JPH0639164U - Spin coater - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】有効な被塗布領域の膜面で均一な膜厚が得られ
る。 【構成】テーブルを回転させながら該テーブルに固定さ
れた被塗布用基板上に塗布液を落下させることによって
塗膜を形成させるスピンコータであって、前記テーブル
はその上面で被塗布用基板の有効な被塗布領域が対向し
ない位置に被塗布用基板をテーブル上に吸着固定するた
めの吸引口が形成されていることを特徴とする。また、
前記テーブルの上面で、被塗布用基板の有効な被塗布領
域が対向する位置に凹部を形成したことを特徴とする。 (57) [Summary] [Purpose] A uniform film thickness can be obtained on the film surface of the effective coating area. A spin coater for forming a coating film by dropping a coating liquid onto a substrate to be coated fixed to the table while rotating the table, wherein the table has an effective upper surface of the substrate to be coated. A suction port for adsorbing and fixing the substrate to be coated on the table is formed at a position where the regions to be coated do not face each other. Also,
On the upper surface of the table, a concave portion is formed at a position where an effective coating region of the coating substrate faces.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、例えば液晶表示用基板の上にカラーレジスト、平滑膜、遮光膜、レ ジスト、配向膜等を均一な厚みで塗布形成できるスピンコータに関するものであ る。 The present invention relates to a spin coater capable of coating and forming a color resist, a smooth film, a light-shielding film, a resist, an alignment film and the like on a liquid crystal display substrate with a uniform thickness.

【０００２】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

図５と図６は公知のスピンコータ１であって、図５はスピンコータ１の平面図 であり、図６は図５の切断面線Ｘ−ＸもしくはＹ−Ｙによる断面図である。 5 and 6 show a known spin coater 1, FIG. 5 is a plan view of the spin coater 1, and FIG. 6 is a sectional view taken along the section line XX or YY of FIG.

【０００３】 このスピンコータ１は、２段階円筒状のホルダー２の上に止めネジ３により円 盤状のテーブル４を固定し、このテーブル４の上に矩形状の被塗布用基板５を固 定し、ホルダー２の回転によりテーブル４と基板５とを一体的に回転させ、基板 ５の上に塗布液を落下させて塗膜形成するものである。また、このスピンコータ １においては、ホルダー２とテーブル４に跨がって管状気体吸引部６が設けられ ており、そして、テーブル４の上面には気体吸引部６の吸引口７が溝状に形成さ れ、この溝状吸引口７は図５で示すように円形溝状の吸引口７ａとクロス溝状の 吸引口７ｂとが組み合わされてなり、別途設けた真空ポンプにより気体吸引部６ を介して真空引きを行い、これにより、基板５をテーブル４の上に吸着している 。In this spin coater 1, a disk-shaped table 4 is fixed on a two-step cylindrical holder 2 with a set screw 3, and a rectangular substrate 5 to be coated is fixed on the table 4. The table 4 and the substrate 5 are integrally rotated by the rotation of the holder 2, and the coating liquid is dropped on the substrate 5 to form a coating film. Further, in this spin coater 1, a tubular gas suction portion 6 is provided across the holder 2 and the table 4, and a suction port 7 of the gas suction portion 6 is formed in a groove shape on the upper surface of the table 4. As shown in FIG. 5, the groove-shaped suction port 7 is formed by combining a circular groove-shaped suction port 7a and a cross-groove-shaped suction port 7b. The substrate 5 is adsorbed on the table 4 by vacuuming.

【０００４】 かくして、上記構成のスピンコータ１においては、基板５を回転させ、基板５ の上に塗布液を落下させて塗膜形成し、次いでその基板５上の塗布液を加熱させ ると円形状の塗膜ができ、その後に現像により余分な塗膜を除いて有効な塗膜領 域８（一点鎖線で囲まれた領域）を形成する。Thus, in the spin coater 1 having the above structure, the substrate 5 is rotated, the coating liquid is dropped onto the substrate 5 to form a coating film, and then the coating liquid on the substrate 5 is heated to form a circular shape. The coating film is formed, and then the excess coating film is removed by development to form an effective coating film area 8 (area surrounded by a chain line).

【０００５】[0005]

【考案が解決しようとする問題点】[Problems to be solved by the device]

しかしながら、ＳＴＮ方式カラー液晶パネルのカラーレジストや平滑膜等の均 一な膜厚が要求される膜を形成する場合には、上記構成のスピンコータ１により 形成した有効な塗膜領域８では、その要求に答えられるものでないことが判った 。以下、この問題点を詳述する。 However, in the case of forming a film such as a color resist or a smooth film of an STN type color liquid crystal panel, which requires a uniform film thickness, the effective coating film area 8 formed by the spin coater 1 having the above-mentioned structure requires the requirement. It turned out that it was not possible to answer. Hereinafter, this problem will be described in detail.

【０００６】 このスピンコータ１により形成された有効な塗膜領域８については、吸引口７ に位置する基板５の領域上に直接載置されるとともに、その吸引口７により直接 載置されない領域も存在している。The effective coating film area 8 formed by the spin coater 1 is directly placed on the area of the substrate 5 located at the suction port 7, and there is also an area that is not directly placed by the suction port 7. is doing.

【０００７】 更に上記の基板との直接載置領域においては、その接触面では微小ながら加工 の面粗さができている。Further, in the direct mounting area with respect to the above-mentioned substrate, the contact surface has a slight surface roughness for processing.

【０００８】 また、テーブル４は一般的にアルミニウム等の高熱伝導率の材料から成り、基 板５に対して熱を伝えやすくなっている。The table 4 is generally made of a material having a high thermal conductivity such as aluminum, so that heat can be easily transferred to the base plate 5.

【０００９】 従って、このような吸引口７の位置、並びに加工の面粗さが原因になって、更 にテーブル４の温度と基板５の温度との差に起因して、基板との直接載置領域と 直接載置されない領域との間で温度差がうまれ、その結果、塗膜の濡れ性及び乾 燥速度に差ができ、有効な塗膜領域８の膜面で均一な膜厚が得られなかった。Therefore, due to such a position of the suction port 7 and the surface roughness of the processing, and further due to the difference between the temperature of the table 4 and the temperature of the substrate 5, the direct mounting on the substrate is performed. There is a temperature difference between the placement area and the area that is not placed directly, resulting in a difference in the wettability and drying speed of the coating film, and an effective film thickness in the film surface of the coating film area 8 is obtained. I couldn't do it.

【００１０】 更に本考案者等は溝状吸引口７内の気流や、テーブル４と基板５との間の異物 のかみ込みにより出来る空隙内の気流、または、基板５の反りに起因したテーブ ル４との間にできる空隙に生じる気流によって発生する温度ムラによっても上記 の問題が生じることが判った。Further, the inventors of the present invention have found that the airflow in the groove-shaped suction port 7, the airflow in the gap formed by the foreign matter between the table 4 and the substrate 5 or the table caused by the warp of the substrate 5 It was found that the above-mentioned problem also occurs due to the temperature unevenness generated by the air flow generated in the gap formed between No. 4 and.

【００１１】 以上のような問題点を、１０インチ程度の有効画面のＳＴＮ方式カラー液晶パ ネルにより例示すると、カラーレジストや平滑膜の平均膜厚は約２μｍである場 合に、その最大膜厚と最小膜厚との差が±０．１μｍであっても、その変化がゆ るやかであれば、実用上問題にならないが、これらの膜を上記スピンコータ１に より形成すると、局所的な変化が大きく、数ｍｍ程度の範囲内で±０．０５μｍ の膜厚変化ができると、そのカラー液晶パネルの表示にムラは発生するという問 題があった。When the above problems are exemplified by an STN type color liquid crystal panel having an effective screen of about 10 inches, when the average film thickness of the color resist or the smooth film is about 2 μm, the maximum film thickness thereof is Even if the difference between the minimum film thickness and the minimum film thickness is ± 0.1 μm, it does not pose a practical problem as long as the change is gradual. However, when these films are formed by the spin coater 1, local changes occur. There has been a problem that if the change is large and a film thickness change of ± 0.05 μm is possible within a range of several mm, the display of the color liquid crystal panel becomes uneven.

【００１２】[0012]

【問題点を解決するための手段】[Means for solving problems]

請求項１に係る本考案のスピンコートによれば、テーブルを回転させながら該 テーブルに固定された被塗布用基板上に塗布液を落下させることによって塗膜を 形成させるスピンコータであって、前記テーブルはその上面で被塗布用基板の有 効な被塗布領域が対向しない位置に被塗布用基板をテーブル上に吸着固定するた めの吸引口が形成されていることを特徴とする。 According to the spin coating of the present invention according to claim 1, a spin coater for forming a coating film by dropping a coating liquid onto a substrate to be coated fixed to the table while rotating the table, the table comprising: Is characterized in that a suction port for adsorbing and fixing the substrate to be coated on the table is formed at a position on the upper surface thereof where the effective regions to be coated of the substrate to be coated do not face each other.

【００１３】 請求項２に係る本考案のスピンコートによれば、請求項１の構成のスピンコー トにおいて、前記テーブルの上面で、被塗布用基板の有効な被塗布領域が対向す る位置に凹部を形成したことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the spin coat according to the first aspect, a recess is formed on the upper surface of the table at a position where effective coating regions of the substrate to be coated face each other. Is formed.

【００１４】[0014]

【作用】[Action]

請求項１のスピンコートにおいては、テーブル上面に設けられた吸引口に、被 塗布用基板の有効な被塗布領域が対向しないように被塗布用基板をテーブル上に 載置しており、そのために、有効な被塗布領域に吸引口に発生する気流が近接し なくなり、これにより、上記有効な被塗布領域にわたって温度ムラを生じる要因 が排除され、その結果、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなくなり、有効な 被塗布領域の膜面で均一な膜厚が得られた。 In the spin coating according to claim 1, the substrate to be coated is placed on the table so that the effective coating region of the substrate to be coated does not face the suction port provided on the upper surface of the table. The air flow generated at the suction port does not come close to the effective coating area, which eliminates the factors that cause temperature unevenness over the effective coating area, resulting in a difference in the wettability and drying speed of the coating film. It was not possible to obtain a uniform film thickness on the film surface of the effective coating area.

【００１５】 また、請求項２のスピンコートにおいては、テーブルの上面に凹部を形成し、 その凹部の面内に前記有効な被塗布領域が位置するように被塗布用基板をテーブ ル上に載置しており、これにより、テーブルの温度と基板の温度とに差があるに しても有効な被塗布領域の膜面全体にわたって気体を介して両者が直接載置され ない構成になり、その結果、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなくなり、有 効な被塗布領域の膜面で一層均一な膜厚が得られた。Further, in the spin coating of claim 2, a concave portion is formed on the upper surface of the table, and the substrate to be coated is placed on the table so that the effective coating region is located in the surface of the concave portion. As a result, even if there is a difference between the temperature of the table and the temperature of the substrate, both are not directly placed via gas over the entire film surface of the effective coating area. As a result, the wettability and the drying speed of the coating film could not be made different, and a more uniform film thickness was obtained on the effective coating surface of the coating area.

【００１６】 また、気体吸引により異物のかみ込みがあった場合、その異物が前記有効な被 塗布領域に近接していないので、その異物により空隙に発生する気流があっても 、それが温度ムラの原因にならなくなる。また、基板の反りに起因したテーブル との間にできる空隙に生じる気流によっても、温度ムラの原因にならなくなる。Further, when a foreign substance is caught by the gas suction, the foreign substance is not close to the effective coating area, and therefore, even if there is an air flow generated in the void due to the foreign substance, it causes temperature unevenness. Will not cause. Further, the air flow generated in the gap between the substrate and the table due to the warp of the substrate does not cause the temperature unevenness.

【００１７】[0017]

【実施例】【Example】

本実施例では、図１と図２により本考案のスピンコータの一例を、また、図３ と図４により本考案のスピンコータの他の例を説明する。 In this embodiment, an example of the spin coater of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2, and another example of the spin coater of the present invention will be described with reference to FIGS.

【００１８】 最初の図１と図２は本考案のスピンコータ９であって、図１はこのスピンコー タ９の平面図であり、図２は図１の切断面線Ａ−Ａによる断面図である。First, FIG. 1 and FIG. 2 show a spin coater 9 of the present invention, FIG. 1 is a plan view of the spin coater 9, and FIG. 2 is a sectional view taken along the section line AA of FIG. .

【００１９】 このスピンコータ９は、２段階円筒状のホルダー１０の上に止めネジ１１によ り円盤状のテーブル１２を固定し、このテーブル１２の上に矩形状の被塗布用基 板１３を固定し、ホルダー１０の回転によりテーブル１２と基板１３とを一体的 に回転させ、基板１３の上に塗布液を落下させて塗膜形成するものである。また 、ホルダー１０とテーブル１２の各内部には、その両者に跨がってそれぞれ大径 状気体吸引部１４と細管状気体吸引部１５とが配設されている。この細管状気体 吸引部１５は切断面線Ａ−Ａの方向に沿った２個の細管１５ａと、各々の細管１ ５ａの端部から上方に延びた各細管１５ｂとからなり、更に両細管１５ｂの上端 部のテーブル１２の上面には、それぞれ吸引口１６が溝状に平列形成される。こ のスピンコータ９では、テーブル１２の上面に凹部１２ａを形成し、この凹部１ ２ａの両端側に２個の帯状載置面１２ｂを設け、この帯状載置面１２ｂに溝状吸 引口１６を設けている。この帯状載置面１２ｂは基板１３との接触面になるが、 その上に基板１３に予定されている２個の有効な塗膜領域１７（一点鎖線で囲ま れた領域）が位置しないようにする。そして、別途設けた真空ポンプにより大径 状気体吸引部１４と細管状気体吸引部１５を介して真空引きを行い、これにより 、２個の溝状吸引口１６により基板１３を帯状載置面１２ｂの上に吸着し、固定 している。In this spin coater 9, a disk-shaped table 12 is fixed on a two-stage cylindrical holder 10 with a set screw 11, and a rectangular substrate 13 to be coated is fixed on the table 12. Then, the table 12 and the substrate 13 are integrally rotated by the rotation of the holder 10, and the coating liquid is dropped on the substrate 13 to form a coating film. Further, inside each of the holder 10 and the table 12, a large-diameter gas suction portion 14 and a thin tubular gas suction portion 15 are arranged so as to extend over both of them. The thin tubular gas suction portion 15 is composed of two thin tubes 15a along the direction of the cutting plane line AA, and thin tubes 15b extending upward from the end of each thin tube 15a, and further both thin tubes 15b. On the upper surface of the table 12 at the upper end of the, suction ports 16 are formed in parallel in a groove shape. In this spin coater 9, a concave portion 12a is formed on the upper surface of the table 12, two strip-shaped mounting surfaces 12b are provided on both end sides of the concave portion 12a, and a groove-shaped suction port 16 is formed on the strip-shaped mounting surface 12b. It is provided. This strip-shaped mounting surface 12b serves as a contact surface with the substrate 13, so that the two effective coating film areas 17 (area surrounded by the one-dot chain line) planned for the substrate 13 should not be located on it. To do. Then, a vacuum pump provided separately evacuates through the large-diameter gas suction portion 14 and the thin tubular gas suction portion 15, whereby the substrate 13 is stripped by the two groove-shaped suction ports 16. It is adsorbed on and fixed.

【００２０】 上記構成のスピンコータ９により塗膜形成するには、基板１３を回転させ、基 板１３の上に塗布液を落下させて塗膜形成すると、円形状の塗膜ができ、その後 に現像により余分な塗膜を除いて２個の有効な塗膜領域１７を形成する。In order to form a coating film by the spin coater 9 having the above structure, the substrate 13 is rotated, and the coating solution is dropped onto the substrate 13 to form a coating film. Thereby forming two effective coating film areas 17 by removing the excess coating film.

【００２１】 かくして、この塗膜形成では、溝状吸引口１６に、有効な塗膜領域１７が対向 しないように基板１３をテーブル１２上に載置しており、これにより、有効な塗 膜領域１７に溝状吸引口１６に発生する気流が近接しなくなり、その結果、温度 ムラの要因が排除されるので、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなくなり、 有効な塗膜領域１７の膜面で均一な膜厚が得られた。Thus, in this coating film formation, the substrate 13 is placed on the table 12 so that the effective coating film area 17 does not face the groove-shaped suction port 16, and thereby the effective coating film area is formed. The air flow generated in the groove-shaped suction port 16 does not come close to 17, and as a result, the factor of temperature unevenness is eliminated, so that there is no difference in the wettability and drying speed of the coating film, and the effective coating film area 17 A uniform film thickness was obtained on the film surface.

【００２２】 しかも、凹部１２ａの面内に有効な塗膜領域１７が位置するように基板１３を テーブル１２上に載置しており、これにより、テーブル１２の温度と基板１３の 温度とに差があるにしても有効な塗膜領域１７の膜面全体にわたって気体を介し て両者が直接載置されない構成になり、これによって温度ムラの要因が排除され るので、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなくなり、その結果、有効な塗膜 領域１７の膜面で一層均一な膜厚が得られた。Moreover, the substrate 13 is placed on the table 12 so that the effective coating film area 17 is located within the surface of the recess 12 a, which causes a difference in temperature between the table 12 and the substrate 13. Even if there is, there is a structure in which both are not directly placed on the entire film surface of the effective coating film area 17 via a gas, and this eliminates the factor of temperature unevenness. As a result, a more uniform film thickness was obtained on the film surface of the effective coating film area 17.

【００２３】 また、気体吸引により異物のかみ込みがあっても、その異物が前記有効な塗膜 領域１７に近接していないので、その異物により空隙に発生する気流があっても 、それが温度ムラの原因にならなくなった。また、基板１３の反りに起因したテ ーブル１２との間にできる空隙に生じる気流によっても、温度ムラの原因になら なくなった。Further, even if foreign matter is caught by the gas suction, since the foreign matter is not close to the effective coating film area 17, even if there is an air flow generated in the void due to the foreign matter, it is not It no longer causes unevenness. In addition, the air flow generated in the gap between the substrate 12 and the table 12 due to the warp of the substrate 13 no longer causes the temperature unevenness.

【００２４】 次に図３と図４により本考案のスピンコータ１８を説明する。図３はこのスピ ンコータ１８の平面図であり、図４は図３の切断面線Ｂ−Ｂによる断面図である 。Next, the spin coater 18 of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4. 3 is a plan view of the spin coater 18, and FIG. 4 is a sectional view taken along the section line B-B of FIG.

【００２５】 このスピンコータ１８は、２段階円筒状のホルダー１９の上に止めネジ２０に より円盤状のテーブル２１を固定し、このテーブル２１の上に矩形状の被塗布用 基板２２を固定し、ホルダー１９の回転によりテーブル２１と基板２２とを一体 的に回転させ、基板２２の上に塗布液を落下させて塗膜形成するものである。ま た、ホルダー１９とテーブル２１の各内部には、その両者に跨がってそれぞれ大 径状気体吸引部２３と細管状気体吸引部２４とが配設されている。この細管状気 体吸引部２４は切断面線Ｂ−Ｂの方向に沿った２個の細管２４ａとその直交方向 の２個の細管２４ａと、各々の細管２４ａの端部から上方に延びた各細管２４ｂ とからなり、更に両細管２４ｂの上端部のテーブル２１の上面には、それぞれ吸 引口２５が基板２２の各辺に沿って溝状に配列形成される。このスピンコータ１ ８では、テーブル２１の上面に直方体状の凹部２１ａを形成し、この凹部２１ａ の外側に矩形状の帯状載置面２１ｂを設け、この帯状載置面２１ｂに溝状吸引口 ２５を設けている。この帯状載置面２１ｂは基板２２との接触面になるが、その 上に基板２２に予定されている矩形状の有効な塗膜領域２６（一点鎖線で囲まれ た領域）が位置しないようにする。そして、別途設けた真空ポンプにより大径状 気体吸引部２３と細管状気体吸引部２４を介して真空引きを行い、これにより、 ４個の溝状吸引口２５により基板２２を帯状載置面２１ｂの上に吸着し、固定し ている。In this spin coater 18, a disk-shaped table 21 is fixed on a two-step cylindrical holder 19 with a set screw 20, and a rectangular substrate 22 to be coated is fixed on this table 21. The table 21 and the substrate 22 are integrally rotated by the rotation of the holder 19, and the coating liquid is dropped on the substrate 22 to form a coating film. Further, inside the holder 19 and the table 21, respectively, a large-diameter gas suction portion 23 and a thin tubular gas suction portion 24 are provided so as to extend over both of them. The thin tubular air suction section 24 includes two thin tubes 24a along the direction of the cutting plane line BB, two thin tubes 24a in the direction orthogonal thereto, and each of the thin tubes 24a extending upward from the end thereof. The suction ports 25 are formed on the upper surface of the table 21 at the upper ends of the two thin tubes 24b, and the suction ports 25 are arranged in a groove shape along each side of the substrate 22. In this spin coater 18, a rectangular parallelepiped recess 21a is formed on the upper surface of the table 21, a rectangular band-shaped mounting surface 21b is provided outside the recess 21a, and a groove-shaped suction port 25 is formed on the band-shaped mounting surface 21b. It is provided. The strip-shaped mounting surface 21b serves as a contact surface with the substrate 22, but the rectangular effective coating film area 26 (area surrounded by a dashed line) planned for the substrate 22 should not be located thereon. To do. Then, a vacuum pump provided separately evacuates the gas through the large-diameter gas suction portion 23 and the thin tubular gas suction portion 24, whereby the four groove-shaped suction ports 25 cause the substrate 22 to be placed on the belt-shaped mounting surface 21b. It is adsorbed on and fixed.

【００２６】 上記構成のスピンコータ１８により塗膜形成するには、基板２２を回転させ、 基板２２の上に塗布液を落下させて塗膜形成すると、円形状の塗膜ができ、その 後に現像により余分な塗膜を除いて有効な塗膜領域２６を形成する。In order to form a coating film by the spin coater 18 having the above structure, the substrate 22 is rotated, and the coating solution is dropped onto the substrate 22 to form a coating film, whereby a circular coating film is formed. The effective coating film area 26 is formed by removing the excess coating film.

【００２７】 かくして、上記構成のスピンコータ１８を用いた塗膜形成では、基板２２の四 方にそれぞれ溝状吸引口２５を配置しているので、有効な塗膜領域２６に溝状吸 引口２５に発生する気流が近接しない構造になっており、その結果、温度ムラの 要因が排除されるので、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなくなり、有効な 塗膜領域２６の膜面で均一な膜厚が得られた。Thus, in the coating film formation using the spin coater 18 having the above-described configuration, since the groove-shaped suction ports 25 are arranged on the four sides of the substrate 22, the groove-shaped suction ports 25 are formed in the effective coating film area 26. The structure is such that the airflow generated in the area does not come close to each other, and as a result, the factors of temperature unevenness are eliminated, so that there is no difference in the wettability and drying speed of the coating film, and the effective film surface of the coating film area 26 A uniform film thickness was obtained.

【００２８】 しかも、有効な塗膜領域２６の膜面全体にわたって気体を介して両者が直接載 置されない構成になり、これにより、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなく なり、その結果、有効な塗膜領域２６の膜面で一層均一な膜厚が得られた。また 、気体吸引により異物のかみ込みがあっても、その異物が前記有効な塗膜領域２ ６に近接していないので、その異物により空隙に発生する気流があっても、それ が温度ムラの原因にならなくなった。Moreover, the both are not directly placed on the entire effective coating surface of the coating film area 26 through the gas, whereby the wettability and the drying speed of the coating film can be prevented from being different. A more uniform film thickness was obtained on the effective film surface of the coating film region 26. Further, even if foreign matter is caught by the gas suction, since the foreign matter is not close to the effective coating film area 26, even if there is an air flow generated in the void due to the foreign matter, it is possible to prevent temperature unevenness. It is no longer the cause.

【００２９】 本考案者等は上記のスピンコータ９、１８において、それぞれ２種類の塗布液 、即ち富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製ネガレジストＣＧ−２ ０００（緑色カラーレジスト、粘度１２ｃｐｓ）と、日本合成ゴム（株）製平滑 膜ＪＳＲ−７００（粘度１４ｃｐｓ）による塗布実験を行った。In the spin coaters 9 and 18 described above, the inventors of the present invention used two types of coating liquids, namely, negative resist CG-2000 (green color resist, viscosity 12 cps) manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd. A coating experiment with a smooth film JSR-700 (viscosity 14 cps) manufactured by Rubber Co., Ltd. was conducted.

【００３０】 即ち、いずれの実験にも３００×３００×１．１ｍｍの寸法のガラス基板を被 塗布用基板として用いて、２１．５±０．５℃に設定されたクリーンルーム内で 、上記基板を純水洗浄した基板端部４点をシリコンゴムで支持しながら、テーブ ルに装着した。次いで、基板中心部に塗布液４０ｃｃを４０秒で定量滴下した。 然る後に、上記各塗布基板を、高さ１ｍｍのピン４点を立てたホットプレート 上に置き、温度９０℃で３分間間接加熱し、乾燥させた。That is, in each of the experiments, a glass substrate having a size of 300 × 300 × 1.1 mm was used as a substrate to be coated, and the above substrate was placed in a clean room set at 21.5 ± 0.5 ° C. The four ends of the substrate washed with pure water were mounted on a table while being supported by silicon rubber. Then, 40 cc of the coating liquid was dropped on the center of the substrate in 40 seconds. After that, each of the coated substrates was placed on a hot plate on which four pins having a height of 1 mm were set up, and indirectly heated at a temperature of 90 ° C. for 3 minutes to be dried.

【００３１】 このような実験によりＳＴＮ方式カラー液晶パネル用のカラーレジストと平滑 膜をいずれも平均膜厚２μｍで製作し、その各膜をナトリウムランプ下での目視 により膜厚ムラを評価したところ、それが全く確認できなかった。然るに従来の スピンコータ１では、同条件によって目視によりテーブル形状の膜厚ムラを確認 した。By such an experiment, a color resist for a STN color liquid crystal panel and a smooth film were both manufactured to have an average film thickness of 2 μm, and each film was visually evaluated under a sodium lamp to evaluate the film thickness unevenness. I couldn't confirm it at all. However, in the conventional spin coater 1, the unevenness of the table-shaped film thickness was visually confirmed under the same conditions.

【００３２】 尚、本考案は上記２例のスピンコータに限定されるものではなく、本考案の要 旨を逸脱しない範囲内において、種々の改善、改良等は何ら差し支えない。The present invention is not limited to the above-described two examples of spin coaters, and various improvements and improvements can be made without departing from the scope of the present invention.

【００３３】[0033]

【考案の効果】[Effect of device]

以上のように、本考案のスピンコータにおいては、テーブル上面に設けられた 吸引口に、被塗布用基板の有効な被塗布領域が対向しないように被塗布用基板を テーブル上に載置しており、そのために、有効な被塗布領域に吸引口に発生する 気流が近接しなくなり、これにより、上記有効な被塗布領域にわたって温度ムラ を生じる要因が排除され、その結果、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなく なり、有効な被塗布領域の膜面で均一な膜厚が得られた。 As described above, in the spin coater of the present invention, the substrate to be coated is placed on the table so that the effective coating area of the substrate to be coated does not face the suction port provided on the upper surface of the table. Therefore, the air flow generated at the suction port does not come close to the effective coating area, which eliminates the factors that cause temperature unevenness over the effective coating area, resulting in wettability and dryness of the coating film. There was no difference in speed, and a uniform film thickness was obtained on the film surface in the effective coating area.

【００３４】 また、本考案のスピンコータにおいては、テーブルの上面に凹部を形成し、そ の凹部の面内に前記有効な被塗布領域が位置するように被塗布用基板をテーブル 上に載置しており、これにより、テーブルの温度と基板の温度とに差があるにし ても有効な被塗布領域の膜面全体にわたって気体を介して両者が直接載置されな い構成になり、その結果、塗膜の濡れ性及び乾燥速度に差ができなくなり、有効 な被塗布領域の膜面で一層均一な膜厚が得られた。また、気体吸引により異物の かみ込みがあっても、その異物が前記有効な被塗布領域に近接していないので、 その異物により空隙に発生する気流があっても、それが温度ムラの原因にならな くなる。Further, in the spin coater of the present invention, a concave portion is formed on the upper surface of the table, and the substrate to be coated is placed on the table so that the effective coating region is located in the surface of the concave portion. As a result, even if there is a difference between the temperature of the table and the temperature of the substrate, both are not directly placed via gas over the entire film surface of the coating area, and as a result, There was no difference in the wettability and the drying speed of the coating film, and a more uniform film thickness was obtained on the effective coating surface of the coating area. Further, even if foreign matter is caught by gas suction, the foreign matter is not close to the effective coating area. Therefore, even if there is an air flow generated in the void due to the foreign matter, it may cause temperature unevenness. It will not happen.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本考案のスピンコータの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a spin coater of the present invention.

【図２】図１の切断面線Ａ−Ａによる断面図である。2 is a cross-sectional view taken along the section line AA of FIG.

【図３】本考案の他のスピンコータの平面図である。FIG. 3 is a plan view of another spin coater of the present invention.

【図４】図３の切断面線Ｂ−Ｂによる断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along section line BB of FIG.

【図５】従来のスピンコータの平面図である。FIG. 5 is a plan view of a conventional spin coater.

【図６】図５の切断面線Ｘ−Ｘもしくは切断面線Ｙ−Ｙ
による断面図である。FIG. 6 is a sectional plane line XX in FIG. 5 or a sectional plane line YY.
It is sectional drawing by.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

４、１２、２１・・・テーブル ５、１３、２２・・・基板 ８、１７、２６・・・有効な塗膜領域 ７、１６、２５・・・吸引口 １２ａ、２１ａ・・・凹部 4, 12, 21 ... Table 5, 13, 22 ... Substrate 8, 17, 26 ... Effective coating film area 7, 16, 25 ... Suction port 12a, 21a ... Recessed portion

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項１】 テーブルを回転させながら該テーブルに
固定された被塗布用基板上に塗布液を落下させることに
よって塗膜を形成させるスピンコータであって、前記テ
ーブルはその上面で被塗布用基板の有効な被塗布領域が
対向しない位置に被塗布用基板をテーブル上に吸着固定
するための吸引口が形成されていることを特徴とするス
ピンコータ。1. A spin coater for forming a coating film by dropping a coating solution onto a substrate to be coated fixed to the table while rotating the table, wherein the table has an upper surface of the substrate to be coated. A spin coater characterized in that a suction port for adsorbing and fixing a substrate to be coated on a table is formed at a position where effective coating regions do not face each other. 【請求項２】 前記テーブルの上面で、被塗布用基板の
有効な被塗布領域が対向する位置に凹部を形成したこと
を特徴とする請求項１記載のスピンコータ。2. The spin coater according to claim 1, wherein a concave portion is formed on the upper surface of the table at a position where an effective coating region of the coating substrate faces.