JPH0697137A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JPH0697137A JPH0697137A JP27087392A JP27087392A JPH0697137A JP H0697137 A JPH0697137 A JP H0697137A JP 27087392 A JP27087392 A JP 27087392A JP 27087392 A JP27087392 A JP 27087392A JP H0697137 A JPH0697137 A JP H0697137A
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- cleaning
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板上面に対する洗浄具による洗浄と、洗浄
後の乾燥や基板の下面に対する洗浄のいずれをも良好に
行えるようにする。 【構成】 角型基板Ｗを水平姿勢に載置支持する支持ピ
ン１９と角型基板Ｗの水平方向での支持位置を決める位
置決めピン２０とを、鉛直方向の軸芯Ｐ１周りで回転す
る第１の回転台１８に備えて第１の基板支持手段１６を
構成し、角型基板をＷ載置支持して鉛直方向の軸芯Ｐ１
周りで回転する第２の回転台２５の上面に、角型基板Ｗ
を真空吸引によって吸着保持する吸着孔３０を形成して
第２の基板支持手段１７を構成し、第２の回転台２５を
昇降することにより、第２の回転台２５に角型基板Ｗを
吸着保持してその上面を洗浄ブラシ３で摺接洗浄する状
態と、支持ピン１９に角型基板Ｗを載置支持して、洗浄
液ノズル３７から洗浄液を供給して下面を洗浄したり振
り切り乾燥したりする状態とに切換える。
後の乾燥や基板の下面に対する洗浄のいずれをも良好に
行えるようにする。 【構成】 角型基板Ｗを水平姿勢に載置支持する支持ピ
ン１９と角型基板Ｗの水平方向での支持位置を決める位
置決めピン２０とを、鉛直方向の軸芯Ｐ１周りで回転す
る第１の回転台１８に備えて第１の基板支持手段１６を
構成し、角型基板をＷ載置支持して鉛直方向の軸芯Ｐ１
周りで回転する第２の回転台２５の上面に、角型基板Ｗ
を真空吸引によって吸着保持する吸着孔３０を形成して
第２の基板支持手段１７を構成し、第２の回転台２５を
昇降することにより、第２の回転台２５に角型基板Ｗを
吸着保持してその上面を洗浄ブラシ３で摺接洗浄する状
態と、支持ピン１９に角型基板Ｗを載置支持して、洗浄
液ノズル３７から洗浄液を供給して下面を洗浄したり振
り切り乾燥したりする状態とに切換える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、フォト
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板等の基板を洗浄するために、基板を
水平姿勢に載置支持して鉛直方向の軸芯周りで回転する
基板支持手段と、基板を摺接洗浄する洗浄具とを備えた
基板洗浄装置に関する。
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板等の基板を洗浄するために、基板を
水平姿勢に載置支持して鉛直方向の軸芯周りで回転する
基板支持手段と、基板を摺接洗浄する洗浄具とを備えた
基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述のような基板洗浄装置において基板
を回転可能に支持する場合、従来、特開平２−８６１４
４号公報に記載の如く、鉛直方向の軸芯周りで回転する
回転台に、基板を載置支持する支持ピンと基板の水平方
向での支持位置を決める位置決め部材とを備えて基板を
機械的に保持するか、あるいは、基板を載置支持して鉛
直方向の軸芯周りで回転する回転台の上面に、基板を真
空吸引によって吸着保持する吸着孔を形成して基板を真
空吸着するか、いずれかの方式をとっていた。
を回転可能に支持する場合、従来、特開平２−８６１４
４号公報に記載の如く、鉛直方向の軸芯周りで回転する
回転台に、基板を載置支持する支持ピンと基板の水平方
向での支持位置を決める位置決め部材とを備えて基板を
機械的に保持するか、あるいは、基板を載置支持して鉛
直方向の軸芯周りで回転する回転台の上面に、基板を真
空吸引によって吸着保持する吸着孔を形成して基板を真
空吸着するか、いずれかの方式をとっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板を
回転させながらその上面を洗浄具で摺接して洗浄処理す
る場合には、上述の機械的に基板を保持する方式では、
基板の周端面に当接する位置決め部材が洗浄具に接触す
るため、その接触に起因して位置決め部材近傍における
洗浄能力が低下するとともに、洗浄具の寿命が短くなる
欠点があった。
回転させながらその上面を洗浄具で摺接して洗浄処理す
る場合には、上述の機械的に基板を保持する方式では、
基板の周端面に当接する位置決め部材が洗浄具に接触す
るため、その接触に起因して位置決め部材近傍における
洗浄能力が低下するとともに、洗浄具の寿命が短くなる
欠点があった。
【０００４】一方、基板を真空吸着する方式では、洗浄
後に回転によって洗浄液を振り切る、いわゆるスピン乾
燥を行っても、回転台と接触した基板下面に水滴等が残
って跡が付く欠点があり、また、回転台と接触した状態
となる基板下面に対して洗浄できない欠点があった。
後に回転によって洗浄液を振り切る、いわゆるスピン乾
燥を行っても、回転台と接触した基板下面に水滴等が残
って跡が付く欠点があり、また、回転台と接触した状態
となる基板下面に対して洗浄できない欠点があった。
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板上面に対する洗浄具による洗浄
と、洗浄後の乾燥や基板の下面に対する洗浄のいずれを
も良好に行えるようにすることを目的とする。
たものであって、基板上面に対する洗浄具による洗浄
と、洗浄後の乾燥や基板の下面に対する洗浄のいずれを
も良好に行えるようにすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述のような
目的を達成するために、基板を水平姿勢に載置支持して
鉛直方向の軸芯周りで回転する基板支持手段と、基板を
摺接洗浄する洗浄具とを備えた基板洗浄装置において、
基板支持手段を、鉛直方向の軸芯周りで回転する第１の
回転台に、基板を載置支持する支持ピンと基板の水平方
向での支持位置を決める位置決め部材とを備えた第１の
基板支持手段と、鉛直方向の軸芯周りで回転する第２の
回転台の上面に、基板を真空吸引によって吸着保持する
吸着孔を形成した第２の基板支持手段とから構成し、か
つ、第１の基板支持手段と第２の基板支持手段とを、支
持ピンに基板を載置支持する位置と、第２の回転台に基
板を吸着保持する位置とに相対的に昇降する基板支持手
段切換機構と、基板の下面に洗浄液を供給する下面洗浄
手段とを備えて構成する。
目的を達成するために、基板を水平姿勢に載置支持して
鉛直方向の軸芯周りで回転する基板支持手段と、基板を
摺接洗浄する洗浄具とを備えた基板洗浄装置において、
基板支持手段を、鉛直方向の軸芯周りで回転する第１の
回転台に、基板を載置支持する支持ピンと基板の水平方
向での支持位置を決める位置決め部材とを備えた第１の
基板支持手段と、鉛直方向の軸芯周りで回転する第２の
回転台の上面に、基板を真空吸引によって吸着保持する
吸着孔を形成した第２の基板支持手段とから構成し、か
つ、第１の基板支持手段と第２の基板支持手段とを、支
持ピンに基板を載置支持する位置と、第２の回転台に基
板を吸着保持する位置とに相対的に昇降する基板支持手
段切換機構と、基板の下面に洗浄液を供給する下面洗浄
手段とを備えて構成する。
【０００７】
【作用】本発明の基板洗浄装置の構成によれば、基板上
面を洗浄具で摺接洗浄するときには、第２の基板支持手
段により基板を吸着保持させ、位置決め部材に邪魔され
ること無く洗浄でき、一方、基板の下面の洗浄や回転に
よる振り切り乾燥を行うときには、第１の基板支持手段
により基板を機械的に保持させ、水滴等の跡を付けたり
せずに下面全面を良好に洗浄できるとともに乾燥するこ
とができる。
面を洗浄具で摺接洗浄するときには、第２の基板支持手
段により基板を吸着保持させ、位置決め部材に邪魔され
ること無く洗浄でき、一方、基板の下面の洗浄や回転に
よる振り切り乾燥を行うときには、第１の基板支持手段
により基板を機械的に保持させ、水滴等の跡を付けたり
せずに下面全面を良好に洗浄できるとともに乾燥するこ
とができる。
【０００８】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【０００９】図１は、本発明に係る基板洗浄装置の実施
例を示す一部省略側面図であり、この図において、１は
基板支持手段を示し、角型基板Ｗを水平姿勢に載置して
鉛直方向の第１の回転軸芯Ｐ１周りで回転するように構
成されている。
例を示す一部省略側面図であり、この図において、１は
基板支持手段を示し、角型基板Ｗを水平姿勢に載置して
鉛直方向の第１の回転軸芯Ｐ１周りで回転するように構
成されている。
【００１０】角型基板Ｗの上方に位置させて、揺動アー
ム２の先端側に、前記第１の回転軸芯Ｐ１と平行な第２
の回転軸芯Ｐ２（図２参照）周りで回転可能に洗浄ブラ
シ３が取り付けられるとともに、洗浄ブラシ３と、揺動
アーム２に設けた第１の電動モータ４とが第１のベルト
式伝動機構５を介して連動連結されている。洗浄ブラシ
３は、ブラシ本体の下部にナイロン、モヘア等を材質と
する毛を植設して構成されている。上記洗浄ブラシ３に
代えて、洗浄液を滲み込ませるフェルト状のものとか、
ドラム型のブラシなどを用いても良く、それらをして洗
浄具と総称する。
ム２の先端側に、前記第１の回転軸芯Ｐ１と平行な第２
の回転軸芯Ｐ２（図２参照）周りで回転可能に洗浄ブラ
シ３が取り付けられるとともに、洗浄ブラシ３と、揺動
アーム２に設けた第１の電動モータ４とが第１のベルト
式伝動機構５を介して連動連結されている。洗浄ブラシ
３は、ブラシ本体の下部にナイロン、モヘア等を材質と
する毛を植設して構成されている。上記洗浄ブラシ３に
代えて、洗浄液を滲み込ませるフェルト状のものとか、
ドラム型のブラシなどを用いても良く、それらをして洗
浄具と総称する。
【００１１】揺動アーム２を一体的に設けたアーム支軸
６が、基台７に昇降および回転可能に設けられるととも
に、アーム支軸６と第２の電動モータ８とが第２のベル
ト式伝動機構９を介して連動連結され、洗浄ブラシ３
を、待機位置Ａ、角型基板Ｗを回転する第１の回転軸芯
Ｐ１に相当する回転中心位置Ｂ、および、角型基板Ｗの
回転軌跡外の外方側位置Ｃにわたって駆動変位できるよ
うに構成されている。
６が、基台７に昇降および回転可能に設けられるととも
に、アーム支軸６と第２の電動モータ８とが第２のベル
ト式伝動機構９を介して連動連結され、洗浄ブラシ３
を、待機位置Ａ、角型基板Ｗを回転する第１の回転軸芯
Ｐ１に相当する回転中心位置Ｂ、および、角型基板Ｗの
回転軌跡外の外方側位置Ｃにわたって駆動変位できるよ
うに構成されている。
【００１２】アーム支軸６の下方にエアシリンダ１０が
設けられるとともに、そのエアシリンダ１０のシリンダ
ロッド１１に押上部材１２が一体連接され、一方、アー
ム支軸６の途中箇所に、固定位置を調節可能にストッパ
ー１３が取り付けられるとともに基台７に支持台１４が
設けられ、ストッパー１３と支持台１４とにより、スト
ッパー１３が支持台１４に当接して、洗浄ブラシ３の下
降位置の高さ、すなわち、角型基板Ｗの上面に対する高
さを所定高さに維持するように構成されている。
設けられるとともに、そのエアシリンダ１０のシリンダ
ロッド１１に押上部材１２が一体連接され、一方、アー
ム支軸６の途中箇所に、固定位置を調節可能にストッパ
ー１３が取り付けられるとともに基台７に支持台１４が
設けられ、ストッパー１３と支持台１４とにより、スト
ッパー１３が支持台１４に当接して、洗浄ブラシ３の下
降位置の高さ、すなわち、角型基板Ｗの上面に対する高
さを所定高さに維持するように構成されている。
【００１３】上記構成により、洗浄開始時における待機
位置Ａから角型基板Ｗの中心位置Ｂにわたる変位に際し
ては、洗浄ブラシ３は、エアシリンダ１０の押上部材１
２が上昇してアーム支軸６を押し上げることにより上昇
している。また、洗浄実行時における角型基板Ｗの中心
位置Ｂから角型基板Ｗの回転軌跡外の外方側位置Ｃにわ
たる変位に際しては、洗浄ブラシ３は、ストッパー１３
が支持台１４に当接する位置まで下降しており、その位
置を維持した状態で洗浄を行うようになっている。図
中、１５は、純水などの洗浄液を角型基板Ｗの上面に供
給するノズルを示している。
位置Ａから角型基板Ｗの中心位置Ｂにわたる変位に際し
ては、洗浄ブラシ３は、エアシリンダ１０の押上部材１
２が上昇してアーム支軸６を押し上げることにより上昇
している。また、洗浄実行時における角型基板Ｗの中心
位置Ｂから角型基板Ｗの回転軌跡外の外方側位置Ｃにわ
たる変位に際しては、洗浄ブラシ３は、ストッパー１３
が支持台１４に当接する位置まで下降しており、その位
置を維持した状態で洗浄を行うようになっている。図
中、１５は、純水などの洗浄液を角型基板Ｗの上面に供
給するノズルを示している。
【００１４】基板支持手段１は、図２の要部の一部切欠
側面図、および、図３の要部の平面図に示すように、第
１の基板支持手段１６と第２の基板支持手段１７とから
構成されている。
側面図、および、図３の要部の平面図に示すように、第
１の基板支持手段１６と第２の基板支持手段１７とから
構成されている。
【００１５】第１の基板支持手段１６は、鉛直方向の第
１の回転軸芯Ｐ１周りで駆動回転する外形形状が長方形
状の第１の回転台１８に、角型基板Ｗを載置支持する支
持ピン１９…と角型基板Ｗの水平方向での支持位置を決
める位置決め部材としての位置決めピン２０…とを備え
て構成されている。位置決めピン２０の高さは、支持ピ
ン１９より高いことが必須であり、実施例では、角型基
板Ｗを確実に位置決めするために、位置決めピン２０の
上端が、支持ピン１９に支持された角型基板Ｗの上面よ
りも上方にくるようになっている。
１の回転軸芯Ｐ１周りで駆動回転する外形形状が長方形
状の第１の回転台１８に、角型基板Ｗを載置支持する支
持ピン１９…と角型基板Ｗの水平方向での支持位置を決
める位置決め部材としての位置決めピン２０…とを備え
て構成されている。位置決めピン２０の高さは、支持ピ
ン１９より高いことが必須であり、実施例では、角型基
板Ｗを確実に位置決めするために、位置決めピン２０の
上端が、支持ピン１９に支持された角型基板Ｗの上面よ
りも上方にくるようになっている。
【００１６】第１の回転台１８と一体の筒軸１８ａが、
支持フレーム２１にボールベアリング２２…を介して回
転可能に設けられ、筒軸１８ａと第３の電動モータ２３
とが第３のベルト式伝動機構２４を介して連動連結され
ている。
支持フレーム２１にボールベアリング２２…を介して回
転可能に設けられ、筒軸１８ａと第３の電動モータ２３
とが第３のベルト式伝動機構２４を介して連動連結され
ている。
【００１７】第２の基板支持手段１７は、第２の回転台
２５に一体の支軸２５ａが筒軸１８ａ内にスプライン嵌
合機構２６を介して上下方向に摺動のみ可能に内嵌さ
れ、かつ、支軸２５ａの下部が筒軸１８ａの下方に突出
され、その突出端にロータリージョイント２７と配管２
８を介して真空吸引源２９が接続され、一方、第２の回
転台２５の上面に吸着孔３０…が分散形成されるととも
に、吸着孔３０…とロータリージョイント２７とが支軸
２５ａ内に形成した貫通孔３１を介して接続され、角型
基板Ｗを真空吸引によって吸着保持できるように構成さ
れている。上記真空吸引源２９においては、気液分離状
態で吸気し、吸気ポンプなどに水分を吸引することが無
いようになっている。
２５に一体の支軸２５ａが筒軸１８ａ内にスプライン嵌
合機構２６を介して上下方向に摺動のみ可能に内嵌さ
れ、かつ、支軸２５ａの下部が筒軸１８ａの下方に突出
され、その突出端にロータリージョイント２７と配管２
８を介して真空吸引源２９が接続され、一方、第２の回
転台２５の上面に吸着孔３０…が分散形成されるととも
に、吸着孔３０…とロータリージョイント２７とが支軸
２５ａ内に形成した貫通孔３１を介して接続され、角型
基板Ｗを真空吸引によって吸着保持できるように構成さ
れている。上記真空吸引源２９においては、気液分離状
態で吸気し、吸気ポンプなどに水分を吸引することが無
いようになっている。
【００１８】ロータリージョイント２７は、支持アーム
３２に一体的に取り付けられ、その支持アーム３２を一
体的に取り付けたガイドロッド３３は、上下方向に摺動
可能にガイド筒３４内に嵌入される。支持アーム３２
は、エアーシリンダ３５が連結され、このエアーシリン
ダ３５の伸縮により、第２の基板支持手段１７を、第１
の基板支持手段１６に対して、支持ピン１９…に角型基
板Ｗを載置支持する位置と、第２の回転台２５に角型基
板Ｗを吸着保持する位置とに昇降するように基板支持手
段切換機構３６が構成されている。
３２に一体的に取り付けられ、その支持アーム３２を一
体的に取り付けたガイドロッド３３は、上下方向に摺動
可能にガイド筒３４内に嵌入される。支持アーム３２
は、エアーシリンダ３５が連結され、このエアーシリン
ダ３５の伸縮により、第２の基板支持手段１７を、第１
の基板支持手段１６に対して、支持ピン１９…に角型基
板Ｗを載置支持する位置と、第２の回転台２５に角型基
板Ｗを吸着保持する位置とに昇降するように基板支持手
段切換機構３６が構成されている。
【００１９】第１の回転台１８の周部下方側に、下面洗
浄手段としての洗浄液ノズル３７が設けられ、角型基板
Ｗの下面に純水などの洗浄液を供給できるように構成さ
れている。
浄手段としての洗浄液ノズル３７が設けられ、角型基板
Ｗの下面に純水などの洗浄液を供給できるように構成さ
れている。
【００２０】以上の構成による洗浄動作を説明する。先
ず、第２の回転台２５を上昇させた状態で角型基板Ｗを
搬入し、第２の基板支持手段１７により角型基板Ｗを吸
着保持する。次に、洗浄ブラシ３を上昇させた状態で、
待機位置Ａから角型基板Ｗの中心位置Ｂまで変位させ
る。そして、第２の回転台２５を回転させて支持された
角型基板Ｗを回転させ、且つノズル１５から洗浄液を供
給しながら、同時に、洗浄ブラシ３を回転させつつ角型
基板Ｗの上面に触れる高さまで下降させる。そして、そ
の高さを保ったままで角型基板Ｗの中心位置Ｂから角型
基板Ｗの回転軌跡外の外方側位置Ｃにわたって往復変位
させ、角型基板Ｗの上面全面を摺接洗浄する。第２の基
板支持手段１７は、角型基板Ｗの端縁と当接してその位
置を規制する位置決め部材のようなものなしに、真空吸
引により角型基板Ｗを支持しているので、洗浄ブラシ３
が位置決め部材に接触することがなく、角型基板Ｗの周
縁近傍まで良好に洗浄される。
ず、第２の回転台２５を上昇させた状態で角型基板Ｗを
搬入し、第２の基板支持手段１７により角型基板Ｗを吸
着保持する。次に、洗浄ブラシ３を上昇させた状態で、
待機位置Ａから角型基板Ｗの中心位置Ｂまで変位させ
る。そして、第２の回転台２５を回転させて支持された
角型基板Ｗを回転させ、且つノズル１５から洗浄液を供
給しながら、同時に、洗浄ブラシ３を回転させつつ角型
基板Ｗの上面に触れる高さまで下降させる。そして、そ
の高さを保ったままで角型基板Ｗの中心位置Ｂから角型
基板Ｗの回転軌跡外の外方側位置Ｃにわたって往復変位
させ、角型基板Ｗの上面全面を摺接洗浄する。第２の基
板支持手段１７は、角型基板Ｗの端縁と当接してその位
置を規制する位置決め部材のようなものなしに、真空吸
引により角型基板Ｗを支持しているので、洗浄ブラシ３
が位置決め部材に接触することがなく、角型基板Ｗの周
縁近傍まで良好に洗浄される。
【００２１】続いて、第２の基板支持手段１７に支持さ
れている角型基板Ｗの向きを、第１の基板支持手段１６
の第１の回転台１８の向きと合わせるように第２の回転
台２５の回転を停止させる。そして、真空吸引源２９を
停止させるとともに、第２の回転台２５を下降させる
と、角型基板Ｗは第１の基板支持手段１６によって支持
される。このとき、角型基板Ｗは第１の基板支持手段１
６の位置決めピン２０で位置決めした状態で支持ピン１
９上に載置されている。そして、かかる状態で第１の回
転台１８を回転させて支持された角型基板Ｗを回転さ
せ、且つ洗浄液ノズル３７から洗浄液を供給することに
より、角型基板Ｗの下面が洗浄される。第１の基板支持
手段１６は、角型基板Ｗを位置決めピン２０及び支持ピ
ン１９によって支持しているので、角型基板Ｗは、第２
の回転台５と触れていた部分も含めてその下面全面が良
好に洗浄される。
れている角型基板Ｗの向きを、第１の基板支持手段１６
の第１の回転台１８の向きと合わせるように第２の回転
台２５の回転を停止させる。そして、真空吸引源２９を
停止させるとともに、第２の回転台２５を下降させる
と、角型基板Ｗは第１の基板支持手段１６によって支持
される。このとき、角型基板Ｗは第１の基板支持手段１
６の位置決めピン２０で位置決めした状態で支持ピン１
９上に載置されている。そして、かかる状態で第１の回
転台１８を回転させて支持された角型基板Ｗを回転さ
せ、且つ洗浄液ノズル３７から洗浄液を供給することに
より、角型基板Ｗの下面が洗浄される。第１の基板支持
手段１６は、角型基板Ｗを位置決めピン２０及び支持ピ
ン１９によって支持しているので、角型基板Ｗは、第２
の回転台５と触れていた部分も含めてその下面全面が良
好に洗浄される。
【００２２】しかる後に、洗浄液の供給を停止し、第１
の回転台１８を高速で回転させることにより洗浄液を振
り切って、角型基板Ｗの乾燥が行われる。第１の基板支
持手段１６では、角型基板Ｗは支持ピン１９の上端のご
く狭い接触面積で支持されているので、角型基板Ｗは、
その上下面全面が良好に乾燥され、基板表面中央部分に
水滴が残ったりすることがない。
の回転台１８を高速で回転させることにより洗浄液を振
り切って、角型基板Ｗの乾燥が行われる。第１の基板支
持手段１６では、角型基板Ｗは支持ピン１９の上端のご
く狭い接触面積で支持されているので、角型基板Ｗは、
その上下面全面が良好に乾燥され、基板表面中央部分に
水滴が残ったりすることがない。
【００２３】前述した基板支持手段切換機構３６として
は、第１の回転台１８を昇降するように構成しても良
い。また、本発明としては、長方形状の角型基板Ｗに限
らず、正方形状の角型基板や円形基板を洗浄する基板洗
浄装置にも適用できる。
は、第１の回転台１８を昇降するように構成しても良
い。また、本発明としては、長方形状の角型基板Ｗに限
らず、正方形状の角型基板や円形基板を洗浄する基板洗
浄装置にも適用できる。
【００２４】
【発明の効果】本発明の基板洗浄装置によれば、基板上
面を洗浄具で摺接洗浄するときには、第２の基板支持手
段により基板を吸着保持させ、位置決め部材に邪魔され
ること無く洗浄できるから、高い洗浄効果を得ることが
でき、しかも、洗浄具と位置決め部材との干渉が無いか
ら、洗浄具の寿命を増大できて経済性を向上できるよう
になった。
面を洗浄具で摺接洗浄するときには、第２の基板支持手
段により基板を吸着保持させ、位置決め部材に邪魔され
ること無く洗浄できるから、高い洗浄効果を得ることが
でき、しかも、洗浄具と位置決め部材との干渉が無いか
ら、洗浄具の寿命を増大できて経済性を向上できるよう
になった。
【００２５】一方、基板の下面の洗浄や回転による振り
切り乾燥を行うときには、第１の基板支持手段により基
板を機械的に保持させるから、真空吸引によって基板を
吸着保持する場合のような水滴等の跡が付くことを回避
でき、基板の下面全面を良好に洗浄できるとともに乾燥
することができるようになった。
切り乾燥を行うときには、第１の基板支持手段により基
板を機械的に保持させるから、真空吸引によって基板を
吸着保持する場合のような水滴等の跡が付くことを回避
でき、基板の下面全面を良好に洗浄できるとともに乾燥
することができるようになった。
【図１】本発明に係る基板洗浄装置の実施例を示す一部
省略側面図である。
省略側面図である。
【図２】要部の一部切欠側面図である。
【図３】要部の平面図である。
１…基板支持手段 ３…洗浄具としての洗浄ブラシ １６…第１の基板支持手段 １７…第２の基板支持手段 １８…第１の回転台 １９…支持ピン ２０…位置決め部材としての位置決めピン ２５…第２の回転台 ３０…吸着孔 ３６…基板支持手段切換機構 ３７…下面洗浄手段としての洗浄液ノズル Ｐ１…第１の回転軸芯 Ｗ…角型基板
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を水平姿勢に載置支持して鉛直方向
の軸芯周りで回転する基板支持手段と、 前記基板を摺接洗浄する洗浄具とを備えた基板洗浄装置
において、 前記基板支持手段を、 前記鉛直方向の軸芯周りで回転する第１の回転台に、前
記基板を載置支持する支持ピンと前記基板の水平方向で
の支持位置を決める位置決め部材とを備えた第１の基板
支持手段と、 前記鉛直方向の軸芯周りで回転する第２の回転台の上面
に、前記基板を真空吸引によって吸着保持する吸着孔を
形成した第２の基板支持手段と、 から構成し、 かつ、前記第１の基板支持手段と前記第２の基板支持手
段とを、前記支持ピンに前記基板を載置支持する位置
と、前記第２の回転台に前記基板を吸着保持する位置と
に相対的に昇降する基板支持手段切換機構と、 前記基板の下面に洗浄液を供給する下面洗浄手段と、 を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27087392A JPH0697137A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27087392A JPH0697137A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0697137A true JPH0697137A (ja) | 1994-04-08 |
Family
ID=17492159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27087392A Pending JPH0697137A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0697137A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001310162A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-11-06 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法及び基板洗浄装置及び基板洗浄方法及び現像装置及び現像方法 |
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-
1992
- 1992-09-14 JP JP27087392A patent/JPH0697137A/ja active Pending
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