JPH06346095A - フッ素系洗浄溶剤組成物 - Google Patents

フッ素系洗浄溶剤組成物

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JPH06346095A
JPH06346095A JP13051293A JP13051293A JPH06346095A JP H06346095 A JPH06346095 A JP H06346095A JP 13051293 A JP13051293 A JP 13051293A JP 13051293 A JP13051293 A JP 13051293A JP H06346095 A JPH06346095 A JP H06346095A
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hcfc
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pentafluoropropane
dichloro
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Akira Sekiya
章 関屋
Mitsuru Takahashi
満 高橋
Yoshihiko Goto
嘉彦 後藤
Atsuo Suga
淳雄 須賀
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CHIKYU KANKYO SANGYO GIJUTSU
CHIKYU KANKYO SANGYO GIJUTSU KENKYU KIKO
Central Glass Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Tosoh Corp
AGC Inc
Original Assignee
CHIKYU KANKYO SANGYO GIJUTSU
CHIKYU KANKYO SANGYO GIJUTSU KENKYU KIKO
Agency of Industrial Science and Technology
Asahi Glass Co Ltd
Central Glass Co Ltd
Tosoh Corp
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents

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Abstract

(57)【要約】 【構成】 CF3 CH(OH)CF3 ,CF3 CH(O
H)CF2 CF3 ,(CF3 3 COH及び(CF3
2 (CH3 )COHから選ばれるフッ素化アルコールの
少なくとも1種と、HCFC−225ca及びHCFC
−225cbの少なくとも1種とを含むフッ素系洗浄溶
剤組成物である。 【効果】 本発明の洗浄溶剤組成物は、不燃性かつ低沸
点のフッ素化アルコールを使用するので、HCFC−2
25ca及び/又はHCFC−225cbと混合した場
合、組成の経時変化が小さく、安全でかつ安定な組成物
となるとともに、フラックスや油等の溶解除去性に優れ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄溶剤として優れた特
性を有するフッ素系洗浄溶剤組成物に関する。更に詳し
くは、半導体製造時に使用されるフラックス類の洗浄あ
るいは機械油の洗浄用に使用される溶剤組成物に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、洗浄溶剤としては、1,1,2−
トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(CFC
−113)などのクロロフルオロエタン系化合物が広く
使用されている。これらの溶剤は、不燃性であり、さら
に、プラスチックなどの高分子材料を侵さず、油脂、グ
リース、ワックスなどを溶解するという選択的溶解性を
有するなどの性能を有している。
【0003】しかしながら、これらのクロロフルオロエ
タン系化合物が大気中に放出された場合に、成層圏のオ
ゾン層を破壊し、その結果、地球上の生態系に悪影響を
及ぼすことが指摘され、これらの化合物は使用規制が実
施されることとなった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】CFC−113のよう
に分子内の水素が全て塩素およびフッ素で置換されたク
ロロフルオロエタン系化合物に替えて、分子内に水素原
子を残し対流圏での分解を可能とし、その結果大気中で
の寿命を短くする事によりオゾン層破壊及び地球温暖化
に与える影響を低減する方策が検討されている。
【0005】例えば、1,1−ジクロロ−2,2,3,
3,3−ペンタフルオロプロパン(HCFC−225c
a)及び1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペン
タフルオロプロパン(HCFC−225cb)などのヒ
ドロハロゲノプロパン類、及びその性能向上のため、こ
れに数種類のフッ素化アルコール(2,2,2−トリフ
ルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロプ
ロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロ
パノール)を混合した溶剤組成物等が提案されている
(特開平3−17034号公報等)。
【0006】しかしながら、これらフッ素化アルコール
は、単独では可燃性であったり、また、いずれも基剤と
なるHCFC−225ca及びHCFC−225cbと
の沸点差が大きいために再利用時の組成変化が大きい等
の問題点を有しており、未だ高性能な代替フロン溶剤の
探索が検討されている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の如
き現状を鑑み研究を重ねた結果、個々の沸点、表面張力
等の物性値が従来の2,2,2−トリフルオロエタノー
ル、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール、及
び2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノールよ
りも優れているフッ素化アルコールと、ハロゲン化炭化
水素としてHCFC−225ca(沸点:51.1℃)
及び/又はHCFC−225cb(沸点:56.1℃)
を混合することにより、溶剤としての性能が高く、かつ
地球環境への影響が小さい溶剤となることを見いだし本
発明を完成するに至った。
【0008】すなわち、本発明は、1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、1,
1,1,3,3,4,4,4−オクタフルオロブタン−
2−オール、2−トリフルオロメチル−1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール、及
び2−トリフルオロメチル−1,1,1−トリフルオロ
プロパン−2−オールから選ばれるフッ素化アルコール
の少なくとも1種と、HCFC−225ca及びHCF
C−225cbの少なくとも1種とを含むフッ素系洗浄
溶剤組成物に関するものである。
【0009】本発明で使用されるフッ素化アルコール
は、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン
−2−オール[CF3 CH(OH)CF3 ]、1,1,
1,3,3,4,4,4−オクタフルオロブタン−2−
オール[CF3 CH(OH)CF2 CF3 ]、2−トリ
フルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン−2−オール[(CF3 3 COH]、2
−トリフルオロメチル−1,1,1−トリフルオロプロ
パン−2−オール[(CF3 2 (CH3 )COH]で
あり、これらは単独でもあるいは2種類以上の混合物と
しても使用できる。
【0010】本発明で用いるフッ素化アルコールの代表
的な物性値を表1に示す。比較のため、従来のアルコー
ルの対応する物性値を表1に示すが、いずれも本発明の
フッ素化アルコールのほうが優れておりハロゲン化炭化
水素と混合した場合に、ハロゲン化炭化水素のもつ低沸
点、低表面張力の利点を損なうことなく溶剤としての性
能を高めることができる。
【0011】
【表1】
【0012】本発明で使用されるハロゲン化炭化水素H
CFC−225ca及びHCFC−225cbは、それ
ぞれ単独で使用しても、あるいは混合して使用してもよ
い。これら2種の混合物として使用する場合の混合比
は、製造法に由来する経済性により決定されるが、好ま
しくはHCFC−225caが40〜60重量%、HC
FC−225cbが40〜60重量%である。
【0013】本発明で用いられるフッ素系洗浄溶剤組成
物のハロゲン化炭化水素HCFC−225ca及びHC
FC−225cbとフッ素化アルコールの混合比は、H
CFC−225ca及びHCFC−225cbの単独若
しくはこれらの混合物が60〜99重量%、及びフッ素
化アルコール1〜40重量%であり、特に好ましくは、
HCFC−225ca及びHCFC−225cbの単独
若しくはこれらの混合物が75〜95重量%、及びフッ
素化アルコール5〜25重量%である。
【0014】本発明の組成物の具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げること
ができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
【0015】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明する。 [実施例1〜4]HCFC−225ca及びHCFC−
225cbの混合物、HCFC−225ca/cb(重
量組成比HCFC−225ca/HCFC−225cb
=1/1)と、これにフッ素化アルコールを表2に示す
割合で混合した溶剤組成物を用いてフラックスの洗浄試
験を行った。
【0016】プリント基板全面にフラックス(タムラF
−AL−4、タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電
気炉で2分間焼成後、本発明の組成物中に3分間浸漬し
た。比較例として、2,2,3,3,3−ペンタフルオ
ロプロパノール(比較例1)及びCFC−113の単独
(比較例2)を使用して同様の試験を行った。これらの
結果を表2に示す。
【0017】
【表2】
【0018】[実施例5〜8]本発明の組成物を用いて
機械油の洗浄試験を行った。SUS−304のテストピ
ース(25mm×30mm×2mm厚)を機械油(CQ
−30 日本石油(株)製)中に浸漬した後、本発明の
組成物中に3分間浸漬した。比較例として、2,2,
3,3,3−ペンタフルオロプロパノール(比較例3)
及びCFC−113の単独(比較例4)を使用して同様
の試験を行った。これらの結果を表3に示す。
【0019】
【表3】
【0020】
【発明の効果】本発明のフッ素系洗浄溶剤組成物は、従
来のアルコール類に較べて不燃性かつ低沸点のフッ素化
アルコールを使用するので、HCFC−225ca及び
HCFC−225cbと混合した場合、組成の経時変化
が小さく、安全でかつ安定な溶剤となるとともに、フラ
ックスや油等の溶解除去性に優れ、さらに従来のCFC
−113等と同様の使い方ができるため、従来技術の大
幅な変更を要しない等の利点がある。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7:28 7:30) (71)出願人 000003300 東ソー株式会社 山口県新南陽市開成町4560番地 (71)出願人 000002200 セントラル硝子株式会社 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 (74)上記4名の代理人 弁理士 内田 明 (外2名) (72)発明者 関屋 章 茨城県つくば市東1丁目1番 工業技術院 物質工学工業技術研究内 (72)発明者 高橋 満 東京都文京区本郷2−40−17本郷若井ビル 財団法人地球環境産業技術研究機構内 (72)発明者 後藤 嘉彦 東京都文京区本郷2−40−17本郷若井ビル 財団法人地球環境産業技術研究機構内 (72)発明者 須賀 淳雄 東京都文京区本郷2−40−17本郷若井ビル 財団法人地球環境産業技術研究機構内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
    ロプロパン−2−オール、1,1,1,3,3,4,
    4,4−オクタフルオロブタン−2−オール、2−トリ
    フルオロメチル−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
    オロプロパン−2−オール、及び2−トリフルオロメチ
    ル−1,1,1−トリフルオロプロパン−2−オールか
    ら選ばれるフッ素化アルコールの少なくとも1種と、
    1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオ
    ロプロパン及び1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3
    −ペンタフルオロプロパンの少なくとも1種とを含むフ
    ッ素系洗浄溶剤組成物。
  2. 【請求項2】 フッ素化アルコール1〜40重量%と
    1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオ
    ロプロパン及び1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3
    −ペンタフルオロプロパンの少なくとも1種60〜99
    重量%からなる請求項1に記載のフッ素系洗浄溶剤組成
    物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002086191A1 (en) * 2001-04-24 2002-10-31 3M Innovative Properties Company Use of fluorinated ketones as wet cleaning agents for vapor reactors
WO2004000987A1 (ja) * 2002-06-19 2003-12-31 Asahi Glass Company, Limited 有機el素子製造用蒸着装置のチャンバーの洗浄方法
EP1900801A1 (en) 2006-09-14 2008-03-19 FUJIFILM Corporation Substrate water-removing agent, and water-removing method and drying method employing same
JP2009073835A (ja) * 2008-09-11 2009-04-09 Central Glass Co Ltd 含フッ素化合物、溶解抑制剤、それらを用いたレジスト材料
CN116000000A (zh) * 2016-04-27 2023-04-25 神户合成株式会社 洗净剂组合物及其气雾组合物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0327328A (ja) * 1989-06-23 1991-02-05 Asahi Glass Co Ltd 弗素化炭化水素系溶剤組成物
JPH0327329A (ja) * 1989-06-23 1991-02-05 Asahi Glass Co Ltd 弗素化炭化水素系溶剤組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0327328A (ja) * 1989-06-23 1991-02-05 Asahi Glass Co Ltd 弗素化炭化水素系溶剤組成物
JPH0327329A (ja) * 1989-06-23 1991-02-05 Asahi Glass Co Ltd 弗素化炭化水素系溶剤組成物

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002086191A1 (en) * 2001-04-24 2002-10-31 3M Innovative Properties Company Use of fluorinated ketones as wet cleaning agents for vapor reactors
WO2004000987A1 (ja) * 2002-06-19 2003-12-31 Asahi Glass Company, Limited 有機el素子製造用蒸着装置のチャンバーの洗浄方法
US7037380B2 (en) 2002-06-19 2006-05-02 Asahi Glass Company, Limited Method for cleaning chamber of deposition apparatus for organic EL device production
EP1900801A1 (en) 2006-09-14 2008-03-19 FUJIFILM Corporation Substrate water-removing agent, and water-removing method and drying method employing same
JP2009073835A (ja) * 2008-09-11 2009-04-09 Central Glass Co Ltd 含フッ素化合物、溶解抑制剤、それらを用いたレジスト材料
CN116000000A (zh) * 2016-04-27 2023-04-25 神户合成株式会社 洗净剂组合物及其气雾组合物

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