JPH071173A - Laser beam machining device with observation function - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To simultaneously perform the observation of polarization and a laser machining, to evade the destruction of an analyzer by a laser beam, to dispense with the release of an analyzer even at the time of laser machining and to protect a laser machining from the effect of an analyzer. CONSTITUTION:The laser beam machining device with an observation function is constituted in such a manner that it is provided with polarizers 52, 73 and an analyzer 66 so as to obtain the observed image of the polarization on a sample 56 and that a part of the optical path is shared between the optical path of a machining laser beam directed to the sample and the optical path of an observation system for the light containing the image of the sample and moving reversely against this machining laser beam. Additionally, the analyzer 66 is provided on such exclusive optical path for the observation system that is separated from the optical path for the machining laser beam directed to the sample.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被加工対象物（試料）
の観察機能及び被加工対象物のレーザ光を用いた加工機
能を有する観察機能付レーザ加工装置に関し、特に、液
晶表示パネルの欠陥のレーザ光による修正装置に適用し
て好適なものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an object to be processed (sample).
The present invention relates to a laser processing apparatus having an observation function and an observation function having a processing function using a laser beam of an object to be processed, and is particularly suitable for application to a laser beam repairing apparatus for a defect in a liquid crystal display panel.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルは、周知のようにクリー
ンルーム内で行なわれる微細加工等を製造工程に含むも
のであるが、埃や塵等によって欠陥が生じるものであ
る。クリーン度を高めて欠陥を抑えることも考えられる
が、欠陥をほぼ完全に抑えるクリーン度を有するクリー
ンルームを完成するための設備投資は膨大であり、その
ため、ある程度のクリーン度を有する既存のクリーンル
ームで製造されていることが多く、欠陥発生率は高い
（例えば８０％）。また、液晶表示パネルは高価なもの
であり、欠陥が存在する液晶表示パネルを廃棄すること
は経済的な損失が大きい。最近の技術発達によって大型
の液晶表示パネルが実現可能となり、ますます高価にな
る傾向にある。2. Description of the Related Art As is well known, a liquid crystal display panel includes fine processing and the like performed in a clean room in its manufacturing process, but defects are caused by dust or the like. Although it is possible to increase the degree of cleanliness to suppress defects, the capital investment to complete a cleanroom that has a degree of cleanliness that almost completely suppresses defects is huge, so manufacturing in an existing cleanroom with a certain degree of cleanliness The defect occurrence rate is high (for example, 80%). Further, the liquid crystal display panel is expensive, and discarding the liquid crystal display panel having a defect causes a large economical loss. Due to recent technological development, a large-sized liquid crystal display panel can be realized, and it tends to be more and more expensive.

【０００３】そこで、液晶表示パネルの欠陥を発見して
修正する工程が液晶表示パネルの製造工程の一部工程と
して設けられ、観察機能付レーザ加工装置によって欠陥
の存在の検査（観察）及び欠陥の修正が行なわれてい
る。例えば、配線パターンの短絡やはみ出しを発見して
レーザ光によって切断、除去したり、異物を発見してレ
ーザ光を照射し、粉砕して問題がない大きさにしたりす
るようなことが実行される。Therefore, a process of finding and correcting a defect in the liquid crystal display panel is provided as a part of the manufacturing process of the liquid crystal display panel, and a laser processing apparatus with an observation function is used to inspect (observe) the existence of the defect and to detect the defect. Corrections have been made. For example, a short circuit or a protrusion of the wiring pattern is detected and cut or removed by laser light, or a foreign substance is detected and irradiated with laser light and crushed to a size without a problem. .

【０００４】図３は、液晶表示パネルの概略断面構造を
示すものである。液晶表示パネル１は、例えば、上部側
から、偏光板２、ガラス基板３、コモン電極４、分子配
向処理層５、液晶層６、分子配向処理層７、スイッチン
グアレイ層（走査電極や信号電極やスイッチング素子を
含む層）８、ガラス基板９、偏光板１０及び光拡散性反
射板（バックライト）１１からなる。FIG. 3 shows a schematic sectional structure of a liquid crystal display panel. The liquid crystal display panel 1 includes, for example, a polarizing plate 2, a glass substrate 3, a common electrode 4, a molecular alignment treatment layer 5, a liquid crystal layer 6, a molecular alignment treatment layer 7, a switching array layer (scanning electrodes, signal electrodes, A layer including a switching element) 8, a glass substrate 9, a polarizing plate 10 and a light diffusing reflector (backlight) 11.

【０００５】このような液晶表示パネル１の各要素は、
概ね以下のような順番で形成される。(1) まず、ガラス
基板３上にコモン電極４が形成され、また、並行してガ
ラス基板９上にスイッチングアレイ層８が形成される。
(2) 次に、コモン電極４の表面に対して分子配向処理層
５が形成され、また、スイッチングアレイ層８の表面に
対して分子配向処理層５が形成される。(3) 以上のよう
にして表面に所定層が形成されたガラス基板３及び９が
図示しないスペーサを介在させて張り合わされ、その間
に液晶が封入されて液晶層６が形成される。(4) その
後、偏光板２、偏光板１０及び光拡散性反射板（バック
ライト）１１が形成される。Each element of such a liquid crystal display panel 1 is
They are generally formed in the following order. (1) First, the common electrode 4 is formed on the glass substrate 3, and the switching array layer 8 is formed on the glass substrate 9 in parallel.
(2) Next, the molecular alignment treatment layer 5 is formed on the surface of the common electrode 4, and the molecular alignment treatment layer 5 is formed on the surface of the switching array layer 8. (3) The glass substrates 3 and 9 having a predetermined layer formed on the surface as described above are bonded together with a spacer (not shown) interposed therebetween, and a liquid crystal is sealed between them to form a liquid crystal layer 6. (4) After that, the polarizing plate 2, the polarizing plate 10 and the light diffusing reflector (backlight) 11 are formed.

【０００６】そして、欠陥の検査及び修正は、上記(1)
（又は(2) ）の形成処理が終了したガラス基板３上にコ
モン電極４（及び分子配向処理層５）が形成された状態
や、ガラス基板９上にスイッチングアレイ層８（及び分
子配向処理層７）が形成された状態等の第１の形成状態
で行なわれることもあり、また、上記(3) の形成処理が
終了した液晶層６も形成された第２の形成状態で行なわ
れることもあり、さらに、上記(4) の形成処理が終了し
た液晶表示パネル１として完成した第３の形成状態で行
なわれることもある。Then, the inspection and repair of the defect are performed according to the above (1).
(Or (2)) The common electrode 4 (and the molecular orientation treatment layer 5) is formed on the glass substrate 3 after the formation treatment, or the switching array layer 8 (and the molecular orientation treatment layer) is formed on the glass substrate 9. 7) may be performed in the first formation state such as the formation state, or may be performed in the second formation state in which the liquid crystal layer 6 for which the formation process of (3) above is completed is also formed. In some cases, the liquid crystal display panel 1 in which the formation process (4) has been completed is completed in the third formation state.

【０００７】第１の形成状態での検査は、コモン電極４
やスイッチングアレイ層８が表面に露出しているので、
通常の顕微鏡構成を用いて視覚的に欠陥が発見し易い状
態である（なお、電気的にも欠陥検査がし易い状態であ
る）。しかし、第１の形成状態での検査によって欠陥を
発見し、その欠陥を修正しても液晶の封入工程で異物が
入り込むこともある。そのため、液晶表示パネル１を廃
棄しないで済むように、第２又は第３の形成状態での検
査、修正も必要となる。The inspection in the first formation state is performed by the common electrode 4
Since the switching array layer 8 is exposed on the surface,
It is in a state where it is easy to visually detect a defect by using a normal microscope configuration (it is in a state where it is easy to electrically inspect the defect). However, even if a defect is found by inspection in the first formation state and the defect is repaired, foreign matter may enter in the liquid crystal encapsulation process. Therefore, it is necessary to inspect and correct the second or third formation state so that the liquid crystal display panel 1 is not discarded.

【０００８】しかし、例えば、第２の形成状態は、ガラ
ス基板３、コモン電極４、分子配向処理層５、液晶層
６、分子配向処理層７、スイッチングアレイ層８及びガ
ラス基板９からなる状態であり、すなわち、第１の形成
状態以上に構成要素が多く、しかも厚いガラス基板や液
晶層が存在するため、通常の顕微鏡構成を用いて欠陥を
発見しようとしても、第１の形成状態のように容易に発
見することができない。そのため、従来は、欠陥発見を
熟練者の経験にたよっている。However, for example, in the second formation state, the glass substrate 3, the common electrode 4, the molecular alignment treatment layer 5, the liquid crystal layer 6, the molecular alignment treatment layer 7, the switching array layer 8 and the glass substrate 9 are used. Yes, that is, since there are more constituent elements than in the first formation state and there is a thick glass substrate or liquid crystal layer, even if an attempt is made to find a defect using a normal microscope configuration, Not easily found. Therefore, conventionally, defect finding is based on the experience of a skilled person.

【０００９】このような不都合を解決するため、偏光顕
微鏡構成を利用した偏光観察によって欠陥を高精度に発
見できるようにした、図４に示すような観察機能付レー
ザ加工装置２０も既に提案されている。このような観察
機能付レーザ加工装置２０を用いれば、第２の形成状態
で欠陥を発見して修正が可能であるので、第１の形成状
態での欠陥発見、修正を省略することもできる。In order to solve such an inconvenience, a laser processing apparatus 20 with an observation function as shown in FIG. 4 has been already proposed, which enables a defect to be detected with high accuracy by polarization observation using a polarization microscope configuration. There is. By using such a laser processing apparatus 20 with an observation function, it is possible to find and repair a defect in the second formation state, and therefore it is possible to omit the defect detection and correction in the first formation state.

【００１０】図４は、説明を簡単にするため落射照明系
だけを備えた観察機能付レーザ加工装置２０を示してい
る。FIG. 4 shows a laser processing apparatus 20 with an observation function provided with only an epi-illumination system for the sake of simplicity.

【００１１】以下、欠陥発見動作及びレーザ光を用いた
修正動作を順次説明し、この動作説明を通じて、従来の
観察機能付レーザ加工装置２０の構成も明らかにする。Hereinafter, the defect finding operation and the correction operation using the laser beam will be sequentially described, and the configuration of the conventional laser processing apparatus 20 with an observation function will be clarified through this operation description.

【００１２】図４において、落射照明光源２１から射出
された光線は、集光光学系２２を介して集束された後、
ポラライザ２３を介して偏光光にされ、ハーフミラー２
４によって光路が折曲され、対物レンズ２５を介してほ
ぼ平行光にされて試料としての液晶表示パネル２６に照
射される。この液晶表示パネル２６によって反射された
光（液晶表示パネル２６の像を含む光）は、逆に対物レ
ンズ２５を透過してハーフミラー２４に到達し、このハ
ーフミラー２４を直進した後、装着状態にある着脱自在
なアナライザ２７によって偏光検出（検光）され、光路
切換プリズム２８に至る。この観察機能付レーザ加工装
置２０は、観察系として接眼系及びモニタ系が設けられ
ており、光路切換プリズム２８は接眼系及びモニタ系
（場合によってはレーザ照射系）の光路切換用のもので
ある。光路切換プリズム２８を介して接眼レンズ２９側
に光路が折曲された光は、接眼レンズ２９によって、そ
の接眼部に液晶表示パネル２６の像を結像させる。一
方、光路切換プリズム２８によって直進光路（モニタ系
光路）に選択された光は、ハーフミラー３０によって光
路が折曲され、リレーレンズ３１によって像点位置が変
化され、全反射ミラー３２によって光路が折曲されて２
次元ＣＣＤセンサを中心として構成されているビデオカ
メラ部３３の入射面上に液晶表示パネル２６の像を結像
させる。このような偏光観察像がモニタ３４によって表
示される。In FIG. 4, the light beam emitted from the epi-illumination light source 21 is focused through the condensing optical system 22,
It is converted into polarized light through the polarizer 23, and the half mirror 2
The optical path is bent by 4 and is converted into substantially parallel light through the objective lens 25, and the liquid crystal display panel 26 as a sample is irradiated with the parallel light. The light reflected by the liquid crystal display panel 26 (the light including the image of the liquid crystal display panel 26), on the contrary, passes through the objective lens 25 and reaches the half mirror 24, goes straight through the half mirror 24, and then is mounted. Polarized light is detected (detected) by a detachable analyzer 27 in the optical path switching prism 28. The laser processing apparatus with an observation function 20 is provided with an eyepiece system and a monitor system as an observation system, and the optical path switching prism 28 is for switching the optical paths of the eyepiece system and the monitor system (in some cases, a laser irradiation system). . The light whose optical path is bent to the eyepiece 29 side through the optical path switching prism 28 causes the eyepiece 29 to form an image of the liquid crystal display panel 26 on the eyepiece part. On the other hand, the light selected by the optical path switching prism 28 to the straight optical path (monitor system optical path) is bent by the half mirror 30, the image point position is changed by the relay lens 31, and the optical path is bent by the total reflection mirror 32. Tuned 2
An image of the liquid crystal display panel 26 is formed on the incident surface of the video camera unit 33, which is mainly configured by the dimensional CCD sensor. Such a polarization observation image is displayed on the monitor 34.

【００１３】以上のように、１個のアナライザ２７によ
って、偏光観察像を接眼系及びモニタ系のいずれにも結
像させることができるようになっている。As described above, a single analyzer 27 can form a polarization observation image on both the eyepiece system and the monitor system.

【００１４】例えば、モニタ３４によって表示された液
晶表示パネル２６の偏光観察像によって、欠陥を知得し
たオペレータは、アナライザ２７を装置２０から離脱さ
せた後、レーザ発振器３５を起動させる。レーザ発振器
３５から射出されたレーザ光は、ハーフミラー３０を直
進し、直進光路選択状態にある光路切換プリズム２８の
部位を直進し、さらにハーフミラー２４を直進し、対物
レンズ２５によって集光されて液晶表示パネル２６の欠
陥部位に照射される。For example, the operator, who knows the defect from the polarization observation image of the liquid crystal display panel 26 displayed on the monitor 34, detaches the analyzer 27 from the apparatus 20, and then activates the laser oscillator 35. The laser beam emitted from the laser oscillator 35 goes straight through the half mirror 30, goes straight through the part of the optical path switching prism 28 in the straight path selection state, goes straight through the half mirror 24, and is focused by the objective lens 25. The defective portion of the liquid crystal display panel 26 is irradiated.

【００１５】この照射レーザ光の集光エネルギーによっ
て、配線パターンの短絡やはみ出しの切断、除去が行な
われたり、混入異物が粉砕されたりして、液晶表示パネ
ル２６の欠陥が修正される。Due to the condensing energy of the irradiation laser light, short-circuiting of wiring patterns, cutting and removal of protrusions, and crushing of foreign substances mixed in are rectified, whereby defects of the liquid crystal display panel 26 are corrected.

【００１６】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
観察機能付レーザ加工装置２０においては、液晶表示パ
ネル（試料）２６の欠陥検査時（観察時）にはアナライ
ザ２７を装着し、レーザによる欠陥修正時にはアナライ
ザ２７を離脱しなければならず、多くの液晶表示パネル
２６の検査、修正を行なうことを考慮すると、その着脱
操作に係るオペレータの手間は非常に大きい。However, in the conventional laser processing apparatus 20 with an observation function, the analyzer 27 is attached at the time of defect inspection (at the time of observation) of the liquid crystal display panel (sample) 26 to correct the defects by laser. Sometimes the analyzer 27 has to be detached, and considering that many liquid crystal display panels 26 are to be inspected and modified, the operator's labor involved in the attachment / detachment operation is very large.

【００１７】また、アナライザ２７が装着されているか
否かによって偏光観察できるか、修正できるかが決まっ
ており、偏光観察と修正とを同時に行なうことができな
いという問題がある。勿論、レーザ光を用いた修正時に
は、オペレータの眼を保護するために接眼系による観察
は必ず防止しなければならない。しかし、モニタ３４に
よる偏光観察像の表示がレーザ光の照射時（欠陥修正
時）にもなされていることは修正の評価を迅速にできて
好ましい。なお、偏光観察以外の通常観察の像は修正と
同時に表示することはできるが、偏光観察像に比較して
観察精度は低くなる。Further, it is determined whether polarized light can be observed or corrected depending on whether or not the analyzer 27 is attached, and there is a problem that polarized light observation and correction cannot be performed at the same time. Obviously, in order to protect the eyes of the operator at the time of correction using laser light, it is necessary to prevent observation by the eyepiece system. However, it is preferable that the polarized observation image is displayed on the monitor 34 even when the laser light is irradiated (when the defect is repaired) because the repair can be quickly evaluated. It should be noted that although the images of normal observation other than the polarized observation can be displayed simultaneously with the correction, the observation accuracy is lower than that of the polarized observation image.

【００１８】ところで、アナライザ２７としては、図１
２に示すような偏光性を有するプラスチックフィルム４
０をガラス板４１及び４２で挾み込んだものが入手面や
偏光特性等の利点から採用されていることが多い。オペ
レータがこのような構成のアナライザ２７の装置２０か
らの離脱を行なうことなく、レーザ発振器３５を誤って
起動した場合には、レーザ光エネルギーによって、アナ
ライザ２７（特にプラスチックフィルム４０）が損壊し
てしまい、以降の欠陥検査に利用できないものとなる可
能性が高い。当該観察機能付レーザ加工装置２０に適用
される上述のような構成のアナライザ２７は、実際上数
万円程度するものであり、損壊の問題は大きい。しか
も、アナライザ２７を装着した状態でのレーザ修正は、
レーザ光とアナライザ２７の偏光面の相違によって、液
晶表示パネル２６に到達するレーザ光のエネルギーが小
さくなるため、十分にはなされない。By the way, the analyzer 27 shown in FIG.
Polarizing plastic film 4 as shown in 2
A glass plate in which 0 is sandwiched between glass plates 41 and 42 is often used because of its advantages such as availability and polarization characteristics. If the operator erroneously activates the laser oscillator 35 without detaching the analyzer 27 having such a configuration from the device 20, the laser light energy damages the analyzer 27 (particularly the plastic film 40). , There is a high possibility that it cannot be used for subsequent defect inspection. The analyzer 27 having the above-described configuration applied to the laser processing apparatus 20 with an observation function actually costs about tens of thousands of yen, and the problem of damage is large. Moreover, laser correction with the analyzer 27 attached is
Due to the difference in the polarization planes of the laser light and the analyzer 27, the energy of the laser light reaching the liquid crystal display panel 26 becomes small, so that the energy is not sufficiently achieved.

【００１９】そこで、アナライザ２７の光路上への着脱
を動作モードに応じて自動的に実行させる機構や構成を
設けることも考えられるが、このような機構や構成を設
ける分だけ装置全体が複雑、高価になると共に、このよ
うな対策を施しても、偏光観察とレーザ修正の同時実行
をなし得ないという問題は残る。Therefore, it is conceivable to provide a mechanism or a structure for automatically performing the attachment / detachment of the analyzer 27 on the optical path in accordance with the operation mode. The cost remains high, and even if such measures are taken, there remains a problem that polarization observation and laser correction cannot be performed simultaneously.

【００２０】以上のような問題は、落射照明光源に代え
又は落射照明光源に加えて透過照明光源を有する観察機
能付レーザ加工装置や、装置が意図している試料が液晶
表示パネル以外の観察機能付レーザ加工装置についても
同様に生じている。The above-mentioned problems are caused by a laser processing apparatus having an observation function which has a transillumination light source instead of or in addition to the epi-illumination light source, and an observation function other than the liquid crystal display panel when the sample intended by the apparatus is not a liquid crystal display panel. The same is also true of the laser processing apparatus with a laser.

【００２１】本発明は、以上の点を考慮してなされたも
のであり、偏光観察のために必要なアナライザに関連し
て生じている上述した問題を一挙に解決できる観察機能
付レーザ加工装置を提供しようとしたものである。The present invention has been made in view of the above points, and provides a laser processing apparatus with an observation function capable of solving all the above-mentioned problems occurring in connection with an analyzer necessary for polarization observation. It is the one I tried to provide.

【００２２】[0022]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明は、ポラライザ及びアナライザを備えて試料
の偏光観察像を得ることができる、試料に向かう加工用
レーザ光の光路と、この加工用レーザ光に逆進する試料
の像を含む光の観察系光路とが一部光路を共有する観察
機能付レーザ加工装置において、試料に向かう加工用レ
ーザ光の光路から分離している観察系の専用光路上にア
ナライザを設けたことを特徴とする。In order to solve the above problems, the present invention provides an optical path of a processing laser beam toward a sample, which is equipped with a polarizer and an analyzer and can obtain a polarization observation image of the sample, and this processing. In the laser processing device with an observation function that shares a part of the optical path with the observation system optical path of the light that includes the image of the sample that travels backwards to the laser beam for observation, The feature is that an analyzer is provided on the dedicated optical path.

【００２３】ここで、観察系として接眼系及びモニタ系
を有し、モニタ系の専用光路上にのみ偏光観察機能を担
うアナライザを設けることは好ましい一態様である。Here, it is a preferable aspect to provide an analyzer having an eyepiece system and a monitor system as an observation system and having a polarization observation function only on the dedicated optical path of the monitor system.

【００２４】[0024]

【作用】本発明は、偏光観察機能を担うアナライザを、
試料に向かう加工用レーザ光の光路から分離している観
察系の専用光路上に設けたものである。The present invention provides an analyzer having a polarization observation function,
It is provided on the dedicated optical path of the observation system, which is separated from the optical path of the processing laser beam toward the sample.

【００２５】これにより、偏光観察とレーザ加工とを同
時に実行できる、アナライザがレーザ光によって損壊さ
れることがない、レーザ加工時にもアナライザの離脱を
不要にできる、レーザ加工がアナライザの影響を受けな
いようにできる。Thereby, polarization observation and laser processing can be simultaneously performed, the analyzer is not damaged by laser light, separation of the analyzer can be unnecessary even during laser processing, and laser processing is not affected by the analyzer. You can

【００２６】なお、レーザ光を用いた欠陥修正時には、
オペレータの眼を保護するため接眼系光路を確実に遮断
するので、接眼系による観察は２次的なものであり、そ
こで、装置の小形化や低廉化を考慮するとモニタ系にの
みアナライザを設けることが好ましい。When repairing a defect using laser light,
Since the optical path of the eyepiece system is certainly blocked to protect the operator's eyes, observation by the eyepiece system is secondary. Therefore, in consideration of downsizing and cost reduction of the device, install an analyzer only in the monitor system. Is preferred.

【００２７】[0027]

【実施例】以下、本発明による観察機能付レーザ加工装
置の一実施例を図面を参照しながら詳述する。ここで、
図１がこの実施例の構成を示すものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a laser processing apparatus with an observation function according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. here,
FIG. 1 shows the configuration of this embodiment.

【００２８】この実施例は、上述した第２の形成状態に
ある液晶表示パネル、すなわち、ガラス基板、コモン電
極、分子配向処理層、液晶層、分子配向処理層、スイッ
チングアレイ層及びガラス基板からなる状態にある液晶
表示パネル（図３参照）を、試料として特に意識したも
のである。勿論、他の形成状態にある液晶表示パネルを
対象とすることもできる。This embodiment comprises a liquid crystal display panel in the above-mentioned second formation state, that is, a glass substrate, a common electrode, a molecular alignment treatment layer, a liquid crystal layer, a molecular alignment treatment layer, a switching array layer and a glass substrate. The liquid crystal display panel in the state (see FIG. 3) is particularly conscious as a sample. Of course, a liquid crystal display panel in another forming state can be targeted.

【００２９】また、この実施例も、高精度の観察を実行
すべく、ポラライザ及びアナライザを利用した偏光観察
を観察の基本としている。Also, in this embodiment, the observation of polarized light using a polarizer and an analyzer is used as the basis of observation in order to perform observation with high accuracy.

【００３０】以下では、この実施例の観察機能付レーザ
加工装置５０の欠陥発見動作及びレーザ光を用いた修正
動作を順次説明し、これら動作説明を通じて、実施例の
観察機能付レーザ加工装置５０の構成も明らかにする。In the following, the defect finding operation and the correction operation using the laser beam of the laser processing apparatus 50 with an observation function of this embodiment will be sequentially described, and through the description of these operations, the laser processing apparatus 50 with an observation function of the embodiment will be described. The composition is also clarified.

【００３１】図１において、例えば最下部に位置する透
過照明光源（ここでは集光光学系を含んでいるとする）
５１から射出された光は、ポラライザ５２を介して偏光
光に変換される。ポラライザ５２は、ステージコントロ
ーラ５４によって十字動可能になされているステージ５
３の下面に９０°以上回転可能に設けられており、自己
の外周に設けられているレバー５２ａの操作位置に応じ
て射出偏光光の偏光面を規定している。ポラライザ５２
を通過した光（偏光光）は、ステージ５３の中央部分に
設けられている貫通孔５３ａを通過し、さらにステージ
５３上面に設けられている試料載置用のガラス板５５を
透過して、そのガラス板５５に載置されている液晶表示
パネル５６を照明する。In FIG. 1, for example, a transmissive illumination light source located at the bottom (here, it is assumed that a condensing optical system is included).
The light emitted from 51 is converted into polarized light via the polarizer 52. The polarizer 52 is a stage 5 which is made movable by a stage controller 54.
It is provided on the lower surface of No. 3 so as to be rotatable by 90 ° or more, and defines the polarization plane of the emitted polarized light according to the operation position of the lever 52a provided on its outer circumference. Polarizer 52
The light (polarized light) that has passed through passes through a through hole 53a provided in the central portion of the stage 53, further passes through a glass plate 55 for mounting a sample provided on the upper surface of the stage 53, and The liquid crystal display panel 56 mounted on the glass plate 55 is illuminated.

【００３２】液晶表示パネル５６を透過した光（偏光照
明光による液晶表示パネル５６の像）は、対物レンズ５
７によって拡大され、ハーフミラー５８を直進して光路
切換プリズム５９の位置に至る。The light transmitted through the liquid crystal display panel 56 (the image of the liquid crystal display panel 56 by the polarized illumination light) is the objective lens 5.
It is enlarged by 7 and goes straight through the half mirror 58 to reach the position of the optical path switching prism 59.

【００３３】すなわち、この実施例においては、観察動
作時にも光路切換プリズム５９に至る前の光路上にアナ
ライザは存在しない。That is, in this embodiment, there is no analyzer on the optical path before reaching the optical path switching prism 59 even during the observation operation.

【００３４】この実施例の観察機能付レーザ加工装置５
０も、観察系として接眼系及びモニタ系が設けられてお
り、光路切換プリズム５９は接眼系及びモニタ系（場合
によってはレーザ照射系）の光路切換用のものである。
すなわち、接眼系による観察と、モニタ系による観察と
は択一的にしか実行できない。例えば、蟻溝をガイドと
した直進機構に取り付けられて光路切換プリズム５９が
設けられており、接眼系による観察時には、光路切換プ
リズム５９はハーフミラー５８を直進してきた光の光路
を折曲し、モニタ系による観察時には、光路切換プリズ
ム５９はハーフミラー５８を直進してきた光の光路から
ずれてその光をそのまま直進させる。Laser processing apparatus 5 with observation function of this embodiment
0 also has an eyepiece system and a monitor system as an observation system, and the optical path switching prism 59 is for switching the optical paths of the eyepiece system and the monitor system (laser irradiation system in some cases).
That is, the observation by the eyepiece system and the observation by the monitor system can be selectively executed. For example, an optical path switching prism 59 is provided attached to a rectilinear mechanism that uses the dovetail as a guide, and the optical path switching prism 59 bends the optical path of the light that has proceeded straight through the half mirror 58 during observation by the eyepiece system. At the time of observation by the monitor system, the optical path switching prism 59 deviates from the optical path of the light traveling straight through the half mirror 58 and causes the light to travel straight.

【００３５】光路切換プリズム５９によって光路が折曲
された光（液晶表示パネル５６の像）は、その時点で開
放状態にあるメカニカルシャッタ（従来でも設けられて
いるが、従来説明では省略している）６０を通過して接
眼レンズ６１に到達し、この接眼レンズ６１によって、
その接眼部に液晶表示パネル５６の像を結像させる。The light (image of the liquid crystal display panel 56) whose optical path is bent by the optical path switching prism 59 is a mechanical shutter that is in an open state at that time (a conventional mechanical shutter is also provided, but it is omitted in the conventional description). ) 60 to reach the eyepiece 61, and by this eyepiece 61,
An image of the liquid crystal display panel 56 is formed on the eyepiece.

【００３６】一方、光路切換プリズム５９による光路操
作がなされることなく直進した光（液晶表示パネル５６
の像）は、その時点で開放状態にあるメカニカルシャッ
タ（従来でも設けられているが、従来説明では省略して
いる）６２を通過した後ハーフミラー６３によって光路
が折曲され、リレーレンズ６４によって像点位置が変化
され、全反射ミラー６５によって光路が折曲される。On the other hand, the light traveling straight (the liquid crystal display panel 56 without operating the optical path by the optical path switching prism 59).
Image) passes through a mechanical shutter (which is also provided in the related art, but is omitted in the related art) 62 which is in an open state at that time, and then the optical path is bent by a half mirror 63, and a relay lens 64 is used. The image point position is changed, and the optical path is bent by the total reflection mirror 65.

【００３７】この実施例の場合、全反射ミラー６５によ
って光路が折曲された光（液晶表示パネル５６の像）
は、光電変換部であるビデオカメラ部６７上に直接照射
されるのではなく、ビデオカメラ部６７の入射面側に９
０°以上回転可能に設けられているアナライザ６６によ
って偏光検出（検光）された後ビデオカメラ部６７上に
照射され、ビデオカメラ部６７上に液晶表示パネル５６
の像を結像される。このような偏光観察像がモニタ６８
によって表示される。In the case of this embodiment, light whose optical path is bent by the total reflection mirror 65 (image of the liquid crystal display panel 56)
Does not irradiate directly on the video camera section 67 which is a photoelectric conversion section, but on the incident surface side of the video camera section 67.
The polarized light is detected (analyzed) by an analyzer 66 that can be rotated by 0 ° or more, and then is irradiated onto a video camera unit 67, and the liquid crystal display panel 56 is placed on the video camera unit 67.
Is imaged. Such a polarization observation image is displayed on the monitor 68.
Displayed by.

【００３８】なお、上述した光路切換プリズム５９、メ
カニカルシャッタ６０及びメカニカルシャッタ６２は、
オペレータの機構構成に対する手動操作によって、又
は、後述する電気的コントローラ６９からの指令によっ
て連動動作するものであり、上述したように、接眼系観
察時とモニタ系観察時とでは逆の動作及び状態をとるも
のである。The optical path switching prism 59, the mechanical shutter 60 and the mechanical shutter 62 described above are
The operation is interlocked by an operator's manual operation with respect to the mechanical structure or by a command from an electric controller 69 described later. As described above, the operation and state opposite to the eyepiece system observation and the monitor system observation are performed. To take.

【００３９】また、この実施例のアナライザ６６は、上
述したようにビデオカメラ部６７の入射側に回転可能に
設けられており、例えば、自己の外周に設けられている
レバー６６ａの操作位置に応じて検出し得る偏光面を任
意に規定できるようになされている。Further, the analyzer 66 of this embodiment is rotatably provided on the incident side of the video camera section 67 as described above, and, for example, according to the operating position of the lever 66a provided on its outer circumference. The polarization plane that can be detected by the above can be arbitrarily defined.

【００４０】この実施例においては、ポラライザ５２及
びアナライザ６６を共に回転可能としているので、偏光
観察を種々の観点から行なうことができる。In this embodiment, since the polarizer 52 and the analyzer 66 are both rotatable, polarized light observation can be performed from various viewpoints.

【００４１】上述したように、この実施例は、ガラス基
板、コモン電極、分子配向処理層、液晶層、分子配向処
理層、スイッチングアレイ層及びガラス基板からなる状
態にある液晶表示パネル５６を試料として特に意識して
おり、逆に言えば、完成品から上下の偏光板及び光拡散
性反射板（バックライト）がない状態にある液晶表示パ
ネル５６を試料として特に意識している（図３参照）。
しかし、あたかも完成品と同様なパネルとして、液晶表
示パネル５６内部の欠陥検査を行なうことができる。透
過照明光源５１は、バックライト（図３符号１１参照）
として見なすことができる。ポラライザ５２の偏光面を
バックライト側偏光板（図３符号１０参照）と同じにす
ることでその偏光板と見なすことができる。アナライザ
６６の偏光面を液晶層透過側偏光板（図３符号２参照）
と同じにすることでその偏光板と見なすことができる。As described above, in this embodiment, the liquid crystal display panel 56 in the state of the glass substrate, the common electrode, the molecular alignment treatment layer, the liquid crystal layer, the molecular alignment treatment layer, the switching array layer and the glass substrate is used as a sample. I am particularly conscious of it, and conversely, I am particularly conscious as a sample of the liquid crystal display panel 56 in which the upper and lower polarizing plates and the light diffusive reflector (backlight) are not present from the finished product (see FIG. 3). .
However, a defect inspection inside the liquid crystal display panel 56 can be performed as if it were a panel similar to the finished product. The transillumination light source 51 is a backlight (see reference numeral 11 in FIG. 3).
Can be considered as The polarizer 52 can be regarded as the polarizing plate by making the polarization plane of the polarizer 52 the same as the backlight side polarizing plate (see reference numeral 10 in FIG. 3). The polarization plane of the analyzer 66 is the liquid crystal layer transmission side polarization plate (see reference numeral 2 in FIG. 3).
It can be regarded as the polarizing plate by making it the same as.

【００４２】以上のような静的な観察だけでなく、図２
に示すように、液晶表示パネル５６に液晶ドライバ８０
を接続して駆動すれば、あたかも完成品と同様なパネル
状態にある液晶表示パネル５６内部の欠陥検査を動的に
行なうことができる。すなわち、現実に近い状態で観察
できて欠陥を評価できる。In addition to the above static observation, FIG.
As shown in FIG.
When connected and driven, the defect inspection inside the liquid crystal display panel 56 in a panel state similar to that of the finished product can be dynamically performed. That is, the defect can be evaluated by observing it in a state close to reality.

【００４３】また、ポラライザ５２及び又はアナライザ
６６を適宜回転し、モニタ６８による偏光観察像のコン
トラストを最大にすれば、欠陥を評価し易くなる。Further, if the polarizer 52 and / or the analyzer 66 are appropriately rotated to maximize the contrast of the polarization observation image by the monitor 68, the defect can be easily evaluated.

【００４４】なお、この実施例のアナライザ６６も着脱
自在になされている。しかし、着脱できるようにしてい
る理由は、観察を偏光観察と通常観察とで切り替えるた
めであり、従来のような観察時と修正時とで着脱状態を
切り替えるためではない。The analyzer 66 of this embodiment is also detachable. However, the reason why the device is detachable is to switch the observation between polarized observation and normal observation, and not to switch the detachable state between the conventional observation and correction.

【００４５】モニタ６８によって表示された液晶表示パ
ネル５６の偏光観察像によって、修正し得る欠陥を知得
したオペレータは、アナライザ６６を離脱させることな
く、電気的コントローラ６９を操作してレーザ発振器７
０を起動させてレーザ光をパルス発振させる。なお、電
気的コントローラ６９に対して、パルス周期やレーザパ
ワーやレーザ光のスポット形状や発振時間等を適宜設定
できる（なお、この実施例ではパルス幅は固定）。The operator, who knows the defect that can be corrected by the polarization observation image of the liquid crystal display panel 56 displayed by the monitor 68, operates the electric controller 69 without removing the analyzer 66, and operates the laser oscillator 7.
0 is started to pulse-oscillate the laser light. The pulse period, the laser power, the spot shape of the laser beam, the oscillation time, etc. can be appropriately set for the electric controller 69 (the pulse width is fixed in this embodiment).

【００４６】レーザ発振器（ここではレーザ光の発散又
は集束やスポット形状を所定のものとする構成を含む）
７０から射出されたレーザ光は、ハーフミラー６３を直
進し、開放状態にあるメカニカルシャッタ６２を通過
し、光路切換プリズム５９によって光路が操作されるこ
となく、ハーフミラー５８に到達し、このハーフミラー
５８を直進し、対物レンズ５７によって集光されて液晶
表示パネル５６の欠陥部位に照射される。Laser oscillator (here, it includes divergence or focusing of laser light and a configuration in which the spot shape is predetermined)
The laser light emitted from 70 travels straight through the half mirror 63, passes through the mechanical shutter 62 in the open state, reaches the half mirror 58 without being operated by the optical path switching prism 59, and the half mirror 58 is reached. It goes straight through 58, is condensed by the objective lens 57, and is irradiated to the defective portion of the liquid crystal display panel 56.

【００４７】この照射レーザ光の集光エネルギーによっ
て、配線パターンの短絡やはみ出しの切断、除去が行な
われたり、混入異物が粉砕されたりして、液晶表示パネ
ル５６の欠陥が修正される。Due to the condensing energy of the irradiation laser light, short-circuiting of wiring patterns, cutting off and removal of protrusions, and inclusion of foreign matter are crushed to correct defects in the liquid crystal display panel 56.

【００４８】なお、照射エネルギーが液晶表示パネル５
６によってほとんど吸収されるため、液晶表示パネル５
６を透過したレーザ光がポラライザ５２等に悪影響を与
えることはない。The irradiation energy is the liquid crystal display panel 5.
Liquid crystal display panel 5 because it is almost absorbed by 6
The laser light transmitted through 6 does not adversely affect the polarizer 52 and the like.

【００４９】この実施例の場合、このようなレーザ光に
よる欠陥修正時にも、透過照明光源５１からの射出光が
上述したようなモニタ系の観察光路によってビデオカメ
ラ部６７に到達し、偏光観察像が継続してモニタ６８に
表示される。従って、今回のレーザ発振によって修正が
十分になされたか否かを直ちに認識でき、観察動作状態
への切換を行なうことなく、修正が不十分な場合には直
ちに次のレーザ発振を指示することができる。In the case of this embodiment, even when the defect is corrected by such a laser beam, the light emitted from the transmissive illumination light source 51 reaches the video camera section 67 through the observation optical path of the monitor system as described above, and the polarized observation image is obtained. Is continuously displayed on the monitor 68. Therefore, it is possible to immediately recognize whether or not the correction has been sufficiently performed by the laser oscillation of this time, and it is possible to immediately instruct the next laser oscillation when the correction is insufficient without switching to the observation operation state. .

【００５０】なお、この実施例の場合、試料が所定の液
晶表示パネル５６に限定された装置を意図しており、そ
のため、対物レンズ５７の焦点距離は液晶表示パネル５
６の上部側ガラス（図３符号３参照）を考慮して選定さ
れている。また、レーザ発振器７０の発振レーザ周波数
及び波長も固定のものであり、対物レンズ５７はその波
長において収差が少ないように選定されている。In the case of this embodiment, the sample is intended for a device limited to a predetermined liquid crystal display panel 56, so that the focal length of the objective lens 57 is the liquid crystal display panel 5.
6 is selected in consideration of the upper glass (see reference numeral 3 in FIG. 3). Further, the oscillation laser frequency and wavelength of the laser oscillator 70 are also fixed, and the objective lens 57 is selected so that aberration is small at that wavelength.

【００５１】従って、試料としての液晶表示パネル５６
を変更する場合や、レーザ周波数をレーザ発振器７０を
取り替えることで変更する場合には、対物レンズ５７も
変更することが好ましい。Therefore, the liquid crystal display panel 56 as a sample
When the laser frequency is changed, or when the laser frequency is changed by replacing the laser oscillator 70, it is preferable to change the objective lens 57 as well.

【００５２】この実施例の観察機能付レーザ加工装置５
０は、上述のような透過照明光源５１からの照明光によ
る観察機能に加えて、落射照明による観察も可能となさ
れている。試料としての液晶表示パネル５６が完成した
状態のものであると、すなわち、光拡散性反射板（バッ
クライト）（図３符号１１参照）を備えていると、透過
照明光源５１からの照明光が液晶表示パネル５６を透過
できないので、落射照明による観察しか適用できない。Laser processing apparatus 5 with observation function of this embodiment
In addition to the observation function with the illumination light from the transmissive illumination light source 51 as described above, 0 can also perform observation with epi-illumination. When the liquid crystal display panel 56 as a sample is in a completed state, that is, when a light diffusing reflection plate (backlight) (see reference numeral 11 in FIG. 3) is provided, the illumination light from the transmissive illumination light source 51 is emitted. Since the liquid crystal display panel 56 cannot be transmitted, only observation by epi-illumination can be applied.

【００５３】落射照明光源７１から射出された光線は、
集光光学系７２を介して集束された後、ポラライザ７３
を介して偏光光にされ、ハーフミラー５８によって光路
が折曲され、対物レンズ５７を介してほぼ平行光にされ
て試料としての液晶表示パネル５６を照明する。液晶表
示パネル５６から反射された以降の光路は、透過照明に
よる観察の場合と同様であり、モニタ系による偏光観察
が可能となる。また、モニタ系で偏光観察しているとき
には、透過照明による観察の場合と同様に、レーザ光を
用いた欠陥修正を同時に行なうことができる。The light beam emitted from the epi-illumination light source 71 is
After being focused through the condensing optical system 72, the polarizer 73
The light is turned into polarized light through the optical path, the optical path is bent by the half mirror 58, and the light is turned into substantially parallel light through the objective lens 57 to illuminate the liquid crystal display panel 56 as a sample. The optical path after being reflected from the liquid crystal display panel 56 is the same as that in the case of observation by transmitted illumination, and polarized observation by the monitor system is possible. Further, when polarization observation is performed by the monitor system, defect correction using laser light can be simultaneously performed, as in the case of observation by transmitted illumination.

【００５４】このような落射照明による偏光観察は、上
述した第２の形成状態にある液晶表示パネル、すなわ
ち、ガラス基板、コモン電極、分子配向処理層、液晶
層、分子配向処理層、スイッチングアレイ層及びガラス
基板からなる状態にある液晶表示パネル（図３参照）に
対しても適用できる。しかし、この形成状態では、液晶
表示パネル５６に反射構成要素がないため反射光強度が
弱くなり、そのため、透過照明による場合に比べて偏光
観察像のコントラストが弱くなる。The polarized light observation by such epi-illumination is performed by the liquid crystal display panel in the above-mentioned second formation state, that is, the glass substrate, the common electrode, the molecular alignment treatment layer, the liquid crystal layer, the molecular alignment treatment layer, the switching array layer. Also, the present invention can be applied to a liquid crystal display panel (see FIG. 3) formed of a glass substrate. However, in this formed state, since the liquid crystal display panel 56 has no reflective component, the intensity of the reflected light becomes weak, and therefore the contrast of the polarized observation image becomes weaker than that in the case of the transillumination illumination.

【００５５】以上のように、上記実施例の観察機能付レ
ーザ加工装置５０によれば、アナライザ６６を修正用レ
ーザ光の光路とは無関係な位置に設けているので、偏光
観察像を表示させた状態で、レーザによる欠陥修正を行
なうことができる。従って、修正内容を直ちに評価で
き、必要ならば続いて修正させることができる。As described above, according to the laser processing apparatus 50 with an observation function of the above-described embodiment, since the analyzer 66 is provided at a position irrelevant to the optical path of the correction laser beam, the polarized observation image is displayed. In this state, laser defect correction can be performed. Therefore, the correction content can be evaluated immediately, and if necessary, can be subsequently corrected.

【００５６】また、上記実施例によれば、アナライザ６
６を修正用レーザ光の光路とは無関係な位置に設けてい
るので、修正動作時にアナライザ６６を離脱する必要が
なく、従来に比べてオペレータの手間を省くことができ
る。Further, according to the above embodiment, the analyzer 6
Since 6 is provided at a position irrelevant to the optical path of the correction laser beam, it is not necessary to remove the analyzer 66 during the correction operation, and the operator's labor can be saved as compared with the conventional case.

【００５７】さらに、上記実施例によれば、同じ理由に
より、当然にアナライザ６６がレーザ光によって損壊さ
れることもなくなり、また、アナライザ６６が修正用レ
ーザ光の強度を減少させることもなくなる。Further, according to the above-described embodiment, for the same reason, the analyzer 66 is naturally not damaged by the laser beam, and the analyzer 66 is not reduced in the intensity of the correction laser beam.

【００５８】以上のように、上記実施例によれば、偏光
観察機能を確保した状態で、従来の課題を解決すること
ができる。As described above, according to the above-mentioned embodiment, the conventional problems can be solved while the polarization observation function is secured.

【００５９】なお、上記実施例においては、アナライザ
６６をビデオカメラ部６７の入射面に設けたものを示し
たが、アナライザ６６の設置位置はこれに限定されるも
のではなく、ハーフミラー６３でレーザ光の光路から分
離されたモニタ系専用の光路上であればいかなる位置で
あっても良い。In the above embodiment, the analyzer 66 is provided on the incident surface of the video camera section 67, but the installation position of the analyzer 66 is not limited to this. It may be located at any position on the optical path dedicated to the monitor system, which is separated from the optical path of the light.

【００６０】また、上記実施例においては、モニタ系に
のみアナライザ６６を設けて偏光観察が可能なものを示
したが、光路切換プリズム５９によってレーザ光光路か
ら分離された接眼系専用の光路部分にアナライザを設け
て接眼系による偏光観察を可能にしても良い。なお、安
全機構（メカニカルシャッタ）が設けられているとは言
え、オペレータの眼の保護を考慮すると、オペレータは
モニタ６８による表示を目視してレーザ修正を行なうの
で、接眼系は観察系としては２次的なものであり、その
ため、上記実施例のようにモニタ系にのみアナライザ６
６を設けても観察機能として十分である。むしろ、アナ
ライザ６６が１個で済むので構成面及び経済面での利点
がある。Further, in the above embodiment, the analyzer 66 is provided only in the monitor system to enable polarization observation. However, the optical path portion dedicated to the eyepiece system is separated from the laser light optical path by the optical path switching prism 59. An analyzer may be provided to enable polarization observation by the eyepiece system. Although the safety mechanism (mechanical shutter) is provided, in consideration of the protection of the eyes of the operator, the operator performs laser correction by visually observing the display on the monitor 68. Therefore, the analyzer 6 is used only in the monitor system as in the above embodiment.
Providing 6 is sufficient as an observation function. On the contrary, since only one analyzer 66 is required, there are advantages in terms of configuration and economy.

【００６１】さらに、上記実施例においては、レーザ光
による修正の起動を手動で行なう装置を示したが、標準
パターンを記憶しておき、ビデオカメラ部６７による撮
像画像とのマッチングにより自動的に欠陥を発見して起
動する装置にも本発明を適用することができる。要は、
偏光観察機能を担うアナライザが観察系専用光路上に介
在されているものであれば良い。Further, in the above embodiment, the apparatus for manually activating the correction by the laser beam is shown, but the standard pattern is stored and the defect is automatically generated by the matching with the image picked up by the video camera section 67. The present invention can also be applied to a device that discovers and activates. In short,
It is sufficient that the analyzer having the polarization observation function is provided on the optical path dedicated to the observation system.

【００６２】さらにまた、上記実施例においては、試料
が液晶表示パネルとして説明したが、他の試料を対象と
した装置にも適用できる。例えば、有機膜材質でなるコ
ンパクトディスクや、光学的窓（ガラス）を有するＥＥ
ＰＲＯＭが試料であっても良い。また、加工も欠陥修正
に限られず、製造としての加工であっても良い。Furthermore, in the above-mentioned embodiment, the sample is described as a liquid crystal display panel, but it can be applied to an apparatus for other samples. For example, a compact disc made of an organic film material, or an EE having an optical window (glass)
The PROM may be the sample. Further, the processing is not limited to the defect correction, and may be processing as manufacturing.

【００６３】[0063]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、偏光観
察機能を担う構成要素であるアナライザを、加工用レー
ザ光の光路から分離された観察系専用の光路上に介在さ
せたので、偏光観察とレーザ加工とを同時に実行でき
る、アナライザがレーザ光によって損壊されることがな
い、レーザ加工時にもアナライザの離脱を不要にでき
る、レーザ加工がアナライザの影響を受けない観察機能
付レーザ加工装置を実現できる。As described above, according to the present invention, the analyzer, which is a constituent element having a polarization observation function, is provided on the optical path dedicated to the observation system, which is separated from the optical path of the processing laser beam. Polarization observation and laser processing can be performed at the same time, the analyzer is not damaged by laser light, it is not necessary to detach the analyzer during laser processing, and the laser processing device with an observation function does not affect the laser processing. Can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】実施例の構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an embodiment.

【図２】実施例の図１とは異なる使用態様を示すブロッ
ク図である。FIG. 2 is a block diagram showing a usage mode different from that of FIG. 1 in the embodiment.

【図３】液晶表示パネルの概略断面構造を示す断面図で
ある。FIG. 3 is a sectional view showing a schematic sectional structure of a liquid crystal display panel.

【図４】従来の構成例を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a conventional configuration example.

【図５】アナライザの構成を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a configuration of an analyzer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

５０…観察機能付レーザ加工装置、５１…透過照明光
源、５２…ポラライザ、５６…液晶表示パネル（試
料）、５７…対物レンズ、５９…光路切換プリズム、６
１…接眼レンズ、６３…ハーフミラー、６６…アナライ
ザ、６７…ビデオカメラ部、７０…レーザ発振器、７１
…落射照明光源。50 ... Laser processing device with observation function, 51 ... Transmitted illumination light source, 52 ... Polarizer, 56 ... Liquid crystal display panel (sample), 57 ... Objective lens, 59 ... Optical path switching prism, 6
1 ... Eyepiece lens, 63 ... Half mirror, 66 ... Analyzer, 67 ... Video camera part, 70 ... Laser oscillator, 71
… Epi-illumination light source.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 ポラライザ及びアナライザを備えて試料
の偏光観察像を得ることができる、上記試料に向かう加
工用レーザ光の光路と、この加工用レーザ光に逆進する
上記試料の像を含む光の観察系光路とが一部光路を共有
する観察機能付レーザ加工装置において、 上記試料に向かう加工用レーザ光の光路から分離してい
る観察系の専用光路上に上記アナライザを設けたことを
特徴とする観察機能付レーザ加工装置。1. A light including a polarization observation image of a sample, which is provided with a polarizer and an analyzer, and an optical path of a processing laser beam toward the sample, and a light including an image of the sample traveling backward to the processing laser beam. In the laser processing apparatus with an observation function that shares a part of the optical path with the observation system optical path, the analyzer is provided on the dedicated optical path of the observation system, which is separated from the optical path of the processing laser light toward the sample. Laser processing equipment with observation function. 【請求項２】 上記観察系として接眼系及びモニタ系を
有し、モニタ系の専用光路上にのみ偏光観察機能を担う
上記アナライザを設けたことを特徴とする請求項１に記
載の観察機能付レーザ加工装置。2. The observation function according to claim 1, wherein the observation system includes an eyepiece system and a monitor system, and the analyzer having a polarization observation function is provided only on a dedicated optical path of the monitor system. Laser processing equipment.