JPH06349726A

JPH06349726A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH06349726A
Application number: JP16652093A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Fukuchi; 毅福地; Kazuo Kise; 一夫木瀬
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1993-06-11
Filing date: 1993-06-11
Publication date: 1994-12-22

Abstract

(57)【要約】【目的】簡易な構成により基板表面に現像液を盛るこ
とができ、洗浄が容易な基板処理装置を提供する。【構成】基板１は、上面が平坦で基板１の外形よりも
大きな外形を有する回転板２の上に載置され、水平に保
持される。【効果】基板表面に現像液を供給すると現像液の液盛
りが形成される。回転板の外形は基板の外形より大きい
ので当該現像液が流下することなく、液盛りが安定して
形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板や液晶用又
はフォトマスク用ガラス基板等の薄板状基板（以下、単
に「基板」という。）の表面に現像液などの処理液を供
給して表面処理を行なう基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶基板の製造においては、ガ
ラス基板表面に塗布されたレジスト膜を所定のパターン
に露光した後、現像液により現像する現像工程が存す
る。このような現像工程おいてレジスト膜に現像液を供
給する方法として、特開平２−２４６３１９号公報に開
示された現像装置が公知である。この現像装置は、図１
３に示すように基板１０１を、その外形と同形の回転板
１０２の上に載置するとともに、当該回転板１０２の周
囲に、リング状の枠状体１０３が嵌め込んで形成され
る。枠状体１０３は、回転板１０２に対して上下移動す
ることが可能であり、現像時には、図１３に示すように
上方に移動して回転板１０２とともに液槽を形成し、こ
の液槽に現像液Ｌを供給することにより基板１０１のレ
ジスト膜の現像が行なわれる。現像終了後は、枠状体１
０３を下方に移動して現像液Ｌを基板１０１の周囲から
流下させる。その後、基板１０１を回転板１０２ととも
に、回転軸１０４を中心に一体に回転させることによ
り、基板１０１表面に残存する現像液Ｌを飛散させ、そ
のまま回転を継続しながら、洗浄液を供給して基板１０
１表面の洗浄を行う。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の現像装置にあっては、枠状体１０３内側は
洗浄されないため、当該箇所に現像液Ｌが付着したまま
残存し、次の基板１０１を回転板１０２上に載置して枠
状体１０３を上方に移動して現像処理する際に、前回の
使用済みの現像液Ｌが混入し現像不良となるおそれがあ
る。このようなことは、上述のような現像工程のほか、
エッチング工程や剥離工程において、エッチング液、剥
離液などの処理液を供給する場合にも同様に起こる問題
であった。

【０００４】本発明は、上述のような問題を解消し、簡
易な構成により基板表面に処理液を供給し、処理液の不
良の影響を受けない基板処理装置を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に係る基板処理装置は、基板上に処理液を
供給して当該基板表面の処理を行なう基板処理装置にお
いて、前記基板は、上面が平坦で前記基板の外形よりも
大きな外形を有する基板支持手段に水平に載置される。

【０００６】また、請求項２に係る基板処理装置では、
請求項１における基板支持手段が、前記基板の外形より
大きな外形を有するとともにその内側に開口部を有して
基板周辺部を支持する外側基板支持部材と、その開口部
内に配置され、前記基板中央部を支持する内側基板支持
部材と、を備えており、前記内側基板支持部材と前記外
側基板支持部材は、相対的に上下移動可能なようになっ
ている。

【０００７】

【作用】請求項１の発明によれば、上面が平坦で基板の
外形より大きな外形の基板支持手段の上に基板を載置し
て水平に維持するので、その表面に処理液を供給する
と、処理液の表面張力により基板の端部もしくは基板支
持手段の上面で処理液が止まり、処理液の液盛りが安定
して形成される。

【０００８】請求項２の発明によれば、基板支持手段
が、開口部を有し基板周辺部を支持する外側基板支持部
材と、その開口部内に配置され前記基板中央部を支持す
る内側基板支持部材とから形成され、前記内側基板支持
部材と前記外側基板支持部材は相対的に上下移動可能な
ので、内側基板支持部材を外側基板支持部材上面より相
対的に上方に移動させることにより、基板の外周部の裏
面が外部に露出される。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照して本発明を現像装置に適
用した場合の実施例を詳細に説明するが、これにより本
発明が現像装置に限定されるものではない。

【００１０】図１は、この発明の第１実施例に係る基板
処理装置の構成を示す図であり、図２は、図１の回転板
を上方から見たときの平面図である。基板支持手段は、
上面が平坦で、角型の基板１の外接円より大きな外径を
有する円板状の回転板２を水平に配設して構成され、そ
の中心に付設された回転軸３を駆動モータ４により回転
することにより所定速度で回転される。回転板２の中央
部の真空吸着領域５（図２）内には多数の吸着孔６が設
けられ、回転軸３内部に設けられた通路７及びジョイン
ト８を介して真空ポンプ９に接続され、真空吸着により
基板１を回転板２上に密着保持するようになっている。

【００１１】また、回転板２の上方には、ノズル１０が
移動可能に設けられ、図示しない現像液供給手段に接続
されて、基板１表面に現像液Ｌを供給する。基板１は、
回転板２により水平に保持されているので、基板１の表
面に供給された現像液Ｌは、次第に基板１表面全体に行
き渡り、基板１の端部において液自身の表面張力により
それ以上の拡散を停止し、液盛り（パドル）を形成す
る。しかも、回転板２の外形は基板１より大きいため、
現像液Ｌが多少多く供給されても、図３に示すように基
板１の端部と回転板２の表面部において現像液Ｌの表面
張力により流下が阻止され、安定した現像液Ｌの液盛り
が形成され、基板１表面のレジスト膜（図示せず）が均
一に現像される。現像時間経過後、駆動モータ４により
回転板２を高速で回転させて基板１上の現像液Ｌを飛散
させるとともに、回転を継続させたままノズル１０から
洗浄液を散布して基板１上に残存した現像液Ｌを洗い流
すようになっている。

【００１２】このような構成によれば、従来技術に示し
たような枠状体１０３（図１３）が不要となるため、洗
浄不能により前回の現像液Ｌが残存して現像不良となる
ような問題が一切発生しない。なお、本実施例において
回転板２の外形は円形になっているが、これは、高速回
転したときの空気の外乱を少なくするとともに、回転時
の処理液の液切れを均一にし、これにより安定した基板
処理を行うことを目的とするものである。しかし、本発
明において必ずしも円形である必然性はなく、基板１の
外形より大きくさえあれば、例えば矩形のものであって
もよい。

【００１３】図４は、本発明の第２の実施例に係る現像
装置の構成を示す部分断面図であり、図６は、その回転
板を上方から見たときの平面図である。

【００１４】この実施例においては基板１を水平に載置
するための基板支持手段は、外側回転板２１とその中心
の開口部に嵌挿された内側回転板２２とからなり、外側
回転板２１の回転軸２３と内側回転板２２の回転軸３
は、それぞれ軸方向に形成されたキーとキー溝（図示せ
ず）により嵌合して、上下方向には摺動可能であるが、
回転方向には拘束されて一体に回転するようになってい
る。外側回転板２１の回転軸２３は、ボールベアリング
２４を介して保持部材２５により回転可能に保持され、
保持部材２５は、複数のロッド２６により水平に支持さ
れる。ロッド２６は、駆動モータ４に固定された保持板
２７の軸受２８に軸方向に摺動可能に嵌挿され、図示し
ないアクチュエータによって上下移動される。また、洗
浄専用ノズル１１が外側回転軸２１の側方に進退可能に
設けられている。

【００１５】次に、このような第２の実施例における動
作を説明する。まず、ノズル１０を後方に退避させてお
き、図示しない基板搬送装置により基板１を回転板２
１、２２の上の所定位置に載置する。このとき外側回転
板２１と内側回転板２２の各上面は同一面を形成するよ
うに、外側回転板２１の高さが設定されている。真空ポ
ンプ９（図１）を作動させて基板１を真空吸着してしっ
かりと保持し、ノズル１０を基板１上に移動させて現像
液Ｌを所定量供給すると、図３に示したような現像液Ｌ
の液盛りが基板１の表面上に形成され、現像処理され
る。所定の現像時間が経過すると駆動モータ４を作動さ
せて、外側回転板２１と内側回転板２２を一体に回転さ
せて、遠心力により基板１表面の現像液Ｌを飛散させた
後、アクチュエータを作動して外側回転板２１を下方に
下げて図５のような状態にする。外側回転板２１と内側
回転板２２の回転を継続しながら、ノズル１０から洗浄
液Ｒを散布するとともに、洗浄液専用１１の先端を基板
１の外周の下方に移動させて、上方と下方に向けて洗浄
液Ｒを散布する。これにより基板１の表面のみならず、
現像の際に基板１の裏面に浸入した現像液Ｌをも効果的
に洗浄することが可能となる。

【００１６】本実施例では、外側回転板２１、内側回転
板２２との円板状のものとしたが、図７に示すように外
側回転板２９を基板１より大きな矩形状に形成してもよ
い。また、内側回転板２２も矩形にしてもよい。なお、
図６、図７においては真空吸着領域５内の吸着孔の図示
は省略されている。

【００１７】図８は、本発明の第３の実施例に係る現像
装置の概要を示す部分断面図であり、図９は、図８の回
転板を上方から見たときの平面図である。図４に示した
第２の実施例においては、外側回転板２１の中央の開口
部に内側回転板２２が嵌挿されて、両者の間に隙間がほ
とんどないため、万一現像液Ｌが基板１の裏面と外側回
転板２１との隙間に流入した場合に、真空吸着による吸
引力により当該現像液Ｌが内側回転板２２の中央部まで
吸引され、基板１の裏面全体が現像液Ｌにより汚染され
るばかりではなく、真空ポンプ９内に現像液Ｌが吸引さ
れて、故障の原因になるおそれがある。この点を考慮し
てこの第３の実施例においては、外側回転板３０の中央
部の開口を若干大きめに形成し、内側回転板２２との間
に隙間１２を介在させている（図９参照）。

【００１８】外側回転板３０は、アーム３１を介して、
回転体３２に保持される。この回転体３２と回転軸３
は、それぞれ軸方向に形成されたキーとキー溝（図示せ
ず）により嵌合して、上下方向には摺動可能であるが、
回転方向には拘束されて一体に回転するようになってい
る。また、回転体３２は、第２の実施例と同様にしてボ
ールベアリング２４を介して保持部材２５により回転可
能に保持され、保持部材２５は、複数のロッド２６によ
り水平に支持される。ロッド２６は、駆動モータ４に固
定された保持板２７の軸受２８に軸方向に摺動可能に嵌
挿され、図示しないアクチュエータにより上下動され
る。

【００１９】このような第３の実施例においては、上述
のように外側回転板３０と内側回転板２２の間に隙間１
２が介在させており、万一現像液Ｌが基板１の裏面側に
流入しても、当該隙間１２から下方に流下するので、吸
着孔６から吸引されて真空ポンプ４の動作に支障が生じ
ることもなく安全に動作する。この他の装置の動作は上
述の第２の実施例と同様なので説明は省略する。

【００２０】また、この第３の実施例においても回転板
の形状は円板状に限定されず、図１０に示すように矩形
状の外側回転板３３と、円板状の内側回転板１２との組
み合わせであってもよいし、またその他の組み合わせで
あってもよい。なお、図９、図１０において真空吸着領
域５内の吸着孔の図示は省略されている。

【００２１】図１１は、本発明の第４の実施例に係る現
像装置の概要を示す部分断面図である。同図において
は、外側回転板３０の基板１の裏面部にも吸着孔１３を
設け、ジョイント部材１４を介して図示しない真空装置
に接続される。これにより基板１の周辺部も外側回転板
３０に密着させることができ、基板１の平坦性を確保す
るとともに、現像液Ｌが基板１の裏面に流入するのを阻
止することができる。この場合の真空装置は、真空ポン
プ９（図１）と異なり、圧縮気体を細管中に通過させて
内部圧を低下させ、その部分に外部から管を導いて吸引
する、いわゆるエジェクト方式の真空装置など、現像液
Ｌが混入しても故障せず吸引力が劣化しない装置を用い
る方が望ましい。

【００２２】また、図１２は、本発明の第５の実施例に
係る現像装置の概要を示す図である。内側回転板２２の
周方向には洗浄液専用ノズル１５が埋設されており、回
転軸３内に軸方向に設けられた流路１６を介して図外の
洗浄液供給装置に接続されている。洗浄時には、外側回
転板３０を下方に移動し、洗浄液専用ノズル１５から基
板１の裏面と外側回転板３０の上面に洗浄液Ｒを供給す
ることにより、各部が洗浄されるようになっている。

【００２３】このような構成によると、図８における洗
浄液専用ノズル１１及びこの移動機構が不要となり、構
成が容易になるとともに装置全体をコンパクトに構成す
ることができるという利点がある。なお、図１１、図１
２においてはノズル１０（図８）などの図示は省略され
る。

【００２４】上記第２の実施例から第５の実施例におい
ては、内側回転板２２の高さは固定しておいて、外側回
転板２１もしくは３０の方を下方に移動させることによ
り相対的に内側回転板２２が上方に突出するように構成
しているが、もちろん外側回転板２１（３０）の高さを
固定しておいて、内側回転板２２の方を駆動モータ４と
ともに上方に移動するようにしてもよく、また両者を相
互に上下に移動させるようにしてもよい。しかしなが
ら、基板搬送装置の位置決めの容易さを考えると、基板
１を保持する内側回転板２２の高さは固定しておくほう
が望ましい。

【００２５】また、上述の実施例においては、現像装置
に本発明を適用した場合を説明したが、同様にエッチン
グ処理、剥離処理など所定の処理液を基板表面に供給し
て処理する場合にも適用できるものである。

【００２６】また、処理の対象となる基板の形状は以上
の実施例のように角型のものに限定されないのはもちろ
んであり、円形のウエハの処理装置にも適用できる。

【００２７】

【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
れば、上面が平坦で基板の外形より大きな外形の基板支
持手段の上に基板を載置するので、基板は水平に維持さ
れ、その表面に処理液を供給すると、処理液の表面張力
により基板の端部もしくは基板支持手段の上面部で処理
液の流下が阻止され、基板表面上に安定した処理液の液
盛りが形成される。そのため、液槽などを特に形成する
必要はなく、基板支持手段の上面は平坦なので洗浄が容
易であって古い洗浄液が残存せず現像不良などの問題が
なくなる。

【００２８】請求項２の発明によれば、基板支持手段
が、開口部を有し基板周辺部を支持する外側基板支持部
材と、その開口部内に配置され前記基板中央部を支持す
る内側基板支持部材とから形成され、前記内側基板支持
部材と前記外側基板支持部材は相対的に上下移動される
ので、内側基板支持部材を外側基板支持部材の上面より
上方に突出させることにより、当該基板の外周部の裏面
が外部に露出され、当該基板裏面の洗浄が容易になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例に係る現像装置の構成を
示す概要図である。

【図２】図１の回転板の平面図である。

【図３】図１の実施例において基板表面に現像液を液盛
る様子を示す図である。

【図４】本発明の第２の実施例に係る現像装置の構成を
示す一部断面図である。

【図５】図４の実施例において基板洗浄時の様子を示す
図である。

【図６】図４の実施例における外側回転板及び内側回転
板の平面図である。

【図７】図４の実施例における外側回転板の形状の他の
例を示す平面図である。

【図８】本発明の第３の実施例に係る現像装置の構成を
示す一部断面図である。

【図９】図８の実施例における外側回転板及び内側回転
板の平面図である。

【図１０】図８の実施例における外側回転板の形状の他
の例を示す平面図である。

【図１１】本発明の第４の実施例に係る現像装置の構成
を示す一部断面図である。

【図１２】本発明の第５の実施例に係る現像装置の構成
を示す図である。

【図１３】従来の現像装置の構成を示す縦断面図であ
る。

【符号の説明】

１基板２回転板３回転軸４駆動モータ５真空吸着領域６吸着孔７通路９真空ポンプ１０ノズル２１，３０外側回転板２２内側回転板Ｌ現像液Ｒ洗浄液

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に処理液を供給して当該基板表面
の処理を行なう基板処理装置において、前記基板は、上面が平坦で前記基板の外形よりも大きな
外形を有する基板支持手段に水平に載置されることを特
徴とする基板処理装置。
【請求項２】前記基板支持手段は、前記基板の外形より大きな外形を有するとともにその内
側に開口部を有して基板周辺部を支持する外側基板支持
部材と、その開口部内に配置され、前記基板中央部を支持する内
側基板支持部材と、を備え、前記内側基板支持部材と前記外側基板支持部材は、相対
的に上下移動可能であることを特徴とする請求項１記載
の基板処理装置。