JPH0660315A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0660315A JPH0660315A JP21675692A JP21675692A JPH0660315A JP H0660315 A JPH0660315 A JP H0660315A JP 21675692 A JP21675692 A JP 21675692A JP 21675692 A JP21675692 A JP 21675692A JP H0660315 A JPH0660315 A JP H0660315A
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- Japan
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- magnetic
- film
- head
- magnetic head
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は高品位ＶＴＲやデジタルＶＴＲ等の
高周波信号を効率よく記録再生する磁気ヘッドを提供す
ることを目的とする。 【構成】 非磁性基板１上に金属磁性膜２を設けた磁気
ヘッドの少なくとも片側に導電膜３を配し、導電膜３に
電流を流し金属磁性膜２の膜面内に巻線窓６を中心に放
射状に磁界を発生させ熱処理を行う。 【効果】 金属磁性膜２の膜面内に巻線窓６を中心とし
て放射状に磁化容易軸を持ち、磁気ヘッドの磁路のほと
んどが磁化困難軸方向の特性を有効に利用でき、高周波
でも高い効率で記録再生できる。
高周波信号を効率よく記録再生する磁気ヘッドを提供す
ることを目的とする。 【構成】 非磁性基板１上に金属磁性膜２を設けた磁気
ヘッドの少なくとも片側に導電膜３を配し、導電膜３に
電流を流し金属磁性膜２の膜面内に巻線窓６を中心に放
射状に磁界を発生させ熱処理を行う。 【効果】 金属磁性膜２の膜面内に巻線窓６を中心とし
て放射状に磁化容易軸を持ち、磁気ヘッドの磁路のほと
んどが磁化困難軸方向の特性を有効に利用でき、高周波
でも高い効率で記録再生できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高品位ＶＴＲやデジタル
ＶＴＲ等の高周波信号を効率よく記録再生するのに適し
た磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
ＶＴＲ等の高周波信号を効率よく記録再生するのに適し
た磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年高品位ＶＴＲやデジタルＶＴＲ等の
広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が盛んになって
きており、磁気記録媒体もこのような大量の情報を記録
するために、高抗磁力媒体へと変わりつつある。そこ
で、磁気ヘッドとしても、これらの高抗磁力媒体に対応
するような高飽和磁束密度を有し周波数特性の優れた磁
気ヘッドの開発が望まれている。現在、飽和磁束密度の
高い金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの開発が行われて
いるが、その高周波特性は強磁性共鳴によるスヌークの
限界線で制約されている。
広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が盛んになって
きており、磁気記録媒体もこのような大量の情報を記録
するために、高抗磁力媒体へと変わりつつある。そこ
で、磁気ヘッドとしても、これらの高抗磁力媒体に対応
するような高飽和磁束密度を有し周波数特性の優れた磁
気ヘッドの開発が望まれている。現在、飽和磁束密度の
高い金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの開発が行われて
いるが、その高周波特性は強磁性共鳴によるスヌークの
限界線で制約されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】高品位ＶＴＲやデジタ
ルＶＴＲ等の広帯域の信号を取り扱うシステムでは、磁
気ヘッド用コア材料として高周波帯域で高い初透磁率を
有するものが要求される。（図８）は、Ｃｏ系アモルフ
ァス磁性膜とＳｉＯ2 膜との積層膜初透磁率の周波数特
性を示したものである。アモルファス積層膜において
は、一層当りの磁性膜の膜厚は渦電流損失を考慮して４
μm とし層間のＳｉＯ2 膜厚は０．１μm で５層積層し
たものである。図において（２）は無配向のアモルファ
ス積層膜で、積層効果により渦電流損失は改善されてい
るが３０ＭＨｚ以上の周波数帯での初透磁率は５００以
下となる。
ルＶＴＲ等の広帯域の信号を取り扱うシステムでは、磁
気ヘッド用コア材料として高周波帯域で高い初透磁率を
有するものが要求される。（図８）は、Ｃｏ系アモルフ
ァス磁性膜とＳｉＯ2 膜との積層膜初透磁率の周波数特
性を示したものである。アモルファス積層膜において
は、一層当りの磁性膜の膜厚は渦電流損失を考慮して４
μm とし層間のＳｉＯ2 膜厚は０．１μm で５層積層し
たものである。図において（２）は無配向のアモルファ
ス積層膜で、積層効果により渦電流損失は改善されてい
るが３０ＭＨｚ以上の周波数帯での初透磁率は５００以
下となる。
【０００４】したがって、このような無配向の磁性膜を
ヘッドコアとして用いたのでは前記のような高周波シス
テムに対応する高性能ヘッドを実現するのは困難であ
る。
ヘッドコアとして用いたのでは前記のような高周波シス
テムに対応する高性能ヘッドを実現するのは困難であ
る。
【０００５】一方、一軸異方性を有するアモルファス磁
性膜をその磁化容易軸方向を揃えて積層した多層膜の初
透磁率特性は、磁化容易軸方向に測定すると（１）のよ
うに全周波数帯で極めて低い初透磁率特性を示すのに対
し、磁化困難軸方向に測定した場合は（３）のように高
周波まで高い透磁率を維持し、６０ＭＨｚでも１０００
以上の値を有する。したがって、磁化困難軸方向だけで
磁路を形成すれば、高周波まで高い再生効率のヘッドが
実現できる。ビデオヘッド等のリングタイプのヘッドに
おいては、磁化困難軸方向だけで磁路を構成するにはヘ
ッドのトラック幅方向が磁化容易軸となるように異方性
を付けるか、あるいは、巻線窓を中心として放射状に磁
化容易軸を付ければ良い。
性膜をその磁化容易軸方向を揃えて積層した多層膜の初
透磁率特性は、磁化容易軸方向に測定すると（１）のよ
うに全周波数帯で極めて低い初透磁率特性を示すのに対
し、磁化困難軸方向に測定した場合は（３）のように高
周波まで高い透磁率を維持し、６０ＭＨｚでも１０００
以上の値を有する。したがって、磁化困難軸方向だけで
磁路を形成すれば、高周波まで高い再生効率のヘッドが
実現できる。ビデオヘッド等のリングタイプのヘッドに
おいては、磁化困難軸方向だけで磁路を構成するにはヘ
ッドのトラック幅方向が磁化容易軸となるように異方性
を付けるか、あるいは、巻線窓を中心として放射状に磁
化容易軸を付ければ良い。
【０００６】しかし、トラック幅方向に磁化容易軸を付
けるのはヘッドの形状による反磁界の影響のため現状で
は非常に困難であり、また放射状に磁化容易軸を付ける
のはヘッドの製造上極めて難しい現状である。
けるのはヘッドの形状による反磁界の影響のため現状で
は非常に困難であり、また放射状に磁化容易軸を付ける
のはヘッドの製造上極めて難しい現状である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの製
造方法は金属磁性膜と導電膜とを設けた非磁性基板を積
層して積層体を形成し、前記積層体から一対のコア半体
を切り出し、少なくとも一方のコア半体の磁気ギャップ
面に巻線窓を形成し、前記一対のコア半体を磁気ギャッ
プ面で突合せ、前記導電膜に前記磁気ギャップ面を境に
互いに逆向に電流を流しながら熱処理することを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法である。
造方法は金属磁性膜と導電膜とを設けた非磁性基板を積
層して積層体を形成し、前記積層体から一対のコア半体
を切り出し、少なくとも一方のコア半体の磁気ギャップ
面に巻線窓を形成し、前記一対のコア半体を磁気ギャッ
プ面で突合せ、前記導電膜に前記磁気ギャップ面を境に
互いに逆向に電流を流しながら熱処理することを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法である。
【０００８】
【作用】本願発明の構成によれば、金属磁性膜の膜面内
に巻線窓を中心として放射状に磁化容易軸が付与される
ので、磁気ヘッドの磁路のほとんどが磁化困難軸方向と
なり、優れた特性を有効に利用でき、高周波でも高い効
率で記録再生できる。
に巻線窓を中心として放射状に磁化容易軸が付与される
ので、磁気ヘッドの磁路のほとんどが磁化困難軸方向と
なり、優れた特性を有効に利用でき、高周波でも高い効
率で記録再生できる。
【０００９】
【実施例】（図１）、（図２）、（図３）および（図
４）は、本発明の実施例における磁気ヘッドの製造工程
の斜視図を示す。
４）は、本発明の実施例における磁気ヘッドの製造工程
の斜視図を示す。
【００１０】（図５）は、巻線窓６を有するヘッドコア
形状の電流を流した導電膜３から発生する磁界１１を示
した図である。電流はヘッド端面のギャップ面近傍より
ギャップ面を境に互いに逆方向に流されており、巻線窓
６を中心に放射状に磁界が生じる。
形状の電流を流した導電膜３から発生する磁界１１を示
した図である。電流はヘッド端面のギャップ面近傍より
ギャップ面を境に互いに逆方向に流されており、巻線窓
６を中心に放射状に磁界が生じる。
【００１１】（図６）は、金属磁性膜２の片側に導電膜
３を配した時に磁界１１の流れを側面から見た図であ
る。電流により生じた磁界１１は、透磁率の高い金属磁
性膜２内を図のように流れる。したがって金属磁性膜２
には、膜面内で巻線窓６を中心に放射状の方向に磁界が
加わる事になる。すなわち、本発明の方法で、磁気ヘッ
ドを作製すると熱処理時に金属磁性膜の膜面内で巻線窓
を中心に放射状に磁界が加わるので（図４）に示すよう
な巻線窓６を中心として放射状に磁化容易軸１０をもつ
リングヘッドの作製が可能となる。このヘッドは磁路の
ほとんどが磁化困難軸方向の特性を有効に利用でき、高
周波でも十分に高い効率で信号を記録再生できる。
３を配した時に磁界１１の流れを側面から見た図であ
る。電流により生じた磁界１１は、透磁率の高い金属磁
性膜２内を図のように流れる。したがって金属磁性膜２
には、膜面内で巻線窓６を中心に放射状の方向に磁界が
加わる事になる。すなわち、本発明の方法で、磁気ヘッ
ドを作製すると熱処理時に金属磁性膜の膜面内で巻線窓
を中心に放射状に磁界が加わるので（図４）に示すよう
な巻線窓６を中心として放射状に磁化容易軸１０をもつ
リングヘッドの作製が可能となる。このヘッドは磁路の
ほとんどが磁化困難軸方向の特性を有効に利用でき、高
周波でも十分に高い効率で信号を記録再生できる。
【００１２】まずチタン酸マグネシウム系の非磁性基板
１の片面に金属磁性膜２と絶縁膜とをスパッタリングで
交互に積層する。本実施例では、金属磁性膜はＣｏ−Ｎ
ｂ−Ｚｒ−Ｔａの組成のアモルファス合金を用いてお
り、飽和磁束密度Ｂｓ〜８０００Ｇ、キュリー温度Ｔｃ
〜４９０゜ Ｃである。また、一層当りの膜厚は使用周波
数帯における渦電流損失を考慮した厚さ以下になってい
る。また絶縁膜はＳｉＯ 2 を用い厚みは０．１μm とし
た。
１の片面に金属磁性膜２と絶縁膜とをスパッタリングで
交互に積層する。本実施例では、金属磁性膜はＣｏ−Ｎ
ｂ−Ｚｒ−Ｔａの組成のアモルファス合金を用いてお
り、飽和磁束密度Ｂｓ〜８０００Ｇ、キュリー温度Ｔｃ
〜４９０゜ Ｃである。また、一層当りの膜厚は使用周波
数帯における渦電流損失を考慮した厚さ以下になってい
る。また絶縁膜はＳｉＯ 2 を用い厚みは０．１μm とし
た。
【００１３】次に、もうひとつの非磁性基板１の片面に
導電膜３を蒸着で形成する。本実施例では、導電膜はＣ
ｕを用い厚みは５０μm とした。
導電膜３を蒸着で形成する。本実施例では、導電膜はＣ
ｕを用い厚みは５０μm とした。
【００１４】次に、金属磁性膜２が形成された基板１
と、導電膜３が形成された基板１を交互に金属磁性膜２
と基板１が、また導電膜３と基板１が向かい合うように
重ね、各基板間を結晶化ガラス等の接合ガラス４で接着
する事により（図２）に示すような積層体５をつくる。
と、導電膜３が形成された基板１を交互に金属磁性膜２
と基板１が、また導電膜３と基板１が向かい合うように
重ね、各基板間を結晶化ガラス等の接合ガラス４で接着
する事により（図２）に示すような積層体５をつくる。
【００１５】次に、この積層体５を切断し、一対のコア
半体５ａ、５ｂをつくる。一方のコア半体５ａの磁気ギ
ャップ面に巻線窓６を形成し両コア半体５ａ、５ｂのギ
ャップ面を平滑に研磨し、ＳｉＯ2 や高融点ガラス等の
ギャップ材７を介して一対のコア半体５ａ、５ｂをギャ
ップ面で突合せて、熱処理をほどこし、ギャップ面で接
着されたギャップドバーを作製する。
半体５ａ、５ｂをつくる。一方のコア半体５ａの磁気ギ
ャップ面に巻線窓６を形成し両コア半体５ａ、５ｂのギ
ャップ面を平滑に研磨し、ＳｉＯ2 や高融点ガラス等の
ギャップ材７を介して一対のコア半体５ａ、５ｂをギャ
ップ面で突合せて、熱処理をほどこし、ギャップ面で接
着されたギャップドバーを作製する。
【００１６】次に、このギャップドバーの導電膜３に電
流を流しアニール処理をほどこす。次に、このギャップ
ドバーを所定の厚み８で切断し、（図４）に示すような
ヘッドチップを得る。
流を流しアニール処理をほどこす。次に、このギャップ
ドバーを所定の厚み８で切断し、（図４）に示すような
ヘッドチップを得る。
【００１７】以上の方法により作製したヘッドは、作用
の項で説明したような磁界が熱処理中に印加される事に
より、（図４）に示すように、磁化容易軸１０が巻線窓
６を中心に放射状に形成される。
の項で説明したような磁界が熱処理中に印加される事に
より、（図４）に示すように、磁化容易軸１０が巻線窓
６を中心に放射状に形成される。
【００１８】（図７）は従来の無配向の積層金属磁性膜
を用いた磁気ヘッド（ｂ）、および本発明の製造方法に
よる磁化容易軸が巻線窓を中心に放射状に形成された磁
気ヘッド（ａ）の相対出力の周波数特性を示す。３０Ｍ
Ｈｚ以上の高周波において、本発明の磁気ヘッドは、従
来の磁気ヘッドを大きく上回る高周波特性を示している
事がわかる。
を用いた磁気ヘッド（ｂ）、および本発明の製造方法に
よる磁化容易軸が巻線窓を中心に放射状に形成された磁
気ヘッド（ａ）の相対出力の周波数特性を示す。３０Ｍ
Ｈｚ以上の高周波において、本発明の磁気ヘッドは、従
来の磁気ヘッドを大きく上回る高周波特性を示している
事がわかる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、３０ＭＨｚ
以上の高周波帯でも十分高い効率で記録再生できる高周
波用磁気ヘッドが容易に得られる。
以上の高周波帯でも十分高い効率で記録再生できる高周
波用磁気ヘッドが容易に得られる。
【図１】本発明の実施例における磁気ヘッドの製造工程
の斜視図
の斜視図
【図２】本発明の実施例における磁気ヘッドの製造工程
の積層体の斜視図
の積層体の斜視図
【図３】本発明の実施例における磁気ヘッドの製造工程
のコア半体の斜視図
のコア半体の斜視図
【図４】本発明の実施例における磁気ヘッドの製造工程
のヘッドチップの斜視図
のヘッドチップの斜視図
【図５】本発明の実施例の作用を示す原理図
【図６】図５の断面図
【図７】（ａ）は本発明の磁気ヘッドの相対出力の周波
数特性を示すグラフ （ｂ）は従来の磁気ヘッドの相対出力の周波数特性を示
すグラフ
数特性を示すグラフ （ｂ）は従来の磁気ヘッドの相対出力の周波数特性を示
すグラフ
【図８】異方性の方向による金属磁性膜の初透磁率の周
波数特性を示すグラフ （１）は磁化容易軸方向に測定したグラフ （２）は無配向のアモルファス積層膜のグラフ （３）は磁化困難軸方向に測定したグラフ
波数特性を示すグラフ （１）は磁化容易軸方向に測定したグラフ （２）は無配向のアモルファス積層膜のグラフ （３）は磁化困難軸方向に測定したグラフ
１ 非磁性基板 ２ 金属磁性膜 ３ 導電膜 ４ 接合ガラス ５、５ａ、５ｂ コア半体 ６ 巻線窓 ７ ギャップ材 ８ 切断幅 ９ 磁気ギャップ １０ 磁化容易軸 １１ 磁界
Claims (4)
- 【請求項１】金属磁性膜と導電膜とを設けた非磁性基板
を積層して積層体を形成し、前記積層体から一対のコア
半体を切り出し、少なくとも一方のコア半体の磁気ギャ
ップ面に巻線窓を形成し、前記一対のコア半体を磁気ギ
ャップ面で突合せ、前記導電膜に前記磁気ギャップ面を
境に互いに逆向に電流を流しながら熱処理することを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】導電膜が金属磁性膜である事を特徴とする
請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】２以上の金属磁性膜を絶縁膜を介して層状
に設けた非磁性基板を積層して積層体を形成する事を特
徴とする請求項１または２のいずれかに記載の磁気ヘッ
ドの製造方法。 - 【請求項４】金属磁性膜がアモルファス磁性膜である事
を特徴とする請求項１、２もしくは３のいずれかに記載
の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21675692A JPH0660315A (ja) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21675692A JPH0660315A (ja) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0660315A true JPH0660315A (ja) | 1994-03-04 |
Family
ID=16693429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21675692A Pending JPH0660315A (ja) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660315A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11231047B2 (en) | 2017-08-28 | 2022-01-25 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Turbocharger |
-
1992
- 1992-08-14 JP JP21675692A patent/JPH0660315A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11231047B2 (en) | 2017-08-28 | 2022-01-25 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Turbocharger |
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