JPH0662741B2 - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用エポキシ樹脂組成物

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JPH0662741B2
JPH0662741B2 JP61210543A JP21054386A JPH0662741B2 JP H0662741 B2 JPH0662741 B2 JP H0662741B2 JP 61210543 A JP61210543 A JP 61210543A JP 21054386 A JP21054386 A JP 21054386A JP H0662741 B2 JPH0662741 B2 JP H0662741B2
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JP
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epoxy resin
resin composition
glass
semiconductor encapsulation
filler
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茂 越部
誠 山縣
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住友ベ−クライト株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、熱衝撃を受けた場合の信頼性に優れるエポキ
シ樹脂組成物に係り、その特徴は内部に空洞を有する脆
いガラスを充填材の一部として用い熱ストレスを吸収さ
せるところにある。
〔従来技術〕
従来の半導体の一般的な評価方法は、高温高湿条件にお
ける耐湿性テスト及び冷熱衝撃サイクルテストである。
これらは一般使用条件の加速テストとして利用されてお
り、主として2気圧100%RH条件での耐湿性評価や−65
℃と150℃の間での熱衝撃評価が実施されている。半導
体封止用エポキシ樹脂組成物も上記評価に対して寿命を
向上させるように改良されてきた。
しかし、最近半導体の実装方法として半田浴に半導体及
び基板を浸漬させるという合理化方法が一部で実施され
今後かなり汎用化が予想される状況となってきた。
現在、従来の半導体封止用エポキシ樹脂組成物で対応し
ているが半田浸漬後の信頼性が大幅に低下するという問
題を抱えている。例えば、耐湿性が極端に劣化したり特
性変動を起こしたりすることが報告されている。従来材
の品質設計時に想定した条件とは全く異る急激な熱衝撃
が加わるため一室温から260℃まで数秒で熱変化するた
め対応しきれない状態になっている。
そこで、半田浸漬実装法に対応する半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物の開発が市場から強く要求されている。
従来の低応力エポキシ樹脂組成物に関する技術として
は、液状合成ゴムもしくはこれらの変性品を添加する方
法が知られている(例、特開昭53−144958、特開昭57−
180626、特開昭58−174416)、又シリコーン類もしくは
これらの変性品を添加する方法も知られている(例、特
開昭56−129246、特開昭58−47014)。しかし、これら
の方法はいずれも成形性や耐湿性に重大な問題を有して
いた。さらにシリコーン類を使用する場合には価格が高
くなりすぎ汎用として使用できないという問題を有して
いた。
〔発明の目的〕
本発明は、従来材料では不可能であった半田浸漬時の熱
衝撃に耐える材料を目的として研究した結果、内部に適
度の空洞を有するガラスを適量使用することにより急激
な熱衝撃を吸収できるだけでなく従来の特性も保持でき
る物質・機構を見い出し、市場で適用できる材料を完成
したものである。
〔発明の構成〕
エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、充填材からなるエ
ポキシ樹脂組成物において、内部に空洞を有するガラス
を充填材の1/10〜2/3(重量比)含むことを特徴と
する半導体封止用エポキシ樹脂組成物であり、好ましく
は空洞の一つの大きさが、ガラス径の8/10以下、且つ
50μm以下であり、又は空洞の全体積がガラス体積の1
/10〜7/10である。
本発明は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、内部に
空洞を有するガラス充填材を必須とし、必要に応じて難
燃剤、処理剤、顔料、離型剤その他の添加剤を配合した
ものである。半導体の封止を目的としているので不純物
は少ない方が好ましく例えば試料5gを純水95gで125℃・
20時間抽出した時の抽出水電導度が80μs/cm以下が望
ましい。
エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有するもの全般のこと
をいい、例えばビスフェノール型エポキシ・フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂・複素環型エポキシ樹脂とい
った一般名を挙げることができる。
硬化剤とは、フェノールノボラック樹脂をいう。
硬化促進剤とは、エポキシ樹脂組成物の硬化を促進させ
る触媒全般のことをいい、例えばイミダゾール類・第3
級アミン類・有機リン化合物・有機アルミニウム化合物
といった一般名を挙げることができる。
充填材としては、シリカ・マイカ・ガラス・クレー・ア
スベスト・アルミナ等を挙げることができる。この中で
も特にシリカが好ましい。
本発明の空洞を有するガラス(以下、中空ガラスと称す
る)は、内部に空洞を有するガラス状物質全てのことを
いう。
具体的な製造メーカーとしては、日本板硝子・日本電気
硝子・旭硝子・セントラル硝子等を挙げることができ
る。
中空ガラスの空洞としては、大きさがガラス径の8/10
以下で且つ100μm以下又体積がガラス体積の1/10〜
7/10であることが好ましい。空洞が多きすぎても又少
なすぎても多すぎても悪影響を及ぼす場合がある。例え
ば、大きすぎたり、多すぎると強度や耐湿性が低下した
り又少なすぎると耐熱衝撃性が悪くなったりすることも
ある。中空ガラスの使用量としては、充填材の1/10〜
2/3(重量比)であることが好ましい。少なすぎると
耐熱衝撃性が悪くなったり、多すぎると強度や耐湿性が
低下したりすることもある。
〔発明の効果〕
本発明に従うと半田浸漬といった厳しい実装条件でも従
来同等以上の信頼性を保持するエポキシ樹脂封止半導体
が得られる。即ち、大量生産・低コストを目的とした合
理化合物実装法−半田浸漬−が可能となりさらに半導体
を汎用のものとすることが達成できた。現在でも半導体
は日常生活の中で一般的に使用されているが、本発明に
より今後さらに半導体は汎用化し生活水準向上に役立つ
ことが期待できる。
〔実施例〕
以下、半導体封止用成形材料での検討例で説明する。検
討例で用いた部は全て重量部である。又、使用した原料
は次の通りである。
従来の低応力添加剤 (A) 信越化学工業 KF−100 (B) 宇部興産 CTBN1300 検討例 エポキシ樹脂20部、硬化剤10部、充填材(70−x)部、
中空ガラス(日本板硝子(株)製)x部、硬化促進剤0.
2部、表面処理剤0.5部、顔料0.5部、離型剤0.5部、従来
の低応力添加剤yを表−2に従って混合後100℃の熱ロ
ールで3分間混練し、半導体封止用成形材料8種を得
た。これら材料の特性及び模擬ICの特性に関する評価結
果を表−2に示す。表−2より明らかなように本発明の
中空ガラスを用いることにより半田浸漬後の特性が大幅
に向上する。特に、好ましい範囲で用いた場合には抜群
の効果がある。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、充填
    材からなるエポキシ樹脂組成物において、内部に空洞を
    有するガラスを充填材の1/10〜2/3(重量比)含む
    ことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】空洞一つの大きさが、ガラス径の8/10以
    下、且つ50μm以下であることを特徴とする特許請求の
    範囲第(1)項記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成
    物。
  3. 【請求項3】空洞の全体積がガラス体積の1/10〜7/
    10であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項又
    は第(2)項記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
JP61210543A 1986-09-09 1986-09-09 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 Expired - Fee Related JPH0662741B2 (ja)

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JPS6366220A JPS6366220A (ja) 1988-03-24
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JPH0282644A (ja) * 1988-09-20 1990-03-23 Fujitsu Ltd 半導体装置
AU3055799A (en) 1998-04-06 1999-10-25 Fujio Miyawaki Auxiliary mechanical heart promoting the restoration of heart function

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS53102361A (en) * 1977-02-18 1978-09-06 Toray Silicone Co Ltd Thermosetting resin composition
JPS5823853A (ja) * 1981-08-03 1983-02-12 Matsushita Electric Works Ltd 熱硬化性樹脂成形材料
JPS5857463A (ja) * 1981-10-01 1983-04-05 Matsushita Electric Works Ltd 熱硬化性樹脂成形材料
JPS5993716A (ja) * 1982-11-20 1984-05-30 Nitto Electric Ind Co Ltd 成形品用熱硬化性樹脂組成物

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JPS6366220A (ja) 1988-03-24

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