JPH0634979A - 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子 - Google Patents

液晶配向膜用組成物、液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶表示素子

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JPH0634979A
JPH0634979A JP19389692A JP19389692A JPH0634979A JP H0634979 A JPH0634979 A JP H0634979A JP 19389692 A JP19389692 A JP 19389692A JP 19389692 A JP19389692 A JP 19389692A JP H0634979 A JPH0634979 A JP H0634979A
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liquid crystal
alignment film
crystal alignment
solvent
composition
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Application number
JP19389692A
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English (en)
Inventor
Yasuo Shimamura
泰夫 島村
Naoki Okuda
直紀 奥田
Masahiro Kawakami
正洋 川上
Hiroyuki Odagiri
弘幸 小田桐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶配向膜のプレチルト角が7°以上で均一
な膜厚を形成することにより、液晶表示素子の表示品質
を向上させる。 【構成】 2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン等のフッ
素原子を有するジアミン化合物および1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−
テトラメチルシジロキサン二無水物等のケイ素原子を有
するテトラカルボン酸二無水物から得られるポリアミド
酸、N−メチル−2−ピロリドン等の溶媒Aとグリコー
ルモノエーテル等の溶媒Bとの混合溶媒を溶媒Aと溶媒
Bとを一定の割合となるように含有してなる液晶配向膜
用組成物、これを用いた液晶配向膜等。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶配向膜用組成物、こ
れを用いた液晶配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持
基板および液晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、大型ディスプレイ用液晶表示素子
には、視覚特性をよくするためにSTN(スーパーツイ
ステッドネマチック)方式が用いられている。これはセ
ル内での液晶分子の長軸方向が200〜270°ねじれ
た方式(200〜270°ツイスト)であり、ツイスト
角が大きい程視覚特性が良好となる。これらのSTN方
式素子において、ツイスト角を大きくするためには、液
晶分子と、配向膜が形成されているガラス基板のなす角
度(プレチルト角)が大きいことが必要であり、具体的
には260°以上のツイスト角を得るためにはプレチル
ト角が、7°以上となる配向膜材料が必要である。しか
し、従来のポリイミド系配向膜では前記プレチルト角を
7°以上とすることができなかったため、200〜24
0°付近のツイスト角で実用化されていた。
【0003】一方、配向膜は一般にスピンコート、オフ
セット印刷などの方法により、液晶配向膜用組成物を基
板上に塗布して形成されるが、形成された配向膜の膜厚
が部分的に異なることが多く、そのため、しきい値電圧
が局所的に異なり、液晶表示素子の明暗のムラが生じ画
質が低下するという問題があった。180〜240°ツ
イストの液晶表示素子では表示品質の向上に限界がある
ため最近では240〜270°ツイストの液晶表示素子
が検討されている。特にツイスト角の大きい260〜2
70°ツイストの液晶表示素子はSTN方式の液晶表示
素子では最高の視覚特性を得られるため盛んに検討が行
われている。該液晶表示素子に低プレチルト角の配向膜
を用いるとドメインが発生し、表示品質が劣化するた
め、ドメインの発生しない高プレチルト角の配向膜を使
用する必要がある。特に260〜270°ツイストの液
晶表示素子では7°以上のプレチルト角が必要である
が、従来の液晶配向膜ではプレチルト角が7°以上にな
るものがなく、260〜270°ツイストの液晶表示素
子には不適当であった。さらに、配向膜の膜厚が不均一
であることに起因する液晶表示素子の明暗のムラは高表
示品質を達成するうえで問題となってきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題を解決し、プレチルト角を7°以上で均一な膜
厚を形成できる液晶配向膜用組成物、これを用いた液晶
配向膜の製造法、液晶配向膜、液晶挾持基板および液晶
表示素子を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の問題に鑑み、鋭意研究した結果、特定のポリイミ
ドを液晶配向膜として用いると、プレチルト角が7°以
上となり、均一な膜厚を形成できることを見出し、本発
明に到達した。すなわち、本発明は、(a)一般式
(I)
【化4】 (式中、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は芳香族基、
1およびR2は炭素数1から5までのフッ素化アルキル
基、R3、R4、R5およびR6は同一または異なる構造を
持つ炭素数1から10までのフッ素化アルキル基、X1
およびX2は−O−または−S−を示し、a、bおよび
cは0または1、d、e、fおよびgは0または1から
4までの整数を示す。ただし、a、bおよびcの全てが
0の場合dおよびgのいずれかまたは両者は0となら
ず、aが0でbおよびcのいずれかまたは両者が1の場
合d、e、fおよびgのいずれかは0とならず、d、
e、fおよびgの全てが0の場合aは0となることはな
い)で表されるフッ素原子を有するジアミン化合物 (b)必要により(a)以外のジアミン化合物 (c)一般式(II)
【化5】 (式中、Ar5およびAr6は芳香族基、R7、R8、R9
およびR10は炭素数1から10までのアルキル基、炭素
数1〜10までの置換アルキル基または芳香族基、X1
およびX4
【化6】 を示し(nは1から10までの整数を示す)、kおよび
mは0または1、Lは0または1から5までの整数を示
す)で表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二
無水物および (d)必要により(c)以外のテトラカルボン酸二無水
物を下記の溶媒A中で反応させて得られるポリアミド酸
ならびに下記の溶媒Bを溶媒の重量比を
【数2】 として含有してなる液晶配向膜用組成物、該組成物を用
いた液晶配向膜の製造法、該組成物から形成された液晶
配向膜、この配向膜を有する液晶挾持基板および液晶に
面し、電極が設けられた液晶挾持基板上に前記液晶配向
膜を有する液晶表示素子に関する。 溶媒A:N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルホスホルアミド、テトラメチルスルホンまた
は1,4−ジオキサン 溶媒B:グリコールモノエーテル、グリコールジエーテ
ルまたはグリコールアセテート
【0006】本発明に用いられる前記の一般式(I)で
表されるフッ素原子を有するジアミン化合物(a)とし
ては、例えば2,2−ビス(4−アミノフェニル)−
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、
3,3−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,
2,2,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、
2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,
3,3,4,4,4−オクタフルオロブタン、2,2−
ビス(3−アミノフェニル)1,1,1,3,3,3−
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル}−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル}−1,1,1,2,2,
4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、2,2−
ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}−1,
1,1,3,3,4,4,4−オクタフルオロブタン、
2,2−ビス{3−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン、2,2−ビス{3−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
プロパン、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジ(トリフ
ルオロメチル)ビフェニル、4,4′−ジアミノ−3,
3′−ジ(ペンタフルオロエチル)ビフェニル、4,
4′−ジアミノ−3,3′−ジ(ペンタフルオロプロピ
ル)ビフェニル、4,3′−ジアミノ−3,4′−ジ
(トリフルオロメチル)ビフェニル、3,3′−ジアミ
ノ−4,4′−ジ(トリフルオロメチル)ビフェニル、
4,4′−ジアミノ−3,3′−ジ(トリフルオロメチ
ル)−5,5′−ジ(ペンタフルオロエチル)ビフェニ
ル、4,4′−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ビス(4−ア
ミノ−3−ペンタフルオロエチル)ビフェニル、3,
3′−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4′−ビス(3−アミノ−4
−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,
4′−ビス(4−アミノフェノキシ)−3,3′−ジト
リフルオロメチルビフェニル、3,3′−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)−4,4′−ジトリフルオロメチルビ
フェニル、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)−
3,3′−ジペンタフルオロエチルビフェニル、4,
4′−(4−アミノフェノキシ)−3,3′−ジトリフ
ルオロメチルビフェニル、2,2′−ビス(4−アミノ
−3−トリフルオロメチルフェニル)−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビス
(4−アミノ−3−ペンタフルオロエチル)−1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,3′−
ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェニル)
−1,1,1,2,2,4,4,5,5,5−デカフル
オロペンタン、3,3′−ビス(4−アミノ−3−ペン
タフルオロエチルフェニル)−1,1,1,2,2,
4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、2,2′
−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)−3−トリフル
オロメチルフェニル}−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロパン、2,2′−ビス{4−(4−アミ
ノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)}1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4′−
ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキ
シ)−3,3′−ジ(トリフルオロメチル)ビフェニ
ル、2,2′−ビス{4−(4−アミノ−3−トリフル
オロメチルフェノキシ)フェニル}−1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられる。こ
れらは1種または2種以上併用することができる。
【0007】本発明に用いられる前記一般式(II)で
表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物
(c)としては、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)−1,1,3,3−テトラエチルジシロキサン二
無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン二
無水物、1,3−ビス{3−(3,4−ジカルボキシベ
ンゾイルオキシ)プロピル}−1,1,3,3−テトラ
メチルジシロキサン二無水物、1,3−ビス{2−
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)エチル}−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、
1,3−ビス{5−(3,4−ジカルボキシベンゾイル
オキシ)ペンチル}−1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサン二無水物、1,3−ビス{3−(3,4−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}−1,1,
3,3−テトラフェニルジシロキサン二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジフェニル
シラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシベンゾイ
ルオキシ)ジメチルシラン二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシベンゾイルオキシ)エチルメチルシラン二無
水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1,3−ジメチル−1,3−ジエチルジシロキサン二
無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)−1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロ
キサン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)−1,1,3,3,5,5,7,7−オクタ
メチルテトラシロキサン二無水物、1,3−ビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3,5,
5,7,7,9,9−デカメチルペンタシロキサン二無
水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,1
1−ドデカメチルヘキサシロキサン二無水物などが挙げ
られ、これらは1種または2種以上併用することができ
る。
【0008】本発明に用いられる溶媒Aは本発明におけ
るポリアミド酸に対して良溶媒である。しかし溶媒Aだ
けからなるポリアミド酸溶媒は濡れ広がり性が悪く、基
板に塗布した場合、膜厚が不均一になり、極端な場合は
ハジキが生じることもある。一方、溶媒Bは濡れ性の良
好な溶媒であるが、単独で用いた場合、本発明のポリア
ミド酸が析出するために溶媒Aと溶媒Bをその重量比を
【数3】 としたときにポリアミド酸が析出することなく、濡れ性
を向上させることができ、均一な膜厚の配向膜を形成す
ることが可能となる。溶媒Aと溶媒Bはそれぞれ1種類
を用いても、また複数の種類を組み合わせて用いても良
い。
【0009】溶媒Bのグリコールモノエーテルとして
は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールイ
ソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノメチルエーテル等が用いられる。グ
リコールジエーテルとしては、エチレングリコールジメ
チルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、
エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等
が用いられる。また、グリコールエーテルアセテートと
しては、エチレングリコールモノアセテート、エチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレング
リコールジアセテート、ジエチレングリコールアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト等が用いられる。溶媒Aはポリアミド酸を合成する際
に用いられるが、希望されるポリアミド酸の濃度に応じ
て合成後にさらに加えられてもよい。溶媒Bはポリアミ
ド酸の合成後に加えられる。
【0010】前記一般式(I)で表されるフッ素原子を
有するジアミン化合物(a)および前記一般式(II)
で表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水
物(c)と必要により併せて用いられる(a)以外のジ
アミン化合物および(c)以外のテトラカルボン酸二無
水物については特に限定されるものではないが、(a)
以外のジアミン化合物としては、例えばm−フェニレン
ジアミン、p−フェニレンジアミン、m−キシレンジア
ミン、p−キシレンジアミン、4,4′−ジアミノジフ
ェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′−ビス(4
−アミノフェニル)プロパン、4,4′−メチレンジア
ニリン、ベンジン、4,4′−ジアミノジフェニルスル
フィド、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、1,
5−ジアミノナフタレン、3,3′−ジメチルベンジ
ン、3,3′−ジメトキシベンジンなどが挙げられる。
これらは1種または2種以上併用することができる。
【0011】また(c)以外のテトラカルボン酸二無水
物としては、例えばピロリメリット酸二無水物、2,
3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
3,3′,4,4′−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、2,2′,3,3′−ジフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカ
ルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−カルボキシ
フェニル)プロパン二無水物、3,4−ジカルボキシフ
ェニルスルホン二無水物、ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、3,3′,4,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などが挙げ
られる。これらは1種または2種以上併用することがで
きる。
【0012】本発明におけるポリアミド酸は、(a)前
記一般式(I)で表されるフッ素原子を有するジアミン
化合物と必要に応じて(a)以外のジアミン化合物、
(c)前記一般式(II)で表されるケイ素原子を有す
るテトラカルボン酸二無水物と必要に応じて(c)以外
のテトラカルボン酸二無水物を溶媒A中で反応させて得
られる。この際の前記一般式(I)で表されるフッ素原
子を有するジアミン化合物の使用量は、全ジアミン成分
に対して0.5モル%以上、前記一般式(II)で表さ
れるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二無水物の使
用量は、前テトラカルボン酸二無水物に対して0.5モ
ル%以上とするのが好ましい、また前記ジアミン成分の
総モル数と、テトラカルボン酸二無水物の総モル数とを
ほぼ等モルにして反応させることが好ましい。生成する
ポリアミド酸の濃度が2〜30重量%、好ましくは5〜
20重量%の範囲となる量で、上記のモノマーを反応さ
せることが好ましい。
【0013】前記の反応で得られたポリアミド酸は、加
熱(例えば100〜400℃)および/または科学的処
理(例えば無水酢酸処理)によって脱水閉環され、ポリ
イミドとなる。
【0014】本発明のポリアミド酸を含む液晶配向膜用
組成物は、例えば、あらかじめITO(Indium
Tin Oxide)等の透明電極が形成されたガラス
基板上に塗布され、脱水閉環されてポリイミド層とされ
る。塗布方法としては、浸漬法、印刷法、吹付け法等の
方法が用いられる。脱水閉環温度は150〜400℃、
好ましくは150〜300℃の範囲で任意に選択するこ
とができる。また加熱時間は1分〜6時間、好ましくは
1分〜3時間とされる。該ポリイミド層には、ガラス基
板とポリイミド層との密着性をよくするために、この間
にシランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカ
ップリング剤を用いてもよい。このようにして形成され
たポリイミド層は、表面をラビングすることによって液
晶配向膜として用いられる。液晶配向膜を有する液晶挾
持基板を用いて公知の方法により液晶表示素子を得るこ
とができる。本発明の液晶配向膜用組成物を用いて得ら
れる液晶配向膜は、260〜270°のツイスト角を有
するSTN方法の液晶表示素子に特に適している。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。 実施例1 2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン19.44g(0.037モル)をN−メチル−2−
ピロリドン170gに添加し、充分撹拌した後、3,
3′,4,4′−ジフェニルカルボン酸二無水物4.6
9g(0.016モル)およびピロメリット酸二無水物
3.48g(0.016モル)および1,3−ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサン二無水物2.4g(0.005
モル)を加え、50℃で5時間反応させたところ、淡黄
色の粘稠な溶液となった。この溶液の粘度を調整し、さ
らにエチレングリコールモノブチルエーテル228gと
N−メチル−2−ピロリドン(172g)を用い、エチ
レングリコールモノブチルエーテルが全溶媒中の40重
量%になるように希釈した。このようにして作製した塗
液を2枚のITO透明電極付きガラス基板上にスピンナ
ー塗布し、250℃で1時間加熱し、溶媒の除去および
ポリアミド酸の脱水閉環を行い、厚さ500Åのポリイ
ミド層を形成した。2枚のガラス基板上のこの層の表面
をラビング処理して液晶配向膜として液晶挾持基板を
得、これをラビング方向がアンチパラレルになるように
2枚のポリイミド層を対向させて組合せ、周りをエポキ
シ系シール剤EN−1000(日立化成工業株式会社製
商品名)で封止し、180℃で2時間の加熱硬化後室温
で内部に液晶ZLI−1132(メルク社製商品名)を
封入し、液晶セルを形成した。この液晶セルを液晶ZL
I−1132のTNI(71℃)以上の温度である120
℃で1時間加熱した後、該セルのプレチルト角をレーザ
ー光を用いて測定したところ、プレチルト角は13.8
°であり、270°ツイストの液晶表示素子用配向膜の
必要条件を満たしていた。次に前記の塗液UN−コータ
(ナカン社製印刷機商品名)を用いて640×200ド
ットになるようにITO透明電極が形成された2枚のガ
ラス基板上にポリイミド層を印刷形成し、この層の表面
をラビング処理し、上記と同様にしてツイスト角が27
0°となるように組合せ、周りを封止し、室温で上記液
晶にカイラル剤S−811(メルク社製商品名)を添加
し調整した液晶を封入し、120℃で1時間加熱して液
晶表示素子を形成した。該液晶表示素子は、640×2
00ドットで駆動でき、ドメイン等の配向不良が発生せ
ず、また、明暗むらもなく、高表示品質であった。ガラ
ス基板上に形成したポリイミド層の膜厚を20点測定し
たところ、偏差が4であった。
【0016】実施例2 2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン15.54g
(0.046モル)をN−メチル−2−ピロリドン17
0gに添加し、充分撹拌した後、3,3′,4,4′−
ジフェニルカルボン酸二無水物6.47g(0.022
モル)、ピロメリット酸二無水物4.80g(0.02
2モル)および1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサ
ン二無水物1.31g(0.002モル)を加え、50
℃で5時間反応させたところ、淡黄色の粘稠な溶液とな
った。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で処理し
て液晶セルを形成し、120℃で1時間加熱した後、プ
レチルト角を測定したところ、プレチルト角は11.0
°であった。さらにこの溶液を用いて実施例1と同様に
して液晶表示素子を形成したが、配向不良は発生せず、
明暗むらもなく、高表示品質であった。
【0017】実施例3 4,4′−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチル
フェノキシ)ビフェニル16.87g(0.033モ
ル)をN−メチル−2−ピロリドン170gに添加し、
充分撹拌した後、ピロメリット酸二無水物3.65g
(0.017モル)および1,3−ビス{3−(3,4
−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピル}−1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物9.4
8g(0.017モル)を加え、50℃で5時間反応さ
せたところ、淡黄色の粘稠な溶液となった。 この溶液
を用いて実施例1と同様な方法で処理して液晶セルを形
成し、120℃で1時間加熱した後、プレチルト角を測
定したところ、プレチルト角は9.0°であった。さら
にこの溶液を用いて実施例1と同様にして液晶表示素子
を形成したが、配向不良は発生せず、明暗むらもなく、
高表示品質であった。
【0018】実施例4 2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル}−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン19.9g(0.038モル)をN−メチル−2−ピ
ロリドン170gに添加し、充分撹拌した後、3,
3′,4,4′−ジフェニルカルボン酸二無水物5.5
2g(0.019モル)、ピロメリット酸二無水物4.
09g(0.019モル)および1,3−ビス(3,4
−ジカルボキシベンゾイルオキシ)ジフェニルシラン二
無水物0.49g(0.001モル)を加え、50℃で
5時間反応させたところ、淡黄色の粘稠な溶液となっ
た。この溶液を用いて実施例1と同様な方法で処理して
液晶セルを形成し、120℃で1時間加熱した後、プレ
チルト角を測定したところ、プレチルト角は9.5°で
あった。さらにこの溶液を用いて実施例1と同様にして
液晶表示素子を形成したが、配向不良は発生せず、明暗
むらもなく、高表示品質であった。
【0019】実施例5 実施例1で合成した淡黄色の粘稠な溶液をN−メチル−
2−ピロリドン172gとジエチレングリコールジエチ
ルエーテル228gを用い、ジエチレングリコールジエ
チルエーテルが全溶媒中の40重量%になるように希釈
した。そして実施例1と同様にUN−コータを用いて印
刷し、ポリイミド層を形成した。膜厚を20点測定した
ところ、偏差は5であった。
【0020】実施例6 実施例1で合成した淡黄色の粘稠な液体をN−メチル−
2−ピロリドン172gとエチレングリコールモノアセ
テート228gを用い、エチレングリコールモノアセテ
ートが全溶媒中の40重量%になるように希釈した。そ
して実施例1と同様にUN−コータを用いて印刷し、ポ
リイミド層を形成した。膜厚を20点測定したところ、
偏差は5であった。
【0021】比較例1 実施例1で合成した淡黄色の粘稠な溶液をN−メチル−
2−ピロリドン400gで希釈し塗液を調整した。実施
例1と同様にUN−コータを用いて印刷し、ポリイミド
層を形成したが、目視観察によっても膜厚のむらが大き
く、実施例1と同様に膜厚を20点測定したが、偏差は
50であり、かなり膜厚は不均一であった。この塗液を
用いて、実施例1と同様にして液晶表示素子を形成した
ところ、ドメインなどの配向不良はなかったが、明暗む
らは観察された。
【0022】比較例2 実施例1で合成した淡黄色の粘稠な溶液をN−メチル−
2−ピロリドン115gとエチレングリコールモノブチ
ルエーテル285gを用い、エチレングリコールモノブ
チルエーテルが全溶媒中の50重量%になるように希釈
した。その結果、白色のポリアミド酸が析出し、撹拌を
行っても溶解しなかった。
【0023】
【発明の効果】本発明の液晶配向膜用組成物によれば、
プレチルト角が7°以上となる液晶配向膜を形成するこ
とができる。またこの液晶配向膜を有する液晶挾持基板
を使用して260〜270°ツイストさせた液晶表示素
子はドメイン等の配向不良が発生せず、明暗むらもな
く、高い表示品質を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小田桐 弘幸 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)一般式(I) 【化1】 (式中、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は芳香族基、
    1およびR2は炭素数1から5までのフッ素化アルキル
    基、R3、R4、R5およびR6は同一または異なる構造を
    持つ炭素数1から10までのフッ素化アルキル基、X1
    およびX2は−O−または−S−を示し、a、bおよび
    cは0または1、d、e、fおよびgは0または1から
    4までの整数を示す。ただし、a、bおよびcの全てが
    0の場合dおよびgのいずれかまたは両者は0となら
    ず、aが0でbおよびcのいずれかまたは両者が1の場
    合d、e、fおよびgのいずれかは0とならず、d、
    e、fおよびgの全てが0の場合aは0となることはな
    い)で表されるフッ素原子を有するジアミン化合物 (b)必要により(a)以外のジアミン化合物 (c)一般式(II) 【化2】 (式中、Ar5およびAr6は芳香族基、R7、R8、R9
    およびR10は炭素数1から10までのアルキル基、炭素
    数1〜10までの置換アルキル基または芳香族基、X3
    およびX4は 【化3】 を示し(nは1から10までの整数を示す)、kおよび
    mは0または1、Lは0または1から5までの整数を示
    す)で表されるケイ素原子を有するテトラカルボン酸二
    無水物および (d)必要により(c)以外のテトラカルボン酸二無水
    物を下記の溶媒A中で反応させて得られるポリアミド酸
    ならびに下記の溶媒Bを溶媒の重量比を 【数1】 として含有してなる液晶配向膜用組成物。 溶媒A:N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチ
    ルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,
    N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
    キサメチルホスホルアミド、テトラメチルスルホンまた
    は1,4−ジオキサン 溶媒B:グリコールモノエーテル、グリコールジエーテ
    ルまたはグリコールアセテート
  2. 【請求項2】 全ジアミン成分に対して一般式(I)で
    表されるジアミン化合物の使用量を0.5モル%以上お
    よび/または全テトラカルボン酸二無水物成分に対して
    一般式(II)で表されるテトラカルボン酸二無水物の
    使用量を0.5モル%以上とした請求項1又は請求項2
    記載の液晶配向膜用組成物。
  3. 【請求項3】 液晶挾持基板の電極を形成した面上に、
    請求項1記載の液晶配向膜用組成物を塗布後、乾燥、脱
    水閉環させてポリイミド層を形成し、ついでラビングす
    る液晶配向膜の製造法。
  4. 【請求項4】 請求項1または2記載の液晶配向膜用組
    成物から形成された液晶配向膜。
  5. 【請求項5】 請求項1または2記載の液晶配向膜用組
    成物から形成された液晶配向膜を有する液晶挾持基板。
  6. 【請求項6】 液晶に面して電極が設けられた液晶挾持
    基板上に、請求項1または2記載の液晶配向膜用組成物
    から得られた液晶配向膜を有する液晶表示素子。
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