JPH06504272A - 不均一系触媒による5−ヒドロキシメチルフルフラールの調製方法 - Google Patents

不均一系触媒による5−ヒドロキシメチルフルフラールの調製方法

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JPH06504272A
JPH06504272A JP4501193A JP50119392A JPH06504272A JP H06504272 A JPH06504272 A JP H06504272A JP 4501193 A JP4501193 A JP 4501193A JP 50119392 A JP50119392 A JP 50119392A JP H06504272 A JPH06504272 A JP H06504272A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不均一系触媒による5=ヒドロキシメチルフルフラールの調製方法詳細な説明 本発明は、少なくとも1つのヘキソースもしくは、加水分解によって、少なくと も1つのヘキソースを生ずるグリコノドを含有する溶液がら、不均一系触媒によ って、次式の5−ヒドロキシメチルフルフラール(IMF)を調製する方法に関 するものである。
共役二重結合のその構造中に、エーテルと、第1級アルコールと、アルデヒド基 が存在することによって、IMFは高い反応性を有し、また従って、ノアルデヒ ド、ジアルコール、二塩基酸やアミノアルフールのような、高性能プラスチ。
り材料、界面活性剤、フィトサニタリー(phytosa旧tary)製品等の 中間体の化学合成に関して、興味ある分子である。
HM Fは、下記反応式に対応する、酸触媒の存在下での環化による脱水反応に よ−〕でヘキソースから得ることのできるものである。
ヘキソースからのHM Fの生成機構は、さらに慢雑である。なぜならば、それ は、I M Fに変化されるが、しかし不溶性樹脂にも変化し易い純限定中間体 を含むからである。同様に、反応条件下、IMFは、酸触媒方法によって、レブ リ/酸と蟻酸に転化することができ、また重合することができる。
従って、酸媒体中におけるヘキソースの脱水中になされる反応は、次式で表され る。
ヘキソースーー啼中間体−−−やHMF従来、ヘキソースのHMFへの変化は、 装置の腐食、酸触媒の再生や特に酸媒体中でのHMFの不安定性という問題を引 き起こす、塩酸、リン酸、硫酸や蓚酸のような、有機酸または金属で構成される 酸触媒によって、同種相中で行われている。加えて、この同種相触媒作用の、陽 イオン基交換樹脂、FR−A−2464260に記載されているような、固体触 媒作用支持体を用いる不均一相触媒作用による代替が考えられている。
この不均一相触媒手順によれば、HMFを、それを生成する媒体からの抽出にし かしながら、酸基と特にスルホン基を有する陽イオ/交換樹脂である、前述の文 献中で使用されている固体触媒は、100°C以上では用いることができず、再 生することは困難であり、HMF製造コストを高く引き上げ、工業規模での有益 な製造物としては問題のあるものである。
本発明は、特に、妥当なコストでその工業生産を構想する為の、収率と純度が充 分に高<HMFを得ることのできる、不均一系触媒による5−ヒドロ亭7メチル フルフラールの調製方法に関するものである。
本発明の、少なくとも1つのヘキソースまたは加水分解によって少なくとも1つ のヘキソースを生じるグリコノドを含有する液媒体と50℃を超える温度での固 体酸触媒の接触による5−ヒドロキシメチルフルフラールの調製方法は、酸触媒 がCoolや5o3Hのような酸基によって機能しないテクト珪酸塩または粘土 であるということに特徴づけられている。
テクト珪酸塩はTO4四面体の3次元結合によって形成される金属化合物であり 、TはSl、AI、8%Ga、Ge%P等のような元素の周期表の元素を示し、 T04四面体の結合は少なくとも2つの異なる元素の導入を示している。この結 合において、T04四面体の酸素原子は近接した四面体に共通している。
例えば、これらのテクト珪酸塩としては、アルミナ珪酸塩、ガロ(gallo) 珪酸塩、アルミノゲルマニウム酸塩(aluminogermanates)ま たはガロゲルマニウム酸塩(gillogervanates)がある。
これらのテクト珪酸塩は、TO4四面体とチャンネルの架橋によって形成される 3次元骨格と、陽イオン、水または他の分子の補償または塩を含有することが可 能な大きさの分子を有した孔を導入している構造に特徴づけられる微孔性化合物 である。
本発明においては、陽イオンまたは陽子型のテクト珪酸塩が使用されている。
後者の場合、補償陽イオンはテクト珪酸塩に酸性状を与えるH1陽子によって構 成されている。テクト珪酸塩が陽イオン型であるときは、その陽イオンは特にア ルカリ金属またはアルカリ土類金属の陽イオンである。陽子型のテクト珪酸塩ま たは粘土の使用が好適である。
さらに、H+型のゼオライトと粘土、例えば、モルデン沸石、ホージャサイト、 β−ゼオライト、Yゼオライトまたはモンモリロナイトの使用が特に可能である 。
ゼオライトは例えば次の構造を有する。
”+1/n (Y tT ”02. V zT20□・・・) XZ Aここで 、Mは原子価nの陽イオンであり、T1とT2は骨格の元素であり、Aは例えば 水のようなチャンネル中にある分子であり、X、 !/1、y2、Zは0よりも 大きい整数である。本発明によれば、M4″は好ましくはH+である。ナトリウ ム型であれば、使用できるゼオライトは式l Na56(A10□)56(Si O□)1361264)+20のYゼオライトである。
陽イオンまたは陽子型のゼオライトを得るために、例えば、Na型ゼオライトを 塩化アンモニウム水溶液中で交換し、そして300〜600’Cで灰化して陽子 型を得ることが可能である。これらのゼオライトで、Si/At比による陽子ア クティビティを調整することが可能である。
優れたことに、必要とする酸度/疎水性比の相関として、Sl/Al比が2〜1 00のゼオライトが使用できる。
本発明によれば、ヘキソースまたはグリフシトのIMFへの転化反応に触媒作用 を施すために、陽イオンまたは陽子型のテクト珪酸塩と粘土の特別な性状を使用 できる。
従って、まず、ヘキソースまたはグリコシドをHMFに変化させるために、テク ト珪酸塩の酸性状(ルイスまたはブロンステッド酸度)を使用する。本発明の方 法においては、テクト珪酸塩は触媒として寄与するもので、PR−A−2464 260中にある、触媒として寄与する活性相の支持体としてではない。ここでは 、ンリカーアルミナは支持体として寄与し、スルホン基は活性触媒相を構成する ものである。
加えて、本発明では、テクト珪酸塩は反応の第2生成物を除去するふるい分子と して使用される。こうして、テクト珪酸塩の微孔性は、分子をその大きさによっ てチャンネルの次元を調整することで選択することを可能とする。
従って、テクト珪酸塩を使用することによって、微孔に入ることのできないHM Fを吸着することなく、反応中に生成された有害な第2生成物、例えばレブリン 酸と蟻酸をその微孔性系に吸着し、高い純度で生成されたIMFを得、IMF生 成の反応の第2酸触媒の減成を防ぐことができる。
参考までに、・この選択性吸着を有するテクト珪酸塩の例としてモルデン沸石が ある。
さらに、本発明で使用される陽イオンまたは陽子型のテクト珪酸塩と粘土は、F R−A−2464260の機能性樹脂の耐熱性(最高100℃)より高い温度、 例えば、600℃の耐熱性を有し優れている。従って、FR−A−246426 0の機能性固体触媒では不可能であった、100℃以上の作業によってIMFの 合成反応の速度を高めることが可能である。
本発明の方法によれば、液媒体は好ましくは水性媒体であるが、反応媒体は、水 と、水と混和しない有機溶媒によって形成される二成分系でも構成され得る。
この場合、好ましいことに、有機溶媒を使用することで、生成された5−ヒドロ キシメチルフルフラールをその中で抽出することが可能となる。
本発明の方法において、テクト珪酸塩タイプの酸触媒と水性媒体を選択するので 、生成されたIMFはその生成に必要なpHよりも高く水中で薄められる。これ は、弱酸性水相を与えるもので、これは生成されるHMFの減成に好ましくはな く、IMFの第2重合生成物の出現とレブリン酸と蟻酸の生成を防ぐことを可能 とする。
さらに、本発明で使用されたテクト珪酸塩は容易に再生し、再使用できるという 見地から、汚染再生試薬の使用を防くことが可能であり、廃棄物処理に関して経 済的になされ得る。さらに、これらの固体触媒は、IMFを生成するのに使用さ れた反応条件下では減成しない。
本発明によれば、少なくとも1つのへ牛ソースもしくは、少なくとも1つのへキ ソースを構成するグリコ7ドを含有する水性溶液を酸触媒と接触する為に使用さ れた反応条件は、通常の温度と圧力条件である。
本発明による方法において、水性ヘキソース溶液は、HMF(F)gli製に使 用された通常の温度と圧力範囲の温度と圧力において、酸触媒と接触する。好ま しくは、温度は、触媒の活性が良好である100〜200℃である。好ましくは 、作業を大気圧より高い圧力、例えば、01〜2MPaで起こすことによって、 液媒体中で残存する。
水性開始溶液は、アルドヘキソースとケトへ牛ソースの間から選択された1つ又 はそれ以上のヘキソースを含有することができる。アルドヘキソースに関して、 参考として、例えばグルコース、ガラクトース、マンノースとイドースがある。
ケトヘキソースは例えば、フルクトース、レブロース、ソルボース、タガトース とアロースがある。グリフシトは例えば、スクロースとイヌリンである。
優れていることに、ヘキソースはフルクトースまたはグルコース−フルクトース 混合物である。後者の場合、反応条件を適格に選ぶことにより、フルクトースに 関しては特異性を得、続いて他の合成に使用することが可能なグルコースに転化 しないることが可能である。
本発明の方法において、適した有機溶媒によって水性媒体中に生成された5−ヒ ドロ牛7メチルフルフラールを継続的に抽出することが可能である。
この目的のため、反応温度でできるだけ水に不溶で、生成HMFの良好な溶媒ま たは非常に僅かに水に溶けるHMFの選択溶媒のいずれかの有機溶媒が使用され る。ここで、実質的にヘキソースと水は不溶であり、沸点はHMFの沸点よりも 低い。
そのような溶媒の例として、参考として、ケトン、例えばメチルインブチルケト ンがある。ニトリル、エーテル、水不溶性アルコール、クロロベンゼンとジクロ ロベンゼンのようなハロゲン供与体、脂肪族または芳香族炭化水素と、ニトロア ルカンを使用することも可能である。
溶液中でこのIMFの抽出を行うために、反応は、メチルイソブチルケトンのよ うな有機媒体をヘキソースと固体触媒を@間中に含有する水相に添加することで 3相媒体中で実施される。この場合、触媒を濡らすことのない媒体が選択され、 生成されるや否やHMFが有機相中に塩析されるならば、触媒のある水槽中で触 媒反応は生じる。従って、触媒の不活性は僅かである。有機溶媒は、懸濁固体触 媒を含有する水相に関して、共流動または向流中で流すことができる。
固定または流動性触媒ベッドでの反応と、ヘキソースを含有する水相が固体触媒 上を通過後の第2段階での水相中に生成されたIMFの有機溶媒による抽出を行 うことも可能である。この場合、固定または流動触媒ベッド上の前記水相の循環 と、そして、触媒ベッドから離れた水相と有機溶媒の接触によるHMFの抽出に よって、断続的にまたは継続的に処理することが可能である。さらに、水相と共 流動または向流する方法で固定または流動ベッド中の有機溶媒の循環によって生 成したIMFを継続的に抽出することも可能である。
有機1(MF抽出溶媒と水相の接触は、通常の液/液抽出装置、特にパルスカラ ムのような交換カラムにおいてなされ得る。
本発明の方法を実施するのに、高い選択性、すなわち、生成されたIMFと転化 したヘキソースの最高モル比、特に選択性が少な(とも0.9を得るために、例 えば、ヘキソースと触媒の水相中の濃度、接触時間、温度、圧力の反応条件の選 択がなされる。
従って、もし、中間生成物の生成とIMFの副生物の減成を処理する反応式を既 になされているのならば、それは次式の反応実施パラメータで定義され得る。
選択性S −生成HM Fモル数/転化されたヘキソースモル数転化生成比T  =転化されたヘキソースモル数/初期ヘキソースモル数合成収率R= TXS  =生成されたHMFモル数/初期ヘキソースモル数反応条件は、これらのパラメ ータを動かすことを可能とする。
従って、温度および又は酸度、すなわち、触媒量またはSl/Al比が増加する と、ヘキソースの転化は増加する。すなわち、Tは与えられた時間増加するが、 減成と重合反応は、SlとRを減少させる。
本発明は、高い転化比Tよりも高い選択性Sを目的とする。選択性を助けるため に、IMF中間体の転化反応において、HMFの樹脂への転化と副生成物(レブ リン酸と蟻酸)の生成を防ぐようにすることが適している。
これは、有機溶媒中で生成されるようにIMFを抽出することによって得られる 。さらに、生成されたHMFは、例えば、pHが3より大きく、その減成に比較 的不適な弱酸性溶液中にあるので、酸触媒である第2IMF減成反応の低減があ る。
本発明にしたがって、固体触媒を選択する結果、比較的高いヘキソース転化比を 得るが、要求される高い選択性と両立性を残すために、比較的高い温度、例えば 、100〜200℃で反応を行うことが可能である。
水性溶液のヘキソース濃度と触媒濃度は、高い選択性を得るために使用されたヘ キソースと触媒の機能として選択される。
従って、もし、酸度が高いならば、すなわち、もし、触媒量/水相量比が高いな らば、ヘキソースの中間体への転化比は高くなるが、HMFの減成比と中間体の 重合比も高くなるだろう。そこで、本発明では、選択性は、さらに転化比を損傷 し、固体触媒の使用が、IMFを吸着することなく、選択的にHMF減成生成物 を吸着することができる。
一般に、水相中のヘキソース濃度は50〜700 g/lである。特段の場合の 機能として、触媒の量はフルクトース転化速度と水相中の異なる化合物の濃度の 機能として最適条件で決定される。
本発明の方法の優れた実施例によれば、水相中で生成された5−ヒドロキシメチ ルフルフラールを有機溶媒中に連続的に抽出するために、共流動または向流接触 は、少なくとも1つのへ牛ソースもしくは、加水分解によって少なくとも1つの ヘキソースを生ずるグリコシドと、陽子型のテクト珪酸塩または粘土によって構 成される固体酸触媒と、水相に不溶で生成された5−ヒドロキシメチルフルフラ ールを溶解する有機溶媒とを導入する水相の各種の液/液抽出反応器中で起き、 選択比すなわち生成されたIMFと転化されたヘキソースのモル比が、0.9好 ましくは0.95より大きくなるように、各抽出器中の、ヘキソースの量と、触 媒と、流動する水相と有機溶媒と、水相の流動速度と、有機溶媒の流動速度と、 温度と、圧力を調整する。
この場合、有機溶媒の流速と水相の流速の比は、1〜lOOが良(、好ましくは 1〜lOである。
従って、分配係数すなわち有機相中と水相中のHMFの平衡時の濃度比は、1に 近いので、さらにIMFを抽出するために、水相の流速と比較して高い有機溶媒 の流速を有することが優れている。
そこで、各種の抽出反応器の製造が使用される場合、水相中の全ヘキソースモル を実質的に変換するために、連続する反応器中の水相を継続的に循環させること が可能であり、また媒体中のIMF抽出を改善するために、有機溶媒は前記反応 器中を同時に循環される。
本発明の他の特徴ならびに優れていることは、図示された1つの図から集められ 得る。この図は、本発明の方法を実施するための、パルスカラムとして用いられ る4本の抽出カラムCI、 C2、C3、C4を有する図を概略的にを示すもの である。
まず、H+ゼオライトで構成され、100〜165℃の温度まで加熱された固体 触媒を懸濁状態で含有する水性ヘキソース溶液がバイブlからカラムC1に導入 され、バイブ3によって導入されるメチルイソブチルケトンのような有機溶媒と の向流接触が起きる。
IMFを含有しないヘキソース消耗水性溶液が、t4イブ5にある前記カラムの 出口に集められ、バイブ7には、カラムC1で製造されたIMFを含有する有機 溶媒が集められる。
そして、水性溶液はカラムC2に導入され、そこで/(イブ9から導入された新 しい有機溶媒と向流接触する。C2から出る際に1.fイブ11はさらなるへ牛 ソース消耗水性溶液を再生し、バイブ13は製造されたIMFを含有する〕くイ ブ7中の有機溶媒を再生する。
そして、水性溶液は連続的にカラムC3とカラムC4(t’イブ11.15)に 移動し、バイブ17,21によって導入された新しい有機溶媒と接触する。
最後のカラムを出る際に、バイブ23はヘキソースを実質的に含有しない水性溶 液を再生し、バイブ25は製造された全てのIMFを含有する有機溶媒をt4イ ブ7中に再生する。
そして、IMFは溶媒を蒸発させることによって溶媒から分離され、濃縮状態と なる。溶媒を蒸発させて濃縮後、溶媒はノ4イブ3.9.17.21に再循環す る。
例えば、HMFを製造するためにこの図示されたもので、1.2モル/1のフル クトースと30 g/lのゼオライトを含有する水性フルクトース溶液から、装 置中の循環速度をl■3/hとし、各カラムに速度6謹3/hで導入されたメチ ルイソブチルケトンで向流し、全てのカラムを160℃まで加熱して使用するこ とで、少なくと609の選択比を得ることが可能である。
下記実施例1〜+5.17.18は本発明に係る固体触媒の使用を示すものであ る。実施例6は、比較目的のために、触媒を使用せずにHMFの合成を示すもの である。
実施例1 この実施例は、Sl/Al比が25で、H+型のYゼオライトを使用して、フル クトースからのIMFの製造に関するものである。
100m1の高圧釜に、501の水と2gのフルクトースと0.5gのHYゼオ ライトを入れる。145℃で4時間の攪拌後、溶液を採取し、水溶液のIMFと フルクトース量を定量する検出手段として、屈折率測定器と紫外線スペクトロメ トリーを使用した高圧液体クロマトグラフィ(HP L C)で分析する。こう して、生成されたHMFの量は、初期フルクトース量の10モル%を示す。
実施例2 Sl/Al比がlOで、陽子型のYゼオライトの使用以外は、実施例1の製造処 理と同様にした。これらの条件下、生成されたIMFの量は21%である。
実施例3 実施例1の製造処理と同様であるが、Sl/At比が20のHYゼオライトを使 用した。これらの条件下、生成されたHMFの量は16%である。
実施例4 実施例1の製造処理と同様であるが、触媒として陽子モンモリロナイトを使用し た。これらの条件下、生成されたHMF量は32%である。
これら4つの実施例において、反応後の、レブリン酸と蟻酸と不溶性樹脂の量は 僅かである。
実施例5 この実施例はフルクトースからIMFを製造するのに、Sl/Al比が17のH +ゼオライトを使用する。300■lの高圧釜に、35嘗lの水と3.5gのフ ルクトースとIgのβゼオライトと1751のメチルイソブチルケトンを入れる 。
これを70Or、p■、165℃で30または60分間攪拌する。2相を安定さ せた後、屈折率測定器による測定を行うHPLC(サラセプスカー(5ARAC EPSCAR,H,)カラム)によって水相中でフルクトースとHMFを定量し 、紫外線スペクトロメトリーによる測定を行うHP L C(POLYMERS  LABORATO旧ES PLRP、Sカラム)によって有機相中でIMFを 定量する。
定置は、上記中に検出された値に基づいて行われる。
転化比(%)に対応する割合は、 転化したヘキソースモル数/初期ヘキソースモル数、選択比(%)に対応する割 合は、 生成されたI(M Fモル数/転化したヘキソースモル数、収率(%)に対応す る割合は、 生成されたHMFのモル数/初期ヘキソースモル数、実施例6〜15 実施例5の方法処理と同様に、フルクトースからIMFを製造するが、1gのβ ゼオライトのところを表中に記載された1gの触媒を使用する。得られた結果も 表に示す。
実施例1に の実施例では、フルクトースからIMFを製造するのに、実施例5と同様の方法 処理を行ったが、固体触媒は使用しなかった。得られた結果も表に示す。
表中の結果に基づいて、本発明によってH1℃テクト珪酸塩で90%より大ざい 選択比を得ることが可能であることが明白である。
実施例17 この実施例では、フルクトースからIMFを製造するのに、実施例13のモルデ ン沸石を使用し、7gのフルクトースは使用すること以外は、実施例5の方法処 理を行なった。下記結果を得た。
30分後 60分後 転化比 33% 55% 選択比 97% 92% 収率 32% 51% 実施例18 この実施例は実施例17と同様の方法で処理したが、21の反応器に280m1 の水と56gのフルクトースと1.21のメチルインブチルケトンと8gのモル デン沸石HでSl/Al比がlOを使用する。30分の攪拌後、転化比は57% 、選択比は97%、収率は56%であった。
表 実施例 触媒 St/^1 時間 転化 選択比 収率(in分)(%) (% ) (%) 5 βセ゛オライド 17 30 74 43 326 SZM、5 セ゛オラ イド 25 30 82 37 307 モンモリロナイト[10帖土 30  37 58 218 USHYセ゛オライド 2.5 30 41 30 12 9 11Yセ゛オライド 10 30 85 52 441O同上 15 30  57 54 3111 同上 20 60 45 52 2312 モルテ゛ ン沸石Ht゛オライド 6.9 30 43 97 4113 同上 10 3 0 56 97 5414 同上 50 30 58 66 3815 YNa  セ゛オライド 2.5 30 43 41 1716 触媒熱 −30154 06 に 国際調査報告 フロントページの続き (72)発明者 アヴイニョン、ジエラールフランス国 47310 エスティ ラ ル プティ ビュイスン (番地なし) (72)発明者 ドユラン、ロベール フランス国 34830 クラビュエ アベニュ ジャン ムーレン 100 (72)発明者 フォーシェラ、ビニールフランス国 30310 ボン サン  ニスプリ リュ ビニラッテ 10 (72)発明者 ジェネステ、パトリックフランス国 34000 モンペリュ エ アベニュ シャンセル 24 (72)発明者 モロ−、クロード フランス国 34880 ラヴエルネ リュドユ プレ エステ ミツシェル  11(72)発明者 リヴアリュエ、パトリックフランス国 34130 モウ ギュオ リュミッシェレ 16 (72)発明者 ロス、ビニール フランス国 30150 ソーヴエテール シャメンドウ ルシドウ (番地な し)

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.50℃より高い温度で、少なくとも1つのヘキソースもしくは、加水分解に よって、少なくとも1つのヘキソースを生ずるグリコシドとを含有する溶液と、 固体酸触媒を接触することによる5−ヒドロキシメチルフルフラール(HMF) の調製方法であって、酸触媒が、酸基によって機能しないテクト珪酸塩または粘 土であることを特徴とするものである。
  2. 2.酸触媒が陽子型のテクト珪酸塩または粘土であることを特徴とする請求項1 の方法。
  3. 3.テクト珪酸塩がゼオライトであることを特徴とする請求項1または2の方法 。
  4. 4.ゼオライトのS1/A1比が2〜100であることを特徴とする請求項3の 方法。
  5. 5.酸触媒がモルデン沸石Hであることを特徴とする請求項2の方法。
  6. 6.液媒体が水性媒体であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかの方法。
  7. 7.前記水性媒体中で生成された5−ヒドロキシメチルフルフラールが有機溶媒 によって抽出されたものであることを特徴とする請求項6の方法。
  8. 8.有機溶媒が、水に僅かに溶けるHMFの選択溶媒であり、ヘキソースと水が 実質的に不溶で、沸点がHMFの沸点よりも低いことを特徴とする請求項7の方 法。
  9. 9.有機溶媒がメチルイソブチルケトンであることを特徴とする請求項8の方法 。
  10. 10.温度が100〜200℃であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか の方法。
  11. 11.選択比すなわち生成されるHMFのモル数と転化されたヘキソースのモル 数の比が少なくとも0.9になるようなHMFの量を得るように、水相でのへキ ソースと酸触媒濃度と、温度と、接触時間を選択することを特徴とする請求項6 または7の方法。
  12. 12.ヘキソースのHMFへの転化が、向流または共流動中の2または3相中の 固体酸触媒の存在下で行われることを特徴とする請求項1〜11のいずれかの方 法。
  13. 13.接触共流動または向流が、少なくとも1つのへキソースまたは、加水分解 によって少なくとも1つのヘキソースを生ずるグリコシドと、陽子型のテクト珪 酸塩または粘土で構成される固体酸触媒と、水相に不溶で生成される5−ヒドロ キシメチルフルフラールを溶かす有機溶媒とを導入する水相の各種の液/液抽出 反応器中で起き、有機溶媒中に水相中で生成された5−ヒドロキシメチルフルフ ラールを連続的に描出し、各抽出反応器中の、ヘキソースの量と、触媒と、流動 する水相と有機溶媒と、水相の流動速度と、有機溶媒の流動速度と、温度と、圧 力を調整して、選択比すなわち生成されたHMFと転化されたヘキソースのモル 比が0.9好ましくは0.95を超えることを特徴とする請求項12の方法。
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