JPH07110914A - Magnetic head - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To make possible the upgrading of resistance to wearing by allowing the obtaining of a high head output even when a magnetic metal material with a general magnetic permeability of about 2,000 is used. CONSTITUTION:In a magnetic head, a pair of magnetic core half bodies 7 and 8 which is made up of metal magnetic films 1 and 2 pinched from the direction of the thickness of the films with a pair of non-magnetic substrates 3 and 5 and 4 and 6 are joined integral with the metal magnetic films 1 and 2 butting together and a magnetic gap (g) is formed between the butted surface of the metal magnetic films 1 and 2. A track width Tw of the magnetic gap (g) is regulated with a track width regulation grooves 10a, 10b, 11a and 11b. The metal magnetic films 1 and 2 cross so askew to the direction M of the magnetic head runs as to be linked almost linearly with 5 deg.<=theta1<=15 deg. satisfied by angle theta1 between the metal magnetic films 1 and 2 and the direction M of the magnetic head runs. Here, the track width Tw may be Tw<=13mum and an azimuth angle theta2 be 20 deg.<=theta2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等に用いられる磁気ヘッドに関するものであり、特に金
属磁性膜を一対の基板で挟持した一対の磁気コア半体を
接合一体化させてなる、いわゆる、ラミネートタイプの
磁気ヘッドの改良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used in a video tape recorder or the like, and in particular, a pair of magnetic core halves each having a metallic magnetic film sandwiched between a pair of substrates are joined and integrated. The present invention relates to improvement of a so-called laminate type magnetic head.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、ビデオテープレコーダー（ＶＴ
Ｒ）等に用いられ、高密度記録再生を行うことを可能と
する磁気ヘッドとして、厚さ１〜５μｍ程度の磁性金属
薄膜を厚さ１００〜２００ｎｍ程度の絶縁膜と交互に積
層した金属磁性膜を磁気コアとする磁気ヘッドが実用に
供せられている。上記磁気ヘッドとしては、例えば、図
２０に示すように、セラミクス，結晶化ガラス等の非磁
性基板１０１，１０２，１０５，１０６によって前述の
積層磁性膜である金属磁性膜１０３，１０７を挟み込ん
だ磁気コア半体１０４，１０８を、金属磁性膜１０３，
１０７を突き合わせるようにして接合一体化した、いわ
ゆるラミネートタイプの磁気ヘッドが知られている。2. Description of the Related Art In recent years, video tape recorders (VT
R), etc., as a magnetic head capable of performing high-density recording / reproducing, a metal magnetic film in which a magnetic metal thin film having a thickness of about 1 to 5 μm and an insulating film having a thickness of about 100 to 200 nm are alternately laminated. A magnetic head having a magnetic core is used for practical use. As the magnetic head, for example, as shown in FIG. 20, a magnetic layer in which the metal magnetic films 103 and 107 which are the above-mentioned laminated magnetic films are sandwiched by non-magnetic substrates 101, 102, 105 and 106 such as ceramics and crystallized glass. The core halves 104, 108 are connected to the metal magnetic film 103,
There is known a so-called laminate type magnetic head in which 107 are abutted and integrated so as to abut each other.

【０００３】上記ラミネートタイプの磁気ヘッドにおい
ては、金属磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギャップが形
成され、該金属磁性膜の幅が磁気ギャップのトラック幅
となることから、挟トラック化が可能であり、高密度記
録再生が達成される。In the above-mentioned laminate type magnetic head, a magnetic gap is formed between the abutting surfaces of the metal magnetic film, and the width of the metal magnetic film becomes the track width of the magnetic gap, so that a narrow track can be formed. , High density recording / reproducing is achieved.

【０００４】しかしながら、かかる磁気ヘッドにおい
て、さらなる高密度記録再生を達成するためにトラック
幅をさらに狭くする、すなわち金属磁性膜の幅をさらに
狭めて行くと、磁路を構成するコア断面積の減少によっ
てヘッド効率が劣化してヘッド出力が低下する。例え
ば、一般的な透磁率２０００程度の磁性金属材料を使用
し、トラック幅を変化させて磁気ヘッドを作製した場合
のトラック幅とヘッド効率の関係のシミュレーション結
果を図２１中に実線にて示すが、図２１を見て明らかな
ように、トラック幅が３０μｍ程度のときはヘッド効率
が５５％であるが、トラック幅が１０μｍ程度のときは
ヘッド効率が３５％と著しく劣化しており、このような
傾向はトラック幅を１３μｍ以下とした場合に特に顕著
である。なお、図中横軸はトラック幅を示し、縦軸はヘ
ッド効率を示す。However, in such a magnetic head, if the track width is further narrowed, that is, the width of the metal magnetic film is further narrowed in order to achieve higher density recording / reproducing, the cross-sectional area of the core forming the magnetic path is reduced. As a result, the head efficiency deteriorates and the head output decreases. For example, a simulation result of the relationship between the track width and the head efficiency when a magnetic head is manufactured by using a magnetic metal material having a general magnetic permeability of about 2000 and changing the track width is shown by a solid line in FIG. As is apparent from FIG. 21, when the track width is about 30 μm, the head efficiency is 55%, but when the track width is about 10 μm, the head efficiency is significantly deteriorated to 35%. This tendency is particularly remarkable when the track width is 13 μm or less. In the figure, the horizontal axis represents the track width and the vertical axis represents the head efficiency.

【０００５】これに対し、上記のような金属磁性膜を構
成する磁性金属材料を透磁率が４０００〜６０００程度
の高透磁率のものとすることが提案されている。例え
ば、透磁率４０００，６０００程度の高透磁率磁性金属
材料を用い、トラック幅を変化させて磁気ヘッドを作製
した場合のトラック幅とヘッド効率の関係のシミュレー
ション結果を図２１中に併せて示す。なお、図中破線は
透磁率４０００の磁性金属材料を用いた磁気ヘッドの結
果を示し、図中一点鎖線は透磁率６０００の磁性金属材
料を用いた磁気ヘッドの結果を示す。図２１を見て明ら
かなように、高透磁率磁性金属材料を用いた磁気ヘッド
においては、トラック幅が１３μｍ以下となってもヘッ
ド効率の劣化が少ない。従って、該高透磁率磁性金属材
料を用いることで挟トラック化した場合においても高ヘ
ッド効率が期待できる。On the other hand, it has been proposed that the magnetic metal material forming the above-mentioned metal magnetic film should have a high magnetic permeability of about 4000 to 6000. For example, FIG. 21 also shows a simulation result of the relationship between the track width and the head efficiency when a magnetic head is manufactured by using a high magnetic permeability magnetic metal material having a magnetic permeability of about 4000 and 6000 and changing the track width. In the figure, the broken line shows the result of the magnetic head using the magnetic metal material having the magnetic permeability of 4000, and the alternate long and short dash line shows the result of the magnetic head using the magnetic metal material having the magnetic permeability of 6000. As is apparent from FIG. 21, in the magnetic head using the high-permeability magnetic metal material, the head efficiency is less deteriorated even when the track width is 13 μm or less. Therefore, high head efficiency can be expected even when a narrow track is formed by using the high magnetic permeability magnetic metal material.

【０００６】しかしながら、上記のような高透磁率の磁
性金属材料を安定して量産することは現在の製造技術に
おいては困難であり、該磁性金属材料を上記のような磁
気ヘッドの金属磁性膜に使用することは不可能である。However, it is difficult in the current manufacturing technology to stably mass-produce the above-mentioned magnetic metal material having high magnetic permeability, and the magnetic metal material is used as the metal magnetic film of the magnetic head as described above. It is impossible to use.

【０００７】そこで、一般的な透磁率２０００程度の磁
性金属材料を使用し、トラック幅を１３μｍ以下と、挟
トラック化した場合にもヘッド効率が良好で高ヘッド出
力が得られるように磁気ヘッドの構造を改良することが
提案されている。Therefore, a general magnetic metal material having a magnetic permeability of about 2000 is used, and the track width is 13 μm or less, so that the head efficiency is good and a high head output can be obtained even when a narrow track is formed. It has been proposed to improve the structure.

【０００８】上記のような改良の施された磁気ヘッド
は、図２２に示すように、セラミクス，結晶化ガラス等
の非磁性基板１１１，１１２，１１５，１１６によって
金属磁性膜１１３，１１７を挟み込んだ磁気コア半体１
１４，１１８を、金属磁性膜１１３，１１７を突き合わ
せるようにして接合一体化したものであり、金属磁性膜
１１３，１１７の突き合わせ面間には磁気ギャップｇ₂
が形成されている。そして、磁気コア半体１１４，１１
８の媒体摺動面１１４ａ，１１８ａの磁気ギャップｇ₂
近傍には金属磁性膜１１３，１１７の幅を規制し、上記
磁気ギャップｇ₂のトラック幅Ｔｗ₂ を所定のトラック
幅に規制するトラック幅規制溝１１９，１２０，１２
１，１２２が形成されている。In the magnetic head improved as described above, as shown in FIG. 22, the metal magnetic films 113 and 117 are sandwiched by non-magnetic substrates 111, 112, 115 and 116 such as ceramics and crystallized glass. Magnetic core half 1
14 and 118 are joined and integrated so that the metal magnetic films 113 and 117 are butted. The magnetic gap g ₂ is provided between the butted surfaces of the metal magnetic films 113 and 117.
Are formed. And the magnetic core halves 114, 11
No. 8 magnetic sliding surface 114a, 118a magnetic gap g ₂
In the vicinity regulates the width of the metal magnetic layer 113 and 117, the magnetic gap g ₂ of the track width regulating grooves to regulate the track width Tw ₂ to a predetermined track width 119,120,12
1, 122 are formed.

【０００９】このため、上記磁気ヘッドの磁路を構成す
る金属磁性膜１１３，１１７の膜厚方向の幅は、磁気ギ
ャップｇ₂ 近傍においてはトラック幅Ｔｗ₂ と同一の幅
となり、残りの部分においては広くなってコア断面積が
大きくなる。従って、上記磁気ヘッドにおいては十分な
ヘッド効率が得られ、高ヘッド出力が得られる。なお、
トラック幅規制溝１１９，１２１間および１２０，１２
２間にはそれぞれガラス等の非磁性材料１２３，１２４
が充填されている。Therefore, the width in the film thickness direction of the metal magnetic films 113 and 117 forming the magnetic path of the magnetic head is the same as the track width Tw _{2 in the} vicinity of the magnetic gap g ₂ and in the remaining portions. Becomes wider and the core cross-sectional area increases. Therefore, in the above magnetic head, sufficient head efficiency can be obtained and high head output can be obtained. In addition,
Between track width regulating grooves 119 and 121 and 120 and 12
Between the two, non-magnetic material 123, 124 such as glass
Is filled.

【００１０】上記のことを確認すべく、図２０に示すよ
うな従来の磁気ヘッドと図２２に示す上記磁気ヘッドを
透磁率２０００程度の磁性金属材料を用いて作製し、こ
れらの周波数に対するヘッド出力（相対出力）を測定し
た結果を図２３に示す。なお、図中横軸は周波数を示
し、図中縦軸は相対出力を示し、図中破線は図２０に示
す磁気ヘッドの結果を示し、図中実線は図２２に示す磁
気ヘッドの結果を示す。また、各磁気ヘッドのトラック
幅は１３μｍとし、図２２に示す磁気ヘッドの磁気ギャ
ップｇ₂ 近傍以外の金属磁性膜１１３，１１７の膜厚方
向の幅は３０μｍとした。図２３の結果から、図２２に
示す磁気ヘッドにおいては、金属磁性膜１１３，１１７
の磁気ギャップｇ₂ 近傍以外の膜厚方向の幅を広くして
いることから、コア断面積が十分に確保され、ヘッド効
率が高まりヘッド出力が向上していることが確認され
た。In order to confirm the above, the conventional magnetic head as shown in FIG. 20 and the magnetic head as shown in FIG. 22 are manufactured by using a magnetic metal material having a magnetic permeability of about 2000, and the head output for these frequencies is produced. The result of measuring (relative output) is shown in FIG. The horizontal axis in the figure represents frequency, the vertical axis in the figure represents relative output, the broken line in the figure represents the result of the magnetic head shown in FIG. 20, and the solid line in the figure represents the result of the magnetic head shown in FIG. . Further, the track width of each magnetic head was 13 μm, and the width in the film thickness direction of the metal magnetic films 113 and 117 other than near the magnetic gap g _{2 of the} magnetic head shown in FIG. 22 was 30 μm. From the result of FIG. 23, in the magnetic head shown in FIG. 22, the metal magnetic films 113, 117
Since the width in the film thickness direction other than in the vicinity of the magnetic gap g ₂ was widened, it was confirmed that the core cross-sectional area was sufficiently secured, the head efficiency was increased, and the head output was improved.

【００１１】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図２２に示
すような磁気ヘッドにおいては、図２０に示すような磁
気ヘッドと比較して耐摩耗性に劣るという不都合が発生
している。これを確認すべく、図２２に示すような磁気
ヘッドと図２０に示すような磁気ヘッドを作製してこれ
らの媒体摺動時間に対する磁気ヘッド摩耗量を測定した
結果を図２４に示す。なお、図中横軸は媒体摺動時間を
示し、縦軸は磁気ヘッド摩耗量を示し、図中実線は図２
２に示す磁気ヘッドの結果を示し、図中破線は図２０に
示す磁気ヘッドの結果を示す。また、各磁気ヘッドの非
磁性基板はＣａＯ−ＴｉＯ₂ 系セラミクスにより構成
し、媒体への当たり幅を８０μｍとし、トラック幅を１
３μｍとし、図２２に示す磁気ヘッドの磁気ギャップｇ
₂ 近傍以外の金属磁性膜１１３，１１７の膜厚方向の幅
を３０μｍとした。However, the magnetic head as shown in FIG. 22 has a disadvantage that it is inferior in wear resistance as compared with the magnetic head as shown in FIG. In order to confirm this, a magnetic head as shown in FIG. 22 and a magnetic head as shown in FIG. 20 were produced, and the results of measuring the amount of wear of the magnetic head with respect to the medium sliding time are shown in FIG. In the figure, the horizontal axis represents the medium sliding time, the vertical axis represents the amount of wear of the magnetic head, and the solid line in the figure represents FIG.
2 shows the result of the magnetic head, and the broken line in the figure shows the result of the magnetic head shown in FIG. The non-magnetic substrate of each magnetic head is composed of CaO—TiO ₂ system ceramics, the contact width with the medium is 80 μm, and the track width is 1
3 μm, and the magnetic gap g of the magnetic head shown in FIG.
The width in the film thickness direction of the metal magnetic films 113 and 117 other than the vicinity of ₂ was set to 30 μm.

【００１２】図２４の結果から、図２２に示す磁気ヘッ
ドは、図２０に示す磁気ヘッドよりも磁気ヘッド摩耗量
が多く、耐摩耗性に劣ることがわかる。これは、図２２
に示すような磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップｇ₂
近傍以外の金属磁性膜１１３，１１７の膜厚方向の厚さ
を厚くしており、媒体摺動面１１４ａ，１１８ａ中の図
中斜線部で示す媒体摺動部分（媒体への当たり部分）に
おける耐摩耗性の低い金属磁性膜１１３，１１７の占め
る割合が、図２０に示すような磁気ヘッドよりも大きい
ためと思われる。From the results of FIG. 24, it can be seen that the magnetic head shown in FIG. 22 has a larger amount of wear than the magnetic head shown in FIG. 20 and is inferior in wear resistance. This is shown in FIG.
In the magnetic head shown in, the magnetic gap g ₂
The thicknesses of the metal magnetic films 113 and 117 other than in the vicinity are increased in the film thickness direction, so that the resistance to the medium sliding portions (medium contact portions) shown by the shaded portions in the drawings in the medium sliding surfaces 114a and 118a. It is considered that the ratio of the metal magnetic films 113 and 117 having low wear properties is larger than that of the magnetic head shown in FIG.

【００１３】これに対し、磁気コア半体の媒体摺動面の
媒体摺動部分の非磁性基板の幅、すなわち媒体への当た
り幅を大きくし、耐摩耗性を向上させることが考えられ
るが、当たり幅を大きくする程、媒体への良好な当たり
を得ることが困難となることが確認された。特に短波長
記録時においては、良好な当たりを確保できない場合、
スペーシングロスによる出力劣化が顕著であり、極端な
出力劣化を招かないためには当たり幅を現行の６０〜１
００μｍ程度とすることが必要であることも確認され
た。On the other hand, it is conceivable to increase the width of the non-magnetic substrate in the medium sliding portion of the medium sliding surface of the magnetic core half, that is, the width of contact with the medium to improve wear resistance. It was confirmed that it was difficult to obtain a good hit on the medium as the hit width was increased. Especially when recording at a short wavelength, if a good hit cannot be secured,
The output deterioration due to spacing loss is remarkable, and in order to prevent extreme output deterioration, the hit width should be the current 60-1.
It was also confirmed that it is necessary to set the thickness to about 00 μm.

【００１４】さらに、非磁性基板を構成する材料とし
て、アルチック（Ａｌ−Ｔｉ−Ｃ）やヘマタイト（α−
Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）等の高耐摩耗性非磁性材料を使用すること
も考えられるが、このような材料よりなる非磁性基板を
用いた磁気ヘッドにおいては、耐摩耗性は向上するもの
の、金属磁性膜の偏摩耗が著しく、スペーシングロスに
よる出力劣化が生じる。Further, as a material constituting the non-magnetic substrate, altic (Al-Ti-C) or hematite (α-
It is conceivable to use a high wear resistant non-magnetic material such as Fe ₂ O ₃ ), but a magnetic head using a non-magnetic substrate made of such a material has improved wear resistance The uneven wear of the film is remarkable, and the output is deteriorated due to the spacing loss.

【００１５】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、一般的な透磁率が２０００程度の磁
性金属材料を用いても良好なヘッド出力が得られ、かつ
耐摩耗性に優れる磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional circumstances, and a good head output can be obtained and wear resistance can be obtained even when a general magnetic metal material having a magnetic permeability of about 2000 is used. It is an object to provide an excellent magnetic head.

【００１６】[0016]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、一対の非磁性基板により金属磁性膜を膜
厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半体が、上記
金属磁性膜を突き合わせるようにして接合一体化されて
おり、これら金属磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギャッ
プが形成され、かつ該磁気ギャップのトラック幅がトラ
ック幅規制溝により規制されている磁気ヘッドにおい
て、前記一対の磁気コア半体の金属磁性膜が媒体摺動方
向に対して斜交して略一直線状に連なっており、上記金
属磁性膜と媒体摺動方向のなす角度をθ₁ としたときに
５゜≦θ₁ ≦１５゜であることを特徴とするものであ
る。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a pair of magnetic core halves in which a metal magnetic film is sandwiched by a pair of non-magnetic substrates from the thickness direction. In a magnetic head in which a magnetic gap is formed between the abutting surfaces of these metal magnetic films, and the track width of the magnetic gap is regulated by a track width regulating groove. The metal magnetic films of the pair of magnetic core halves obliquely intersect the medium sliding direction and are connected in a substantially straight line. When the angle between the metal magnetic film and the medium sliding direction is θ ₁ , 5 It is characterized in that the angle is ≦ θ ₁ ≦ 15 °.

【００１７】また本発明においては、上記のような磁気
ヘッドにおいて、磁気ギャップのトラック幅をＴｗとし
たときにＴｗ≦１３μｍ、磁気ギャップのアジマス角を
θ₂としたときに２０゜≦θ₂ であることを特徴とする
ものである。[0017] In the present invention, in the magnetic head as described above, Tw ≦ 13 .mu.m track width of the magnetic gap when the Tw, at 20 ° ≦ theta ₂ when the azimuth angle of the magnetic gap was theta ₂ It is characterized by being.

【００１８】[0018]

【作用】本発明は、一対の非磁性基板により金属磁性膜
を膜厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半体が、
上記金属磁性膜を突き合わせるようにして接合一体化さ
れており、これら金属磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギ
ャップが形成され、かつ該磁気ギャップのトラック幅が
トラック幅規制溝により規制されている磁気ヘッドにお
いて、前記一対の磁気コア半体の金属磁性膜が媒体摺動
方向に対して斜交して略一直線状に連なっており、上記
金属磁性膜と媒体摺動方向のなす角度をθ ₁ としたとき
に５゜≦θ₁ ≦１５゜であるため、磁気ヘッドの媒体摺
動面の媒体摺動部分（媒体との当たり部分）中における
金属磁性膜の占める割合が減少する、すなわち耐摩耗性
の低い部分の占める割合が減少する。According to the present invention, a metal magnetic film is formed by a pair of non-magnetic substrates.
A pair of magnetic core halves sandwiching the
The above metal magnetic films are butted and integrated together.
Between the abutting surfaces of these metallic magnetic films.
Is formed, and the track width of the magnetic gap is
For magnetic heads that are regulated by track width regulation grooves
And the metal magnetic film of the pair of magnetic core halves slides on the medium.
It is diagonally crossed with respect to the direction and continues in a straight line.
The angle between the metallic magnetic film and the sliding direction of the medium is θ ₁ When
5 ° ≦ θ₁ Since it is ≤15 °, the medium of the magnetic head slides.
In the medium sliding part of the moving surface (contact part with the medium)
The proportion occupied by the metallic magnetic film is reduced, that is, wear resistance
The proportion of the lower part of the

【００１９】[0019]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施
例においては、磁気ギャップがアジマス角を有する磁気
ヘッドの例について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. In this embodiment, an example of a magnetic head whose magnetic gap has an azimuth angle will be described.

【００２０】本実施例の磁気ヘッドは、図１及び図２に
示すように、金属磁性膜１，２がその膜厚方向より非磁
性材料よりなる第１の非磁性基板３，４と第２の非磁性
基板５，６によって挟み込まれてなる一対の磁気コア半
体７，８からなり、これら磁気コア半体７，８が上記金
属磁性膜１，２を突合わせるようにして融着ガラス９に
より接合一体化されて構成されている。このとき、上記
金属磁性膜１，２は、図中矢印Ｍで示す媒体摺動方向に
対して角度θ₁ で斜交して略一直線状に連なるようにな
されており、角度θ₁ は５゜≦θ₁ ≦１５゜の範囲とさ
れている。そして、上記金属磁性膜１，２の突き合わせ
面間には、アジマス角θ₂ （本実施例においては２０
゜），トラック幅Ｔｗ（本実施例においては１３μｍ）
を有する磁気ギャップｇが形成されている。In the magnetic head of this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the metal magnetic films 1 and 2 are composed of a first non-magnetic substrate 3 and 4 and a second non-magnetic substrate made of a non-magnetic material in the thickness direction. Of a pair of magnetic core halves 7 and 8 sandwiched between the nonmagnetic substrates 5 and 6 of the magnetic core halves 7 and 8 so that the metal magnetic films 1 and 2 are abutted against each other. Are joined and integrated by. At this time, the metal magnetic films 1 and 2 are arranged so as to be continuous in a substantially straight line at an angle θ ₁ with respect to the medium sliding direction indicated by an arrow M in the figure, and the angle θ ₁ is 5 °. The range is ≦ θ ₁ ≦ 15 °. The azimuth angle θ ₂ (20 in the present embodiment) is provided between the abutting surfaces of the metal magnetic films 1 and _2.
)), Track width Tw (13 μm in this embodiment)
A magnetic gap g having is formed.

【００２１】上記のように磁気コア半体７，８は、主コ
アとなる金属磁性膜１，２とこれを膜厚方向より挾み込
む第１の非磁性基板３，４と第２の非磁性基板５，６と
から構成され、該第２の非磁性基板５，６の一主面に被
着形成される金属磁性膜１，２を挾み込むようにして第
１の非磁性基板３，４が積層されることにより接合一体
化されている。As described above, the magnetic core halves 7 and 8 are composed of the metal magnetic films 1 and 2 serving as the main cores, the first non-magnetic substrates 3 and 4 sandwiching the metal magnetic films 1 and 4 from the thickness direction, and the second non-magnetic substrates. The first non-magnetic substrates 3, 4 which are composed of the magnetic substrates 5, 6 and which sandwich the metal magnetic films 1, 2 formed on one main surface of the second non-magnetic substrates 5, 6 so as to sandwich them. Are integrated by being laminated.

【００２２】上記金属磁性膜１，２は、高周波特性を向
上させる目的で膜厚の薄い磁性金属薄膜が絶縁膜を介し
て積層されてなる積層メタル膜とされている。The metal magnetic films 1 and 2 are laminated metal films in which thin magnetic metal thin films are laminated via an insulating film for the purpose of improving high frequency characteristics.

【００２３】上記磁性金属薄膜を構成する材料として
は、製造工程中のガラス接合に対応できる耐熱性に優れ
たものが良く、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ、又はこれに
Ｏ，Ｎ等を添加した結晶質磁性金属材料或いはＦｅ系又
はＣｏ系の微結晶磁性金属材料等が挙げられる。また、
上記磁性金属薄膜の膜厚は、高周波特性の向上のために
１層当たり２〜５μｍとすることが望ましい。As a material for forming the magnetic metal thin film, a material having excellent heat resistance capable of supporting glass bonding during the manufacturing process is preferable, and Fe-Ru-Ga-Si or O, N or the like added thereto. Examples thereof include crystalline magnetic metal materials, Fe-based or Co-based microcrystalline magnetic metal materials, and the like. Also,
The thickness of the magnetic metal thin film is preferably 2 to 5 μm per layer in order to improve high frequency characteristics.

【００２４】また、一方の絶縁膜としては、例えばＳｉ
Ｏ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜やＳｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物
膜等が使用される。上記絶縁膜の膜厚としては、例えば
０．１〜０．３μｍ程度が好ましい。As one insulating film, for example, Si
An oxide film such as O ₂ or Ta ₂ O ₅ or a nitride film such as Si ₃ N ₄ is used. The thickness of the insulating film is preferably about 0.1 to 0.3 μm, for example.

【００２５】なお、本実施例においては、磁性金属薄膜
として一般的なＦｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ系結晶質磁性金
属材料膜、絶縁膜としてＳｉＯ₂ 膜を使用した。そし
て、一層あたりの磁性金属薄膜を３μｍとし、絶縁膜を
０．２μｍとして１０層積層したものを金属磁性膜１，
２とした。In this embodiment, a general Fe-Ru-Ga-Si-based crystalline magnetic metal material film was used as the magnetic metal thin film, and a SiO ₂ film was used as the insulating film. The magnetic metal thin film per layer was 3 μm, and the insulating film was 0.2 μm.
It was set to 2.

【００２６】また、第１の非磁性基板３，４及び第２の
非磁性基板５，６は、前述のように非磁性材料よりな
る。上記非磁性材料としては、ＣａＯ−ＴｉＯ₂ 系，Ｚ
ｒＯ₂系，ＭｎＯ−ＮｉＯ系，ＣａＯ−ＴｉＯ₂ −Ｎｉ
Ｏ系セラミクスおよび非磁性フェライト等が挙げられ
る。なお、本実施例においては、ＣａＯ−ＴｉＯ₂ 系セ
ラミクスを用いた。The first nonmagnetic substrates 3 and 4 and the second nonmagnetic substrates 5 and 6 are made of a nonmagnetic material as described above. As the non-magnetic material, CaO—TiO ₂ system, Z
rO ₂ system, MnO-NiO system, CaO-TiO ₂ -Ni
Examples include O-based ceramics and non-magnetic ferrite. In the present embodiment, using the CaO-TiO ₂ based ceramics.

【００２７】そして、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規制する（本実
施例においてはＴｗは１３μｍ）ために、磁気コア半体
７，８の突き合わせ面に第１の非磁性基板３，４及び第
２の非磁性基板５，６、金属磁性膜１，２を切り欠くよ
うなトラック幅規制溝１０ａ，１０ｂ，１１ａ，１１ｂ
が設けられており、これらによる溝部にも融着ガラス９
が充填されている。すなわち、上記金属磁性膜１，２
は、磁気ギャップｇ近傍においてはその一部がトラック
幅規制溝１０ａ，１０ｂ，１１ａ，１１ｂにより切り欠
かれるため、膜厚方向の厚さがトラック幅Ｔｗと同一と
され、残りの部分においては膜厚方向の厚さが大きくな
りその厚さはＷとなる。In the magnetic head of this embodiment, the track width Tw of the magnetic gap g is regulated (Tw is 13 μm in this embodiment). Track width regulating grooves 10a, 10b, 11a, 11b which are formed by cutting out the non-magnetic substrates 3, 4 and the second non-magnetic substrates 5, 6, and the metal magnetic films 1, 2.
Is provided, and the fused glass 9
Is filled. That is, the metal magnetic films 1, 2
In the vicinity of the magnetic gap g, a part thereof is cut out by the track width regulating grooves 10a, 10b, 11a, 11b, so that the thickness in the film thickness direction is the same as the track width Tw, and the film is formed in the remaining portion. The thickness in the thickness direction becomes large and the thickness becomes W.

【００２８】さらに、磁気コア半体７，８の突き合わせ
面側にはコイル巻装用の巻き線溝１２，１３、ガラス溝
１４，１５が設けられており、磁気コア半体７，８の接
合強度を確保するため、これらの間にも融着ガラス９が
溶融充填されている。また、この磁気ヘッドにおいて
は、媒体と摺接する媒体摺動面の両側に段差部１６ａ，
１６ｂが設けられ、媒体に対する当たり幅Ｈが規制され
るとともに、巻線溝１２，１３に巻装されるコイルの巻
装状態を良好なものとなすためにこの巻線溝１２，１３
と相対向する位置に巻線補助溝１７，１８が形成されて
いる。Further, winding grooves 12, 13 for coil winding and glass grooves 14, 15 are provided on the abutting surface side of the magnetic core halves 7, 8, and the joining strength of the magnetic core halves 7, 8 is provided. In order to secure the above, the fused glass 9 is also melt-filled between them. Further, in this magnetic head, the step portions 16a,
16b is provided, the contact width H against the medium is regulated, and the winding grooves 12, 13 are provided in order to improve the winding state of the coil wound in the winding grooves 12, 13.
Winding auxiliary grooves 17 and 18 are formed at positions facing each other.

【００２９】すなわち、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、金属磁性膜１，２が図中矢印Ｍで示す媒体摺動方向
に対して所定の角度θ₁ を有して斜交して連なるため、
磁気コア半体７，８の媒体摺動面７ａ，８ａの図中斜線
部で示す媒体摺動部分における金属磁性膜１，２の占め
る割合が、先に図２２に示したような金属磁性膜１１
３，１１７が図中矢印Ｍで示す媒体摺動方向に対して平
行に延在する磁気ヘッドと比較して小さくなり、耐摩耗
性が向上されるものと思われる。That is, in the magnetic head of this embodiment, since the metal magnetic films 1 and 2 are obliquely connected to each other at a predetermined angle θ ₁ with respect to the medium sliding direction shown by the arrow M in the drawing,
The ratio of the metal magnetic films 1 and 2 in the medium sliding portions 7a and 8a of the magnetic core halves 7 and 8 in the medium sliding portions shown by the shaded portions in the figure is as shown in FIG. 11
3, 117 are smaller than those of the magnetic head extending in parallel to the medium sliding direction indicated by the arrow M in the figure, and it is considered that the wear resistance is improved.

【００３０】次いで、前述した図１および図２の磁気ヘ
ッドを製造する方法について工程順に従って説明する。
先ず、図３に示すように、非磁性材料（本実施例におい
てはＣａＯ−ＴｉＯ₂系セラミクス）よりなる非磁性基
板２１を用意し、この非磁性基板２１の両面をポリッシ
ング加工等によって鏡面加工する。次に、図４に示すよ
うに、上記非磁性基板２１の一方の面に、スパッタリン
グにより金属磁性膜２２を被着形成する。Next, a method for manufacturing the above-described magnetic head shown in FIGS. 1 and 2 will be described in the order of steps.
First, as shown in FIG. 3, a nonmagnetic substrate 21 made of a nonmagnetic material (CaO—TiO ₂ system ceramics in this embodiment) is prepared, and both surfaces of the nonmagnetic substrate 21 are mirror-finished by polishing or the like. . Next, as shown in FIG. 4, a metal magnetic film 22 is deposited on one surface of the non-magnetic substrate 21 by sputtering.

【００３１】上記金属磁性膜２２を形成するに際して
は、非磁性基板２１との付着力向上等のために、非磁性
基板２１上に下地膜を予め形成しておいても良く、該下
地膜としては、ＳｉＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓ
ｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金
属膜及びそれらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積
層膜等が使用される。なお、本実施例においては、膜厚
５０ｎｍのＳｉＯ₂ 膜を使用した。When forming the metal magnetic film 22, a base film may be formed in advance on the non-magnetic substrate 21 in order to improve the adhesion to the non-magnetic substrate 21. Is an oxide film such as SiO ₂ or Ta ₂ O ₅ , S
A nitride film of i ₃ N ₄ or the like, a metal film of Cr, Al, Si, Pt or the like and an alloy film thereof, or a laminated film combining them is used. In this example, a SiO ₂ film having a film thickness of 50 nm was used.

【００３２】そして、金属磁性膜２２は、高周波特性を
向上させるために、ＳｉＯ₂ よりなる絶縁膜を介して膜
厚の薄いＦｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ系結晶質磁性金属材料
よりなる磁性金属薄膜を何層にも積層することにより形
成する。なお、本実施例の磁気ヘッドを形成するに際し
ては、膜厚０．２μｍの絶縁膜を介して一層あたりの膜
厚３μｍの磁性金属薄膜を１０層重ねた。The metal magnetic film 22 is a magnetic metal thin film made of a Fe-Ru-Ga-Si crystalline magnetic metal material having a small thickness with an insulating film made of SiO ₂ interposed in order to improve high frequency characteristics. Is formed by laminating a number of layers. When forming the magnetic head of this example, ten magnetic metal thin films each having a thickness of 3 μm were stacked with an insulating film having a thickness of 0.2 μm interposed therebetween.

【００３３】さらに、上記非磁性基板２１上の金属磁性
膜２２の上及びその反対面上に、図５に示すように低融
点ガラス膜２３を成膜する。このとき、金属磁性膜２２
及び非磁性基板２１と低融点ガラス膜２３の接合強度を
向上させるために下地膜を形成しても良く、該下地膜と
しては、ＳｉＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃Ｎ
₄ 等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜及びこれ
らの合金膜、或いはそれらを組合わせた積層膜等が使用
できる。なお、本実施例においては、下地膜として膜厚
０．１μｍのＣｒ膜を形成した。Further, as shown in FIG. 5, a low melting point glass film 23 is formed on the metal magnetic film 22 on the non-magnetic substrate 21 and on the opposite surface. At this time, the metal magnetic film 22
Also, a base film may be formed in order to improve the bonding strength between the non-magnetic substrate 21 and the low melting point glass film 23. The base film may be an oxide film such as SiO ₂ , Ta ₂ O ₅ or Si ₃ N 4.
A nitride film such as ₄ or the like, a metal film such as Cr, Al, Pt or the like, an alloy film thereof, or a laminated film obtained by combining them can be used. In this example, a Cr film having a thickness of 0.1 μm was formed as a base film.

【００３４】上記低融点ガラス膜２３としては、低融点
ガラスをスパッタリングして形成したもの、或いはフリ
ットガラスをスピンコーティング等によって塗布して形
成したものが使用でき、その膜厚としては、１μｍ〜５
μｍが好ましい。本実施例においては、低融点ガラス膜
２３は膜厚２μｍのＰｂＯ系の低融点ガラスをスパッタ
リングによって形成するものとした。As the low melting point glass film 23, a film formed by sputtering low melting point glass or a film formed by applying frit glass by spin coating or the like can be used, and the film thickness thereof is 1 μm to 5 μm.
μm is preferred. In this embodiment, the low-melting glass film 23 is formed by sputtering PbO-based low-melting glass having a thickness of 2 μm.

【００３５】なお、本実施例においては、低融点ガラス
膜２３を非磁性基板２１の両面に形成したが、上記低融
点ガラス膜２３はどちらか一方の面のみに形成すれば良
い。In the present embodiment, the low melting point glass film 23 is formed on both sides of the non-magnetic substrate 21, but the low melting point glass film 23 may be formed on only one side.

【００３６】そして、上記のように金属磁性膜２２及び
低融点ガラス膜２３の形成された非磁性基板２１を図６
に示すように（以降、低融点ガラス膜２３の図示は省略
する。）複数積層し、加圧しながら５００℃〜７００℃
に加熱して複数の非磁性基板２１の接合を行い、磁気コ
アブロック２４を形成する。このとき、複数の非磁性基
板２１は、図中αで示す傾斜角を有して積層する。な
お、傾斜角αは下記の式１により求められる角度であ
る。Then, the non-magnetic substrate 21 on which the metal magnetic film 22 and the low melting point glass film 23 are formed as described above is shown in FIG.
(Hereinafter, the low melting point glass film 23 is omitted.) As shown in FIG.
Then, the plurality of non-magnetic substrates 21 are bonded to each other by heating to form the magnetic core block 24. At this time, the plurality of nonmagnetic substrates 21 are stacked with an inclination angle indicated by α in the figure. The inclination angle α is an angle calculated by the following formula 1.

【００３７】α＝θ₂ −θ₁ ・・・ （式１）Α = θ ₂ −θ ₁ (Equation 1)

【００３８】次に、図７に示すように、磁気コアブロッ
ク２４中の非磁性基板２１の積層によって段差部となっ
ている両側面を傾斜角αを有する面となるように切断
し、これらの面に沿った切断面にて磁気コアブロック２
４を２分割し、磁気コア半体ブロック２５，２６を形成
する。そして、分割切断面を研磨し、図８に示すように
巻線溝２７，２８を形成する。しかる後、この切断面に
おいて、図９に示すように非磁性基板２１と金属磁性膜
２２の境界線に沿って金属磁性膜２２の一側縁にかかる
ような位置で巻線溝２７，２８と直交するようにトラッ
ク幅規制溝２９，３０を切削もしくは研削により形成す
る。このとき、トラック幅規制溝２９，３０によって規
制される金属磁性膜２２の幅はトラック幅Ｔｗとなるよ
うにし、本実施例においては１３μｍとなるようにす
る。Next, as shown in FIG. 7, both side surfaces, which are stepped portions due to the lamination of the non-magnetic substrate 21 in the magnetic core block 24, are cut into surfaces having an inclination angle α, and these are cut. The magnetic core block 2 at the cut surface along the surface
4 is divided into two to form magnetic core half blocks 25 and 26. Then, the divided cut surface is polished to form winding grooves 27 and 28 as shown in FIG. Then, on this cut surface, as shown in FIG. 9, winding grooves 27 and 28 are formed at positions such that they extend along one side edge of the metal magnetic film 22 along the boundary line between the non-magnetic substrate 21 and the metal magnetic film 22. Track width regulating grooves 29, 30 are formed so as to be orthogonal to each other by cutting or grinding. At this time, the width of the metal magnetic film 22 regulated by the track width regulating grooves 29, 30 is set to be the track width Tw, which is 13 μm in this embodiment.

【００３９】そして、上記磁気コア半体ブロック２５，
２６の突き合わせ面にポリッシング等により鏡面加工を
行い、ギャップ膜を形成した後、図１０に示すように、
磁気コア半体ブロック２５，２６の接合を行う。この
際、上記磁気コア半体ブロック２５，２６のトラックの
位置合わせを行った後、両磁気コア半体ブロック２５，
２６を突き合わせ、先の低融点ガラスよりもさらに低融
点のガラス３１で融着すると、前記トラック幅規制溝２
９，３０中にもガラス３１が流れ込み、磁気コア半体ブ
ロック２５，２６が接合され、突き合わせ面間に磁気ギ
ャップｇを有する磁気ヘッドブロック３２が形成され
る。The magnetic core half block 25,
After the mirror surface processing is performed on the abutting surface of 26 by polishing or the like to form the gap film, as shown in FIG.
The magnetic core half blocks 25 and 26 are joined. At this time, after the tracks of the magnetic core half blocks 25 and 26 are aligned, both magnetic core half blocks 25 and 26 are aligned.
26 are butted and fused with a glass 31 having a lower melting point than the previous low melting point glass, the track width regulating groove 2
The glass 31 also flows into 9 and 30, the magnetic core half blocks 25 and 26 are joined, and a magnetic head block 32 having a magnetic gap g between the abutting surfaces is formed.

【００４０】次いで、巻線補助溝の加工，媒体摺動面の
円筒研磨を行った後、図１１に示すように、磁気ギャッ
プｇがアジマス角θ₂ を有するように磁気ヘッドブロッ
ク３２を傾け、図中Ｘ−Ｘ’及びＹ−Ｙ’線で示す位置
で分離する。そして、媒体との当たり幅を規定する段差
部の加工を行い、先の実施例の磁気ヘッドを完成する。Next, after processing the winding auxiliary groove and cylindrical polishing of the medium sliding surface, as shown in FIG. 11, the magnetic head block 32 is tilted so that the magnetic gap g has an azimuth angle θ ₂ . Separation is performed at the positions indicated by the lines XX 'and YY' in the figure. Then, the stepped portion that defines the contact width with the medium is processed to complete the magnetic head of the previous embodiment.

【００４１】すなわち、上記のような製造方法で本実施
例の磁気ヘッドを製造すれば、従来の磁気ヘッドの製造
方法を大きく変更することなく製造を行うことが可能で
ある。すなわち、両者の相違点は、従来の磁気ヘッドの
製造方法においては、金属磁性膜および低融点ガラス膜
の形成された非磁性基板を積層する工程において、積層
する際の傾斜角を磁気ギャップのアジマス角としていた
が、上記のような製造方法においては傾斜角を上述のよ
うに規定されるαとしていることのみであり、上記のよ
うな製造方法の工業的価値は非常に高い。That is, if the magnetic head of this embodiment is manufactured by the manufacturing method as described above, it is possible to manufacture the magnetic head without largely changing the conventional manufacturing method of the magnetic head. That is, the difference between the two is that, in the conventional magnetic head manufacturing method, in the step of laminating the non-magnetic substrate on which the metal magnetic film and the low melting point glass film are formed, the inclination angle at the time of laminating is determined by the azimuth of the magnetic gap. Although the angle is the angle, in the manufacturing method as described above, the inclination angle is only α defined as described above, and the industrial value of the manufacturing method as described above is very high.

【００４２】次に、本実施例の磁気ヘッドの効果を確認
すべく、以下のような実験を行った。実験例 １ 第１に磁気ヘッドの金属磁性膜が媒体摺動方向に対して
斜交する角度θ₁ を変化させて上述のような磁気ヘッド
を作製し、各磁気ヘッドの媒体摺動時間に対する磁気ヘ
ッド摩耗量を測定し、各磁気ヘッドの耐摩耗性を評価し
た。Next, the following experiment was conducted in order to confirm the effect of the magnetic head of this embodiment. Experimental Example 1 First, the magnetic head as described above was manufactured by changing the angle θ _{1 at} which the metal magnetic film of the magnetic head obliquely intersects the medium sliding direction. The amount of head wear was measured to evaluate the wear resistance of each magnetic head.

【００４３】先ず磁気ヘッドの作製を行った。図１２に
示すような磁気ヘッドのチップ厚Ｔを２００μｍとし、
当たり幅Ｈを８０μｍとし、磁気ギャップｇのトラック
幅Ｔｗを１３μｍとし、金属磁性膜１，２の厚さＷを３
０μｍとし、磁気ギャップｇのアジマス角θ₂ を２０゜
として、図中矢印Ｍで示す媒体摺動方向と金属磁性膜
１，２の斜交する角度θ₁ を５゜とした磁気ヘッド実施
例サンプル１を作製し、同様に図１３，１４に示すよう
な図中矢印Ｍで示す媒体摺動方向と金属磁性膜１，２の
斜交する角度θ₁ を１０゜，１５゜とした磁気ヘッド実
施例サンプル２，３を作製した。First, a magnetic head was manufactured. The chip thickness T of the magnetic head as shown in FIG. 12 is set to 200 μm,
The contact width H is 80 μm, the track width Tw of the magnetic gap g is 13 μm, and the thickness W of the metal magnetic films 1 and 3 is 3 μm.
A magnetic head example sample in which 0 μm was set, the azimuth angle θ ₂ of the magnetic gap g was set to 20 °, and the angle θ ₁ at which the metal magnetic films 1 and 2 obliquely intersected with the medium sliding direction indicated by an arrow M in the figure was 5 °. 1 was manufactured, and the magnetic head was also set such that the angle θ ₁ at which the metal magnetic films 1 and 2 slanted with the medium sliding direction indicated by an arrow M in FIGS. Example samples 2 and 3 were prepared.

【００４４】また比較のために、図１５に示すような磁
気ヘッドのチップ厚Ｔを２００μｍとし、当たり幅Ｈを
８０μｍとし、トラック幅Ｔｗを１３μｍとし、金属磁
性膜の厚さを３０μｍとし、磁気ギャップのアジマス角
θ₂ を２０゜として、金属磁性膜の斜交する角度θ₁ を
０゜とした磁気ヘッド比較例サンプル１および図１６に
示すような磁気ヘッドのチップ厚Ｔを２００μｍ、当た
り幅Ｈを８０μｍとし、トラック幅Ｔｗを１３μｍと
し、金属磁性膜の厚さも１３μｍとし、磁気ギャップの
アジマス角θ₂ を２０゜として、金属磁性膜の斜交する
角度θ₁ を０゜とした磁気ヘッド比較例サンプル２も作
製した。For comparison, the magnetic head as shown in FIG. 15 has a chip thickness T of 200 μm, a contact width H of 80 μm, a track width Tw of 13 μm, and a metal magnetic film thickness of 30 μm. When the azimuth angle θ _{2 of the} gap is 20 ° and the angle θ _{1 at} which the metal magnetic film obliquely intersects is 0 °, the chip thickness T of the magnetic head sample 1 and the magnetic head as shown in FIG. 16 is 200 μm, and the contact width is A magnetic head in which H is 80 μm, the track width Tw is 13 μm, the thickness of the metal magnetic film is 13 μm, the azimuth angle θ ₂ of the magnetic gap is 20 °, and the oblique angle θ ₁ of the metal magnetic film is 0 °. Comparative sample 2 was also prepared.

【００４５】なお、各磁気ヘッド実施例サンプル１〜３
および磁気ヘッド比較例サンプル１，２は、前述の製造
工程中の非磁性基板を積層する際の傾斜角αをそれぞれ
１５゜，１０゜，５゜，２０゜，２０゜として（磁気ヘ
ッド比較例サンプル１，２においてはアジマス角と同
一。）磁気コアブロックを形成して製造を行った。Samples 1 to 3 of each magnetic head embodiment
In the magnetic head comparative example samples 1 and 2, the inclination angles α when laminating the non-magnetic substrates in the above-described manufacturing process were set to 15 °, 10 °, 5 °, 20 ° and 20 °, respectively (see the magnetic head comparative example). In Samples 1 and 2, the azimuth angle is the same.) A magnetic core block was formed and manufactured.

【００４６】そして、上記磁気ヘッド実施例サンプル１
〜３および磁気ヘッド比較例サンプル１，２の媒体摺動
時間に対する磁気ヘッド摩耗量の測定を行った。結果を
図１７に示す。なお、図中横軸は媒体摺動時間を示し、
縦軸は磁気ヘッド摩耗量を示し、図中実線は磁気ヘッド
実施例サンプル１の結果を示し、図中破線は磁気ヘッド
実施例サンプル２の結果を示し、図中一点鎖線は磁気ヘ
ッド実施例サンプル３および磁気ヘッド比較例サンプル
２の結果を示し、図中二点鎖線は磁気ヘッド比較例サン
プル１の結果を示す。Then, the above magnetic head embodiment sample 1
.About.3 and magnetic head comparative examples 1 and 2 were measured for the magnetic head wear amount with respect to the medium sliding time. Results are shown in FIG. The horizontal axis in the figure represents the medium sliding time,
The vertical axis represents the amount of wear of the magnetic head, the solid line in the figure represents the result of the magnetic head example sample 1, the broken line in the figure represents the result of the magnetic head example sample 2, and the dashed line in the figure represents the magnetic head example sample. 3 and the magnetic head comparative example sample 2 are shown, and the chain double-dashed line in the figure shows the result of the magnetic head comparative example sample 1.

【００４７】図１２の結果から金属磁性膜の斜交する角
度θ₁ が１０゜以上のサンプル、磁気ヘッド実施例サン
プル２および３に耐摩耗性の向上が見られた。From the results shown in FIG. 12, improvement in wear resistance was observed in the samples in which the angle θ ₁ of oblique crossing of the metal magnetic film was 10 ° or more and the magnetic head example samples 2 and 3.

【００４８】実験例 ２ 次に、上記磁気ヘッド実施例サンプル１〜３および磁気
ヘッド比較例サンプル１，２の周波数に対するヘッド出
力（相対出力）を測定し、出力特性の評価を行った。な
お、測定は、測定データに各磁気ヘッドの金属磁性膜の
偏摩耗が影響しないように、金属磁性膜の偏摩耗が発生
しない程度の測定時間内にて行うものとした。結果を図
１８に示す。図１８の横軸は周波数を示し、縦軸は相対
出力を示し、図中実線は磁気ヘッド実施例サンプル１，
２および磁気ヘッド比較例サンプル１の結果を示し、図
中一点鎖線は磁気ヘッド実施例サンプル３の結果を示
し、図中破線は磁気ヘッド比較例サンプル２の結果を示
す。図１８の結果から、金属磁性膜の斜交する角度θ₁
が０゜〜１０゜である磁気ヘッド実施例サンプル１，お
よび２においては、相対出力（ヘッド出力）の差が殆ど
見られず、金属磁性膜の斜交する角度θ₁ が１５゜であ
る磁気ヘッド実施例サンプル３において相対出力の低下
が見られた。 Experimental Example 2 Next, the head output (relative output) with respect to the frequency of the magnetic head example samples 1 to 3 and the magnetic head comparative example samples 1 and 2 was measured, and the output characteristics were evaluated. The measurement was performed within a measurement time such that the uneven wear of the metal magnetic film of each magnetic head did not influence the uneven wear of the metal magnetic film. The results are shown in Fig. 18. The horizontal axis in FIG. 18 represents frequency, the vertical axis represents relative output, and the solid line in the drawing represents the magnetic head embodiment sample 1,
2 and the results of the magnetic head comparative example sample 1, the dashed line in the figure shows the results of the magnetic head example sample 3, and the broken line in the figure shows the results of the magnetic head comparative example sample 2. From the result of FIG. 18, the angle θ _{1 at which the} metal magnetic film intersects obliquely
In the magnetic head example samples 1 and 2 in which the magnetic field is 0 ° to 10 °, there is almost no difference in relative output (head output), and the angle θ _{1 at} which the metal magnetic film obliquely intersects is 15 °. A decrease in relative output was observed in the head example sample 3.

【００４９】これは、以下の理由によるものである。例
えば、図１２，１３に示す角度θ₁が５゜，１０゜であ
る磁気ヘッド実施例サンプル１，２においては、金属磁
性膜１，２の配設位置が図中破線で示す巻線溝１２，１
３形成位置と合致することがなく、金属磁性膜１，２に
よって形成される磁路が極端に狭くなることがなく、金
属磁性膜１，２の有する高透磁率特性がいかんなく発揮
され、ヘッド効率が良好で、高帯域における高ヘッド出
力が確保される。しかしながら、角度θ₁ が１５゜であ
る磁気ヘッド実施例サンプル３においては、図１４に示
すように、金属磁性膜１，２の配設位置と図中破線で示
す巻線溝１２，１３の形成位置が非常に近いものとなる
ため、金属磁性膜１，２によって形成される磁路が巻線
溝１２，１３形成位置において極端に狭くなり、ヘッド
効率が劣化し、高帯域におけるヘッド出力が確保できな
くなるためであると思われる。This is because of the following reasons. For example, in the magnetic head example samples 1 and 2 having the angles θ ₁ of 5 ° and 10 ° shown in FIGS. 12 and 13, the arrangement positions of the metal magnetic films 1 and 2 are the winding grooves 12 shown by broken lines in the drawings. , 1
3 does not coincide with the formation position, the magnetic path formed by the metal magnetic films 1 and 2 does not become extremely narrow, and the high magnetic permeability characteristics of the metal magnetic films 1 and 2 are exerted at all. The efficiency is good and a high head output in a high band is secured. However, in the magnetic head embodiment sample 3 in which the angle θ ₁ is 15 °, as shown in FIG. 14, the arrangement positions of the metal magnetic films 1 and 2 and the formation of the winding grooves 12 and 13 shown by the broken lines in the figure. Since the positions are very close to each other, the magnetic path formed by the metal magnetic films 1 and 2 becomes extremely narrow at the positions where the winding grooves 12 and 13 are formed, the head efficiency is deteriorated, and the head output in a high band is secured. It seems that it will not be possible.

【００５０】実験例 ３ ところで、これまで述べてきたような磁気ヘッドにおい
ては、媒体摺動面が非磁性材料よりなる非磁性基板と金
属磁性膜によって構成されており、金属磁性膜を構成す
る磁性金属材料の耐摩耗性が非磁性基板を構成する非磁
性材料と比較して低いことから、磁気ヘッド全体の耐摩
耗性の問題とともに金属磁性膜の偏摩耗が発生し易いと
いった不都合が生じている。そして、このように上記金
属磁性膜の偏摩耗が発生すると、スペーシングロスによ
りヘッド出力が低下（レベルダウン）してしまう。 Experimental Example 3 By the way, in the magnetic head as described above, the medium sliding surface is composed of the non-magnetic substrate made of a non-magnetic material and the metal magnetic film, and the magnetic material constituting the metal magnetic film is used. Since the wear resistance of the metal material is lower than that of the non-magnetic material forming the non-magnetic substrate, there is a problem in that the wear resistance of the entire magnetic head is accompanied by uneven wear of the metal magnetic film. . When uneven wear of the metal magnetic film occurs in this way, the head output decreases (levels down) due to spacing loss.

【００５１】そこで、上記各磁気ヘッド実施例サンプル
１〜３および磁気ヘッド比較例サンプル１，２における
媒体摺動時間に対する出力低下量を測定し、各磁気ヘッ
ドの耐偏摩耗性を調査した。なお、この金属磁性膜の偏
摩耗によるヘッド出力の低下は、媒体との摺動初期状態
において生じ、ある程度摺動するとそれ以上のヘッド出
力の低下が生じないことが確認されていることから、測
定は摺動初期状態において行った。結果を図１９に示
す。図１９の横軸は媒体摺動時間を示し、縦軸は出力低
下量を示し、図中実線は磁気ヘッド実施例サンプル１お
よび磁気ヘッド比較例サンプル１の結果を示し、図中破
線は磁気ヘッド実施例サンプル２の結果を示し、図中一
点鎖線は磁気ヘッド実施例サンプル３の結果を示し、図
中二点鎖線は磁気ヘッド比較例サンプル２の結果を示
す。Therefore, the output reduction amount with respect to the medium sliding time in each of the magnetic head example samples 1 to 3 and the magnetic head comparative example samples 1 and 2 was measured, and the uneven wear resistance of each magnetic head was investigated. It should be noted that the head output reduction due to the uneven wear of the metal magnetic film occurs in the initial state of sliding with the medium, and it has been confirmed that further head output reduction does not occur after some sliding. Was performed in the initial sliding state. The results are shown in Fig. 19. 19, the horizontal axis represents the medium sliding time, the vertical axis represents the output reduction amount, the solid line in the figure shows the results of the magnetic head example sample 1 and the magnetic head comparative example sample 1, and the broken line in the figure shows the magnetic head. The result of the example sample 2 is shown, the one-dot chain line in the figure shows the result of the magnetic head example sample 3, and the two-dot chain line in the figure shows the result of the magnetic head comparative example sample 2.

【００５２】図１９の結果から、金属磁性膜が斜交する
角度θ₁ が５゜以下である磁気ヘッド実施例サンプル１
においては、媒体摺動時間の増加に伴い、出力低下量が
増大しており、一方、角度θ₁ が１０゜以上である磁気
ヘッド実施例サンプル２，３においては、媒体摺動時間
が増加しても出力低下量はさほど増加しないことが確認
された。From the results of FIG. 19, the magnetic head embodiment sample 1 in which the angle θ _{1 at} which the metal magnetic film obliquely intersects is 5 ° or less.
In the magnetic head example samples 2 and 3 in which the angle θ ₁ is 10 ° or more, the medium sliding time increases. However, it was confirmed that the output reduction amount did not increase so much.

【００５３】従って、実験例１，２，３の結果から、上
記のような磁気ヘッドにおいては、磁気ヘッドの耐摩耗
性を確保し、一般的な透磁率が２０００程度の磁性金属
材料を用いた場合にもヘッド出力を確保し、かつ耐偏摩
耗性を確保するためには、金属磁性膜の媒体摺動方向に
対する角度θ₁ を５゜以上１５゜以下とすることが好ま
しいことが確認された。Therefore, from the results of Experimental Examples 1, 2, and 3, in the above magnetic head, the wear resistance of the magnetic head is ensured, and a magnetic metal material having a general magnetic permeability of about 2000 is used. Also in this case, it was confirmed that the angle θ ₁ with respect to the medium sliding direction of the metal magnetic film is preferably 5 ° or more and 15 ° or less in order to secure the head output and the uneven wear resistance. .

【００５４】ところで、本実施例の磁気ヘッドのよう
に、トラック幅を１３μｍと挟トラック化し、アジマス
角θ₂ を２０゜以上とした場合に、金属磁性膜を磁気ギ
ャップに対して垂直となる方向に配すると、金属磁性膜
の配置位置が巻線溝形成位置と合致し、金属磁性膜が巻
線溝付近で分断されてしまい、上記磁気ヘッドの高帯域
におけるヘッド出力が低下するといった不都合が生じ
る。しかしながら、本実施例のように、金属磁性膜を磁
気ギャップに対して斜交するように配すると、上記のよ
うな不都合が解消される。By the way, when the track width is narrowed to 13 μm and the azimuth angle θ ₂ is 20 ° or more like the magnetic head of this embodiment, the direction in which the metal magnetic film is perpendicular to the magnetic gap is obtained. When the magnetic magnetic film is arranged on the magnetic head, the position where the metal magnetic film is arranged coincides with the position where the winding groove is formed, the metal magnetic film is divided near the winding groove, and the head output in the high band of the magnetic head decreases. . However, if the metal magnetic film is arranged so as to be oblique to the magnetic gap as in this embodiment, the above-mentioned inconvenience is solved.

【００５５】[0055]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドは、一対の非磁性基板により金属磁性膜
を膜厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半体が、
上記金属磁性膜を突き合わせるようにして接合一体化さ
れており、これら金属磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギ
ャップが形成され、かつ該磁気ギャップのトラック幅が
トラック幅規制溝により規制されているため、金属磁性
膜の膜厚方向の厚さを磁気ギャップ近傍部においてはト
ラック幅と同一とし、残りの部分においては広くしてヘ
ッド効率を十分確保できる厚さとすることができる。従
って、一般的な透磁率２０００程度の磁性金属材料を金
属磁性膜に使用した場合においても良好なヘッド出力が
得られる。As is apparent from the above description, in the magnetic head of the present invention, the pair of magnetic core halves, in which the metal magnetic film is sandwiched between the pair of nonmagnetic substrates in the thickness direction,
Since the metal magnetic films are joined and integrated so as to abut each other, a magnetic gap is formed between the abutting surfaces of these metal magnetic films, and the track width of the magnetic gap is regulated by the track width regulating groove. The thickness of the metal magnetic film in the film thickness direction can be made the same as the track width in the vicinity of the magnetic gap and wide in the remaining part so that the head efficiency can be sufficiently ensured. Therefore, a good head output can be obtained even when a magnetic metal material having a general magnetic permeability of about 2000 is used for the metal magnetic film.

【００５６】また、上記の磁気ヘッドにおいては、前記
一対の磁気コア半体の金属磁性膜が媒体摺動方向に対し
て斜交して略一直線状に連なっており、上記金属磁性膜
と媒体摺動方向のなす角度をθ₁ としたときに５゜≦θ
₁ ≦１５゜であるため、磁気ヘッドの媒体摺動面の媒体
摺動部分（媒体との当たり部分）中における金属磁性膜
の占める割合が減少する、すなわち耐摩耗性の低い部分
の占める割合が減少する。従って、本発明の磁気ヘッド
は耐摩耗性に優れるものとなる。Further, in the above magnetic head, the metal magnetic films of the pair of magnetic core halves obliquely intersect with the medium sliding direction and are connected in a substantially straight line, and the metal magnetic film and the medium sliding member are connected to each other. When the angle formed by the moving direction is θ ₁ , 5 ° ≤ θ
_{Since 1} ≤15 °, the ratio of the metal magnetic film in the medium sliding portion (contact portion with the medium) of the medium sliding surface of the magnetic head decreases, that is, the proportion of the portion having low wear resistance occupies Decrease. Therefore, the magnetic head of the present invention has excellent wear resistance.

【００５７】さらに、本発明の磁気ヘッドにおいては、
上記のような磁気ヘッドの磁気ギャップのトラック幅Ｔ
ｗをＴｗ≦１３μｍとし、磁気ギャップのアジマス角θ
₂ を２０゜≦θ₂ とした場合においても、金属磁性膜が
磁気ギャップに対して斜交するように配されていること
から、金属磁性膜が分断されるといった不都合も生じる
ことがなく、高帯域におけるヘッド出力が低下するとい
った不都合が生じることもない。Further, in the magnetic head of the present invention,
Track width T of the magnetic gap of the above magnetic head
When w is Tw ≦ 13 μm, the azimuth angle θ of the magnetic gap
_{Even when 2 is set} to 20 ° ≦ θ ₂ , since the metal magnetic film is arranged so as to be oblique to the magnetic gap, there is no inconvenience that the metal magnetic film is divided, and the high The inconvenience that the head output in the band is lowered does not occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。FIG. 1 is a perspective view showing a magnetic head to which the present invention is applied.

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドを示す平面図であ
る。FIG. 2 is a plan view showing a magnetic head to which the present invention is applied.

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する方法を
工程順に示すものであり、非磁性基板に鏡面加工を行う
工程を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied, in order of steps, and showing a step of performing mirror finishing on a non-magnetic substrate.

【図４】非磁性基板上に金属磁性膜を形成する工程を示
す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a step of forming a metal magnetic film on a non-magnetic substrate.

【図５】低融点ガラス膜を形成する工程を示す斜視図で
ある。FIG. 5 is a perspective view showing a step of forming a low melting point glass film.

【図６】磁気コアブロックを形成する工程を示す斜視図
である。FIG. 6 is a perspective view showing a step of forming a magnetic core block.

【図７】磁気コア半体ブロックを形成する工程を示す斜
視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a process of forming a magnetic core half block.

【図８】磁気コア半体ブロックに巻線溝を形成する工程
を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing a step of forming a winding groove in the magnetic core half block.

【図９】磁気コア半体ブロックにトラック幅規制溝を形
成する工程を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a step of forming a track width regulating groove in the magnetic core half body block.

【図１０】磁気コア半体ブロックを接合する工程を示す
斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a process of joining magnetic core half blocks.

【図１１】磁気ヘッドブロックを分離する工程を示す平
面図である。FIG. 11 is a plan view showing a step of separating the magnetic head block.

【図１２】磁気ヘッド実施例サンプル１を示す平面図で
ある。FIG. 12 is a plan view showing a magnetic head example sample 1;

【図１３】磁気ヘッド実施例サンプル２を示す平面図で
ある。FIG. 13 is a plan view showing a magnetic head example sample 2;

【図１４】磁気ヘッド実施例サンプル３を示す平面図で
ある。FIG. 14 is a plan view showing a magnetic head example sample 3;

【図１５】磁気ヘッド比較例サンプル１を示す平面図で
ある。FIG. 15 is a plan view showing a comparative example 1 of a magnetic head.

【図１６】磁気ヘッド比較例サンプル２を示す平面図で
ある。16 is a plan view showing a magnetic head comparative example sample 2. FIG.

【図１７】磁気ヘッド実施例サンプル１〜３および磁気
ヘッド比較例サンプル１，２の媒体摺動時間と磁気ヘッ
ド摩耗量の関係を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing a relationship between a medium sliding time and a magnetic head wear amount of magnetic head example samples 1 to 3 and magnetic head comparative example samples 1 and 2.

【図１８】磁気ヘッド実施例サンプル１〜３および磁気
ヘッド比較例サンプル１，２の周波数と相対出力の関係
を示す図である。FIG. 18 is a diagram showing the relationship between frequency and relative output of magnetic head example samples 1 to 3 and magnetic head comparative example samples 1 and 2;

【図１９】磁気ヘッド実施例サンプル１〜３および磁気
ヘッド比較例サンプル１，２の媒体摺動時間と出力低下
量の関係を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing the relationship between the medium sliding time and the output reduction amount of magnetic head example samples 1 to 3 and magnetic head comparative example samples 1 and 2.

【図２０】従来の磁気ヘッドの一例を示す斜視図であ
る。FIG. 20 is a perspective view showing an example of a conventional magnetic head.

【図２１】従来の磁気ヘッドのトラック幅とヘッド効率
の関係を示す図である。FIG. 21 is a diagram showing the relationship between the track width and head efficiency of a conventional magnetic head.

【図２２】従来の磁気ヘッドの他の例を示す斜視図であ
る。FIG. 22 is a perspective view showing another example of a conventional magnetic head.

【図２３】従来の磁気ヘッドの周波数と相対出力の関係
を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing the relationship between frequency and relative output of a conventional magnetic head.

【図２４】従来の磁気ヘッドの媒体摺動時間と磁気ヘッ
ド摩耗量の関係を示す図である。FIG. 24 is a diagram showing a relationship between a medium sliding time and a magnetic head wear amount of a conventional magnetic head.

【符号の説明】 １，２・・・金属磁性膜 ３，４・・・第１の非磁性基板 ５，６・・・第２の非磁性基板 ７，８・・・磁気コア半体 １０ａ，１０ｂ，１１ａ，１１ｂ・・・トラック幅規制
溝 ｇ・・・磁気ギャップ Ｍ・・・媒体摺動方向 Ｔｗ・・・トラック幅 θ₁ ・・・角度 θ₂ ・・・アジマス角[Description of Reference Signs] 1, ... Metal magnetic film 3, 4 ... First non-magnetic substrate 5, 6 ... Second non-magnetic substrate 7, 8 ... Magnetic core half 10a, 10b, 11a, 11b ... Track width regulating groove g ... Magnetic gap M ... Medium sliding direction Tw ... Track width θ ₁ ... Angle θ ₂ ... Azimuth angle

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 一対の非磁性基板により金属磁性膜を膜
厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半体が、上記
金属磁性膜を突き合わせるようにして接合一体化されて
おり、これら金属磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギャッ
プが形成され、かつ該磁気ギャップのトラック幅がトラ
ック幅規制溝により規制されている磁気ヘッドにおい
て、 前記一対の磁気コア半体の金属磁性膜が媒体摺動方向に
対して斜交して略一直線状に連なっており、 上記金属磁性膜と媒体摺動方向のなす角度をθ₁ とした
ときに５゜≦θ₁ ≦１５゜であることを特徴とする磁気
ヘッド。1. A pair of magnetic core halves in which a metal magnetic film is sandwiched by a pair of non-magnetic substrates from the thickness direction are joined and integrated so that the metal magnetic films are butted. In a magnetic head in which a magnetic gap is formed between the abutting surfaces of the films, and the track width of the magnetic gap is restricted by a track width restricting groove, the metal magnetic films of the pair of magnetic core halves are arranged in the medium sliding direction. A magnetic head which is diagonally crossed and is connected in a substantially straight line, and 5 ° ≦ θ ₁ ≦ 15 ° when the angle formed by the metal magnetic film and the medium sliding direction is θ _1. . 【請求項２】 磁気ギャップのトラック幅をＴｗとした
ときにＴｗ≦１３μｍ、磁気ギャップのアジマス角をθ
₂ としたときに２０゜≦θ₂ であることを特徴とする請
求項１記載の磁気ヘッド。2. When the track width of the magnetic gap is Tw, Tw ≦ 13 μm, and the azimuth angle of the magnetic gap is θ.
_2. The magnetic head according to claim 1, wherein 20 ° ≦ θ ₂ when ₂ .