JPH06332206A

JPH06332206A - 電子写真感光体及び電子写真法

Info

Publication number: JPH06332206A
Application number: JP12427193A
Authority: JP
Inventors: Koichi Kudo; 浩一工藤; Hiroaki Minemura; 宏明峯村; Eiichi Sakai; 栄一坂井; Kan Miyake; 完三宅
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1993-05-26
Filing date: 1993-05-26
Publication date: 1994-12-02

Abstract

(57)【要約】【目的】耐クラック性が高く、高感度で高耐久性の感
光体の提供。【構成】電荷輸送層にポリカーボネートを用い、トリ
スチリル構造を有する化合物を電荷輸送物質としビフェ
ニル系化合物を可塑剤として加える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
特に機能分離型感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、カールソン法に基づく電子写真法
においては、感光体表面を一様に帯電し、像様に露光し
て静電潜像を形成し、該トナー像を転写材上に転写、定
着して像形成が行われる。転写後の感光体は残留トナー
の除去及び帯電が行われて長期に亘り反復使用される。

【０００３】従って感光体としては、帯電特性、感度特
性及び残留電位特性等の電子写真特性の外、長期に渡る
繰返し像形成に耐える機械的耐摩耗性或いは耐クラック
性等の高耐久性が要望される。又近時高速複写が要請さ
れ、これに対し特に高感度特性と高耐久性が必要となっ
た。

【０００４】前記高速複写を達成する上で電荷を発生す
る機能を電荷発生物質（ＣＧＭ）に、電荷を輸送する機
能を電荷輸送物質（ＣＴＭ）に分担させた機能分離型の
感光体とするのが好ましく、かつ前記ＣＴＭの選択が重
要とされる。即ち前記高速複写の場合は、像形成体への
像露光の後、極めて短い時間内に現像が行なわれるた
め、像露光により感光層中に発生した電荷を急速に輸送
する高速輸送型ＣＴＭが要請された。

【０００５】前記スチリル型トリフェニルアミン系ＣＴ
Ｍは他のＣＴＭ、例えばトリフェニルメタン系や、ヒド
ラゾン系のＣＴＭ等に比して電荷輸送機能に優れてお
り、その中でもトリスチリル型トリフェニルアミン系Ｃ
ＴＭは、より高速輸送型ＣＴＭとされる。

【０００６】他方感光層に含有されるＣＴＭがより高速
輸送型とされる程該感光層の膜物性が悪く、脆くなりク
ラック等を発生し易くなるのが一般的である。

【０００７】そこで特開平4-27957号公報では、感光層
を構成するバインダー樹脂として、比較的に好ましい膜
物性を有するとされているポリカーボネートを組合わせ
て用いることが提案された。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで特定のＣＴＭ
に対してバインダー樹脂を変化させて複数種の感光層を
形成した場合、前記バインダー樹脂の種類が感光体の膜
物性及びＣＴＭの電荷輸送性、即ち感度に影響すること
が知られている。例えばスチリル型トリフェニルアミン
系ＣＴＭに対してポリスチレンをバインダー樹脂として
感光体を形成した場合、電荷輸送層（ＣＴＬ）のドリフ
ト移動度が速くなり高感度特性が得られる反面、感光層
が脆く、クラックを発生し易い。又バインダー樹脂とし
てアクリル樹脂を用いた場合、ＣＴＬの電荷輸送性を悪
くし、感光層の感度を低下せしめるが、他方感光層の膜
物性が優れていてクラック等を発生しないことが知られ
ている。他方ポリカーボネート樹脂は、バインダー樹脂
としてポリスチレン及びアクリル樹脂の中間的特性を有
し、感光層を形成したとき、該感光層の感度も膜物性も
余り悪くせず、好ましい部類の樹脂であるが、必ずしも
膜物性を十分補償しうるものではなく、又ＣＴＭの電荷
輸送性を十分発揮せしめるものではない。

【０００９】他方感光層の膜物性又は感度特性等を改良
する目的で可塑剤を感光層中に含有せしめる技術が知ら
れている。

【００１０】例えば特公昭42-25230号公報には、ポリビ
ニルカルバゾールを主体とした感光層中に、p-テルフェ
ニル、ジフェニル、ジフェニルエーテル、塩化ジフェニ
ル、メチルナフタレン、ジオクチルフタレート、トリフ
ェニル燐酸、ジメチルグリコールフタレート、ジブチル
フタレート、クロロパラフィン等の可塑剤を膜物性改良
を目的として含有せしめることが記載されている。

【００１１】さらに又、特開平3-75654、特開平3-7565
5、特開平3-75656の各号公報には、p-フェニレンジアミ
ン系ＣＴＭを含有するＣＴＬ中にp-ベンジルビフェニ
ル、o-テルフェニル、p-テルフェニル、m-テルフェニル
等の可塑剤を含有せしめ、繰り返し像形成の過程におけ
る電位低下及び感度低下を防止せしめることが提案され
ている。

【００１２】又、特開平3-134670号公報には、一般的な
ＯＰＣ感光体のＣＴＬ中にビフェニル、o-テルフェニ
ル、m-テルフェニル、ジフェニルエーテル、炭酸ジフェ
ニル、安息香酸フェニル、フタル酸ジフェニル等の可塑
剤を残留応用力低下剤（カール防止剤）として含有せし
めることが提案されている。

【００１３】このように多数の可塑剤が既に知られてい
るが、これらの可塑剤の多くは感光層の膜物性改良を主
たる目的としており、一般的には感光層中への可塑剤の
添加は感度等の電子写真特性を若干低下せしめるのが通
例である。

【００１４】ところが最近においては、高速複写に対応
するため、感光層が高耐久性でかつ高感度（高速応答
性）であることが要請される。そのため添加剤としての
可塑剤には高速輸送型のジスチリル型トリフェニルアミ
ン系ＣＴＭとポリカーボネートを含む感光層の膜物性を
改良して、クラック等の発生のない高耐久性の感光層と
すると共に、むしろ感光層の感度向上を達成しうるもの
が望まれる。

【００１５】しかしながら前記の如き特殊の感光層を有
する感光体の膜物性と感度の両面を同時に向上しうる可
塑剤の選択は事実上極めて難しく、多くの解決すべき障
害があった。

【００１６】本発明者等は多年に亘り研究を重ねた結
果、前記感光層の膜物性の向上、特に耐クラック性の向
上と、高感度特性とを達成しうる可塑剤を見出すに至り
本発明を完成したのである。

【００１７】本発明の目的は、前記感光層の物性の良い
特に耐クラック性の高い高感度特性の感光体、及び該電
子写真感光体を備えた電子写真法の提供にある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】前記本発明の課題に沿
い、膜物性のよいバインダ樹脂を求め、適性組合せとし
てのＣＴＭ及び可塑剤を検討検索した結果、本発明の課
題は、導電性支持体上に中間層（ＵＣＬ）、電荷発生層
（ＣＧＬ）及び電荷輸送層（ＣＴＬ）をこの順に積層し
た電子写真感光体において、前記ＣＴＬがＣＴＭとして
前記「化１」記載の構造諸元を特定した一般式（Ｉ）の
化合物を含有し、バインダ樹脂としてポリカーボネート
樹脂を含有し、かつ前記「化２」記載の構造諸元を特定
した一般式（II）のビフェニル誘導体を含有することを
特徴とする電子写真感光体によって解決される。すなわ
ち、当該組合せに於るＣＴＬにビフェニル誘導体を含有
することにより、耐クラック性が向上し、かつドリフト
移動度が向上することによりさらに高感度化が達成され
る。

【００１９】尚本発明の態様においては、前記ビフェニ
ール誘導体は前記「化３」に記載の一般式（III）で表
される化合物において、ハロゲン原子としてはCl，Br，
Ｆ等であり、複数のハロゲン原子は互いに同じでも異な
っても良く、Cl，Br原子のみの時はＰは１が好ましい。

【００２０】本発明に係る前記一般式（Ｉ）で示される
トリスチリル構造を有する化合物は、ＣＴＭとしての性
能が高く、高感度化に資する所、大である。

【００２１】次に一般式（Ｉ）で示されるＣＴＭの具体
例を挙げる。

【００２２】

【化４】

【００２３】

【化５】

【００２４】

【化６】

【００２５】

【化７】

【００２６】

【化８】

【００２７】

【化９】

【００２８】

【化１０】

【００２９】また本発明において併用して使用可能なＣ
ＴＭとしては、特に制限はないが、例えばオキサゾール
誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、
チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾ
ール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導
体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒド
ラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミン誘導体、オキ
サゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミ
ダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導
体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチ
ルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビ
ニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセン等である。

【００３０】本発明に係るＣＴＭは光照射時発生するホ
ールの表面側への輸送能力が優れている外、本発明に用
いられる有機系顔料のＣＧＭとの組合せに好適である。

【００３１】次に本発明に係る前記一般式（II）及び
（III）で示させるビフェニル構造を有する化合物は、
本発明の構成素材との関りにおいて可塑剤としての効果
が大である。

【００３２】次に一般式（II）及び（III）で表される
可塑剤の具体例を挙げる。

【００３３】

【化１１】

【００３４】次に本発明に用いられるバインダ樹脂には
ポリカーボネート樹脂が必須に含有される。

【００３５】ポリカーボネートは炭酸とグリコールまた
は２価フェノールとのポリエステルであるが、本発明に
おいてはフェノール系のポリエステルが好ましい。特に
ビスフェノールＡ型更にビスフェノールＺ型、更に好ま
しくはビスフェノール間の炭素にシクロヘキシル環がペ
ンダントされるビスフェノールＺ型が好ましい。

【００３６】本発明に用いられるポリカーボネートの構
成単位としては、下記一般式〔Ｂ₁〕及び／又は一般式
〔Ｂ₂〕が用いられる。

【００３７】

【化１２】

【００３８】（式中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、
炭素原子数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基、
又は置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ｒ₃及び
Ｒ₄はそれぞれ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６の置
換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ０〜４の整数
を表し、ｍ，ｎの少くともいずれかが２以上の場合、Ｒ
₃，Ｒ₄の表わす基の種類は同一でも異なっていてもよ
い。但しＲ₁とＲ₂はそれぞれ互いに結合して炭素原子数
４〜10の炭化水素環を形成してもよい。）

【００３９】

【化１３】

【００４０】（式中、Ｒ₅及びＲ₆はそれぞれハロゲン原
子、炭素原子数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル
基又は置換もしくは無置換のアリール基を表し、ｐ及び
ｑはそれぞれ０〜４の整数を表す。又、ｐ，ｑの少くと
もいずれか２以上の場合、ｐ，ｑの表わす基の種類は同
一でも異なっていてもよい。）前記一般式〔Ｂ₁〕の具
体的化合物例としては以下のものが挙げられるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。

【００４１】

【化１４】

【００４２】

【化１５】

【００４３】

【化１６】

【００４４】前記一般式〔Ｂ₂〕の具体的化合物例とし
ては、以下のものが、挙げられるが本発明はこれらに限
定されるものではない。

【００４５】

【化１７】

【００４６】前記一般式〔Ｂ₁〕又は一般式〔Ｂ₂〕で示
されるポリカーボネートの構成単位は相互に共重合体を
形成してもよく又他の樹脂の構成単位と共重合してもよ
い。

【００４７】また、ポリカーボネート樹脂に他の樹脂を
混合してもよく、例えばポリエステル樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビ
ニルアセタール樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体、
塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体、塩化ビニ
ル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水
マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン-アルキ
ッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、スチレ
ンアルキッド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール等の公
知の樹脂を１種以上混合することができる。

【００４８】このときポリカーボネート樹脂は、全体の
70重量％以上好ましくは80重量％以上がよい。

【００４９】これらのＣＴＭ及びバインダ樹脂を有機溶
媒に溶解しＣＧＬ上に塗布形成して、本発明感光体を得
る。

【００５０】使用される有機溶媒としては、例えばヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、
メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1,2-ジクロ
ルエタン、syn-テトラクロルエタン、cis-1,2-ジクロル
エチレン、1,1,2-トリクロルエタン、1,1,1-トリクロル
エタン、1,2-ジクロルプロパン、クロロホルム、ブロモ
ホルム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シク
ロヘキサノール、ヘプタノール、エチレングリコール、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ
等のアルコール及びこの誘導体、テトラヒドロフラン、
1,4-ジオキサン、フラン、フルフラール等のエーテル、
アセタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエチルアミ
ン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン等のア
ミン類、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド類等の窒
素化合物他に脂肪酸及びフェノール類、二硫化炭素や燐
酸トリエチル等の硫黄、隣化合物等が挙げられる。

【００５１】前記したＣＴＬのバインダ樹脂とＣＴＭ及
びビフェニル化合物の配合比はバインダ樹脂100重量部
に対し、ＣＴＭは30〜200重量部、ビフェニル化合物は
0.3〜100重量部がよく、好ましくはバインダ樹脂100重
量部に対し、ＣＴＭを50〜150重量部、ビフェニル化合
物0.5〜75重量部である。

【００５２】また、ＣＴＬの厚さは５〜40μm、好まし
くは10〜35μmとするのがよい。

【００５３】次に本発明において用いられるＣＧＭとし
ては、高速複写に対応し、高感度で帯電性，光減衰性
等、また露光光の波長等勘案し選定される。好ましいＣ
ＧＭとしては下記のものが挙げられる。

【００５４】即ち、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリ
スアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、ペリ
レン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チオイ
ンジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピレン
キノン、アンスアンスロン、フラバンスロンなどの多環
キノン類、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾー
ル系色素、インダスロン系色素、スクエアリリウム系色
素、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどの
フタロシアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリ
ウム塩色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体
など、公知の各種のキャリア発生物質を適当なバインダ
樹脂と共に溶剤中に溶解或いは分解し、塗布することに
より形成することができる。このうち好ましいのは、ポ
リビニルブチラールなどの高分子量物質よりなるバイン
ダ中にフタロシアニン系、ビスアゾ系あるいはキノン系
のキャリア発生物質を分散させて得られるものである。

【００５５】前記ポリビニルブチラール樹脂は下記一般
式〔Ｖ〕で表される繰返し単位を有している。

【００５６】

【化１８】

【００５７】式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基
を表す。又、ａ，ｂ，ｓ及びｈは重合度を表す。

【００５８】また、ポリビニルブチラールに限らず、例
えば、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、
ポリビニルアセテート、スチレン共重合体（例えば、ス
チレン-ブタジエン共重合体、スチレン-メタクリル酸メ
チル共重合体等）、アクリロニトリル系共重合体（例え
ば塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体等）、塩
化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル
-マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン-ア
ルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えば、フェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、クレゾール-ホルムアルデヒド樹
脂等）、スチレン-アルキッド樹脂、ポリ-N-ビニルカル
バゾール、ポリビニルホルマール、ポリヒドロキシスチ
レン等を使用することができる。これらのバインダ樹脂
は、単独で或いは２種以上の混合物で適用することがで
きる。

【００５９】これらのＣＧＭとバインダ樹脂とを、溶媒
に溶解又は分散媒中で、ボールミル、サンドミル等によ
り分散して、ＣＧＬ塗布液が得られる。

【００６０】本発明に用いられる有機系顔料の分散媒と
しては、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素類、メチレンクロライド、メチレンブロ
マイド、1,2-ジクロルエタン、syn-テトラクロルエタ
ン、cis-1,2-ジクロルエチレン、1,1,2-トリクロルエタ
ン、1,1,1-トリクロルエタン、1,2-ジクロルプロパン、
クロロホルム、ブロモホルム、クロルベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエステル類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、シクロヘキサノール、ヘプタノール、
エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、酢酸セロソルブ等のアルコール及びこの誘導体、
テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、フラン、フルフ
ラール等のエーテル、アセタール類、ピリジンやブチル
アミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロ
パノールアミン等のアミン類、N,N-ジメチルホルムアミ
ド等のアミド類等の窒素化合物他に脂肪酸及びフェノー
ル類、二硫化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物
等が挙げられる。

【００６１】ＣＧＬを構成するＣＧＭとバインダ樹脂の
組成比はＣＧＭ100重量部に対し、バインダ樹脂０〜500
重量部がよく、好ましくは、１〜100重量部、更に好ま
しく５〜50重量部がよい。

【００６２】このようにして形成されるＣＧＬの厚さ
は、0.01〜５μmであることが好ましく、更に好ましく
は0.05〜３μmである。

【００６３】また、下引き層は、アクリル系、メタクリ
ル系、ナイロン系、ポリビニルアルコール系、塩化ビニ
ル系、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フ
ェノール系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカー
ボネート系、有機金属系、シリコン系、メラミン系、塩
化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル
-無水マレイン酸共重合体等の各種樹脂類で形成するこ
とができる。下引き層は膜厚0.01〜10μm、好ましくは
0.05〜３μmの範囲が好適である。

【００６４】本発明の感光体の感光層構成は積層構成を
採るが、ＣＴＬ，ＣＧＬ或はＵＣＬのいずれか、もしく
はそれらの複数層に感度の向上、残留電位ないし反復使
用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子
受容性物質を含有せしめることができる。

【００６５】又更に表面改質剤としてシリコーンオイル
を存在させてよい。又耐久性向上剤としてアンモニウム
化合物が含有されていてもよい。

【００６６】更に紫外線吸収剤、酸化防止剤等を用いて
もよい。

【００６７】好ましい紫外線吸収剤としては、安息香
酸、スチルベン化合物等及びその誘導体、トリアゾール
化合物、イミダゾール化合物、トリアジン化合物、クマ
リン化合物、オキサジアゾール化合物、チアゾール化合
物及びその誘導体等の含窒素化合物類が用いられる。

【００６８】又酸化防止剤としては、ヒンダードフェノ
ール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、ア
リールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、ス
ピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、
有機燐化合物等が挙げられる。

【００６９】本発明の電子写真感光体の構成に用いられ
る導電性支持体としては、主として下記のものが用いら
れるが、これらにより限定されるものではない。

【００７０】１) アルミニウム板、ステンレス板などの金属板２) 紙或はプラスチックフィルムなどの支持体上に、ア
ルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミネー
トもしくは蒸着によって設けたもの３) 紙或はプラスチックフィルムなどの支持体上に、導
電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導電性化
合物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの。

【００７１】本発明の感光体は、導電性支持体上にＵＣ
Ｌを形成し、ＣＧＭを主成分とするＣＧＬとジスチリル
型トリフェニルアミン系ＣＴＭと、前記ビフェニル化合
物と、ポリカーボネート樹脂により構成されたＣＴＬと
の積層体より成る感光層を設け、耐クラック性と感度を
向上させたすぐれた電子写真特性を有する電子写真感光
体が得られる。

【００７２】また、このようにして得られた電子写真感
光体を高速複写機に用い、特に像露光から現像までの時
間が0.1秒以下を要求される複写機でも、安定した画像
を得ることができる。

【００７３】

【実施例】以下本発明の実施例を具体的に説明するが、
これにより本発明の実施態様が限定されるものではな
い。

【００７４】実施例１ φ108mmのＡl基体上にポリアミド樹脂（ダイセルヒュル
ス社製ダイアミドX-1874M）から成る0.2μm厚の中間層
を形成した。次いで下記「化19」に示す構造のアゾ系Ｃ
ＧＭ，Ｇ−１；60ｇと、ポリビニルブチラール樹脂（積
水化学工業社製エスレックBX-1）24ｇを3-メチル-2-ブ
タノン3000ml中に混合し、サンドミルで10時間撹拌下に
分散してＣＧＬ塗布液を作成し、これを前記中間層上に
塗布，乾燥して0.3μm厚のＣＧＬを形成した。

【００７５】次いでバインダ樹脂としてユーピロンZ-30
0（例示単位Ｂ₁-７重合体）「三菱ガス化学製」500ｇ
と、ＣＴＭとして例示Ｔ-７；450ｇとを順次1,2-ジクロ
ルエタン3000mlに溶解し、これに可塑剤として例示Ｐ-
１；90ｇを混合溶解し、ＣＴＬ塗布液を作成し、これを
前記ＣＧＬ上に塗布，乾燥して25μm厚のＣＴＬを形成
し、実施例１の感光体を得た。

【００７６】次に表１に示すように、バインダ樹脂とし
て例示単位Ｂ₁-７重合体の外に例示単位Ｂ₁-２重合体、
例示単位Ｂ₁-１と例示単位Ｂ₂-１の共重合体、ポリスチ
ロール（ＰＳ）（ダイヤレックハイフローＨＦ77「三菱
化成ポリテックス社製」）、ポリメタクリル酸メチル
（ＰＭＭＡ）、ＣＴＭとして例示Ｔ-７の外にＴ-11及び
下記「化19」に構造を示す比較用のＣＴＭ-(１)を用
い、可塑剤として例示Ｐ-１の外にＰ-２を用いた組合せ
で実施例２〜５及び比較例（１）〜（５）の感光体を実
施例１と同様にして作成した。

【００７７】

【化１９】

【００７８】以上のようにして得られた感光体について
下記の性能試験を行い、結果を表１に併記した。

【００７９】（１）実写テストコニカ社製Ｕ-BIX 5070複写機（負帯電プロセスに改造
及び露光量増加）に前記10種類の感光体ドラムを順次装
着した改造機を用い、20℃，ＲＨ60％の雰囲気下でそれ
ぞれ５万回づつ実写テストを行い、初期と５万回目のコ
ピーのクラックによる黒すじ，かぶり，膜剥がれの有無
を目視判定し、その結果を表１に示した。

【００８０】（２）感度Ｅ(600/100)の測定前記10種類の感光体ドラムを順次装着した改造機を用
い、原稿に濃度差0.2刻みの光楔（濃度域０〜2.0）を用
い、現像器をはずして、その位置に電位計プローブを配
置して感光体ドラム別の帯電，露光時の電位勾配、即ち
光減衰曲線を求め、該曲線から感度Ｅ(600/100)（−600
Ｖ〜−100Ｖに減衰させるための必要露光量）を求め、
それらの値を表１に示した。

【００８１】（３）ＭＩＴテスト 100μm厚で10×10cm角のＰＥＴフィルム10枚を用意し、
該ＰＥＴフィルム上に前記実写用感光体と同様にして10
種類のＭＩＴテスト用感光板を得た。

【００８２】ＭＩＴテストは東洋精機製作所製ＭＩＴ耐
揉疲労試験機を用い、20℃，ＲＨ60％の雰囲気下で荷重
１kg、屈曲角度90°の条件下で感光板の折り曲げテスト
を行い、感光膜にクラックが発生するまでの折り曲げ回
数を測定し、その回数を表１に示した。

【００８３】

【表１】

【００８４】表１より実施例の感光体はいずれも高感度
でＭＩＴテスト及び実写テストの結果が良好であるが、
比較例は前記感度，ＭＩＴテスト，実写テストのいずれ
かが不良であり、実用性に乏しいことがわかる。

【００８５】また実施例１使用ＣＴＬと比較例（１）使
用ＣＴＬのドリフト移動度を、Timeof Flight法で測定
したところそれぞれ3.0×10^-4cm²/V・sec及び1.9×10^-4c
m²/V・secであり（Ｔ＝25℃、Ｅ＝2.5×10⁵V/cm）、移動
度が約1.5倍のスピードになっていることが確認され
た。

【００８６】

【発明の効果】本発明によって物性特に耐クラック性の
高いしかも高感度で耐久性ある感光体が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者三宅完東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に電荷発生層及び電荷輸
送層をこの順に積層した電子写真感光体において、前記
電荷輸送層が電荷輸送物質として下記一般式（Ｉ）の化
合物を含有し、バインダ樹脂としてポリカーボネート樹
脂を含有し、かつ下記一般式（II）のビフェニル誘導体
を含有することを特徴とする電子写真感光体。【化１】〔式中、Ａr₂〜Ａr₃は、水素原子、−[(C₆H_5-k)(R₃)_k]
（ｋ;０〜５の整数）、置換もしくは無置換の縮合多環
系炭化水素基、複素環基又は縮合多環系複素環基を表
し、Ａr₂、Ａr₃が同時に水素原子ではない。又Ａr₂とＡ
r₃とは互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ₁〜Ｒ₃は
水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、フェニル
基、アルコキシ基、フェノキシ基或いはシアノ基、ハロ
ゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル
基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、アラルキルアミノ基、環状炭化水素基、縮合
多環系炭化水素基、複素環基を表す。Ｒ₂はベンゼン環
と共に縮合多環系芳香族炭素環を形成しても良い。〕【化２】〔式中Ｒ₄及びＲ₅は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基又はフェニル基であり、ｎ及びｍは０〜５の整数を
表す。〕
【請求項２】前記ビフェニル誘導体が下記一般式（II
I）で表される請求項１記載の電子写真感光体。【化３】〔式中Ｘはハロゲン原子を表し、ｐは０〜５の整数を表
す。〕
【請求項３】請求項１記載の電子写真感光体を用いた電
子写真法。