JPH0665630A - 恒温焼入用熱処理炉 - Google Patents
恒温焼入用熱処理炉Info
- Publication number
- JPH0665630A JPH0665630A JP24566092A JP24566092A JPH0665630A JP H0665630 A JPH0665630 A JP H0665630A JP 24566092 A JP24566092 A JP 24566092A JP 24566092 A JP24566092 A JP 24566092A JP H0665630 A JPH0665630 A JP H0665630A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal body
- powder
- pedestal
- conveyor
- ceramic powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属体の急速加熱、および、急速冷却ができ
る熱処理効率の良い熱処理炉を提供することを目的とす
る。 【構成】 隔壁とシャッタで密閉自在に隔離され、上下
動可能に該加熱室と該冷却室の間に設けられる受台と、
上方から所定温度のカーボン粉末等を該金属体に落下散
布する粉末散布装置と、該シャッタが開いた状態で、該
金属体を該コンベアにより該加熱室から搬送させて該受
台上に載置させ、該シャッタが閉じた状態で、該粉末散
布装置、該受台および該金属体を下方の恒温室内に降下
させ、この降下状態、あるいは、この降下状態前に、該
カーボン粉末等を該粉末散布装置により該金属体に落下
散布させ、該受台および該金属体を振動させ、撹拌器に
より該カーボン粉末等を撹拌し、所定時間経過後、該粉
末散布装置、該受台、および、該金属体を上昇させ、該
シャッタを開けて該金属体を該コンベアにより該受台か
ら該冷却室に搬送するように制御する制御装置と、から
成ることを特徴とする恒温焼入用熱処理炉である。
る熱処理効率の良い熱処理炉を提供することを目的とす
る。 【構成】 隔壁とシャッタで密閉自在に隔離され、上下
動可能に該加熱室と該冷却室の間に設けられる受台と、
上方から所定温度のカーボン粉末等を該金属体に落下散
布する粉末散布装置と、該シャッタが開いた状態で、該
金属体を該コンベアにより該加熱室から搬送させて該受
台上に載置させ、該シャッタが閉じた状態で、該粉末散
布装置、該受台および該金属体を下方の恒温室内に降下
させ、この降下状態、あるいは、この降下状態前に、該
カーボン粉末等を該粉末散布装置により該金属体に落下
散布させ、該受台および該金属体を振動させ、撹拌器に
より該カーボン粉末等を撹拌し、所定時間経過後、該粉
末散布装置、該受台、および、該金属体を上昇させ、該
シャッタを開けて該金属体を該コンベアにより該受台か
ら該冷却室に搬送するように制御する制御装置と、から
成ることを特徴とする恒温焼入用熱処理炉である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属体をより効率的に
熱処理する恒温焼入用熱処理炉に関する。
熱処理する恒温焼入用熱処理炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、金属体を熱処理する恒温焼入用熱
処理炉は、金属体を搬送するコンベアと、隔壁で密閉さ
れ、コンベア等により該金属体が搬入されて、加熱され
る加熱室と、隔壁で密閉され、コンベアにより金属体が
加熱室から搬入されて、冷却される冷却室とから成る。
処理炉は、金属体を搬送するコンベアと、隔壁で密閉さ
れ、コンベア等により該金属体が搬入されて、加熱され
る加熱室と、隔壁で密閉され、コンベアにより金属体が
加熱室から搬入されて、冷却される冷却室とから成る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の従来例
では、金属体を雰囲気ガスを介して、加熱、冷却の熱処
理を行うため、熱処理の効率が悪いという問題点があっ
た。そこで、本発明は、金属体の急速加熱、急速冷却が
できる熱処理効率の良い恒温焼入用熱処理炉を提供する
ことを目的とする。
では、金属体を雰囲気ガスを介して、加熱、冷却の熱処
理を行うため、熱処理の効率が悪いという問題点があっ
た。そこで、本発明は、金属体の急速加熱、急速冷却が
できる熱処理効率の良い恒温焼入用熱処理炉を提供する
ことを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属体を搬送
するコンベアと、隔壁で密閉され、該コンベア、あるい
は、プッシャー等により該金属体が搬入されて、加熱さ
れる加熱室と、隔壁で密閉され、該コンベアにより該金
属体が搬入されて、冷却される冷却室と、から成る恒温
焼入用熱処理炉を改良するもので、隔壁とシャッタで密
閉自在に隔離され、上下動可能に該加熱室と該冷却室の
間設けられる受台と、上方から所定温度のカーボン粉
末、あるいは、セラミック粉末を該金属体に落下散布す
る粉末散布装置と、該シャッタが開いた状態で、該金属
体を該コンベアにより該加熱室から搬送させて該受台上
に載置させ、該シャッタが閉じた状態で、該粉末散布装
置、該受台および該金属体を下方の恒温室内に降下さ
せ、この降下状態、あるいは、この降下状態前に、該カ
ーボン粉末、あるいは、該セラミック粉末を該粉末散布
装置により該金属体に落下散布させ、該受台および該金
属体を振動させ、撹拌器により該カーボン粉末、あるい
は、該セラミック粉末を撹拌して急速冷却し、所定時間
恒温で経過後、該粉末散布装置、該受台、および、該金
属体を上昇させ、該シャッタを開けて該金属体を該コン
ベアにより該受台から該冷却室に搬送するように制御す
る制御装置と、から成ることを特徴とする恒温焼入用熱
処理炉である。
するコンベアと、隔壁で密閉され、該コンベア、あるい
は、プッシャー等により該金属体が搬入されて、加熱さ
れる加熱室と、隔壁で密閉され、該コンベアにより該金
属体が搬入されて、冷却される冷却室と、から成る恒温
焼入用熱処理炉を改良するもので、隔壁とシャッタで密
閉自在に隔離され、上下動可能に該加熱室と該冷却室の
間設けられる受台と、上方から所定温度のカーボン粉
末、あるいは、セラミック粉末を該金属体に落下散布す
る粉末散布装置と、該シャッタが開いた状態で、該金属
体を該コンベアにより該加熱室から搬送させて該受台上
に載置させ、該シャッタが閉じた状態で、該粉末散布装
置、該受台および該金属体を下方の恒温室内に降下さ
せ、この降下状態、あるいは、この降下状態前に、該カ
ーボン粉末、あるいは、該セラミック粉末を該粉末散布
装置により該金属体に落下散布させ、該受台および該金
属体を振動させ、撹拌器により該カーボン粉末、あるい
は、該セラミック粉末を撹拌して急速冷却し、所定時間
恒温で経過後、該粉末散布装置、該受台、および、該金
属体を上昇させ、該シャッタを開けて該金属体を該コン
ベアにより該受台から該冷却室に搬送するように制御す
る制御装置と、から成ることを特徴とする恒温焼入用熱
処理炉である。
【0005】
【作用】本発明によれば、受台上の金属体にカーボン粉
末、あるいは、セラミック粉末を金属体に落下散布し、
受台および金属体を振動させ、撹拌器により撹拌するた
め、金属体に良く付着される。 このカーボン粉末、あ
るいは、セラミック粉末は高温、あるいは、低温等の所
定温度に予め保たれ、かつ、直接、金属体に付着される
ため、極めて短時間で、急速な加熱、あるいは、冷却を
行うことができ、熱処理効率が良い。
末、あるいは、セラミック粉末を金属体に落下散布し、
受台および金属体を振動させ、撹拌器により撹拌するた
め、金属体に良く付着される。 このカーボン粉末、あ
るいは、セラミック粉末は高温、あるいは、低温等の所
定温度に予め保たれ、かつ、直接、金属体に付着される
ため、極めて短時間で、急速な加熱、あるいは、冷却を
行うことができ、熱処理効率が良い。
【0006】
【実施例】以下、本発明を図面を参照してその実施例に
基づいて説明する。図1は、本発明の一実施例の断面図
である。 図示されないコンベアは、金属体1を搬送す
る。 ガス置換室13は、隔壁2および開閉自在なシャ
ッタ11、12から成り、シャッタ11、12が閉じら
れた密閉状態で、図示されない雰囲気置換装置により、
雰囲気をN2 等に置換する。 シャッタ12が開けら
れ、隔壁2で密閉された加熱室3に、コンベアにより金
属体1が搬入されて、加熱される。 冷却室4は、隔壁
2で密閉され、コンベアにより金属体1が搬入されて、
冷却される。 受台6は、隔壁2とシャッタ5a,5b
で密閉自在に隔離され、上下動可能に加熱室3と冷却室
4の間に設けられる。 さらに、粉末散布装置7が、上
方から所定温度のカーボン粉末、あるいは、セラミック
粉末を金属体1に散布するように構成される。
基づいて説明する。図1は、本発明の一実施例の断面図
である。 図示されないコンベアは、金属体1を搬送す
る。 ガス置換室13は、隔壁2および開閉自在なシャ
ッタ11、12から成り、シャッタ11、12が閉じら
れた密閉状態で、図示されない雰囲気置換装置により、
雰囲気をN2 等に置換する。 シャッタ12が開けら
れ、隔壁2で密閉された加熱室3に、コンベアにより金
属体1が搬入されて、加熱される。 冷却室4は、隔壁
2で密閉され、コンベアにより金属体1が搬入されて、
冷却される。 受台6は、隔壁2とシャッタ5a,5b
で密閉自在に隔離され、上下動可能に加熱室3と冷却室
4の間に設けられる。 さらに、粉末散布装置7が、上
方から所定温度のカーボン粉末、あるいは、セラミック
粉末を金属体1に散布するように構成される。
【0007】図示されない制御装置は、コンピュータ等
から成り、シャッタ5aが開いた状態で、金属体1をコ
ンベア、あるいは、プッシャー等により加熱室3から搬
送させて受台6上に載置させ、シャッタ5a,5bが閉
じた状態で、粉末散布装置7、受台6および金属体1を
下方の恒温室10内に降下させる。 この降下状態、あ
るいは、この降下状態前に、カーボン粉末、あるいは、
セラミック粉末を粉末散布装置7により金属体1に落下
散布させ、受台6および金属体1を振動させ、撹拌器で
あるモータ9により回転されるファン8によりカーボン
粉末、あるいは、セラミック粉末を撹拌して金属体1の
表面に十分に付着させる。
から成り、シャッタ5aが開いた状態で、金属体1をコ
ンベア、あるいは、プッシャー等により加熱室3から搬
送させて受台6上に載置させ、シャッタ5a,5bが閉
じた状態で、粉末散布装置7、受台6および金属体1を
下方の恒温室10内に降下させる。 この降下状態、あ
るいは、この降下状態前に、カーボン粉末、あるいは、
セラミック粉末を粉末散布装置7により金属体1に落下
散布させ、受台6および金属体1を振動させ、撹拌器で
あるモータ9により回転されるファン8によりカーボン
粉末、あるいは、セラミック粉末を撹拌して金属体1の
表面に十分に付着させる。
【0008】これにより、カーボン粉末、あるいは、セ
ラミック粉末の温度により金属体1は、急速に加熱、あ
るいは、恒温冷却される。 さらに、所定時間恒温で経
過後、粉末散布装置7、受台6、および、金属体1とを
上昇させ、シャッタ5bを開けて金属体1をコンベアに
より受台6から冷却室4に搬送するように制御する。
この、冷却室4で恒温冷却された後、シャッタ14が開
けられ、コンベアにより外部に搬出される。なお、本実
施例では、ガス置換室13を設けたが、設けない変形
例、あるいは、加熱室3と冷却室4以外に他の室が設け
られた変形例にも本発明は当然に適用される。
ラミック粉末の温度により金属体1は、急速に加熱、あ
るいは、恒温冷却される。 さらに、所定時間恒温で経
過後、粉末散布装置7、受台6、および、金属体1とを
上昇させ、シャッタ5bを開けて金属体1をコンベアに
より受台6から冷却室4に搬送するように制御する。
この、冷却室4で恒温冷却された後、シャッタ14が開
けられ、コンベアにより外部に搬出される。なお、本実
施例では、ガス置換室13を設けたが、設けない変形
例、あるいは、加熱室3と冷却室4以外に他の室が設け
られた変形例にも本発明は当然に適用される。
【0009】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、金属体
の急速加熱、および中性、または、還元性ガス雰囲気で
の急速恒温冷却ができ、熱処理効率が良いという効果を
奏する。 また、従来は、塩浴を用いて恒温焼入れ(オ
ーステンパー)を行っているが本発明による雰囲気ガ
ス、炭素粉等の雰囲気中で恒温焼入れを行うことによ
り、後処理工程、処理後の錆の発生が防止される。
の急速加熱、および中性、または、還元性ガス雰囲気で
の急速恒温冷却ができ、熱処理効率が良いという効果を
奏する。 また、従来は、塩浴を用いて恒温焼入れ(オ
ーステンパー)を行っているが本発明による雰囲気ガ
ス、炭素粉等の雰囲気中で恒温焼入れを行うことによ
り、後処理工程、処理後の錆の発生が防止される。
【図1】本発明の一実施例の断面図である。
1 金属体 2 隔壁 3 加熱室 4 冷却室 5a,5b,11,12,14 シャッタ 6 受台 7 粉末散布装置 8 ファン 10 恒温室
Claims (1)
- 【請求項1】 金属体を搬送するコンベアと、隔壁で密
閉され、該金属体が搬入されて、加熱される加熱室と、
隔壁で密閉され、該コンベアにより該金属体が搬入され
て、冷却される冷却室と、から成る恒温焼入用熱処理炉
において、 隔壁とシャッタで密閉自在に隔離され、上下動可能に該
加熱室と該冷却室の間に設けられる受台と、 上方から所定温度のカーボン粉末、あるいは、セラミッ
ク粉末を該金属体に落下散布する粉末散布装置と、 該シャッタが開いた状態で、該金属体を該コンベアによ
り該加熱室から搬送させて該受台上に載置させ、該シャ
ッタが閉じた状態で、該粉末散布装置、該受台および該
金属体を下方の恒温室内に降下させ、この降下状態、あ
るいは、この降下状態前に、該カーボン粉末、あるい
は、該セラミック粉末を該粉末散布装置により該金属体
に落下散布させ、該受台および該金属体を振動させ、撹
拌器により該カーボン粉末、あるいは、該セラミック粉
末を撹拌し、所定時間経過後、該粉末散布装置、該受
台、および、該金属体を上昇させ、該シャッタを開けて
該金属体を該コンベアにより該受台から該冷却室に搬送
するように制御する制御装置と、から成ることを特徴と
する恒温焼入用熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24566092A JPH0665630A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 恒温焼入用熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24566092A JPH0665630A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 恒温焼入用熱処理炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0665630A true JPH0665630A (ja) | 1994-03-08 |
Family
ID=17136930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24566092A Pending JPH0665630A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 恒温焼入用熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0665630A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101356848B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2014-01-28 | 주식회사 포스코 | 소둔로 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6210210A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-19 | Daido Steel Co Ltd | 雰囲気炉 |
JPS6260446A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-17 | Mitsubishi Electric Corp | 電機子の製造方法 |
JPS6436906U (ja) * | 1987-08-31 | 1989-03-06 | ||
JPH0196326A (ja) * | 1987-10-07 | 1989-04-14 | Daido Steel Co Ltd | 流動層熱処理装置 |
-
1992
- 1992-08-21 JP JP24566092A patent/JPH0665630A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6210210A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-19 | Daido Steel Co Ltd | 雰囲気炉 |
JPS6260446A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-17 | Mitsubishi Electric Corp | 電機子の製造方法 |
JPS6436906U (ja) * | 1987-08-31 | 1989-03-06 | ||
JPH0196326A (ja) * | 1987-10-07 | 1989-04-14 | Daido Steel Co Ltd | 流動層熱処理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101356848B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2014-01-28 | 주식회사 포스코 | 소둔로 |
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