JPH0639373A - 浄水システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高置タンク等の貯水タンクから給水される水
の浄化を適切に行なえる浄水システムを提供すること。 【構成】 供給水を一次的に貯留する貯水タンク１と、
貯水タンク１に各端部を接続された循環管路１１と、循
環管路１１の一接続端寄りに介装されたポンプ１２と、
循環管路１２のポンプの出口側に流路切換用の弁１５を
介して並列に介装された濾過材内蔵の複数の浄化槽２１
とから浄水システムを構成しているので、弁切換えによ
って貯水タンク１内の貯留水を各浄化槽２１に交互に循
環させることにより、該貯留水に含まれる不純物を濾過
材で除去できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、マンション，オフィス
ビル等の建物に有用な浄水システムに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】マンション，オフィスビル等の建物で
は、その屋上等に設置された高置タンクにポンプを利用
して水道水を揚水し、該高置タンクから建物内の各部屋
の水栓に供水できるようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高置タ
ンクから建物内の必要箇所に給水される水には、タンク
内で発生した錆の他に藻類や細菌等が混入し易く、水道
管から直接水栓に水を供給する場合に比べて不純物が多
く水質が悪化する欠点がある。

【０００４】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、高置タンクから給水され
る水の浄化を適切に行なえる浄水システムを提供するこ
とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
請求項１では、供給水を一次的に貯留する貯水タンクと
及び給水管路を備え建物の屋上等に設置された高置タン
クと、高置タンクに各端部を接続された循環管路と、循
環管路の一接続端寄りに介装されたポンプと、循環管路
のポンプの出口側に流路切換用の弁を介して並列に介装
された濾過材内蔵の複数の浄化槽とから、浄水システム
を構成している。

【０００６】請求項２では、請求項１記載の浄水システ
ムにおいて、オゾン発生機のオゾン送出口を循環管路に
接続している。

【０００７】請求項３では、請求項１または２載の浄水
システムにおいて、各浄化槽内に吸着剤を配置すると共
に、循環管路のポンプの出口側から分岐され流路切換用
の弁を介して各浄化槽に至る再生管路と、再生管路の分
岐部分の上流位置に介装されたヒ−タ付きの温水生成槽
と、各浄化槽内の水を排出する排水管路とを設けてい
る。

【０００８】請求項４では、請求項３記載の浄水システ
ムにおいて、紫外線を照射可能な殺菌ランプを各浄化槽
内に配置し、白金族系酸化物及び酸化物系セラミックス
を主成分とする触媒を殺菌ランプの周囲に配設してい
る。

【０００９】

【作用】請求項１に係る浄水システムでは、弁切換えに
より貯水タンク内の水を各浄化槽に交互に循環させるこ
とができ、該循環時には各浄化槽内の濾過材によって貯
留水に含まれる不純物を除去できる。

【００１０】請求項２に係る浄水システムでは、循環管
路を流れる水にオゾンを混入させて貯留水に含まれる細
菌を死滅させることができる。

【００１１】請求項３に係る浄水システムでは、上記の
循環時に各浄化槽内の吸着剤によって臭気や次亜塩素
塩，有機塩素化合物等を吸着して除去できる。また、弁
切換えによって貯水タンク内の水を温水生成槽を通じて
加温して浄化槽に送り込むことにより、吸着剤に吸着さ
れている次亜塩素塩及び有機塩素化合物を温水中に脱離
させ、これらを含んだ水を排水管路から外部に排出でき
る。

【００１２】請求項４に係る浄水システムでは、請求項
３と同様の作用で温水中に脱離した次亜塩素塩及び有機
塩素化合物を触媒及び紫外線による光触媒反応によって
分解させ、分解分を含んだ水を排水管路から外部に排出
できる。

【００１３】

【実施例】図１には本発明を適用した浄水システムの概
略構成を示してある。同図において、１は高置タンク、
１１は循環管路、２１は２つの浄化槽、３１は再生管
路、４１は温水生成槽である。

【００１４】高置タンク１はマンション，オフィスビル
等の建物の屋上等に設置され、貯留水の水位を検知する
フロ−トスイッチ等の水位センサ２を内部に備えてい
る。また、高置タンク１の上面には建物の地下に至る揚
水管路３の一端が接続され、該揚水管路２の他端は地下
に配置された揚水用ポンプ４及び図示省略の受水タンク
を介して水道本管に接続されている。さらに、高置タン
ク１の側面下端には建物内の各部屋の水栓に至る給水管
路５の一端が接続され、該給水管路５の途中には塩素発
生機６の出口が混入用ポンプ７を介して接続されてい
る。

【００１５】上記の塩素発生機６は、図２にも示すよう
に、側面上端に入口６ａを側面下端に出口６ｂを夫々有
する本体槽６ｃと、本体槽６ｃ内の出口寄り位置に配置
された正電極６ｄと、本体槽６ｃ内の入口寄り位置に配
置された負電極６ｅとから構成されている。また、本体
槽６ｃの入口６ａには開閉弁を有する水道管Ｓが接続さ
れ、また出口６ｂにはポンプ７の入口が直接或いは中継
パイプ６ｆを介して接続されている。この塩素発生機６
では水道水を電気分解することにより次亜塩素酸イオン
（ｃｌＯ^- ) を正電極６ｄの周辺で生成し、該イオン水
をポンプ７によって給水管路４内に送り込み供給水に混
入できる。詳しくは、給水管路５の流量に応じたポンプ
７の比例的な作動によって、給水管路５を流れる水に水
道基準相当の濃度（０．１ｐｐｍ以上）で塩素を含有さ
せることができる。

【００１６】循環管路１１は、一端を高置タンク１の側
面下端に、また他端を高置タンク１の側面上端に夫々接
続されており、管路途中に２本の分岐管路１１ａ．１１
ｂを並列に有している。この循環管路１１には下方の接
続端から順に、循環用ポンプ１２と、電磁式の３方切換
弁（以下、第１電磁弁という）１３と、ベンチュリ管１
４が介装され、またベンチュリ管１４よりも下流に位置
する分岐部分には電磁式の３方切換弁（以下、第２電磁
弁という）１５が介装されている。また、循環管路１１
の分岐管路１１ａ．１１ｂには後述する浄化槽２１が夫
々介装され、また分岐管路１１ａ，１１ｂの合流部分よ
りも下流位置には電磁式の開閉弁１６（以下、第３電磁
弁という）が介装されている。

【００１７】上記のベンチュリ管１４は、図３にも示す
ように、中央に向かって徐々に断面径が小さくなる管材
から成り、最小径部分に導入孔１４ａを有している。ま
た、ベンチュリ管１４の導入孔１４ａには、無声放電式
等のオゾン発生機１７の出口が直接或いは中継パイプ１
４ｂを介して接続されている。このベンチュリ管１４で
はオゾン発生機１７で生成されたオゾン（Ｏ3 ）を導入
孔１４ａを通じてベンチュリ管１４内に送り込んで循環
水に混入できる。

【００１８】各浄化槽２１は、図４にも示すように、下
面中央に入口２２ａを上面中央に出口２２ｂを夫々有
し、また側面下端に温水導入口２２ｃと排水口２２ｄを
有する本体槽２２と、本体槽２２の温水導入口２２ｃよ
りも上方に配置された整流板２３と、整流板２３の上側
に配置されたプレフィルタ２４と、プレフィルタ２４の
上側に配置された吸着層２５と、吸着層２５の上側に配
置された有底筒状の触媒層２６と、触媒層２６の内側中
央に配置されたＵＶランプ２７とから構成されている。
また、排水口２２ｄには、排水制御用の電磁弁（以下、
排水弁という）２８が介装された排水管路２９が接続さ
れている。

【００１９】上記吸着層２５は繊維状或いは粒状活性炭
から形成され、また触媒層２６は有底筒状に成形された
ゼオライトの表面に触媒となる白金族系酸化物及び酸化
物系セラミックスの複合物を担持させて形成されその周
面部分には多数の孔（図示省略）が設けられている。
尚、白金族系酸化物としてはＰｔ，Ｒｄ，Ｒｕ等の酸化
物等が、また酸化物系セラミックスとしてはルチル型或
いはアナタ−ゼ型の酸化チタン等が夫々使用される。こ
の浄化槽２１における機能詳細は後述する。

【００２０】循環管路３１は、一端を第１電磁弁１３の
出口ポ−トに接続され、また他端を２本に分岐（３１
ａ，３１ｂ）され各分岐端を浄化槽２１夫々の温水導入
口２２ｃに接続されている。この第２循環管路３１の分
岐部分には開閉可能な電磁式の３方切換弁（以下、第４
電磁弁という）３２が介装され、また第４電磁弁３２の
上流位置には後述する温水生成槽４１が介装されてい
る。

【００２１】温水生成槽４１は、図５にも示すように、
上面中央に入口４２ａを下面中央に出口４２ｂを夫々有
する本体槽４２と、本体層４２の周面に付設されたパネ
ル状の電熱ヒ−タ４３と、本体層４２の内壁に設けられ
たサ−ミスタ等の温度センサ４４と、本体層４２内に配
置されたフロ−トスイッチ等の水位センサ４５とから構
成されている。この温水生成槽４１における機能詳細は
後述する。

【００２２】図６には図１に示した浄水システムに係る
電気系回路を示してある。同図において、５１はマイク
ロコンピュ−タ構成の制御部、５２は運転スイッチ、５
３乃至５６は第１乃至第４電磁弁１３，１５，１６，３
２の駆動部、５７は排水弁２８の駆動部、５８は揚水用
ポンプ４の駆動部、５９は循環用ポンプ１２の駆動部、
６０は塩素発生機６の駆動部、６１は混入用ポンプ７の
駆動部、６２はオゾン発生機１７の駆動部、６３はＵＶ
ランプ２７の駆動部、６４は電熱ヒ−タ４３の駆動部で
あり、２は高置タンク１の水位センサ、４４は温水生成
層４１の温度センサ、４５は温水生成層４１の水位セン
サである。

【００２３】上記の制御部５１はＣＰＵとプログラムを
格納したメモリ等を具備しており、運転スイッチ５２，
水位センサ２，温度センサ４４及び水位センサ４５の操
作信号及び検知信号に基づき、プログラムに従って各駆
動部５３乃至６４に制御信号を送出する。

【００２４】ここで、図１に示した浄水システムにおけ
る浄水動作を図７及び図８を参照して説明する。尚、図
７及び図８での図示を省略したが、高置タンク１内の貯
留水の水位は、水位センサ２の検知信号に基づく揚水用
ポンプ４の断続作動によって所定の高水位に近づくよう
に制御される。また、高置タンク１から給水管路５に送
り込まれる水には、塩素発生機６からポンプ７を介して
所定濃度の塩素が混入される。

【００２５】運転スイッチ５２がオン操作されると、第
１電磁弁１３が浄化槽側に切換えられ、第２電磁弁１５
が一方の浄化槽（図１左側の浄化槽）２１側に切換えら
れ、第３電磁弁１６が開かれ、第４電磁弁３２と両排水
弁２８が閉じられる（図７のｓ１，ｓ２）。また、これ
と同時に、オゾン発生機１７が作動され、両浄化槽２１
のＵＶランプ２７が点灯されて、循環用ポンプ１２が作
動される（図７のｓ３乃至ｓ５）。

【００２６】これにより、高置タンク１内の貯留水が図
１の実線矢印に従って循環管路１１の図１左側の分岐管
路１１ａ及び浄化槽２１を循環する。この循環時にはベ
ンチュリ管１４位置で循環水にオゾンが混入され、該オ
ゾンによって細菌が死滅する。また、図１左側の浄化槽
２１に送り込まれた循環水は、プレフィルタ２４でご
み，錆，藻類等を除去され、また吸着層２５及び触媒層
２６で臭気や次亜塩素塩，有機塩素化合物等を吸着され
て除去されると共に、ＵＶランプ２７からの紫外線によ
って細菌が死滅する。本例では、活性炭から成る吸着層
２５でトリハロメタン等の有機塩素化合物が主に吸着さ
れ、またゼオライト及び触媒から成る触媒層２６で次亜
塩素塩及び陽イオンが主に吸着される。

【００２７】図１左側の浄化槽２１における循環時間ｔ
１が所定時間ｔｓ１，例えば３０分になると、第１電磁
弁１３が温水生成槽側に切換えられ、高置タンク１内の
貯留水が図１の破線矢印に従って再生管路３１を通じ温
水生成槽４１に送り込まれる（図７のｓ６，ｓ７）。

【００２８】温水生成槽４１内の水位Ｆが設定水位Ｆｓ
まで上昇すると、第１電磁弁１３が浄化槽側に切換えら
れ、第２電磁弁１５が他方の浄化槽（図１右側の浄化
槽）２１側に切換えられる（図８のｓ８，ｓ９）。

【００２９】これにより、高置タンク１内の貯留水が図
１の実線矢印に従って循環管路１１の図１右側の分岐管
路１１ｂ及び浄化槽２１を循環する。この循環時には上
記と同様にベンチュリ管１４位置で循環水にオゾンが混
入され、該オゾンによって細菌が死滅する。また、図１
右側の浄化槽２１に送り込まれた循環水は、プレフィル
タ２４でごみ，錆，藻類等を除去され、また吸着層２５
及び触媒層２６で臭気や次亜塩素塩，有機塩素化合物等
を吸着されて除去されると共に、ＵＶランプ２７からの
紫外線によって細菌が死滅する。

【００３０】また、上記の浄化槽切換えと同時に温水生
成槽４１の電熱ヒ−タ６３への通電が開始される（図８
のｓ１２）。そして、電熱ヒ−タ６３の加熱により温水
生成槽４１内の水温が設定水温Ｔｓ、例えば７０〜８０
℃になると電熱ヒ−タ６３への通電が停止されると共
に、第４電磁弁３２が未使用中の浄化槽（図１左側の浄
化槽）２１側に切換えられ、同浄化槽２１の排水弁２８
が開かれる（図８のｓ１３乃至ｓ１５）。

【００３１】これにより、図１左側の浄化槽２１内の水
が排水管路２９を通じて排水され、これに伴って温水生
成槽４１内の温水が図１の１点鎖線矢印に従って該浄化
槽２１内に取り込まれ、吸着層２５及び触媒層２６に吸
着されている次亜塩素塩及び有機塩素化合物が温水中に
脱離し、これらが触媒層２６の白金族系酸化物及び酸化
物系セラミックスの複合物（触媒）に接触しつつ紫外線
を浴びて光触媒反応によって分解され、分解分を含んだ
温水が排水管路２９を通じて外部に排出される。また、
この際、プレフィルタ２４に捕獲されているごみ，錆，
藻類等も水流によって離脱し、上記の分解分と共に排水
管路２９を通じて外部に排出される。排水弁２８は温水
生成槽４１内の温水が排水管路２９から完全に排出され
るまで所定時間ｔｓ２だけ継続して開かれる（図８のｓ
１４，１５）。

【００３２】この後はステップｓ６に戻り、運転スイッ
チ５２がオフ操作されるまで浄化槽２１の切換えと、該
切換えに伴う未使用浄化槽への温水供給・排水が繰り返
し行なわれる。

【００３３】このように上述の浄水システムによれば、
高置タンク１内の貯留水を２つの浄化槽２１に交互に循
環させることにより、該貯留水に含まれるごみ，錆，藻
類等を夫々のプレフィルタ２４で除去し、また臭気や次
亜塩素塩，有機塩素化合物等を夫々の吸着層２５及び触
媒層２６で除去することができ、浄化された良質の水を
高置タンク１から建物内の各部屋に常に供給できる。

【００３４】また、第２電磁弁１５を所定時間毎に切換
えることで各浄化槽２１を均等に使用できるので、１つ
の浄化槽を連続使用する場合に比べてその浄化寿命を大
きく向上させることができ、また循環用ポンプを停止す
ることなく浄化槽２１のメンテナンスを実施できる。

【００３５】さらに、浄化槽２１への循環時にはオゾン
の混入及び紫外線照射によって循環水中の細菌を死滅さ
せて無菌状態の水を供給できると共に、循環の有無に拘
らずＵＶランプ２７を点灯させることで未使用中の浄化
槽２１における細菌の繁殖を紫外線照射によって抑制で
きる。

【００３６】さらにまた、浄化槽切換え時に高置タンク
１内の貯留水を温水生成槽４１に送り込んで加温し該温
水を未使用中の浄化槽２１に送り込むことにより、その
吸着層２５及び触媒層２６に吸着されている次亜塩素塩
及び有機塩素化合物を温水中に脱離させて各層２５，２
６の吸着能力を回復させて再生できるので、吸着層２５
及び触媒層２６の交換を不要にして各浄化槽２１におけ
る浄化機能を継続して良好に発揮できる。また、この再
生時には同時にプレフィルタ２４に付着されているご
み，錆，藻類等を水流によって離脱させて、該プレフィ
ルタ２４の捕獲能力も回復できる。しかも、吸着層２５
及び触媒層２６の再生を未使用中の浄化槽２１に対して
行なえるので、再生時でも浄化を継続して行なうことが
できる。

【００３７】さらにまた、温水中に脱離した次亜塩素塩
及び有機塩素化合物を触媒層２６の触媒及びＵＶランプ
２７の紫外線による光触媒反応によって分解させること
ができるので、有害物質がそのまま外部に排出されるこ
とを防止できる。

【００３８】図９には浄化槽の他の例を示してある。こ
の浄化槽７１は、下面中央に入口７２ａを下面一側に出
口７２ｂを夫々有し、また側面下端に温水導入口７２ｃ
を有する本体槽７２と、本体層７２の中央に入口７２に
及んで配置された筒状の案内通路７３と、本体槽７２の
温水導入口７２ｃよりも上方に配置された環状の吸着層
７４と、吸着層７４の上側に配置された環状のプレフィ
ルタ７５と、プレフィルタ７５の上側に配置された環状
の整流板７６と、案内通路７３の内面に配置された筒状
の触媒層７７と、触媒層７７の内側中央に配置されたＵ
Ｖランプ７８とから構成されている。吸着層７４は繊維
状或いは粒状活性炭から形成され、また触媒層７７は有
底筒状に成形されたゼオライトの表面に白金族系酸化物
及び酸化物系セラミックスの複合物を担持させて形成さ
れている。尚、白金族系酸化物としたはＰｔ，Ｒｄ，Ｒ
ｕ等の酸化物等が、また酸化物系セラミックスとしては
ルチル型或いはアナタ−ゼ型の酸化チタン等が夫々使用
される。

【００３９】浄化時に入口７２ａから浄化槽７２内に送
り込まれた循環水は、案内通路７３，整流板７６，プレ
フィルタ７５，吸着層７４の順で流れて出口７２ｂから
送り出される。この流通過程ではＵＶランプ７８からの
紫外線によって細菌が死滅すると共に、吸着層７４及び
触媒層７７で臭気や次亜塩素塩，有機塩素化合物等を吸
着され、プレフィルタ７５でごみ，錆，藻類等を除去さ
れる。上記の浄化槽２１と同様に、活性炭から成る吸着
層７５ではトリハロメタン等の有機塩素化合物が主に吸
着され、またゼオライト，白金族系酸化物及び酸化物系
セラミックスから成る触媒層７７では次亜塩素塩及び陽
イオンが主に吸着される。

【００４０】また、再生時に温水導入口７２ｃから浄化
槽７１内に送り込まれた温水は、吸着層７４，プレフィ
ルタ７５，整流板７６，案内通路７３の順で流れ、案内
通路７３の下部に設けられた図示省略の排水管路から排
出される。この流通過程では、吸着層７４及び触媒層７
７に吸着されている次亜塩素塩及び有機塩素化合物が温
水中に脱離し、これらが触媒層７７の白金族系酸化物及
び酸化物系セラミックスの複合物（触媒）に接触しつつ
紫外線を浴びて光触媒反応によって分解される。また、
この際、プレフィルタ７５に捕獲されているごみ，錆，
藻類等が水流によって離脱し上記の分解分と共に排出さ
れる。

【００４１】尚、上述の実施例では循環管路の途中に２
つの浄化槽を並列に設けたものを示したが、３つ以上の
浄化槽を並列に設けてこれらを所定の順番で使用するよ
うにしてもよい。また、循環浄水回路に再生管路及び温
水生成槽から成る再生回路を組み付けたものを示した
が、再生回路を除外したシステム構成でも高置タンク内
の貯留水の浄化を行なえることは勿論であり、またオゾ
ン発生機及びベンチュリ管を除外しても浄化槽内のＵＶ
ランプを点灯しておけば紫外線によって殺菌を行なうこ
とが可能である。さらに、温水生成槽の電熱ヒ−タは他
の熱源や排熱を利用した装置等であってもよい。

【００４２】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１に係る浄
水システムによれば、弁切換えにより貯水タンク内の水
を各浄化槽に交互に循環させることで、該貯留水に含ま
れる不純物を濾過材で除去して浄化された良質の水を貯
水タンクから供給できる。しかも、各浄化槽を均等に使
用できるので、１つの浄化槽を連続使用する場合に比べ
てその浄化寿命を大きく向上させることができ、またポ
ンプを停止することなく浄化槽のメンテナンスを実施で
きる。

【００４３】請求項２に係る浄水システムによれば、浄
化槽への循環時にオゾンを混入して循環水中の細菌を死
滅させることができ、無菌状態の水を建物内の各部屋に
供給できる。

【００４４】請求項３に係る浄水システムによれば、貯
水タンク内の水を温水生成槽を通じて加温して浄化槽に
送り込むことにより、吸着剤に吸着されている次亜塩素
塩及び有機塩素化合物を温水中に脱離させその吸着能力
を回復させて再生できるので、吸着剤の交換を不要にし
て各浄化槽における浄化機能を継続して良好に発揮でき
る。しかも、上記の再生を未使用中の浄化槽に対して行
なえるので、再生時でも浄化を継続して行なうことがで
きる。

【００４５】請求項４に係る浄水システムによれば、上
記再生時に温水中に脱離した次亜塩素塩及び有機塩素化
合物を触媒及び紫外線による光触媒反応によって分解で
きるので、有害物質がそのまま外部に排出されることを
防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した浄水システムの概略構成図

【図２】図１に示した塩素発生機の断面図

【図３】図１に示したベンチュリ管の断面図

【図４】図１に示した浄化槽の断面図

【図５】図１に示した温水生成槽の断面図

【図６】浄水システムの電気系回路のブロック図

【図７】浄水制御のフロ−チャ−ト

【図８】浄水制御のフロ−チャ−ト

【図９】浄化槽の他の例を示す断面図

【符号の説明】

１…高置タンク、３…揚水管路、５…給水管路、１１…
第１循環管路、１２…循環用ポンプ、１３…第１電磁
弁、１５…第２電磁弁、１６…第３電磁弁、２１…浄化
層、２４…プレフィルタ、２５…吸着層、２６…触媒
層、２７…ＵＶランプ、２９…排水管路、３１…再生管
路、３２…第４電磁弁、４１…温水生成槽、４３…電熱
ヒ−タ、５１…制御部、５３〜６４…駆動部、７１…浄
化層、７４…吸着層、７５…プレフィルタ、７７…触媒
層、７８…ＵＶランプ。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成４年１１月１２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４１】尚、上述の実施例では循環管路の途中に２
つの浄化槽を並列に設けたものを示したが、３つ以上の
浄化槽を並列に設けてこれらを所定の順番で使用するよ
うにしてもよい。また、循環浄水回路に再生管路及び温
水生成槽から成る再生回路を組み付けたものを示した
が、再生回路を除外したシステム構成でも高置タンク内
の貯留水の浄化を行なえることは勿論であり、またオゾ
ン発生機及びベンチュリ管を除外しても浄化槽内のＵＶ
ランプを点灯しておけば紫外線によって殺菌を行なうこ
とが可能である。さらに、温水生成槽の電熱ヒータは他
の熱源や排熱を利用した装置等であってもよく、また浄
化槽の再生のための脱離手段として温水に代えて過熱蒸
気を利用してもよい。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 供給水を一次的に貯留する貯水タンク
   と、 貯水タンクに各端部を接続された循環管路と、 循環管路の一接続端寄りに介装されたポンプと、 循環管路のポンプの出口側に流路切換用の弁を介して並
   列に介装された濾過材内蔵の複数の浄化槽とから成る、 ことを特徴とする浄水システム。
2. 【請求項２】 オゾン発生機のオゾン送出口を循環管路
   に接続した、 ことを特徴とする請求項１記載の浄水システム。
3. 【請求項３】 各浄化槽内に吸着剤を配置すると共に、 循環管路のポンプの出口側から分岐され流路切換用の弁
   を介して各浄化槽に至る再生管路と、 再生管路の分岐部分の上流位置に介装されたヒ−タ付き
   の温水生成槽と、 各浄化槽内の水を排出する排水管路とを設けた、 ことを特徴とする請求項１または２載の浄水システム。
4. 【請求項４】 紫外線を照射可能な殺菌ランプを各浄化
   槽内に配置し、 白金族系酸化物及び酸化物系セラミックスを主成分とす
   る触媒を殺菌ランプの周囲に配設した、 ことを特徴とする請求項３記載の浄水システム。