても良い。

【００６０】また、上記実施例においては、モニタ系に
のみアナライザ６６を設けて偏光観察が可能なものを示
したが、光路切換プリズム５９によってレーザ光光路か
ら分離された接眼系専用の光路部分にアナライザを設け
て接眼系による偏光観察を可能にしても良い。なお、安
全機構（メカニカルシャッタ）が設けられているとは言
え、オペレータの眼の保護を考慮すると、オペレータは
モニタ６８による表示を目視してレーザ修正を行なうの
で、接眼系は観察系としては２次的なものであり、その
ため、上記実施例のようにモニタ系にのみアナライザ６
６を設けても観察機能として十分である。むしろ、アナ
ライザ６６が１個で済むので構成面及び経済面での利点
がある。

【００６１】さらに、上記実施例においては、レーザ光
による修正の起動を手動で行なう装置を示したが、標準
パターンを記憶しておき、ビデオカメラ部６７による撮
像画像とのマッチングにより自動的に欠陥を発見して起
動する装置にも本発明を適用することができる。要は、
偏光観察機能を担うアナライザが観察系専用光路上に介
在されているものであれば良い。

【００６２】さらにまた、上記実施例においては、試料
が液晶表示パネルとして説明したが、他の試料を対象と
した装置にも適用できる。例えば、有機膜材質でなるコ
ンパクトディスクや、光学的窓（ガラス）を有するＥＥ
ＰＲＯＭが試料であっても良い。また、加工も欠陥修正
に限られず、製造としての加工であっても良い。

【００６３】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、偏光観
察機能を担う構成要素であるアナライザを、加工用レー
ザ光の光路から分離された観察系専用の光路上に介在さ
せたので、偏光観察とレーザ加工とを同時に実行でき
る、アナライザがレーザ光によって損壊されることがな
い、レーザ加工時にもアナライザの離脱を不要にでき
る、レーザ加工がアナライザの影響を受けない観察機能
付レーザ加工装置を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の構成を示すブロック図である。

【図２】実施例の図１とは異なる使用態様を示すブロッ
ク図である。

【図３】液晶表示パネルの概略断面構造を示す断面図で
ある。

【図４】従来の構成例を示すブロック図である。

【図５】アナライザの構成を示す断面図である。

【符号の説明】

５０…観察機能付レーザ加工装置、５１…透過照明光
源、５２…ポラライザ、５６…液晶表示パネル（試
料）、５７…対物レンズ、５９…光路切換プリズム、６
１…接眼レンズ、６３…ハーフミラー、６６…アナライ
ザ、６７…ビデオカメラ部、７０…レーザ発振器、７１
…落射照明光源。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポラライザ及びアナライザを備えて試料
   の偏光観察像を得ることができる、上記試料に向かう加
   工用レーザ光の光路と、この加工用レーザ光に逆進する
   上記試料の像を含む光の観察系光路とが一部光路を共有
   する観察機能付レーザ加工装置において、 上記試料に向かう加工用レーザ光の光路から分離してい
   る観察系の専用光路上に上記アナライザを設けたことを
   特徴とする観察機能付レーザ加工装置。
2. 【請求項２】 上記観察系として接眼系及びモニタ系を
   有し、モニタ系の専用光路上にのみ偏光観察機能を担う
   上記アナライザを設けたことを特徴とする請求項１に記
   載の観察機能付レーザ加工装置。