JPH07102383A - 機構部品 - Google Patents
機構部品Info
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- JPH07102383A JPH07102383A JP5245839A JP24583993A JPH07102383A JP H07102383 A JPH07102383 A JP H07102383A JP 5245839 A JP5245839 A JP 5245839A JP 24583993 A JP24583993 A JP 24583993A JP H07102383 A JPH07102383 A JP H07102383A
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- JP
- Japan
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- plating
- film
- electroless
- mechanical component
- self
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H31/00—Air-break switches for high tension without arc-extinguishing or arc-preventing means
- H01H31/02—Details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】機械的に連結され、互いに回動或いは摺動接触
する機構部品であって、特に接触部の面圧が高いところ
で使用しても、錆の発生することがなく、長期にわたっ
て確実に動作することのできる機構部品を提供する。 【構成】機構部品の少なくとも一方の接触面に自己潤滑
性粒子を分散させた無電解Ni−Ｐメッキ又はNi−Ｂメッ
キにより皮膜を形成する。
する機構部品であって、特に接触部の面圧が高いところ
で使用しても、錆の発生することがなく、長期にわたっ
て確実に動作することのできる機構部品を提供する。 【構成】機構部品の少なくとも一方の接触面に自己潤滑
性粒子を分散させた無電解Ni−Ｐメッキ又はNi−Ｂメッ
キにより皮膜を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、真空遮断器
の操作機構等の、特に機械的に連結され、互いに回動或
いは摺動接触する電気機器の機構部品に関する。
の操作機構等の、特に機械的に連結され、互いに回動或
いは摺動接触する電気機器の機構部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば真空遮断器の操作機構は、レバ
ー、爪、ピン、ローラ、ロッドなどの部品で構成され
る。これらの部品はその連結部において互いに接触した
り回転或いは摺動接触するので、これらの部分に潤滑油
を塗布したり注入したりしてその耐磨耗性を上げてい
る。しかしながら、この方法は注油等のメンテナンスを
必要とする。このため、最近ではこれらの部分に耐磨耗
性の優れた材料、例えばTiC 、TiN 、TiCN等の皮膜（セ
ラミック膜）をコーティングして、メンテナンスを必要
とすることなく長期にわたる動作信頼性を確保すること
が提案されている（例えば、特開平３─８２３２号公
報）。しかし、このような皮膜（セラミック膜）は耐蝕
性の点においてやや劣る。例えば、このようにして処理
された機構部品を、塩水噴霧試験を施したところ試験後
数時間にして点状赤錆が全面にわたって発生することが
確認されている。この原因は皮膜に存在する微細な透孔
や割れにあるものと考えられている。このため、機構部
品のコーティング部分にニッケルやクロムをメッキして
下地層を形成し、その上に前記の皮膜を形成することも
提案されている（例えば、特開平４─７３８３３号公
報）。
ー、爪、ピン、ローラ、ロッドなどの部品で構成され
る。これらの部品はその連結部において互いに接触した
り回転或いは摺動接触するので、これらの部分に潤滑油
を塗布したり注入したりしてその耐磨耗性を上げてい
る。しかしながら、この方法は注油等のメンテナンスを
必要とする。このため、最近ではこれらの部分に耐磨耗
性の優れた材料、例えばTiC 、TiN 、TiCN等の皮膜（セ
ラミック膜）をコーティングして、メンテナンスを必要
とすることなく長期にわたる動作信頼性を確保すること
が提案されている（例えば、特開平３─８２３２号公
報）。しかし、このような皮膜（セラミック膜）は耐蝕
性の点においてやや劣る。例えば、このようにして処理
された機構部品を、塩水噴霧試験を施したところ試験後
数時間にして点状赤錆が全面にわたって発生することが
確認されている。この原因は皮膜に存在する微細な透孔
や割れにあるものと考えられている。このため、機構部
品のコーティング部分にニッケルやクロムをメッキして
下地層を形成し、その上に前記の皮膜を形成することも
提案されている（例えば、特開平４─７３８３３号公
報）。
【０００３】しかしながら、このようにして形成された
機構部品では、下地層が通常のニッケルメッキ層または
クロムメッキ層により形成されているので、例えばニッ
ケルメッキの場合その硬度がＨｖ２００程度と低く、長
期にわたる使用に際して接触部の面圧が高いところでは
下地層が割れてしまうという問題がある。下地層の割れ
は、長期の使用に際してその部分に水分が浸透して錆の
発生する原因となる。このような問題点を解決するた
め、下地層を無電解ニッケルメッキにより形成すること
も提案されている。この場合、通常のニッケルメッキに
比べて高い硬度のものが得られる。例えば、Ni−Ｐメッ
キで処理した場合、その膜の硬度はＨｖ４００〜５００
程度、Ni−Ｂメッキで処理した場合、Ｈｖ７００程度で
あり、さらに、このような無電解ニッケルメッキ処理に
より得られたものを例えば、６００℃、好ましくは４０
０℃付近の温度で熱処理をすると、それぞれ硬度をＨｖ
７００ないし９００程度に上昇させることができること
が示されている。このようにして形成された下地層は充
分な硬度を持っているので、仮に接触部の面圧が高いと
ころで、長期にわたって使用しても下地層の割れが生ず
ることなく信頼性の高い機構部品が得られる。
機構部品では、下地層が通常のニッケルメッキ層または
クロムメッキ層により形成されているので、例えばニッ
ケルメッキの場合その硬度がＨｖ２００程度と低く、長
期にわたる使用に際して接触部の面圧が高いところでは
下地層が割れてしまうという問題がある。下地層の割れ
は、長期の使用に際してその部分に水分が浸透して錆の
発生する原因となる。このような問題点を解決するた
め、下地層を無電解ニッケルメッキにより形成すること
も提案されている。この場合、通常のニッケルメッキに
比べて高い硬度のものが得られる。例えば、Ni−Ｐメッ
キで処理した場合、その膜の硬度はＨｖ４００〜５００
程度、Ni−Ｂメッキで処理した場合、Ｈｖ７００程度で
あり、さらに、このような無電解ニッケルメッキ処理に
より得られたものを例えば、６００℃、好ましくは４０
０℃付近の温度で熱処理をすると、それぞれ硬度をＨｖ
７００ないし９００程度に上昇させることができること
が示されている。このようにして形成された下地層は充
分な硬度を持っているので、仮に接触部の面圧が高いと
ころで、長期にわたって使用しても下地層の割れが生ず
ることなく信頼性の高い機構部品が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな機構部品は、上述のように、先ず下地層を無電解ニ
ッケルメッキ処理により形成し、その上にセラミック皮
膜を形成するという煩瑣な製造工程を要する。ところ
で、無電解ニッケルメッキ処理により形成さた下地層は
充分な硬度を有するものであるので、この下地層がもし
充分な潤滑性を有しておれば、従来のセラミック皮膜に
代えることができる。
うな機構部品は、上述のように、先ず下地層を無電解ニ
ッケルメッキ処理により形成し、その上にセラミック皮
膜を形成するという煩瑣な製造工程を要する。ところ
で、無電解ニッケルメッキ処理により形成さた下地層は
充分な硬度を有するものであるので、この下地層がもし
充分な潤滑性を有しておれば、従来のセラミック皮膜に
代えることができる。
【０００５】この発明はこのような考え方から出発する
もので、その目的は、このような接触部の面圧が高いと
ころで使用しても、下地層の割れ等が生ずることなく、
従って錆の発生することなく、長期にわたって確実に動
作することのできる機構部品をより簡易な方法で提供こ
とにある。
もので、その目的は、このような接触部の面圧が高いと
ころで使用しても、下地層の割れ等が生ずることなく、
従って錆の発生することなく、長期にわたって確実に動
作することのできる機構部品をより簡易な方法で提供こ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、この
目的は、機械的に連結され、互いに回動或いは摺動接触
する機構部品であって、少なくともその一方の接触面に
自己潤滑性粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ処理
により形成された皮膜を備えることにより達成される。
この場合、無電解ニッケルメッキ処理としては無電解Ni
−Ｐメッキ或いは無電解Ni−Ｂメッキが特に適してい
る。そしてかかる構成において、自己潤滑性粒子として
はポリテトラフルオロエチレン、グラファイト或いは二
硫化モリブデンが使用される。さらにまた、このよにし
て形成された皮膜ガ熱処理される。
目的は、機械的に連結され、互いに回動或いは摺動接触
する機構部品であって、少なくともその一方の接触面に
自己潤滑性粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ処理
により形成された皮膜を備えることにより達成される。
この場合、無電解ニッケルメッキ処理としては無電解Ni
−Ｐメッキ或いは無電解Ni−Ｂメッキが特に適してい
る。そしてかかる構成において、自己潤滑性粒子として
はポリテトラフルオロエチレン、グラファイト或いは二
硫化モリブデンが使用される。さらにまた、このよにし
て形成された皮膜ガ熱処理される。
【０００７】
【作用】この発明の構成によれば、機構部品の少なくと
もその一方の接触面に自己潤滑性粒子を分散させた無電
解Ni−Ｐメッキ又は無電解Ni−Ｂメッキで形成された皮
膜を備える。この皮膜は、通常のニッケルメッキにより
形成された皮膜が硬度Ｈｖ２００程度であるのに対し
て、無電解ニッケルメッキにより形成された皮膜はこれ
よりかなり硬度が高く、例えばNi−Ｐメッキで処理した
場合、その皮膜の硬度はＨｖ４００〜５００程度、Ni−
Ｂメッキで処理した場合、Ｈｖ７００程度であり、充分
な硬度を示し、その上、皮膜には自己潤滑性粒子、例え
ばポリテトラフルオロエチレン、グラファイト或いは二
硫化モリブデンを分散させてあるので潤滑性もよく、従
ってただ単に無電解ニッケルメッキによる一重の皮膜を
形成するだけで、潤滑性及び硬度に優れ、従って防錆性
の点で著しく優れたものとなる。さらに、この皮膜を熱
処理することにより硬度が一層向上するので、特に接触
部の面圧が高いところでも使用することができる。
もその一方の接触面に自己潤滑性粒子を分散させた無電
解Ni−Ｐメッキ又は無電解Ni−Ｂメッキで形成された皮
膜を備える。この皮膜は、通常のニッケルメッキにより
形成された皮膜が硬度Ｈｖ２００程度であるのに対し
て、無電解ニッケルメッキにより形成された皮膜はこれ
よりかなり硬度が高く、例えばNi−Ｐメッキで処理した
場合、その皮膜の硬度はＨｖ４００〜５００程度、Ni−
Ｂメッキで処理した場合、Ｈｖ７００程度であり、充分
な硬度を示し、その上、皮膜には自己潤滑性粒子、例え
ばポリテトラフルオロエチレン、グラファイト或いは二
硫化モリブデンを分散させてあるので潤滑性もよく、従
ってただ単に無電解ニッケルメッキによる一重の皮膜を
形成するだけで、潤滑性及び硬度に優れ、従って防錆性
の点で著しく優れたものとなる。さらに、この皮膜を熱
処理することにより硬度が一層向上するので、特に接触
部の面圧が高いところでも使用することができる。
【０００８】なお、無電解ニッケルメッキ層に自己潤滑
性粒子を分散させるには、無電解ニッケル液に先ず自己
潤滑性粒子、例えばポリテトラフルオロエチレン、グラ
ファイト或いは二硫化モリブデン等を分散させておき、
このメッキ液に機構部品を浸漬することにより行われ
る。
性粒子を分散させるには、無電解ニッケル液に先ず自己
潤滑性粒子、例えばポリテトラフルオロエチレン、グラ
ファイト或いは二硫化モリブデン等を分散させておき、
このメッキ液に機構部品を浸漬することにより行われ
る。
【０００９】
【実施例】以下この発明を真空遮断器の操作機構に適用
した実施例に基づいて説明する。図１はこのような真空
遮断器の操作機構を示す側面図である。図１において、
真空バルブ１は絶縁ロッド１２、レバー１０および接触
ばね９を介してローラ８の軸に連結されている。ローラ
８はラッチレバー７に回転自由に取り付けられており、
このレバー７の先端に回転自由なローラ１３が取り付け
られている。ローラ１３は図示の真空遮断器の閉状態で
爪１４と係合している。図２に操作機構部の要部を拡大
して示し、ロッド５が投入電磁石の励磁により駆動され
てローラ８を押し上げた状態を示している。これにより
開閉軸６が時計方向に回動し、真空バルブ内の可動電極
が接触ばね９、レバー１０および絶縁ロッド１２を介し
て押し下げられ、固定電極との間を閉路する。同時に爪
１４がローラ１３と係合して真空遮断器の開状態を保持
する。
した実施例に基づいて説明する。図１はこのような真空
遮断器の操作機構を示す側面図である。図１において、
真空バルブ１は絶縁ロッド１２、レバー１０および接触
ばね９を介してローラ８の軸に連結されている。ローラ
８はラッチレバー７に回転自由に取り付けられており、
このレバー７の先端に回転自由なローラ１３が取り付け
られている。ローラ１３は図示の真空遮断器の閉状態で
爪１４と係合している。図２に操作機構部の要部を拡大
して示し、ロッド５が投入電磁石の励磁により駆動され
てローラ８を押し上げた状態を示している。これにより
開閉軸６が時計方向に回動し、真空バルブ内の可動電極
が接触ばね９、レバー１０および絶縁ロッド１２を介し
て押し下げられ、固定電極との間を閉路する。同時に爪
１４がローラ１３と係合して真空遮断器の開状態を保持
する。
【００１０】以上のように、真空遮断器の操作機構には
回動或いは摺動接触する機構部品が存在する。特にロー
ラ１３および爪１４とは互いに係合して真空遮断器の開
状態或いは閉状態を保持するものであり、しかもこの部
品は接触ばねの力を受けるので大きな荷重がかかる。こ
のような高荷重のかかる部分には、特にこの発明を適用
するとにより、長期にわたり操作機構の動作の信頼性が
得られる。
回動或いは摺動接触する機構部品が存在する。特にロー
ラ１３および爪１４とは互いに係合して真空遮断器の開
状態或いは閉状態を保持するものであり、しかもこの部
品は接触ばねの力を受けるので大きな荷重がかかる。こ
のような高荷重のかかる部分には、特にこの発明を適用
するとにより、長期にわたり操作機構の動作の信頼性が
得られる。
【００１１】図３はこのような機構部品にこの発明を適
用した実施例で、例えばローラ、爪などの機構部品２０
に、自己潤滑性粒子を分散させた無電解Ni−Ｂメッキ或
いは無電解Ni−Ｐメッキ処理により皮膜２１を形成した
ものである。この場合、機構部品の皮膜を無電解Ni−Ｂ
メッキで形成した場合にはその硬度はＨｖ７００程度で
あり、さらに熱処理することによりＨｖ９００程度に上
げることができた。また、無電解Ni−Ｐメッキで処理し
た場合にはその硬度はＨｖ４００〜５００程度であり、
さらに熱処理することによりＨｖ６００〜７００程度に
上げることができた。なお、この熱処理により硬度が上
がるのは、メッキ上がり状態でNi中に溶け込んでいるＢ
やＰが加熱によりNiと化合して化合物をつくるためと考
えられるが、温度を６００℃以上に上げると、化合物が
成長して却って軟化する。従ってこの熱処理温度は６０
０℃以下、特に４００℃近辺がよい。
用した実施例で、例えばローラ、爪などの機構部品２０
に、自己潤滑性粒子を分散させた無電解Ni−Ｂメッキ或
いは無電解Ni−Ｐメッキ処理により皮膜２１を形成した
ものである。この場合、機構部品の皮膜を無電解Ni−Ｂ
メッキで形成した場合にはその硬度はＨｖ７００程度で
あり、さらに熱処理することによりＨｖ９００程度に上
げることができた。また、無電解Ni−Ｐメッキで処理し
た場合にはその硬度はＨｖ４００〜５００程度であり、
さらに熱処理することによりＨｖ６００〜７００程度に
上げることができた。なお、この熱処理により硬度が上
がるのは、メッキ上がり状態でNi中に溶け込んでいるＢ
やＰが加熱によりNiと化合して化合物をつくるためと考
えられるが、温度を６００℃以上に上げると、化合物が
成長して却って軟化する。従ってこの熱処理温度は６０
０℃以下、特に４００℃近辺がよい。
【００１２】なお、以上の説明では、この発明を真空遮
断器の操作機構の機構部品に適用した例を示した。しか
し、この発明はこのような機構部品に限らず、これと同
等の課題を有する機構部品についても適用できることは
勿論である。
断器の操作機構の機構部品に適用した例を示した。しか
し、この発明はこのような機構部品に限らず、これと同
等の課題を有する機構部品についても適用できることは
勿論である。
【００１３】
【発明の効果】この発明によれば、通常のニッケルメッ
キにより形成された膜が硬度Ｈｖ２００程度であるのに
対して、無電解Ni−Ｐメッキ又は無電解Ni−Ｂメッキで
形成された皮膜はそれよりかなり硬度が高く、例えばNi
−Ｐメッキで処理した場合、その膜の硬度はＨｖ４００
〜５００程度、Ni−Ｂメッキで処理した場合、Ｈｖ７０
０程度であり、さらに、このようにして形成された皮膜
を６００℃以下、好ましくは４００℃付近の温度で熱処
理することにより、それぞれ硬度をＨｖ６００乃至７０
０もしくは９００程度に上げることができ、その上、皮
膜には自己潤滑性粒子が分散されているので潤滑もよ
く、長期にわたって高い面圧を受ける部分に使用しても
これに対して充分耐えることができ、皮膜の割れのな
い、従ってその部分の発錆を防止した機構部品が得られ
る。
キにより形成された膜が硬度Ｈｖ２００程度であるのに
対して、無電解Ni−Ｐメッキ又は無電解Ni−Ｂメッキで
形成された皮膜はそれよりかなり硬度が高く、例えばNi
−Ｐメッキで処理した場合、その膜の硬度はＨｖ４００
〜５００程度、Ni−Ｂメッキで処理した場合、Ｈｖ７０
０程度であり、さらに、このようにして形成された皮膜
を６００℃以下、好ましくは４００℃付近の温度で熱処
理することにより、それぞれ硬度をＨｖ６００乃至７０
０もしくは９００程度に上げることができ、その上、皮
膜には自己潤滑性粒子が分散されているので潤滑もよ
く、長期にわたって高い面圧を受ける部分に使用しても
これに対して充分耐えることができ、皮膜の割れのな
い、従ってその部分の発錆を防止した機構部品が得られ
る。
【図１】この発明の適用例としての真空遮断器の操作機
構を示す側面図
構を示す側面図
【図２】図１の要部の拡大図
【図３】この発明を適用した機構部品の要部の拡大図
２０ 機構部品 ２１ 皮膜 ２２ 自己潤滑性粒子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 敏夫 神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号 富士電機株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】機械的に連結され、互いに回動或いは摺動
接触する機構部品であって、少なくともその一方の接触
面に自己潤滑性粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ
処理により形成された皮膜を備えたことを特徴とする機
構部品。 - 【請求項２】請求項１記載のものにおいて、皮膜が無電
解Ni−Ｐメッキで形成されたものであることを特徴とす
る機構部品。 - 【請求項３】請求項１記載のものにおいて、皮膜が無電
解Ni−Ｂメッキで形成されたものであることを特徴とす
る機構部品。 - 【請求項４】請求項１ないし３のいずれかの一つに記載
のものにおいて、自己潤滑性粒子がポリテトラフルオロ
エチレンであることを特徴とする機構部品。 - 【請求項５】請求項１ないし３のいずれかの一つに記載
のものにおいて、自己潤滑性粒子がグラファイトである
ことを特徴とする機構部品。 - 【請求項６】請求項１ないし３のいずれかの一つに記載
のものにおいて、自己潤滑性粒子が二硫化モリブデンで
あることを特徴とする機構部品。 - 【請求項７】請求項１ないし６のいずれかの一つに記載
のものにおいて、皮膜が加熱処理されたものであること
を特徴とする機構部品。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5245839A JPH07102383A (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 機構部品 |
| DE4434303A DE4434303C2 (de) | 1993-10-01 | 1994-09-26 | Mechanische Teile in dem Wirkungsmechanismus eines Rückschlagventils |
| KR1019940024324A KR950012504A (ko) | 1993-10-01 | 1994-09-27 | 기구부품 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5245839A JPH07102383A (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 機構部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07102383A true JPH07102383A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17139623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5245839A Pending JPH07102383A (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 機構部品 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07102383A (ja) |
| KR (1) | KR950012504A (ja) |
| DE (1) | DE4434303C2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6190789B1 (en) * | 1997-10-27 | 2001-02-20 | Nihon Parkerizing Co., Ltd. | Slide member |
| US6911488B2 (en) | 2000-09-27 | 2005-06-28 | Shamrock Technologies, Inc. | Physical methods of dispersing characteristic use particles and compositions thereof |
| JP2006184081A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Kanai Hiroaki | プローブカード用プローブピン |
| JP2009210552A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-09-17 | Seiko Epson Corp | 接触部品および時計 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH691384A5 (de) * | 1995-06-01 | 2001-07-13 | Rieter Ag Maschf | Textilmaschinenteil mit eingelagerten Festschmierstoffen. |
| FR2872884B1 (fr) * | 2004-07-07 | 2006-11-10 | Snecma Moteurs Sa | Procede de protection des surfaces de contact entre deux pieces metalliques beneficiant d'une telle protection |
| FR3011308B1 (fr) * | 2013-10-02 | 2017-01-13 | Vallourec Oil & Gas France | Element de connexion d'un composant tubulaire recouvert d'un depot metallique composite |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1621206B2 (de) * | 1967-01-18 | 1971-12-16 | Friedr. Blasberg Gmbh & Co, Kg, 5650 Solingen | Verfahren zur beschichtung gleitend reibend auf verschleiss beanspruchter werkstuecke |
| DE3333121A1 (de) * | 1983-09-14 | 1985-03-28 | AHC-Oberflächentechnik, Friebe & Reininghaus GmbH & Co KG, 5014 Kerpen | Dispersionsschichten |
| US4830889A (en) * | 1987-09-21 | 1989-05-16 | Wear-Cote International, Inc. | Co-deposition of fluorinated carbon with electroless nickel |
| JP3017816B2 (ja) * | 1991-02-20 | 2000-03-13 | 清原 まさ子 | 流体制御器 |
-
1993
- 1993-10-01 JP JP5245839A patent/JPH07102383A/ja active Pending
-
1994
- 1994-09-26 DE DE4434303A patent/DE4434303C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-09-27 KR KR1019940024324A patent/KR950012504A/ko not_active Application Discontinuation
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