JPH07114178A - 感光性平版印刷版及び製版方法 - Google Patents

感光性平版印刷版及び製版方法

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JPH07114178A
JPH07114178A JP19016394A JP19016394A JPH07114178A JP H07114178 A JPH07114178 A JP H07114178A JP 19016394 A JP19016394 A JP 19016394A JP 19016394 A JP19016394 A JP 19016394A JP H07114178 A JPH07114178 A JP H07114178A
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acid
lithographic printing
printing plate
cyclodextrin
photosensitive lithographic
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JP19016394A
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English (en)
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Katsuhiko Tono
克彦 東野
Iku Fukumuro
郁 福室
Shinichi Matsubara
真一 松原
Mitsuru Sasaki
充 佐々木
Katsuko Ota
勝子 太田
Fumiyuki Matsuo
史之 松尾
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Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐刷力低下がなく、良好な感度を有し、長期
間にわたる繰り返し現像処理においても、現像性が良好
で、原稿のフィルムエッジ部分の消去が可能であり、ま
た現像液浴中に析出物の発生がないポジ型感光性平版印
刷版及び製版方法を提供すること。 【構成】 砂目立て処理及び陽極酸化処理を施した支持
体に、o−キノンジアジド化合物、アルカリ可溶性樹脂
及び包接化合物を含有するポジ型感光性組成物層を設け
たことを特徴とする感光性平版印刷版及び該感光性平版
印刷版をアルカリ金属珪酸塩を含む現像剤で現像する製
版方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポジ型感光性平版印刷
版及び該ポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法に関す
る。
【0002】
【発明の背景】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に
感光層を設けたもので、例えば、ポジ型感光性平版印刷
版においては、親水性支持体上に、紫外線等の活性光線
による露光により可溶化するインク受容性感光層が形成
されている。
【0003】このようなポジ型感光性平版印刷版は、感
光層に画像露光を施し、次いで現像すると、露光部のイ
ンク受容性である感光層は除去されて親水性支持体の表
面が露出する一方、露光されない部分のインク受容性で
ある感光層は支持体に残留してインキ受容層を形成す
る。平版印刷においては、上記露光部が親水性で、露光
されない部分が親油性であるという性質の差が利用され
る。
【0004】通常、ポジ型感光性平版印刷版の感光層に
は、感光成分としてo−キノンジアジド化合物を、ま
た、皮膜強度とアルカリ可溶性とを高めるための成分と
してアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物が用い
られている。
【0005】上記o−キノンジアジド化合物としては、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル化合物及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ド−4−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして
一般に用いられており、特に、o−キノンジアジド基を
有する重縮合樹脂、例えば、ピロガロールとアルデヒド
類またはケトン類との重縮合樹脂とのエステル化合物が
好ましく使われている。
【0006】o−キノンジアジド化合物として、重縮合
樹脂等とのエステル化合物を用いる場合、耐刷性を向上
させるために、通常、重縮合樹脂の重量分子量が300
0以上の樹脂が用いられている。
【0007】また、現像は、一般に、補充現像液を補充
し、現像処理によって消費された現像液成分を補充しな
がら行うという現像方法が用いられている。
【0008】o−キノンジアジド化合物を用いた上記の
如きポジ型感光性平版印刷版を補充現像液を補充しなが
ら現像を行う場合、補充現像液の補充量が多くなって、
現像液が疲労した状態になってくると、感光性平版印刷
版に感度測定用のステップタブレット(一般的に濃度差
0.15ずつで21段階のグレースケール等)を原稿と
して現像を行った際、平版印刷版のステップタブレット
の中間調部分に相当する部分が赤くなるという現象が起
こり、また、赤くなった部分は通常用いられる消去液
(修正液)では消去することができないという現象が発
生する。この現象は、実際の平版印刷版の製版作業にお
いては、原稿のフィルムのエッジ部分に相当する部分
が、印刷版上に不必要な画像部として残る場合があり、
その場合その不必要な画像部の消去が不可能となってし
まうという問題として表れる。そのため消去不良のフィ
ルムエッジ部分に相当する部分にインキがのり、印刷不
良を起こし、問題であった。
【0009】上記問題点の発生は、一般的な感光性平版
印刷版のように、ポジ型感光性組成物を砂目立て及び陽
極酸化処理を施した支持体上に設けた際に特に顕著であ
り、またo−キノンジアジド化合物として、重縮合樹脂
とのエステル化合物を用いた場合、更に顕著である。
【0010】中間調部分の赤味問題(即ち、原稿のフィ
ルムエッジに相当する部分の消去不良という問題)の解
決には、重縮合樹脂の分子量を低くする、また感光層中
に有機酸、無機酸を多量に添加するとか、の方法をとる
ことが知られている。
【0011】しかしながら、上記解決方法では、耐刷力
が低下する等の問題があり、更なる改良が望まれてい
た。
【0012】また、長期間にわたる繰り返し現像処理に
おいても現像性が良好で、かつ現像液浴中に析出物(ス
ラッジ)の発生がない製版方法として、特開平5−22
73号公報に、〔SiO2〕/〔M〕が0.15〜0.
5であり、SiO2濃度が総重量に対して1.0〜3.
0重量%であるアルカリ金属珪酸塩の水溶液からなる補
充液を補充して現像する方法、特開平6−35174号
公報では砂目支持体裏面にバックコート層を設ける方法
等が記載されているが、該記載の現像方法あるいは感光
性平版印刷版によって製版をする場合にも、現像された
感光性平版印刷版の中間調部分が赤くなるという現象が
起こり、消去することができない、すなわちフィルムエ
ッジ部分の消去不良という問題が発生する。中間調部分
の赤味は現像剤及び現像補充剤のSiO2濃度を下げる
と減少することができるが、SiO2濃度を下げると、
今度は、現像液浴中の析出物は増加するという問題が発
生する。
【0013】また、感光性平版印刷版の砂目支持体上に
親水性層を設けることにより、フィルムエッジ部分の消
去不良及び現像液浴中の析出物の発生がいくぶんかは抑
制されるが、その効果は小さく、不十分であった。
【0014】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、耐刷力低下が
なく、良好な感度を有し、かつ、長期間にわたる繰り返
し現像処理においても、現像性が良好で、原稿のフィル
ムエッジ部分の消去が可能であり、また現像液浴中に析
出物の発生がないポジ型感光性平版印刷版及びその現像
処理方法を提供することにある。
【0015】
【発明の構成】本発明の上記目的は、 (1)砂目立て処理及び陽極酸化処理を施した支持体
に、o−キノンジアジド化合物、アルカリ可溶性樹脂、
及び包接化合物を含有するポジ型感光性組成物層を設け
たことを特徴とする感光性平版印刷版。 (2)o−キノンジアジド化合物が、o−キノンジアジ
ド基を有する分子量3000以上の重縮合樹脂であるこ
とを特徴とする上記(1)記載の感光性平版印刷版。 (3)o−キノンジアジド化合物が、o−キノンジアジ
ド基を有するピロガロールとアルデヒド類またはケトン
類との重縮合樹脂であることを特徴とする上記(1)ま
たは(2)記載の感光性平版印刷版。 (4)包接化合物が、環状D−グルカン類、シクロファ
ン類から選ばれる少なくとも1つであることを特徴とす
る上記(1)〜(3)記載の感光性平版印刷版。 (5)包接化合物が、シクロデキストリン、シクロデキ
ストリン誘導体から選ばれる少なくとも1つである上記
(1)〜(4)記載の感光性平版印刷版。 (6)シクロデキストリン、シクロデキストリン誘導体
におけるシクロデキストリンがβ型シクロデキストリン
であること特徴とする上記(5)記載の感光性平版印刷
版。 (7)支持体が、砂目立て処理及び陽極酸化処理、封孔
処理した後、親水性層を設けたものであることを特徴と
した上記(1)〜(6)記載の感光性平版印刷版。 (8)上記(1)〜(7)記載のポジ型感光性平版印刷
版を、画像露光し、次いでアルカリ金属珪酸塩を含む現
像剤で現像処理することを特徴とする製版方法。 (9)現像処理を、〔SiO2〕/〔M〕(〔SiO2
はSiO2のモル濃度を示し、〔M〕はアルカリ金属の
モル濃度を示す。)が0.15〜1.0であり、SiO
2濃度が総重量に対して0.5〜5.0重量%である現
像液及び/または現像補充液を用いて行なうことを特徴
とする上記(8)記載の感光性平版印刷版の製版方法。 によって達成することができる。
【0016】以下本発明を詳細に説明する。
【0017】先ず、本発明のポジ型感光性組成物層に用
いられるオルトキノンジアジド化合物、アルカリ可溶性
樹脂及び包接化合物について説明する。
【0018】本発明のポジ型感光性組成物層に使用され
るオルトキノンジアジド化合物とは、分子中にオルトキ
ノンジアジド基を有する化合物であって、本発明で使用
することができるオルトキノンジアジド化合物は特に限
定されるものではなく、例えば、オルトキノンジアジド
基を有する重縮合樹脂、例えば、o−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸とフェノール類及びアルデヒド又はケト
ンとの重縮合樹脂とのエステル化合物等が挙げられる。
【0019】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
【0020】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0021】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。
【0022】更に本発明に用いられるオルトキノンジア
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De F
orest)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(McGraw Hill)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリ
ン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,
4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
【0023】上記オルトキノンジアジド化合物のうち、
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。
【0024】本発明において、オルトキノンジアジド化
合物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種
以上を組合せて用いてもよい。
【0025】オルトキノンジアジド化合物の感光性組成
物中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に
好ましいのは、10〜50重量%である。
【0026】本発明で使用することができるアルカリ可
溶性樹脂は特に限定されるものではなく、例えば、ノボ
ラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体、特開昭55−57841号公報に記載されている多
価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等を
挙げることができる。
【0027】本発明で使用することができるノボラック
樹脂としては、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド
樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55
−57841号公報に記載されているようなフェノール
・クレゾール・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭
55−127553号公報に記載されているようなp−
置換フェノールとフェノールもしくはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの共重合体樹脂等が挙げられる。
【0028】ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標
準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×10
2〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.00×
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.0
0×102〜4.00×103、Mwが3.00×103
〜2.00×104である。
【0029】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上を組合せて用いてもよい。
【0030】ノボラック樹脂は感光性組成物中に5〜9
5重量%含有させるのが好ましい。
【0031】また、フェノール性水酸基を有するビニル
系重合体とは、該フェノール性水酸基を有する単位を分
子構造中に有する重合体であり、下記一般式[I]〜
[V]で表される構造単位を少なくとも1つの含む重合
体が好ましい。
【0032】
【化1】
【0033】一般式[I]〜一般式[V]において、R
1およびR2は、それぞれ水素原子、アルキル基又はカル
ボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。R
3は、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、
好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキ
ル基である。R4は、水素原子、アルキル基、アリール
基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子であ
る。Aは、窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを
連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基を表
し、mは、0〜10の整数を表し、Bは、置換基を有し
ていてもよいフェニレン基又は置換基を有してもよいナ
フチレン基を表す。
【0034】本発明に用いる上記フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体は、前記一般式[I]〜一般式
[V]で表される構造単位を有する共重合体型の構造を
有するものが好ましく、共重合させる単量体としては、
例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン類、
例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えば、
イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂
肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イ
ソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−2−クロ
ロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エ
タクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン
酸のエステル類、例えば、アクリロニトリル、メタアク
リロニトリル等のニトリル類、例えば、アクリルアミド
等のアミド類、例えば、アクリルアニリド、p−クロロ
アクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m−
メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酢
酸ビニル等のビニルエステル類、例えば、メチルビニル
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリ
デンシアナイド、例えば、1−メチル−1−メトキシエ
チレン、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメト
キシエチレン、1,1−ジメトキシカルボニルエチレ
ン、1−メチル−1−ニトロエチレン等のエチレン誘導
体類、例えば、N−ビニルピロール、N−ビニルカルバ
ゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロリデ
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル系単量体があ
る。これらの単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造
で高分子化合物中に存在する。
【0035】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。
【0036】これらの単量体は、本発明に用いられる重
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。
【0037】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は感光性組成物中に0.5〜70重量%含有させるの
が好ましい。
【0038】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、又2種以上
を組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
【0039】本発明で使用することができる包接化合物
は、化学種を取り込む(包接する)ことができる化合物
であれば特に限定されないが、組成物の調製に用いる溶
剤に可溶な有機系化合物が好ましい。そのような有機系
化合物の例としては、例えば、「ホストゲストケミスト
リー」(平岡道夫ら著、講談社1984年、東京)など
の成書や「テトラヘドロンレポート」(No.226(1
987)P5725A.Colletら)、「化学工業4月号」
((1991)P278新海ら)、「化学工業4月号」
((1991)P288平岡ら)などに示されているも
のが挙げられる。
【0040】本発明において好ましく使用することがで
きる包接化合物としては、例えば、環状D−グルカン
類、シクロファン類、中性ポリリガンド、環状ポリアニ
オン、環状ポリカチオン、環状ペプチド、スフェランド
(SPHERANDS)、キャビタンド(CAVITANDS)およびそれ
らの非環状類縁体が挙げられる。これらの中でも、環状
D−グルカン類及びその非環状類縁体、シクロファン
類、中性ポリリガンドが更に好ましい。
【0041】環状D−グルカン類およびその非環状類縁
体としては、例えば、α−D−グルコピラノースがグリ
コキシド結合によって連なった化合物が挙げられる。
【0042】該化合物としては、デンプン、アミロー
ス、アミロペクチンなどのD−グルコピラノース基によ
り構成される糖質類、α−シクロデキストリン、β−シ
クロデキストリン、γ−シクロデキストリン、D−グル
コピラノース基の重合度が9以上のシクロデキストリン
などのシクロデキストリン及びSO364CH264
SO3基、NHCH2CH2NH基、NHCH2CH2NH
CH2CH2NH基、SC65基、N3基、NH2基、NE
2基、SC(NH + 2)NH2基、SH基、SCH2CH
2NH2基、イミダゾール基、エチレンジアミン基などの
置換基を導入した下記式
【0043】
【化2】 で表されるD−グルカン類の修飾物が挙げられる。ま
た、下記一般式[VI]及び一般式[VII]で表されるシ
クロデキストリン誘導体及び分岐シクロデキストリン、
シクロデキストリンポリマー等も挙げられる。
【0044】
【化3】
【0045】一般式[VI]において、R1〜R3は、それ
ぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル
基または置換アルキル基を表す。特に、R 1〜R3が水素
原子あるいはヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル
基であるものが好ましく、1分子中の置換アルキル基の
含有率が15%〜50%であるものが更に好ましい。n
2は4〜10の正の整数を表す。
【0046】
【化4】
【0047】一般式[VII]において、Rは、水素原
子、−R2 −CO2H、−R2 −SO3H、−R2−NH2
たは−N−(R32(R2は、炭素数1〜5の直鎖また
は分岐鎖のアルキレン基を表し、R3は、炭素数1〜5
の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。
【0048】なお、シクロデキストリンの製造例は「Jo
unal of the American Chemical Society」第71巻
第354頁 1949年、「Cheimish Berichte」第9
0巻第2561頁 1949年,第90巻 第2561
頁 1957年に記載されているが、勿論これらに限定
されるものではない。
【0049】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンとは、公知のシクロデキストリンにグルコース、マル
トース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクト
ース、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質
を分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、
シクロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシ
ルシクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
【0050】これら分岐シクロデキストリンの具体的な
合成方法は、例えば、澱粉化学、第33巻、第2号、1
19〜126頁(1986)、同127〜132頁(1
986)、澱粉化学、第30巻、第2号、231〜23
9頁(1983)等に記載されており、これら公知の方
法を参照して合成可能であり、例えば、マルトシルシク
ロデキストリンは、シクロデキストリンとマルトースを
原料とし、イソアミラーゼやプルラナーゼ等の酵素を利
用してシクロデキストリンにマルトースを結合させる方
法で製造できる。グルコシルシクロデキストリンも同様
の方法で製造できる。
【0051】本発明において、好ましく用いられる分岐
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
【0052】〔例示化合物〕 D−1 マルトースが1分子結合したα−シクロデキス
トリン D−2 マルトースが1分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−3 マルトースが1分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−4 マルト一スが2分子結合したα−シクロデキス
トリン D−5 マルトースが2分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−6 マルトースが2分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−7 マルトースが3分子結合したα−シクロデキス
トリン D−8 マルトースが3分子結合したβ−シクロデキス
トリン D−9 マルトースが3分子結合したγ−シクロデキス
トリン D−10 グルコースが1分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−11 グルコースが1分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−12 グルコースが1分子結合したγ−シクロデキ
ストリン D−13 グルコースが2分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−14 グルコースが2分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−15 グルコースが2分子結合したγ−シクロデキ
ストリン D−16 グルコースが3分子結合したα−シクロデキ
ストリン D−17 グルコースが3分子結合したβ−シクロデキ
ストリン D−18 グルコースが3分子結合したγ−シクロデキ
ストリン
【0053】これら分岐シクロデキストリンの構造につ
いては、HPLC,NMR,TLC(薄層クロマトグラ
フィー)、INEPT法(Insensitive nuclei enhance
d bypolarization transfer)等の測定法で種々検討さ
れてきているが、現在の科学技術をもってしてもいまだ
確定されておらず推定構造の段階にある。しかしなが
ら、各単糖類又は2糖類等がシクロデキストリンに結合
していることは上記測定法で誤りのないことである。こ
の故に、本発明においては、単糖類や2糖類の多分子が
シクロデキストリンに結合している際には、例えば、下
図に示すようにシクロデキストリンの各ぶどう糖に個々
に結合している場合や、1つのぶどう糖に直鎖状に結合
しているものの両方を包含するものである。
【0054】
【化5】
【0055】これら分岐シクロデキストリンにおいて、
既存のシクロデキストリンの環構造はそのまま保持され
ているので、既存のシクロデキストリンと同様な包接作
用を示し、かつ、水溶性の高いマルトースないしグルコ
ースが付加し、水ヘの溶解性が飛躍的に向上しているの
が特徴である。
【0056】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンは市販品としての入手も可能であり、例えば、マルト
シルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリート
(登録商標)として市販されている。
【0057】次に、本発明に用いられるシクロデキスト
リンポリマーについて説明する。
【0058】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーとしては、下記一般式[VIII]で表されるものが
好ましい。
【0059】
【化6】 本発明に用いられるシクロデキストリンポリマーは、シ
クロデキストリンを、例えば、エピクロルヒドリンによ
り架橋高分子化して製造できる。
【0060】前記シクロデキストリンポリマーは、その
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100
ミリリットルに対し20g以上あることが好ましく、そ
のためには上記一般式[VIII]における重合度n2を3
〜4とすればよく、この値が小さい程シクロデキストリ
ンポリマー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が
高い。
【0061】これらシクロデキストリンポリマーは、例
えば、特開昭61−97025号公報やドイツ特許第
3,544,842号明細書等に記載された一般的な方
法で合成できる。
【0062】該シクロデキストリンポリマーについて
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
【0063】シクロファン類とは、芳香環が種々の結合
によりつながった構造を有する環状化合物であって、多
くの化合物が知られてり、シクロファン類としては、こ
れら公知の化合物を挙げることができる。
【0064】芳香環を結ぶ結合としては、例えば、単結
合、−(CR12m−結合、−O(CR12mO−結
合、−NH(CR12mNH−結合、−(CR12p
NR3(CR45q−結合、−(CR12p+34
(CR56q−結合、−(CR12p+3(CR4
5q−結合、−CO2−結合、−CONR−結合(こ
こで、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は、同一でも
異なっていてもよく、水素原子または炭素数1〜3のア
ルキル基を示し、m、pおよびqは、同一でも異なって
いてもよく、1〜4の整数を示す。)などが挙げられ
る。
【0065】該化合物としては、例えば、下記式
【0066】
【化7】 で表されるパラシクロファン類、トリ−o−テイモタイ
ド、シクロトリヴェラトリレンに代表される下記式
【0067】
【化8】 で表されるオルトシクロファン類、メタシクロフファ
ン、カリックスアレン、レゾルシノール−アルデヒド環
状オリゴマーなどに代表される下記式
【0068】
【化9】 で表されるメタシクロファン類、あるいは下記式
【0069】
【化10】 で表されるパラ置換フェノール類非環状オリゴマーが挙
げられる。
【0070】中性ポリリガンドとしては、クラウン化合
物、クリプタンド、環状ポリアミンおよびそれらの非環
状類縁体が挙げられる。該化合物は、金属イオンを有効
に取り込むことが知られているが、カチオン性有機分子
も有効に取り込むことができる。
【0071】その他の包接化合物として、尿素、チオ尿
素、デオキシコール酸、ジニトロジフェニル、ヒドロキ
ノン、o−トリチモチド、オキシフラバン、ジシアノア
ンミンニッケル、ジオキシトリフェニルメタン、トリフ
ェニルメタン、メチルナフタリン、スピロクロマン、ぺ
ルヒドロトリフェニレン、粘度鉱物、グラファイト、ゼ
オライト(ホージャサイト、チャバザイト、モルデナイ
ト、レビーナイト、モンモリロナイト、ハロサイト
等)、セルロース、アミロース、タンパク質等が挙げら
れる。
【0072】これらの包接化合物は、単体として添加し
てもよいが、包接化合物自身あるいは分子を取り込んだ
包接化合物の溶剤への溶解性、その他の添加剤との相溶
性を良好にするために包接能を有する置換基をポリマー
にペンダント置換基として懸垂させたポリマーを一緒に
添加してもよい。
【0073】該ポリマーは、例えば、特開平3−221
501号公報、特開平3−221502号公報、特開平
3−221503号公報、特開平3−221504号公
報、特開平3−221505号公報に開示されているよ
うな方法を用いて容易に得ることができる。
【0074】上記包接化合物のうち、環状および非環状
D−グルカン類、シクロファン類、および非環状シクロ
ファン類縁体が好ましい。更に具体的には、シクロデキ
ストリン、カリックスアレン、レゾルシノール−アルデ
ヒド環状オリゴマー、パラ置換フェノール類非環状オリ
ゴマーが好ましい。
【0075】また、最も好ましいものとして、シクロデ
キストリン及びその誘導体が挙げられ、このうちβ−シ
クロデキストリン及びその誘導体が更に好ましい。
【0076】これらの包接化合物の感光性組成物に占め
る割合が0.01〜10重量%が好ましく、0.1%〜
5重量%がより好ましい。
【0077】更に、本発明のポジ型感光性組成物層に
は、露光により可視画像を形成させるプリントアウト材
料を添加することができる。プリントアウト材料は、露
光により酸もしくは遊離基を生成する化合物と該生成さ
れた酸もしくは遊離基と相互作用することによってその
色調を変える有機染料より成るもので、露光により酸も
しくは遊離基を生成する化合物としては、例えば、特開
昭50−36209号公報に記載のo−ナフトキノンジ
アジド−4−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53−36
223号公報に記載のトリハロメチル−2−ピロンやト
リハロメチル−トリアジン、特開昭55−6244号公
報に記載のo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノール類ま
たはアニリンとのエステル化合物またはアミド化合物、
特開昭55−77742号公報、特開昭57−1487
84号公報等に記載のハロメチルビニルオキサジアゾー
ル化合物及びジアゾニウム塩等を挙げることができ、ま
た、有機染料としては、例えば、ビクトリアピュアーブ
ルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製)、パテントピュア
ーブルー(住友三国化学(株)製)、オイルブルー#6
03(オリエント化学工業(株)製)、スーダンブルー
II(BASF製)、クリスタルバイオレット、マラカイ
トグリーン、フクシン、メチルバイオレット、エチルバ
イオレット、メチルオレンジ、ブリリアントグリーン、
コンゴーレッド、エオシン、ローダミン66等を挙げる
ことができる。
【0078】また、本発明のポジ型感光性組成物層に
は、上記の素材の他、必要に応じて可塑剤、界面活性
剤、有機酸、酸無水物などを添加することができる。
【0079】さらに、本発明のポジ型感光性組成物層に
は、該感光性組成物の感脂性を向上させるために、例え
ば、p−tert−ブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂、p−n−オクチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂あるいはこれらの樹脂がo−キノンジアジド化合物で
部分的にエステル化されている樹脂などを添加すること
もできる。
【0080】本発明のポジ型感光性組成物層は、これら
の各成分よりなる感光性組成物を溶媒に溶解又は分散し
た塗布液を、支持体上に塗布し、乾燥することにより形
成することができる。
【0081】感光性組成物を溶解する際に使用し得る溶
媒としては、例えば、メチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブ
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、3−メトキシ−1−ブタノ
ール、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ア
ミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸
メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メ
チルシクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、アセチ
ルアセトン、γ−ブチロラクトン、ジエチルケトン、4
−ヒドロキシ−2−ブタノン等が挙げられる。これらの
溶媒は、単独であるいは2種以上を混合して使用するこ
とができる。
【0082】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、静電エア
ースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテ
ン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は用途によ
り異なるが、例えば、固形分として0.05〜5.0g
/m2の塗布量が好ましい。
【0083】次に、本発明の感光性平版印刷版を形成す
るのに用いられる支持体について説明する。
【0084】支持体は、通常の印刷機にセットできるた
わみ性を有し、印刷時に加わる荷重に耐えるものが好ま
しく、例えば、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ク
ロム、鉄、銅、ニッケル等の金属板、これらの金属の合
金板、クロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び
鉄等がメッキまたは蒸着によって被覆されている金属板
を用いることができる。これらのうち支持体として好ま
しいものは、アルミニウムまたはその合金を用いたもの
である。
【0085】アルミニウム合金としては種々のものが使
用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、
クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等の金属とアル
ミニウムとの合金が挙げられる。
【0086】アルミニウムまたはその合金等で形成され
た支持体は、通常、砂目立て処理に先立って支持体表面
に付着している圧延油等の油脂成分を除去するために脱
脂処理が行われる。脱脂処理としては、トリクレン、シ
ンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロンとトリエタ
ノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理
等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等の
アルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛
性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。
【0087】本発明の砂目立て処理は、機械的に表面を
粗面化するいわゆる機械的粗面化法、化学的に表面を選
択溶解させ粗面化するいわゆる化学的粗面化法、電気化
学的に表面を粗面化するいわゆる電気化学的粗面化法等
公知の方法を用いて行うことができる。
【0088】機械的粗面化法には、例えば、ボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
り、また、電気化学的粗面化法には、例えば、塩酸、硝
酸等を含む電解液中で交流あるいは直流によって電解処
理する方法がある。
【0089】本発明の砂目立て処理は、この内のいずれ
か1つの方法であるいは2つ以上の方法を併用して行う
ことができる。
【0090】砂目立て処理をして得られた支持体の表面
には、スマットが生成するので、このスマットを除去す
るために、適宜水洗あるいはアルカリエッチング等の処
理を行うことが一般に好ましい。このような処理として
は、例えば、特公昭48−28123号公報に記載され
ているアルカリエッチング法や特開昭53−12739
号公報に記載されている硫酸デスマット法等の処理方法
等が挙げられる。
【0091】上記の如く処理された支持体は、次に、陽
極酸化処理が施される。陽極酸化処理により耐摩耗性、
耐薬品性、保水性を向上させることができる。陽極酸化
処理には公知の方法を用いることができ、例えば、硫酸
および/または燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶
液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解す
る方法が好ましく用いられるが、他に米国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661
号明細書に記載されている燐酸を用いて電解する方法等
を用いることもできる。
【0092】陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ
て封孔処理を施してもよい。これらの封孔処理は、熱水
処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重ク
ロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム
処理等公知の方法を用いて行うことができる。
【0093】支持体はさらに、親水性層を設けることが
好ましい。親水性層の形成には、水溶性高分子、米国特
許第3,181,461号明細書に記載のアルカリ金属
珪酸塩、特開昭60−149491号公報、特開昭63
−165183号公報に記載のアミノ酸およびその塩、
特開昭60−232998号公報に記載の水酸基を有す
るアミン類およびその塩、特開昭62−19494号公
報に記載の燐酸塩、特開昭59−101651号公報に
記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合
物等を用いることができるが、本発明においては、下記
の化合物を用いるのが好ましい。 水溶性高分子 具体例としては、PVA(ポリビニルアルコール)、変
性PVA、PVAP(ポリビニルホスホン酸)、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルイミダゾリン等のビニル系
樹脂およびその誘導体;ポリアクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリヒドロキシエチルアクリレート等のアクリ
ル酸系共重合体;ポリエチレンイミン;マレイン酸共重
合体;ポリエチレングリコールポリオキシエチレン;ポ
リプロピレングリコール;ポリウレタン樹脂;ポリヒド
ロキシメチル尿素;ポリヒドロキシメチルメラミン樹
脂;可溶性デンプン;CMC(カルボキシメチルセルロ
ース);ヒドロキシエチルセルロース;グアーガム;ト
ラガントゴム;キサンタンガム;アルギン酸ソーダ;ゼ
ラチン等が挙げられる。 少なくとも1つのアミノ基と、2つ以上の
【0094】
【化11】 より選ばれた基とを有する化合物またはその塩 上記ホスホン酸基を有する化合物またはその塩として
は、例えば、1−アミノエタン−1,1−ジホスホン
酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジホス
ホン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホスホ
ン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホスホン
酸、1−ジメチルアミノメタン−1,1−ジホスホン
酸、1−プロピルアミノエタン−1,1−ジホスホン
酸、1−ブチルアミノメタン−1,1−ジホスホン酸、
アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミノペン
タメチレンホスホン酸、エチレンジアミノテトラメチレ
ンホスホン酸、ジエチレントリアミノペンタメチレンホ
スホン酸、アミノトリ(2−プロピレン−2−ホスホン
酸)及びこれらの化合物の塩酸塩、蟻酸塩、シュウ酸塩
等が挙げられ、ホスフィン酸基を有する化合物またはそ
の塩としては、上記ホスホン酸基を有する化合物のホス
ホン酸基をホスフィン酸基に変えた化合物またはこれら
の化合物の塩、例えば、アミノトリメチレンホスフィン
酸等が挙げられ、燐酸基を有する化合物またはその塩と
しては、上記ホスホン酸基を有する化合物のホスホン酸
基を燐酸基に変えた化合物またはこれらの化合物の塩、
例えば、アミノトリメチレン燐酸等が挙げられる。 少なくとも1つのアミノ基と、カルボキシル基または
スルホン基とを有する化合物またはその塩 具体例としては、アミノ酢酸、リジン、スレオニン、セ
リン、アスパラギン酸、パラヒドロキシフェニルグリシ
ン、ジヒドロキシエチルグリシン、アントラニル酸、ト
リプトファン、アルギニン等のアミノ酸、スルファミン
酸、シクロヘキシルスルファミン酸等の脂肪族アミノス
ルホン酸等及びこれらの化合物の塩酸塩、蟻酸塩、シュ
ウ酸塩等が挙げられる。 少なくとも1つのアミノ基と少なくとも1つのヒドロ
キシル基とを有する化合物またはその塩 具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリメタノールアミン、トリプロパノールアミ
ン、トリエタノールアミン及びそれらの化合物の塩酸
塩、蟻酸塩、シュウ酸塩等が挙げられる。 少なくとも2つのアミノ基を有するアルカンまたはそ
の塩アルカンには、直鎖、分岐、環状のものも含まれ
る。
【0095】特に好ましいものは、NH2−(CH2n
−NH2(nは2〜10の整数を示す)である。
【0096】具体例としては、エチレンジアミン、1,
3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,
2−ジアミノプロパン、1,2−ジアミノ−2−メチル
プロパン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミ
ノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,2−ジア
ミノシクロヘキサン、1,8−ジアミノオクタン、1,
9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン及びそ
れらの化合物の塩酸塩、蟻酸塩、シュウ酸塩等が挙げら
れる。
【0097】本発明のポジ型感光性平版印刷版は、通常
の方法で露光、現像処理することにより製版することが
できる。例えば、線画像、網点画像などを有する透明原
画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像
液を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレ
リーフ像が得られる。
【0098】露光に好適な光源としては、水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、
カーボンアーク灯などが挙げられる。また、現像に使用
される現像液、現像補充液としては、アルカリ水溶液が
好ましく、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム等の
アルカリ金属珪酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等の水溶液のようなアルカ
リ水溶液を用いることができる。
【0099】本発明において、感光性平版印刷版の現像
に用いられる現像液、現像補充液は何れもアルカリ金属
珪酸塩を含むものである。アルカリ金属珪酸塩のアルカ
リ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが含
まれるが、このうちカリウムが最も好ましい。
【0100】現像の際、感光性平版印刷版の現像処理量
に合わせて、適当に現像補充液が補充されることが好ま
しい。
【0101】好ましい現像液、現像補充液は、〔SiO
2〕/〔M〕(式中、〔SiO2〕はSiO2のモル濃度
を示し、〔M〕はアルカリ金属のモル濃度を示す)が
0.15〜1.0であり、SiO2濃度が総重量に対し
て0.5〜5.0重量%であるアルカリ金属珪酸塩の水
溶液である。また、特に好ましくは、現像液の〔SiO
2〕/〔M〕が0.25〜0.75であり、SiO2濃度
が1.0〜4.0重量%、現像補充液の〔SiO2〕/
〔M〕が0.15〜0.5であり、SiO2濃度が1.
0〜3.0重量%である。
【0102】現像液、現像補充液のpHは、好ましくは
12〜13.8である。
【0103】上記現像剤、現像補充剤には、水溶性又は
アルカリ可溶性の有機および無機の還元剤を含有させる
ことができる。
【0104】有機の還元剤としては、例えば、ハイドロ
キノン、メトール、メトキシキノン等のフェノール化合
物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジン等のアミ
ン化合物を挙げることができ、無機の還元剤としては、
例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸ア
ンモニウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウ
ム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸カリウ
ム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウム、
亜リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸水素二カリウム等
の亜リン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸ナトウム、亜ジチ
オン酸ナトリウム等を挙げることができる。
【0105】これら水溶性又はアルカリ可溶性還元剤
は、現像液、現像補充液に0.05〜10重量%を含有
させることができる。
【0106】また、現像剤、現像補充剤には、有機酸カ
ルボン酸を含有させることができる。
【0107】これら有機酸カルボン酸には、炭素原子数
6〜20の脂肪族カルボン酸、およびベンゼン環または
ナフタレン環にカルボキシル基が置換した芳香族カルボ
ン酸が包含される。
【0108】脂防族カルボン酸としては、炭素数6〜2
0のアルカン酸が好ましく、具体的な例としては、カプ
ロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カ
プリン酸、ラウリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、特に好ましいのは、炭素数
6〜12のアルカン酸である。また、脂防族カルボン酸
は、炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸であっても、枝
分れした炭素鎖を有する脂肪酸であってもよい。上記脂
肪族カルボン酸はナトリウムやカリウムの塩またはアン
モニウム塩として用いてもよい。
【0109】芳香族カルボン酸の具体的な化合物として
は、安息香酸、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香
酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−tert−ブチル安息香酸、o−アミノ安息香
酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香
酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−
ナフトエ酸等が挙げられる。
【0110】上記芳香族カルボン酸はナトリウムやカリ
ウムの塩またはアンモニウム塩として用いてもよい。
【0111】脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含
有量は少なくとも0.1〜30重量%を含有させること
ができる。
【0112】また、現像剤、現像補充剤には、下記のよ
うなアニオン型、ノニオン型、カチオン型の各界面活性
剤及び有機溶媒を含有させることができる。
【0113】アニオン型界面活性剤としては、高級アル
コール(C6〜C22)硫酸エステル塩類〔例えば、ラウ
リルアルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチル
アルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアル
コールサルフェートのアンモニウム塩、「Τeepol
−81」(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムア
ルキルサルフェ一トなど〕、脂肪族アルコールリン酸エ
ステル塩類(例えば、セチルアルコールリン酸エステル
のナトリウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩
類(例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム
塩、ジナフタリンジスルホン酸のナリトウム塩、メタニ
トロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキ
ルアミドのスルホン酸塩類(例えば、C1733CON
(CH3)CH2SO3Naなど)、二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウムスルホコハ
ク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジ
ヘキシルエステルなど)が挙げられる。これらの中でも
特に、スルホン酸塩類が好適に用いられる。
【0114】ノニオン型界面活性剤としては、ポリエチ
レングリコール型と多価アルコール型のいずれをも用い
ることができる。
【0115】ノニオン型界面活性剤としては、例えば、
下記一般式〔1〕〜〔8〕で表される化合物が挙げられ
る。
【0116】
【化12】 一般式〔1〕〜〔8〕式において、Rは水素原子又は1
価の有機基を表し、a、b、c、m、n、x及びyは各
々1〜40の整数を表す。
【0117】Rで表される有機基としたは、例えば、直
鎖もしくは分岐の炭素数1〜30のアルキル基、置換基
〔例えば、アリール基(フェニル等)〕を有するアルキ
ル基、アルキル部分が直鎖もしくは分岐の炭素数1〜3
0のアルキル基であるアルキルカルボニル基、置換基
(例えば、ヒドロキシル基、上記のようなアルキル基
等)を有していてもよいフェニル基等が挙げられる。
【0118】ノニオン型界面活性剤の具体例を次に示
す。
【0119】ポリエチレングリコール、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエー
テル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンセチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンベヘニル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルアミン、ポリオキシエチレ
ンオレイルアミン、ポリオキシエチレンステアリン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンオレイン酸アミド、ポリオキ
シエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレンアビエチルエ
ーテル、ポリオキシエチレンラノリンエーテル、ポリオ
キシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノ
ステアレート、ポリオキシエチレングリセリルモノオレ
ート、ポリオキシエチレングリセリルモノステアレー
ト、ポリオキシエチレンプロピレングリコールモノステ
アレート、オキシエチレンオキシプロピレンブロックポ
リマー、ジスチレン化フェノールポリエチレンオキシド
付加物、トリベンジルフェノールポリエチレンオキシド
付加物、オクチルフェノールポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレン付加物、グリセロールモノステアレー
ト、ソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノラウレート等。
【0120】ノニオン型界面活性剤の重量平均分子量は
300〜10000の範囲が好ましい。ノニオン型界面
活性剤の現像液中の濃度は少なくとも0.001〜10
重量%であることができる。
【0121】カチオン型界面活性剤はアミン型と第四ア
ンモニウム塩型に大別されるが、これらの何れをも用い
ることができる。
【0122】アミン型の例としては、ポリオキシエチレ
ンアルキルアミン、N−アルキルプロピレンアミン、N
−アルキルポリエチレンポリアミン、N−アルキルポリ
エチレンポリアミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニ
ド、長鎖アミンオキシド、アルキルイミダゾリン、1−
ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダゾリン、1−ア
セチルアミノエチル−2−アルキルイミダゾリン、2−
アルキル−4−メチル−4−ヒドロキシメチルオキサゾ
リン等が挙げられる。
【0123】また、第四アンモニウム塩型の例として
は、長鎖第1アミン塩、アルキルトリメチルアンモニウ
ム塩、ジアルキルジメチルエチルアンモニウム塩、アル
キルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アルキル
キノリニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、アルキ
ルピリジニウム硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウ
ム塩、アシルアミノエチルジエチルアミン塩、アシルア
ミノエチルメチルジエチルアンモニウム塩、アルキルア
ミドプロピルジメチルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸
ポリエチレンポリアミド、アシルアミノエチルピリジニ
ウム塩、アシルコラミノホルミルメチルピリジニウム
塩、ステアロオキシメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリ
エタノールアミン、脂肪酸トリエタノールアミンギ酸
塩、トリオキシエチレン脂肪酸トリエタノールアミン、
脂肪酸ジブチルアミノエタノール、セチルオキシメチル
ピリジニウム塩、p−イソオクチルフェノキシエトキシ
エチルジメチルべンジルアンモニウム塩等が挙げられ
る。(上記化合物の例の中の「アルキル」とは炭素数6
〜20の、直鎖または一部置換されたアルキルを示し、
具体的には、ヘキシル、オクチル、セチル、ステアリル
等の直鎖アルキルが好ましく用いられる。)また、カチ
オン成分を区り返し単位として有する重合体のカチオン
型界面活性剤、例えば、親油性モノマーと共重合して得
られた第四アンモニウム塩を含む重合体も含有させるこ
とができる。
【0124】カチオン型界面活性剤の現像液への添加量
は少なくとも0.001〜10重量%の範囲であること
ができる。
【0125】又、重量平均分子量は少なくとも300〜
50000の範囲のものを用いることができる。
【0126】界面活性剤としては、分子内にパーフルオ
ロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤を用いる
ことが好ましい。かかるフッ素系界面活性剤としては、
パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアル
キルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステ
ルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインな
どの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニ
ウム塩などカチオン型およびパーフルオロアルキルアミ
ンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド
付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有オ
リゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有
オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および
親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基およ
び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられ
る。
【0127】上記の界面活性剤は、単独でもしくは2種
以上を組み合わせて使用することができる。
【0128】有機溶媒としては、20℃における水に対
する溶解度が10重量%以下のものが好ましく、例え
ば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベン
ジル、エチレングリコールモノブチルアセート、乳酸ブ
チル、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル;
エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類;エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテ
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、メチルフェニルカルビノール、n−アミ
ルアルコール、メチルアミルアルコールのようなアルコ
ール類;キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水
素;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モ
ノクロルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素などが挙
げられる。
【0129】これらの有機溶媒は、単独でもしくは2種
以上を組み合わせて使用することができる。
【0130】また、現像剤、現像補充剤には、現像性能
を高めるために以下のような添加剤を加えることができ
る。これらの添加剤としては、例えば、特開昭58−7
5152号公報記載のNaCl、KCl、KBr等の中
性塩、特開昭59−190952号公報記載のEDT
A,NTA等のキレート剤、特開昭59−121336
号公報記載の〔Co(NH3)〕6、Cl3等の錯体、特
開昭56−142528号公報記載のビニルベンジルト
リメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ナトリウ
ムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭58−59
444号公報記載の塩化リチウム等の無機リチウム化合
物、特公昭50−34442号公報記載の安息香酸リチ
ウム等の有機リチウム化合物、特開昭59−75255
号公報記載のSi,Ti等を含む有機金属界面活性剤、
特開昭59−84241号公報記載の有機硼素化合物が
挙げられる。
【0131】更に、現像剤、現像補充剤には、公知の添
加剤を添加することができる。
【0132】
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例1 [支持体1の作成]厚さ0.3mmのアルミニウム板(材
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、
水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間
浸漬し中和し、さらに水洗した。このアルミニウム板を
1.0重量%の塩酸水溶液中において、温度25℃、電
流密度100A/dm2、処理時間60秒の条件で交流電
流により電解粗面化を行った。次いで、5%水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
行い、その後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電流
密度3A/dm2、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を
行った。その後、80℃に保たれた1%亜硝酸ナトリウ
ム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃で3分間乾燥
した。更に、85℃に保たれたカルボキシメチルセルロ
ースの水溶液(濃度0.1重量%)に30秒浸漬した
後、80℃で5分間乾燥し、支持体1を作成した。 [支持体2の作成]厚さ0.3mmのアルミニウム板(材
質1050、調質H16)を、65℃に保たれた5%水
酸化ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、
水洗し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間
浸漬し中和し、さらに水洗した。このアルミニウム板を
1.0重量%の塩酸水溶液中において、温度25℃、電
流密度100A/dm2、処理時間60秒の条件で交流電
流により電解粗面化を行った。次いで、5%水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
行い、その後、20%硫酸溶液中で、温度20℃、電流
密度3A/dm2、処理時間1分の条件で陽極酸化処理を
行った。その後、80℃に保たれた1%亜硝酸ナトリウ
ム水溶液中に30秒浸漬し、水洗後80℃で3分間乾燥
し、支持体2を作成した。
【0133】[感光性平版印刷版試料の作成]支持体1
上に、表1に記載の下記の塗布液をワイヤーバーを用い
て塗布し、80℃で2分間乾燥し、感光性平版印刷版試
料〜及び感光性平版印刷版比較試料、を得た。 (塗布液1) ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が10 /54/36、重量平均分子量4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(表1に示す重量平均分子量)とo−ナフトキノン ジアジド−5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g 表1に示す包接化合物 0.2g メチルセロソルブ 100ミリリットル
【0134】 (塗布液2) ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が10 /54/36、重量平均分子量4000) 6.7g m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子量3000)とo−ナフトキ ノンジアジド−5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g 表1に示す包接化合物 0.2g メチルセロソルブ 100ミリリットル
【0135】
【表1】
【0136】
【化13】
【0137】上記試料〜及び比較試料、につい
て、下記の評価方法により感度、フィルムエッジ部分の
消去性、耐刷力を評価した。 [評価方法] 〈感度の評価〉試料に感度測定用ステップタブレット
(イーストマンコダック社製 No.2、濃度差0.15ず
つで21段階のグレースケール)を密着して、4kWメ
タルハライドランプ(大日本スリーン(株)製 Vio Qui
ck)を光源として90cmの距離から露光した。次に、こ
の試料を下記現像液Aで30℃にて12秒間現像した。
【0138】上記ステップタブレットの3.0段が完全
にクリアになる露光時間をもって感度とした。
【0139】〈フィルムエッジ部分の消去性の評価〉感
光性平版印刷版に感度測定用ステップタブレット(イー
ストマンコダック社製 No.2、濃度差0.15ずつで2
1段階のグレースケール)を密着して、4kWメタルハ
ライドランプ(大日本スリーン(株)製 Vio Quick)を
光源として90cmの距離から露光した。次に、この試料
を下記現像液Bで現像温度30℃、現像時間12秒で現
像をし水洗した。更に、消去液(SIR−16、コニカ
(株)製)によりステップ部を消去した。得られた印刷
版に現像インキ(SPO−1、コニカ社製)盛りをし、
消去性を下記の評価基準で評価した。
【0140】評価基準 ○…インキがつかない ×…インキがつく
【0141】〈耐刷力の評価〉試料に感度測定用ステッ
プタブレット(イーストマンコダック社製 No.2、濃度
差0.15ずつで21段階のグレースケール)を密着し
て、4kWメタルハライドランプ(大日本スリーン
(株)製 Vio Quick)を光源として90cmの距離から露
光した。次に、この試料を下記現像液Aで30℃、12
秒間現像した。
【0142】得られた平版印刷版をハイデルベルグ
(株)製印刷機GTOにかけ、コート紙,印刷インキ
(東洋インキ製造(株)製 ニューブライト紅)及び湿
し水(コニカ(株)製 SEU−3;2.5%)を使用
し印刷を行い、印刷物の画像部のベタ部に着肉不良が現
れるかまたは非画像部にインキが着肉するまで印刷を続
け、その時の印刷枚数を数えた。
【0143】 [現像液処方] 〈現像液Aの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 75g 水酸化カリウム水溶液(50%) 55g 純水 850g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.55 SiO2(重量%) 2.0 pH=12.8 〈現像液Bの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 110g 水酸化カリウム水溶液(50%) 90g 純水 800g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.50 SiO2(重量%) 3.0 pH=13.0 評価結果を表2に示す。
【0144】
【表2】
【0145】実施例2 [感光性平版印刷版試料の作成]実施例1記載の支持体
1又は2に、下記の塗布液3又は塗布液4を、表3に示
すように、ワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分
間乾燥し、感光性平版印刷版試料、及び比較試料
を得た。 (塗布液3) ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール のモル比が10/54/36、重量平均分子量4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(重量平均分子量3000)とo−ナフトキノン ジアジド−5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル) −s−トリアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン 0.2g メチルセロソルブ 100ミリリットル (塗布液4) ノボラック樹脂(フェノール/m−クレゾール/p−クレゾールのモル比が10 /54/36で重量平均分子量が4000) 6.7g ピロガロールアセトン樹脂(重量平均分子量3000)とo−ナフトキノンジアジ ド−5−スルホニルクロリドの縮合物(エステル化率30%) 1.5g ポリエチレングリコール#2000 0.2g ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシスチリル)−s−ト リアジン 0.15g FC−430(住友3M(株)製) 0.03g cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 0.2g メチルセロソルブ 100ミリリットル
【0146】
【表3】 得られた試料に感度測定用ステップタブレットの入った
原稿フィルムを密着して、4kWメタルハライドランプ
(大日本スクリーン(株)製 Vio Quick)を光源として
90cmの距離から25秒間露光した。この試料を下記の
現像液A、C、D、Eを用いて、100m2/リットルま
でランニング処理を行った。その際、常にグレースケー
ルの段数が4段になるように下記の現像補充液A、C、
D、Eを補充した。
【0147】 [現像液処方] 〈現像液Aの処方〉 実施例1記載の現像液Aの処方 〈現像液Cの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 180g 水酸化カリウム水溶液(50%) 40g 純水 750g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.9 SiO2(重量%) 5.0 pH=12.5
【0148】 〈現像液Dの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 30g 水酸化カリウム水溶液(50%) 28g プロピレングリコール 20g p−tert−ブチル安息香酸 5g トリエタノールアミン 10g 亜硫酸カリウム水溶液(50%) 30g ペレックスNBL 5g EDTA 0.5g グルコン酸水溶液(50%) 10g エマルゲン147(花王(株)製) 2g 純水 800g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.4 SiO2(重量%) 0.8 pH=12.9
【0149】 〈現像液Eの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 240g 水酸化カリウム水溶液(50%) 100g 純水 660g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.85 SiO2(重量%) 6.5 pH=12.8
【0150】 [現像補充液処方] 〈現像補充液Aの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 40g 水酸化カリウム水溶液(50%) 90g 活性剤1 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.2 SiO2(重量%) 1.0 pH=13.3
【0151】 〈現像補充液Cの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 170g 水酸化カリウム水溶液(50%) 140g 純水 700g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.4 SiO2(重量%) 4.5 pH=13.8
【0152】 〈現像補充液Dの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 30g 水酸化カリウム水溶液(50%) 56g プロピレングリコール 19g p−tert−ブチル安息香酸 10g トリエタノールアミン 15g 亜硫酸カリウム水溶液(50%) 65g ペレックスNBL 5g EDTA 0.5g グルコン酸水溶液(50%) 9g エマルゲン147(花王(株)製) 2g 純水 700g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.25 SiO2(重量%) 0.9 pH=13.4
【0153】 〈現像補充液Eの処方〉 A珪酸カリウム水溶液(日本化学工業(株)製) 225g 水酸化カリウム水溶液(50%) 190g 純水 580g 〔SiO2〕/〔K〕(モル比) 0.5 SiO2(重量%) 6.0 pH=13.3 各試料について、PS版用自動現像処理機PSZ−91
0(コニカ(株)製)で、表4に示す現像液及び現像補
充液により感度を一定に保ちながら、100m2/リット
ル処理を行なった。100m2/リットル処理後、各試料
について実施例1と同様にしてフィルムエッジ部分の消
去性を評価し、また、下記の評価方法により、析出物の
重量を測定し、析出物発生状況を評価した。
【0154】得られた結果を表4に示す。 [評価方法] 〈析出物重量の測定〉各試料の10m2/リットル処理時
の処理疲労液100ミリリットルをとりわけ、2週間放
置したのち、吸引ろ過によりろ過を行い、ろ紙に残った
析出物を十分洗浄した後、乾燥して重量を測定した。
【0155】〈析出物発生状況の評価〉100m2/リッ
トル処理後、自動現像機の洗浄を行なった際の、槽内の
析出物発生状況及び流し易さを目視で評価した。 評価基準 ○…槽内に析出物の発生がほとんど認められず、水洗浄
で容易に流れ落ちる △…槽内に析出物の発生が認められるが、水洗浄で流れ
落ちる ×…槽内に析出物の発生が多量に認められ、水洗浄で落
とすのが困難である
【0156】
【表4】
【0157】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、耐刷力低
下がなく、良好な感度を有し、かつ、長期間にわたる繰
り返し現像処理においても、現像性が良好で、原稿のフ
ィルムエッジ部分の消去が可能であり、また現像液浴中
に析出物の発生がない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松原 真一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 佐々木 充 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 太田 勝子 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 松尾 史之 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 砂目立て処理及び陽極酸化処理を施した
    支持体に、o−キノンジアジド化合物、アルカリ可溶性
    樹脂、及び包接化合物を含有するポジ型感光性組成物層
    を設けたことを特徴とする感光性平版印刷版。
  2. 【請求項2】 o−キノンジアジド化合物が、o−キノ
    ンジアジド基を有する分子量3000以上の重縮合樹脂
    であることを特徴とする請求項1記載の感光性平版印刷
    版。
  3. 【請求項3】 o−キノンジアジド化合物が、o−キノ
    ンジアジド基を有するピロガロールとアルデヒド類また
    はケトン類との重縮合樹脂であることを特徴とする請求
    項1または2記載の感光性平版印刷版。
  4. 【請求項4】 包接化合物が、環状D−グルカン類、シ
    クロファン類から選ばれる少なくとも1つであることを
    特徴とする請求項1〜3記載の感光性平版印刷版。
  5. 【請求項5】 包接化合物が、シクロデキストリン、シ
    クロデキストリン誘導体から選ばれる少なくとも1つで
    ある請求項1〜4記載の感光性平版印刷版。
  6. 【請求項6】 シクロデキストリン、シクロデキストリ
    ン誘導体におけるシクロデキストリンがβ型シクロデキ
    ストリンであること特徴とする請求項5記載の感光性平
    版印刷版。
  7. 【請求項7】 支持体が、砂目立て処理及び陽極酸化処
    理、封孔処理した後、親水性層を設けたものであること
    を特徴とした請求項1〜6記載の感光性平版印刷版。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7記載のポジ型感光性平版印
    刷版を、画像露光し、次いでアルカリ金属珪酸塩を含む
    現像剤で現像処理することを特徴とする製版方法。
  9. 【請求項9】 現像処理を、〔SiO2〕/〔M〕
    (〔SiO2〕はSiO2のモル濃度を示し、〔M〕はア
    ルカリ金属のモル濃度を示す。)が0.15〜1.0で
    あり、SiO2濃度が総重量に対して0.5〜5.0重
    量%である現像液及び/または現像補充液を用いて行な
    うことを特徴とする請求項8記載の感光性平版印刷版の
    製版方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0774692A2 (en) 1995-11-17 1997-05-21 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive recording material for the production of planographic printing plates
WO2022049911A1 (ja) * 2020-09-01 2022-03-10 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0774692A2 (en) 1995-11-17 1997-05-21 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive recording material for the production of planographic printing plates
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