JPH06329627A - グアニジニル−またはアミジニル−置換ヘテロ環トロンビンインヒビター - Google Patents

グアニジニル−またはアミジニル−置換ヘテロ環トロンビンインヒビター

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JPH06329627A
JPH06329627A JP6091377A JP9137794A JPH06329627A JP H06329627 A JPH06329627 A JP H06329627A JP 6091377 A JP6091377 A JP 6091377A JP 9137794 A JP9137794 A JP 9137794A JP H06329627 A JPH06329627 A JP H06329627A
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スペンサー・ディ・キムボール
Steven E Hall
スティーブン・イー・ホール
Wan Fang Lau
ワン・ファン・ラウ
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Bristol Myers Squibb Co
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 新規グアニジニル−またはアミジニル−置換
ヘテロ環トロンビンインヒビターを提供する。 【構成】 式(I)で示される構造を有する化合物およ
び当該化合物を含む凝血塊の形成阻害剤。 〔式中、nは0,1,2;xはS,SO,SOまたは
O;Rは基−A−R、基−(CH−A′−R
2′または基−(CH−A″−R2″;R,R
は水素、低級アルキル、シクロアルキル、アリール、
アルコキシ等;Rは水素、ヒドロキシアルキル、アミ
ノアルキル等;Rは基−COR、基−SO
たは基−CO;AはC〜Cアルキル鎖等;
A′はピロリジニル、ピペリジニル等;A″はアリール
またはシクロアルキル;Rはグアニジン、アミジンま
たはアミノ;R2″はグアニジン、アミジンまたはメチ
ルアミノ;Rは低級アルキル、アリール等;を示す〕 【効果】 式(I)の化合物はトロンビンインビターで
あり、それゆえ血栓形成の阻止に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、グアニジニル−または
アミジニル−置換ヘテロ環化合物に関し、該化合物はト
ロンビンインヒビターであって、それゆえ血栓の形成を
阻害するのに有用である。
【0002】
【発明の概要】本発明のグアニジニル−またはアミジニ
ル−置換ヘテロ環トロンビンインヒビターは、式
(I):
【化7】 (すべての立体異性体を含む)(式中、nは0、1また
は2;XはS、SO、SO2またはO;R1は−A−R2
(式中、Aは炭素数2〜6のアルキル、アルケニルまた
はアルキニル鎖、R2はグアニジン、アミジンまたはア
ミノ);またはR1は−(CH2)p−A'−R2'(式
中、R2'はアミジン、A'は式:
【化8】 (式中、mは0、1、2、3または4;Y1、Y2は独立
にH、アルキル、ハロまたはケト(オキソ))で示され
アルキル、COもしくはハロで任意に置換された炭素数
4〜8のアザシクロアルキル環(NおよびXは少なくと
も2つの炭素原子で隔てられている)、pは0、1また
は2);またはR1は−(CH2)p−A"−R2"(式
中、R2"はグアニジン、アミジンまたはアミノメチル、
A"はアリールまたはシクロアルキル);R3およびR4
は独立に水素、低級アルキル、シクロアルキル、アリー
ル、ヒドロキシ、アルコキシ、ケト(オキソ)、チオケ
タール、チオアルキル、チオアリール、アミノまたはア
ルキルアミノ、またはR3とR4とはそれらが結合してい
る炭素原子と一緒になってシクロアルキル、アリールま
たはヘテロアリール環を形成する;R5は水素、ヒドロ
キシアルキル、アミノアルキル、アミドアルキル、アル
キル、シクロアルキル、アリール、アリールアルキル、
アルケニル、アルキニル、アリールアルコキシアルキル
またはアミノ酸側鎖(保護されたまたは保護されていな
い);R6は水素、−COR7、−SO27または−CO
27(式中、R7は低級アルキル、アリール、シクロヘ
テロアルキルまたはヘテロアリール))(薬理学的に許
容し得るその塩を含む)で示される構造を有する。
【0003】好ましいのは、式(I)においてXがSま
たはSO2、nが0、R1が−CH2(CH2)q−R
2(式中、qは1、2、3または4)である化合物であ
り、さらに好ましいのは、式(I)においてR1が式:
【化9】 (式中、qは2または3)で示される基、R3およびR4
がそれぞれH、R5がHまたは−CH2OH、およびR6
が式:
【化10】 である化合物である。
【0004】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「低級アルキル」または「アルキル」
なる語には、18炭素原子まで、好ましくは1〜8炭素
原子の直鎖および分枝鎖の両ラジカルが含まれ、たとえ
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イ
ソヘキシル、ヘプチル、4,4−ジメチルペンチル、オ
クチル、2,2,4−トリメチルペンチル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、それらの種々の分枝鎖異性
体など、並びに1、2または3のハロ置換基、1つのア
リール置換基、1つのアルキルアリール置換基、1つの
ハロアリール置換基、1つのシクロアルキル置換基、1
つのアルキルシクロアルキル置換基、1つのアルケニル
置換基、1つのアルキニル置換基、ヒドロキシもしくは
1つのカルボキシ置換基を有する上記基が挙げられる。
【0005】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「シクロアルキル」なる語には、3〜
12の炭素原子、好ましくは3〜8の炭素原子を有する
飽和環状炭化水素が含まれ、たとえば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシルおよび
シクロドデシルなどが挙げられ、これら基のいずれもハ
ロゲン、低級アルキル、アルコキシおよび/またはヒド
ロキシ基などの置換基で置換されていてよい。
【0006】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「アリール」または「Ar」なる語
は、フェニルやナフチルなどのような、環部分に6〜1
0の炭素原子を有する単環または2環芳香族基をいう。
アリール(またはAr)、フェニルまたはナフチルに
は、置換アリール、置換フェニルまたは置換ナフチルが
含まれ、これら置換体はAr、フェニルまたはナフチル
上に、低級アルキル、シアノ、アミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、カルボキシ、カルボキ
シアルコキシ、トリフルオロメチル、ハロゲン(Cl、
Br、IまたはF)、低級アルコキシ、アリールアルコ
キシ、ヒドロキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニ
ル、アルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスル
フィニルおよび/またはアリールスルホニルなどの1ま
たは2の置換基を有していてよい。
【0007】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「アラルキル」、「アリール−アルキ
ル」または「アリール−低級アルキル」なる語は、ベン
ジルなどのような、アリール置換基を有する上記低級ア
ルキル基をいう。「低級アルコキシ」、「アルコキシ」
または「アラルコキシ」なる語は、酸素原子に結合した
上記低級アルキル、アルキルまたはアラルキル基をい
う。本明細書においてそれ自体または他の基の一部とし
て用いる「ハロゲン」または「ハロ」なる語は、塩素、
臭素、フッ素またはヨウ素をいい、塩素が好ましい。
【0008】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「低級アルケニル」または「アルケニ
ル」なる語は、−(CH2)q−(式中、qは1〜1
4)などの少なくとも1の飽和炭素残基によって「N」
または「X」から隔てられた二重結合を1つ含有する、
16まで、好ましくは3〜10の炭素原子の炭素鎖をい
い、2−プロペニル、2−ブテニル、3−ブテニル、2
−ペンテニル、4−ペンテニルなどが挙げられ、I、C
l、またはFなどのハロゲン置換基を有していてもよ
い。
【0009】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「低級アルキニル」または「アルキニ
ル」なる語は、−(CH2)q'−(式中、q'は1〜1
4)などの少なくとも1の飽和炭素残基によって「N」
または「X」から隔てられた三重結合を1つ含有する、
16まで、好ましくは3〜10の炭素原子の炭素鎖をい
い、2−プロピニル、2−ブチニル、3−ブチニルなど
が挙げられる。
【0010】本明細書においてそれ自体または他の基の
一部として用いる「ヘテロアリール」または「ヘテロ芳
香族」なる語は、窒素、酸素または硫黄などの1または
2のヘテロ原子を含有する5員または6員芳香環をい
い、
【化11】 などが挙げられる。これらヘテロアリール環は、上記ア
リール環と任意に縮合していてよい。ヘテロアリール環
は、ハロゲン(Cl、Br、FまたはCF3)、低級ア
ルキル、低級アルコキシ、カルボキシ、アミノ、低級ア
ルキルアミノおよび/またはジ低級アルキルアミノなど
の1または2の置換基を任意に含有していてよい。
【0011】本明細書において用いる「シクロヘテロア
ルキル」なる語は、窒素、酸素および/または硫黄など
の1または2のヘテロ原子を含有する5員、6員または
7員飽和環をいい、
【化12】 などが挙げられる。
【0012】「アミノ酸側鎖」なる語は、アルギニン、
ヒスチジン、アラニン、グリシン、リシン、グルタミ
ン、ロイシン、バリン、セリン、ホモセリン、アロスレ
オニン、ナフチルアラニン、イソロイシン、フェニルア
ラニンなどの公知のアルファ−アミノ酸のいずれをも意
味する。式(I)においてXがS、SO、SO2または
Oである本発明の化合物は、下記反応工程に従って調製
することができる。
【0013】
【化13】
【0014】
【化14】
【0015】
【化15】
【0016】
【化16】
【0017】
【化17】
【0018】
【化18】
【0019】
【化19】
【0020】
【化20】
【0021】
【化21】
【0022】
【化22】
【0023】
【化23】
【0024】
【化24】
【0025】
【化25】
【0026】
【化26】
【0027】
【化27】
【0028】
【化28】
【0029】
【化29】
【0030】反応工程Iにおいて、式(I)においてX
がS、R1が−A−R2、R2がアミノである化合物は、
トシレート(II)(J.Med.Chem.35、2615
(1992)の記載に従って調製)(式(II)におい
て、PGは
【化30】 (フルオレニルメトキシカルボニル、FMOC)などの
保護基であり、BOCが好ましい)を出発物質として用
いて調製することができ、該トシレート(II)を置換
反応に供し、その際、該トシレート(II)をアセト
ン、ジメチルホルムアミド(DMF)またはテトラヒド
ロフラン(THF)などの不活性有機溶媒の存在下、ア
ルゴンなどの不活性雰囲気下で約0℃から約100℃の
範囲の温度にてチオ酢酸カリウム(KSAc)で処理し
てチオアセテート(III)を生成する。ついで、チオ
アセテート(III)をTHF、DMFまたはジエチル
エーテルなどの不活性有機溶媒中、メタノールまたはエ
タノールなどのアルコール溶媒の存在下、アルゴンなど
の不活性雰囲気下、約−30℃から約50℃の範囲の温
度にてナトリウムメトキサイドまたはカリウムt−ブト
キサイドなどのアルカリ金属アルコキサイドと反応させ
ることによってアルキル化する。得られた溶液にN−ブ
ロモアルキル−フタールイミド(A)を加えてチオフタ
ールイミド(IV)を生成させる。チオフタールイミド
(IV)をジクロロメタン、クロロホルムまたはTHF
などの乾燥不活性有機溶媒の存在下または不在下、PG
がBOCの場合はトリフルオロ酢酸またはPGがCBZ
の場合はHBr/酢酸などの脱保護剤で処理して脱保護
して粗製のアミン塩(IVA)を生成する。
【化31】
【0031】得られた塩(IVA)を1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール一水和物(HOBT)、エチル−3−
(3−ジメチルアミノ)プロピルカルボジイミド(WS
C)またはジシクロヘキシルカルボジイミド(DC
C)、およびN−メチルモルホリン(NMM)の存在
下、ジメチルホルムアミド(DMF)、THFまたはN
−メチルピロリドンなどの不活性有機溶媒の存在下、保
護したアミノ酸(B):
【化32】 (式中、PG'は保護基であり、PG保護基のいずれで
あってもよい)とカルボジイミドカップリング反応させ
てカルバメート(V)を生成させる。
【0032】カルバメート(V)をジクロロメタン、ク
ロロホルムまたはTHFなどの乾燥不活性有機溶媒の存
在下または不在下、トリフルオロ酢酸(TFA)、また
はHBr/HOAcなどの他の脱保護剤(PG'に依存
する)で処理して脱保護し、粗製のトリフルオロ酢酸ア
ミン塩(VI)(脱保護剤がTFAの場合)を得る。つ
いで、得られた粗製のアミン塩(VI)をカップリング
反応に供し、(a)WSCまたはDCC、HOBTおよ
びNMMの存在下でR7COOHと反応させるか、
(b)トリエチルアミンの存在下でR7SO2Clと反応
させるか、または(c)トリエチルアミンの存在下でR
7OCOClと反応させて化合物(VII)を生成させ
る。ついで、化合物(VII)をジクロロメタン、クロ
ロホルムまたはTHFなどの乾燥溶媒、およびメタノー
ルやエタノールなどのアルコール溶媒の存在下で無水ヒ
ドラジンと反応させて本発明のチオアルキルアミン化合
物(IA)を生成させる。
【0033】式(I)においてR6がH、XがS、およ
びR1が−A−R2でR2がNH2である本発明の化合物
は、反応工程IBに示すようにして調製することがで
き、アミン(VI)を無水ヒドラジン(化合物(VI
I)の反応において記載)と反応させて化合物(I
A')を生成させる。式(I)においてXがS、R1が−
A−グアニジニルでR6がHでない本発明の化合物は反
応工程IIAに示すようにして調製することができ、化
合物(IA)をトリエチルアミン、ピリジンまたはN−
メチルモルホリン(NMM)などの弱有機塩基およびエ
タノールやメタノールなどのアルコール溶媒の存在下、
アミジンスルホン酸、または1H−ピラゾール−1−カ
ルボキサミジンなどの他のグアニル化剤と反応させるこ
とによりグアニル化して化合物(IB)を生成させる。
【0034】式(I)においてXがS、R1が−A−グ
アニジニルでR6がHである本発明の化合物は反応工程
IIBに示すようにして調製することができ、化合物
(V)をヒドラジン(化合物(VI)の反応において上
記反応工程IAに記載)で処理してアミン(VA)を生
成させ、これをグアニル化反応(上記反応工程IIAに
記載)に供して保護したグアニジン(VB)を生成さ
せ、これをPG'がBOCの場合はTFAによりまたは
上記脱保護剤を用いて脱保護して本発明の化合物(I
B')を生成させる。
【0035】反応工程IIIAを参照すると、式(I)
においてXがS、R1が−A−アミジニルでR6=Hであ
る本発明の化合物は、化合物(III)をメタノールま
たはジメチルホルムアミドの存在下、約−60℃から約
75℃の範囲の温度にてアルカリ金属アルコキサイドお
よびニトリル(C)で処理することによりアルキル化し
てニトリル(VIII)を生成させ、これをメタノール
またはエタノールなどのアルコールの存在下、塩酸で処
理し、ついでアンモニアで処理することによってアミジ
ン形成反応に供してアミジン化合物(IX)を生成させ
る。ついで、化合物(IX)をWSCおよびHOBT
(反応工程Iにおいて化合物(V)を生成させる化合物
(IV)の反応において記載)の存在下、化合物(B)
で処理することによりカルボジイミドカップリング反応
に供して化合物(X)を生成させ、これを上記と同様に
して脱保護して化合物(IC')を生成させる。
【0036】式(I)においてXがS、R1が−A−ア
ミジニルでR6がHでない本発明の化合物は反応工程I
IIBに示すようにして調製することができ、化合物
(IC')をカップリング剤のR7COOH、R7OCO
ClまたはR7SO2Cl(反応工程IAにおいて化合物
(VII)を生成させる化合物(VI)の反応において
記載)で処理して化合物(IC)を生成させる。
【0037】反応工程IVを参照すると、式(I)にお
いてXがSO、R1が−A−R2でR2がNH2である本発
明の化合物を調製するには、アミド(VI)またはアミ
ド(VII)をジクロロメタン、クロロホルムまたはア
セトニトリルなどの不活性有機溶媒の存在下、アミド
(VI)または(VII)1モルに対して約0.9〜約
1.5モルの酸化剤を用い、m−クロロ過安息香酸(M
CPBA)、オキソンまたは過ヨウ素酸ナトリウムなど
の酸化剤で処理することにより酸化して対応スルホキシ
ド(XがSO)を生成させる。対応スルホン(XがSO
2)は、化合物(VI)または(VII)1モル当たり
約2〜約3モルの酸化剤を用いることにより生成され
る。ついで、かくして生成したスルホキシドまたはスル
ホンをヒドラジン(化合物(VI)の反応において反応
工程IAで記載)を用いて脱保護して本発明の対応アミ
ン(ID)を生成させる。
【0038】反応工程IVB1(R6がHでなくR2はグ
アニジンである)からわかるように、得られたアミン
(ID)をアミジンスルホン酸(式(I)においてXが
Sである化合物を生成させる際に記載)と反応させるこ
とによりグアニル化して、式(I)においてXがSOま
たはSO2である化合物(すなわち、IE)を生成させ
る。R6がHでR1が−A−グアニジニルである場合(反
応工程IVB2)、式(I)においてXがSOまたはS
2である本発明の化合物は以下のようにして生成され
る:化合物(V)を上記化合物(VI)または(VI
I)について記載したのと同様にして酸化して化合物
(XII)を生成させ、ついで化合物(XII)をヒド
ラジンと反応させて化合物(XIII)を生成させ、こ
れを上記と同様にしてグアニル化、ついで脱保護して本
発明の化合物(IE')を生成させる。式(I)におい
てR1が−A−アミジニルである本発明の化合物のスル
ホキシドまたはスルホンは、上記手順を用いて化合物
(IC)または(IC')を酸化することにより本発明
の化合物(IF)を生成させることによって調製され
る。
【0039】反応工程Vを参照すると、式(I)におい
てXがS、R1が−A'R2'でR2'がアミジニルである化
合物は、トシレート(II)を出発物質として用いて調
製することができる。すなわち、トシレート(II)を
置換反応に供し、ナトリウムメトキサイド、トリエチル
アミンまたはピリジンなどの塩基の存在下、ニトリル
(D): HS−A'−CNで処理してニトリル(XV)を生成さ
せる。ニトリル(XV)を塩酸などの強酸およびメタノ
ールやエタノールなどのアルコール溶媒と混合し、アン
モニアで処理することによってアミジン形成反応に供し
て対応アミジン(XVI)を生成させる。ついで、得ら
れたアミジン化合物(XVI)を反応工程Iに記載した
ようにWSCまたはDCC、およびHOBTおよびNM
Mの存在下、保護したアミノ酸(B)を用いてカルボジ
イミドカップリング反応に供してアミド(XVII)を
生成させる。アミド(XVII)を反応工程Iに記載し
たようにしてトリフルオロ酢酸または他の脱保護剤を用
いて処理することにより脱保護して本発明の化合物(I
G)を生成させる。化合物(IG)は、反応工程Iに記
載したように、R7COOH、R7SO2ClまたはR7
COClと反応させるカップリング反応に供することに
より、XがS、R1が−A'R2'でR2'がアミジニルであ
る化合物(IH)を生成させることができる。
【0040】反応工程VIを参照すると、式(I)にお
いてXがS、R1が−A'−R2'でR2'がアミノメチルで
ある本発明の化合物を調製するには、まず、化合物(X
V)をたとえば水素化リチウムアルミニウム、トリエチ
ルボロハイドライドまたはジボランなどの還元剤を用い
て還元することによりアミン(XVIII)を生成さ
せ、これをCBZ−Clなどの保護剤(E)で処理して
化合物(XIX)を生成させる。ついで、保護したアミ
ン(XIX)をメタノールやジオキサンなどのアルコー
ルの存在下でHClで処理し、反応工程Iに記載したよ
うにしてカップリング剤(B)で処理して化合物(X
X)を生成させる。化合物(XX)は、たとえばHBr
/HOAcで完全に脱保護してアミン(IJ)とするこ
とができる。または、化合物(XX)をたとえばTFA
(PG'=BOCの場合)で選択的に脱保護し、ついで
カップリング剤R7COOH、R7OCOClまたはR7
SO2Clで処理することによりカップリング反応に供
し、ついでHBr/HOAcでPG2を除去して本発明
のアミン(IK)を生成させることができる。
【0041】反応工程VIIを参照すると、式(I)に
おいてXがS、R1が−A'−R2'でR2'がグアニジニル
である化合物を調製するには、まず、アミン(XXI)
をグアニル化してグアニジン(XXII)を生成させ、
これを化合物(II)と反応させてグアニジン(XXI
II)を生成させる。グアニジン(XXIII)を脱保
護し、ついで反応工程Iに記載したようにして化合物
(B)とのカップリング反応に供して化合物(XXI
V)を生成させ、これを脱保護して本発明のグアニジン
(IL)を生成させる。ついで、グアニジン(IL)を
反応工程Iに記載したようにしてカップリング剤R7
OOH、R7OCOClまたはR7SO2Clと反応させ
て本発明のグアニジン(IM)を生成させることができ
る。
【0042】反応工程VIIIを参照すると、式(I)
においてR1が−A'−R2'でXがSOである本発明の化
合物は、化合物(IG)、(IH)、(IJ)、(I
K)、(IL)または(IM)をジクロロメタンなどの
不活性有機溶媒の存在下、アミド1モル当たり約0.9
〜約1.5モルの酸化剤を用い、m−クロロ過安息香酸
(MCPBA)、オキソンまたは過ヨウ素酸ナトリウム
などの酸化剤で処理することにより酸化して対応スルホ
キシドを生成させることによって調製することができ
る。対応スルホンは、アミド1モル当たり約2〜約3モ
ルの酸化剤を用いることにより生成させることができ
る。ついで、かくして生成したスルホキシドまたはスル
ホンをヒドラジンで脱保護し、得られたアミンをアミジ
ンスルホン酸(式(I)においてXがSである化合物の
生成において記載)と反応させることによってグアニル
化して、式(I)においてXがSOまたはSO2の化合
物を生成させる。
【0043】反応工程IXからわかるように、式(I
Q)および(IR)の化合物を調製するには、まず、チ
オアセテート(III)をナトリウムメトキサイドで処
理し、ついで式(XXV)のアルキル化剤で処理して式
(XXVI)の化合物を生成させる。化合物(XXV
I)を脱保護し(PGがBOCの場合にはTFAによ
り)、上記のようにカルボジイミドカップリングを行っ
て化合物(XXVII)を得る。保護基PG1を除去し
(PG1がCBZの場合はHBr/HOAcにより)、
ついで1H−ピラゾール−1−カルボキサミジン(JO
C 1992、57、2497〜2502)を用いてグ
アニル化して式(IQ)の化合物(R6はHでない)を
得る。化合物(IQ)をピペリジンにより(R6がフル
オレニルメチルオキシカルボニル(FMOC)の場合)
脱保護して式(IR)の化合物(R6はH)を得る。
【0044】Xが酸素である化合物の調製のための基本
工程を反応工程Xに示す。保護したアルコール(XXV
III)をキシレン中でKOHおよび式(XXIX)の
メシレート(Ms)で処理すると(J.Med.Chem.19
86、29、2335〜2347参照)一連の化合物
(XXX)が得られるであろう。式(I)においてXが
酸素である化合物の調製のその後の工程は、上記反応工
程I、II、III、V、VI、VIIおよびIXと同
様にして行うことができる。
【0045】本発明の式(I)の化合物は、遊離の塩基
を塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、リン
酸、酢酸、クエン酸、マレイン酸、コハク酸、乳酸、酒
石酸、グルコン酸、安息香酸、メタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸などの酸と反応させることにより薬理学的に許容
し得る酸付加塩として得ることができる。
【0046】本発明の化合物はセリンプロテアーゼイン
ヒビターであり、とりわけトロンビン、第Xa因子およ
び/またはトリプシンを阻害する。本発明の化合物は、
トロンビンの産生および/または作用が関与する過程の
治療または予防に有用である。これには、血液凝固カス
ケードが活性化される多数の血栓症および前血栓症状態
が含まれ、深静脈血栓症(DVT)、散在性血管内凝固
障害(DIC)、カサバッハ−メリット症候群、肺塞栓
症、心筋梗塞、卒中、手術の血栓塞栓合併症(臀部置換
および動脈内膜切除など)および末梢動脈閉塞が挙げら
れるがこれらに限られるものではない。血液凝固過程に
対する作用に加えて、トロンビンは多数の細胞(好中
球、線維芽細胞、内皮細胞、平滑筋細胞など)を活性化
することが示されている。それゆえ、本発明の化合物は
また、成人呼吸障害症候群、敗血症ショック、敗血症、
炎症応答(浮腫、急性または慢性の動脈硬化症および再
潅流障害を含むがこれらに限られるものではない)の治
療または予防にも有用である。
【0047】本発明の化合物はまた、腫瘍形成/転移
(とりわけ、フィブリンを利用するもの)およびアルツ
ハイマー病やパーキンソン病などの神経変性疾患の治療
にも有用である。加えて、本発明の化合物は、内生性
(動脈硬化症斑の破裂)または外因性(侵入性心臓学的
処置)事象により誘発された動脈障害に続く再発狭窄症
を防ぐのに有用である。本発明の化合物はまた、透析お
よび手術(冠状動脈バイパス手術など)に必要となるよ
うな、体外血液循環における抗凝固剤として用いること
ができる。
【0048】本発明の化合物はまた、組織プラスミノー
ゲンアクティベーター(天然または組換えのもの)、ス
トレプトキナーゼ、ウロキナーゼ、プロウロキナーゼ、
アニソレーテッドストレプトキナーゼプラスミノーゲン
アクティベーター複合体(anisolated streptokinase p
lasminogen activator complex)(ASPAC)、動物
唾液腺プラスミノーゲンアクティベーターなどの血栓溶
解剤と組み合わせて用いることもできる。本発明の化合
物は相乗的に作用して、血栓溶解療法が成功した後の再
閉塞を防いだり、および/または再潅流の時間を短縮し
たりできる。本発明の化合物はまた、使用する血栓溶解
剤の投与量を減少させることができ、それゆえ、潜在的
な出血性副作用を最小にすることができる。
【0049】本発明の化合物はまた、トロンボキサンレ
セプターアンタゴニスト、プロスタサイクリン模擬物、
ホスホジエステラーゼインヒビター、フィブリノーゲン
アンタゴニストなどの他の抗血栓剤または抗凝固剤と併
用することもできる。トリプシンを阻害する本発明の化
合物はまた、膵臓炎の治療に有用である。本発明の化合
物は、そのような病気に罹ることが知られている種々の
哺乳動物種、たとえばヒト、ネコ、イヌなどに、1回ま
たは1日に2回または4回の反復投与の管理計画にて、
約0.1〜約100mg/kg、好ましくは約0.2〜約
50mg/kg、さらに好ましくは約0.5〜約25m
g/kg(または約1〜約2500mg、好ましくは約
5〜約2000mg)の投与量範囲の有効量にて経口ま
たは非経口で投与することができる。
【0050】活性物質は、式(I)の化合物またはその
混合物の単位投与量当たり約5〜約500mgを含有す
る錠剤、カプセル剤、液剤または懸濁剤などの組成物と
して利用することができる。本発明の化合物は、容認さ
れた製薬実務に応じて、生理学的に許容し得るビヒクル
または担体、賦形剤、結合剤、保存剤、安定化剤、香料
などとともに通常の仕方で調合することができる。
【0051】
【実施例】つぎに、本発明を実施例に基づいてさらに詳
しく説明するが、本発明はこれらに限られるものではな
い。とくに断らない限り、温度はすべて℃にて表す。実施例1 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[4−
[(アミノイミノメチル)アミノ]ブチル]チオ]メチ
ル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)
−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド
トリフルオロ酢酸(1:1)塩 A.(S)−2−[[[4−(1,3−ジヒドロ−1,3
−ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブチ
ル]チオ]メチル]−1−ピロリジンカルボン酸1,1
−ジメチルエチルエステル
【0052】アセトン(100mL)中の(S)−2−
[[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ]メ
チル]−1−ピロリジンカルボン酸1,1−ジメチルエ
チルエステル(Journal of Med.Chemistry、261
5頁、1992に報告)(10.0g、28.2ミリモ
ル)の撹拌溶液にアルゴン下、チオ酢酸カリウム(3.
91g、34.2ミリモル)を加えた。この反応溶液を
18時間還流し、この時点で他のバッチのチオ酢酸カリ
ウム(3.22g、28.2ミリモル)を加えた。この混
合物を24時間還流し、室温に冷却した。得られた沈殿
をセライトの2"パッドで濾去し、アセトンで濯いだ
(2×30mL)。得られた濾液を真空濃縮した。残渣
をエーテル(300mL)中に溶解し、水(2×50m
L)および食塩水(1×50mL)で洗浄した。有機層
を乾燥し(Na2SO4)、濾過し、真空濃縮して中間体
のチオアセテート(6.75g)を得た。このチオアセ
テート(3.27g、12.6ミリモル)のメタノール
(100mL)中の撹拌溶液に、アルゴン下、0℃にて
テトラヒドロフラン(THF)(12.6mL、12.6
ミリモル)中の1M t−C49OKの溶液を加えた。
ついで、この反応溶液にアルゴンを15分間通した。こ
の溶液にN−(4−ブロモブチル)フタールイミド
(3.56g、12.6ミリモル)を加えた。この反応溶
液を室温にて3時間撹拌し、飽和NH4Cl溶液(20
mL)を加えることにより0℃にて反応停止させた。こ
の混合物を真空濃縮した。得られた残渣をEtOAc
(600mL)で希釈し、飽和NaHCO3溶液(2×
200mL)および食塩水(1×200mL)で洗浄し
た。EtOAc層を乾燥し(MgSO4)、濾過し、真
空濃縮した。溶出液としてヘキサン中の29%エーテル
を用いたメルクシリカゲル60(180g)上のフラッ
シュクロマトグラフィーにより精製を行って標記チオエ
ーテル(3.16g、55%)を得た。
【0053】B.[S−(R*,R*)]−[2−[2
−[[[4−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−2−イル)ブチル]チオ]メチ
ル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)
−2−オキソエチル]−カルバミン酸1,1−ジメチル
エチルエステル
【0054】乾燥ジクロロメタン(10mL)中の工程
Aのチオエーテル(3.28g、7.85ミリモル)の撹
拌溶液にトリフルオロ酢酸(TFA)(10mL)を加
えた。この溶液を室温にて1.5時間撹拌し、エーテル
(100mL)で希釈した。この溶液を真空乾燥して粗
製のTFA・アミン塩を得た。ジメチルホルムアミド
(DMF)(40mL)中のこの塩、1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール一水和物(HOBT)(1.33g、
7.85ミリモル)およびN−Boc−L−セリン(1.
70g、7.85ミリモル)の撹拌溶液に、N−メチル
モルホリン(NMM)(2.58mL、23.5ミリモ
ル)およびエチル−3−(3−ジメチルアミノ)プロピ
ルカルボジイミド塩酸塩(1.50g、7.85ミリモ
ル)を順番に加えた。この反応溶液にアルゴンを10分
間通し、室温にて18時間撹拌した。この混合物を真空
ポンプ下で45℃にて濃縮した。得られた残渣をEtO
Ac(200mL)中に溶解し、1N HCl溶液(2
×80mL)、飽和NaHCO3溶液(1×80mL)
および食塩水(1×80mL)で洗浄した。EtOAc
層を乾燥し(MgSO4)、濾過し、真空濃縮して標記
カルバメート(3.65g、90%)を得た。
【0055】C.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[4−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ
−2H−イソインドール−2−イル)ブチル]チオ]メ
チル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
ミド
【0056】乾燥ジクロロメタン(15mL)中の工程
Bのカルバメート(3.65g、7.06ミリモル)の撹
拌溶液にTFA(15mL)を加えた。この溶液を室温
にて1.5時間撹拌し、エーテル(200mL)で希釈
した。この溶液を真空濃縮して粗製のTFA・アミン塩
を得た。乾燥ジクロロメタン(60mL)中のこの塩お
よびトリエチルアミン(2.95mL、21.2ミリモ
ル)の撹拌溶液に2−ナフタレンスルホニルクロライド
(1.76g、7.77ミリモル)を加えた。この反応溶
液を室温にて4.5時間撹拌し、ジクロロメタン(14
0mL)で希釈した。この溶液を1N HCl溶液(2
×60mL)、飽和NaHCO3溶液(2×60mL)
および食塩水(1×60mL)で洗浄した。有機層を乾
燥し(MgSO4)、濾過し、真空濃縮した。これを2
%CH3OH/CH2Cl2を溶出液として用いたメルク
シリカゲル60(120g)上のクロマトグラフィーに
かけて標記スルホンアミド(2.62g、61%)を得
た。
【0057】D.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[(4−アミノブチル)チオ]メチル]−1−
ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキ
ソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド
【0058】乾燥ジクロロメタン(20mL)中の工程
Cのスルホンアミド(0.77g、1.27ミリモル)の
撹拌溶液に、アルゴン下、無水ヒドラジン(0.24
g、7.61ミリモル)を加えた。この反応混合物を室
温にて2.5時間撹拌し、真空濃縮した。得られた残渣
をメタノール(30mL)およびトルエン(60mL)
と混合した。この混合物を真空濃縮した。このメタノー
ルおよびトルエンによる共蒸発を3回繰り返した。得ら
れた残渣をメタノール(880mL)中に溶解し、溶液
を17時間加熱還流した。ついで、この混合物を室温に
冷却し、エーテル中の1N HClを加えてpH1の酸
性にした。この混合物をアセトンドライアイス浴中で5
分間冷却し、得られた沈殿を濾去し、この固体をメタノ
ール(2×10mL)で濯ぎ、濾液を真空濃縮した。生
成物を分取HPLCにより精製し、凍結乾燥して標記ア
ミン・TFA(290mg、39%)を得た。
【0059】E.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[4−[(アミノイミノメチル)アミノ]ブ
チル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒ
ドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレ
ンスルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0060】無水EtOH(4mL)中の工程Dのアミ
ン・TFA(280mg、0.47ミリモル)およびE
3N(0.36mL、2.61ミリモル)の撹拌混合物
にアルゴン下、アミノイミノメタンスルホン酸(206
mg、1.66ミリモル)を加えた。この混合物を室温
にて3時間撹拌し、真空濃縮した。これを分取HPLC
により精製して標記化合物(180mg、57%)を得
た。 旋光度:[α]D=−54.7°(c=0.70、MeO
H) 元素分析値(0.33H2O+1.35TFAとして) 計算値(%):C46.24、H5.29、N10.4
9、S9.61、F11.53 実測値(%):C46.24、H5.22、N10.4
7、S9.92、F11.47
【0061】実施例2 [S−(R*,R*)]−N−[4−[[[1−(2−
アミノ−1−オキソ−3−フェニルプロピル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]チオ]ブチル]グアニジントリフ
ルオロ酢酸(2:5)塩 A.[S−(R*,S*)]−[2−[2−[[[4−
(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2H−イソイン
ドール−2−イル)ブチル]チオ]メチル]−1−ピロ
リジニル]−2−オキソ−1−(フェニルメチル)エチ
ル]カルバミン酸1,1−ジメチルエチルエステル
【0062】DMF(60mL)中のTFA・アミン
(実施例1工程Bで調製)(3.11g、7.20ミリモ
ル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物
(1.22g、7.20ミリモル)およびN−Boc−D
−フェニルアラニン(1.91g、7.20ミリモル)の
撹拌溶液に4−メチルモルホリン(3.16mL、28.
8ミリモル)およびエチル−3−(3−ジメチルアミ
ノ)プロピルカルボジイミド塩酸塩(1.38g、7.2
0ミリモル)を順番に加えた。この反応溶液にアルゴン
を20分間通し、室温にて18時間撹拌した。この混合
物を真空ポンプ下、45℃にて濃縮した。得られた残渣
をEtOAc(400mL)中に溶解し、1NHCl溶
液(2×100mL)、飽和NaHCO3溶液(2×1
00mL)および食塩水(1×100mL)で洗浄し
た。EtOAc層を乾燥し(MgSO4)、濾過し、真
空濃縮した。フラッシュクロマトグラフィーにより精製
を行って、標記カルバメート(2.74g、68%)を
得た。
【0063】B.[S−(R*,S*)]−[2−[2
−[[(4−アミノブチル)チオ]メチル]−1−ピロ
リジニル]−2−オキソ−1−(フェニルメチル)エチ
ル]カルバミン酸1,1−ジメチルエチルエステル
【0064】メタノール(25mL)中の工程Aのカル
バメート(1.01g、1.79ミリモル)の撹拌溶液
に、アルゴン下、無水ヒドラジン(1.00mL、31.
9ミリモル)を加えた。この反応溶液を50℃に3時間
加熱し、真空濃縮した。得られた残渣をメタノール(5
0mL)およびトルエン(20mL)と混合した。この
混合物を真空濃縮した。得られた残渣を1N NaOH
溶液(40mL)で希釈し、EtOAc(3×70m
L)で抽出した。コンバインした有機抽出物を乾燥し
(MgSO4)、濾過し、真空濃縮して標記アミン(7
00mg、89%)を得た。
【0065】C.[S−(R*,S*)]−[2−[2
−[[[4−[(アミノイミノメチル)アミノ]ブチ
ル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−2−オキソ
−1−(フェニルメチル)エチル]カルバミン酸1,1
−ジメチルエチルエステル 無水EtOH(7mL)中の工程Bのアミン(680m
g、1.56ミリモル)およびトリエチルアミン(Et3
N)(0.76mL、5.47ミリモル)の撹拌溶液に、
アルゴン下、アミノイミノメタンスルホン酸(485m
g、3.91ミリモル)を加えた。この混合物を室温に
て2時間撹拌し、真空濃縮し、分取HPLCにより精製
して標記BOC・アミン(780mg、92%)を得
た。 D.[S−(R*,R*)]−N−[4−[[[1−
(2−アミノ−1−オキソ−3−フェニルプロピル)−
2−ピロリジニル]メチル]チオ]ブチル]グアニジン
トリフルオロ酢酸(2:5)塩 工程CのBOC・アミン(410mg、0.69ミリモ
ル)に0℃にてTFA(4mL)を加えた。この反応溶
液を室温にて30分間撹拌し、メタノール(20mL)
で希釈した。この溶液を真空濃縮し、分取HPLCによ
り精製して標記アミノグアニジン(130mg、28
%)を得た。 旋光度:[α]D=−73.3°(c=0.54、MeO
H) 元素分析値(1.03H2O+2.30TFAとして) 計算値(%):C43.06、H5.41、N10.6
4、S4.87、F19.91 実測値(%):C43.06、H5.14、N10.4
0、S5.22、F20.00
【0066】実施例3 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[4−
[(アミノイミノメチル)アミノ]ブチル]スルホニ
ル]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシ
メチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホ
ンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩 A.[S−(R*,R*)]−N−[2−[2−
[[[4−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2H
−イソインドール−2−イル)ブチル]スルホニル]メ
チル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
ミド
【0067】ジクロロメタン(50mL)中の実施例1
工程Cで調製したチオエーテル(1.00g、1.65ミ
リモル)の撹拌溶液にm−クロロ過安息香酸(MCPB
A)(1.14g、3.29ミリモル)を加えた。この反
応溶液を室温にて10分間撹拌し、KI−デンプン紙試
験が陰性になるまで10%重亜硫酸ナトリウム溶液を加
えて反応を停止させた。この混合物をEtOAc(30
0mL)で希釈し、飽和NaHCO3溶液(2×150
mL)および食塩水(1×150mL)で洗浄した。有
機層を乾燥し(MgSO4)、濾過し、真空濃縮して標
記スルホン(1.20g、97%)を得た。
【0068】B.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[(4−アミノブチル)スルホニル]メチル]
−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)−2
−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド
【0069】メタノール(30mL)中の工程Aのスル
ホン(1.20g、1.96ミリモル)の撹拌溶液に、ア
ルゴン下、無水ヒドラジン(0.63g、19.6ミリモ
ル)を加えた。この反応溶液を2.5時間加熱還流し、
真空濃縮した。得られた残渣をメタノール(40mL)
およびトルエン(80mL)と混合した。この混合物を
真空濃縮し、得られた残渣を1N NaOH溶液(40
mL)で希釈し、EtOAc(2×80mL)およびジ
クロロメタン中の10%イソプロピルアルコール(IP
A)(3×80mL)で抽出した。コンバインした有機
抽出物を乾燥し(MgSO4)、濾過し、真空濃縮し、
分取HPLCにより精製して標記アミン・TFA(35
0mg、30%)を得た。
【0070】C.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[4−[(アミノイミノメチル)アミノ]ブ
チル]スルホニル]メチル]−1−ピロリジニル]−1
−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナ
フタレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0071】無水EtOH(6mL)中の工程Bのアミ
ン・TFA(340mg、0.57ミリモル)およびE
3N(0.32mL、2.29ミリモル)の撹拌混合物
に、アルゴン下、アミノイミノメタンスルホン酸(17
7mg、1.43ミリモル)を加えた。この混合物を室
温にて4時間撹拌し、真空濃縮し、分取HPLCにより
精製して標記化合物(370mg、92%)を得た。 旋光度:[α]D=−53.3°(c=0.95、MeO
H) 元素分析値(0.16H2O+1.40TFAとして) 計算値(%):C44.13、H4.98、N9.97、
S9.13、F11.36 実測値(%):C44.13、H4.87、N9.97、
S9.05、F11.48
【0072】実施例4 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[3−
[(アミノイミノメチル)アミノ]プロピル]チオ]メ
チル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
ミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩 A.(S)−2−[[[3−(1,3−ジヒドロ−1,3
−ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)プロピ
ル]チオ]メチル]−1−ピロリジンカルボン酸1,1
−ジメチルエチルエステル
【0073】実施例1工程Aで出発物質として用いたト
シレート(10.0g、28.2ミリモル)のアセトン
(120mL)中の撹拌溶液に、アルゴン下、チオ酢酸
カリウム(4.14g、36.2ミリモル)を加えた。こ
の反応溶液にアルゴンを10分間通した。この混合物を
4時間還流し、室温に冷却した。得られた沈殿をセライ
トの3”パッドで濾去し、アセトン(3×30mL)で
濯いだ。濾液を真空濃縮した。得られた残渣をエーテル
(400mL)中に溶解し、冷水(1×100mL)お
よび食塩水(1×100mL)で洗浄した。有機層を乾
燥し(Na2SO4)、濾過し、真空濃縮して中間体のチ
オアセテート(7.20g、99%)を得た。このチオ
アセテート(7.20g、27.8ミリモル)のメタノー
ル(250mL)中の撹拌溶液に、アルゴン下、0℃に
てTHF(27.8mL、27.8ミリモル)中の1M
t−BuOKの溶液を加えた。ついで、この反応溶液に
アルゴンを15分間通した。この溶液にN−(3−ブロ
モプロピル)フタールイミド(7.45g、27.8ミリ
モル)を加えた。この反応溶液を室温にて4時間撹拌
し、飽和NH4Cl溶液(40mL)を滴下することに
より0℃にて反応停止させた。この混合物を真空濃縮
し、得られた残渣をEtOAc(400mL)で希釈
し、飽和NaHCO3溶液(2×100mL)および食
塩水(1×100mL)で洗浄した。EtOAc層を乾
燥し(MgSO4)、濾過し、真空濃縮した。フラッシ
ュクロマトグラフィーにより精製を行って標記チオエー
テル(6.11g、54%)を得た。
【0074】B.[S−(R*,R*)]−[2−[2
−[[[3−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−2−イル)プロピル]チオ]メチ
ル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)
−2−オキソエチル]カルバミン酸1,1−ジメチルエ
チルエステル
【0075】乾燥ジクロロメタン(10mL)中の工程
Aのチオエーテル(6.00g、14.9ミリモル)の撹
拌溶液にTFA(15mL)を加えた。この溶液を室温
にて1.5時間撹拌し、エーテル(150mL)で希釈
した。この溶液を真空濃縮して粗製のTFA・アミン塩
を得た。このTFA・アミン塩の乾燥ジクロロメタン
(100mL)中の撹拌混合物にエーテル(20.0m
L、20.0ミリモル)中の1N HCl溶液を加えた。
この混合物を真空濃縮してアミン・HCl塩を定量的収
量で得た。DMF(40mL)中のこのHCl塩(4.
05g、9.19ミリモル)、1−ヒドロキシベンゾト
リアゾール一水和物(1.55g、9.19ミリモル)お
よびN−Boc−L−セリン(2.00g、9.19ミリ
モル)の撹拌溶液に4−メチルモルホリン(4.04m
L、36.8ミリモル)およびエチル−3−(3−ジメ
チルアミノ)プロピルカルボジイミド塩酸塩(1.76
g、9.19ミリモル)を順番に加えた。この反応溶液
にアルゴンを10分間通し、室温にて22時間撹拌し
た。この混合物を45℃にて真空ポンプ下で濃縮した。
得られた残渣をEtOAc(300mL)中に溶解し、
1N HCl溶液(2×100mL)、飽和NaHCO3
溶液(1×100mL)および食塩水(1×100m
L)で洗浄した。EtOAc層を乾燥し(MgS
4)、濾過し、真空濃縮して標記カルバメート(3.8
8g、84%)を得た。
【0076】C.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[3−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ
−2H−イソインドール−2−イル)プロピル]チオ]
メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
ミド
【0077】乾燥ジクロロメタン(10mL)中の工程
Bのカルバメート(2.04g、4.06ミリモル)の撹
拌溶液にジオキサン(15.0mL、60.0ミリモル)
中の4N HCl溶液を0℃にて加えた。この溶液を室
温にて1.5時間撹拌し、エーテル(20mL)で希釈
した。この溶液を真空濃縮して粗製のHCl・アミン塩
を得た。乾燥ジクロロメタン(60mL)中のこの塩お
よびトリエチルアミン(1.69mL、12.2ミリモ
ル)の撹拌溶液に2−ナフタレンスルホニルクロライド
(1.01g、4.46ミリモル)を0℃にて加えた。こ
の反応溶液にアルゴンを5分間通し、室温にて3時間撹
拌した。この反応溶液をジクロロメタン(240mL)
で希釈した。この溶液を1N HCl溶液(3×60m
L)、飽和NaHCO3溶液(2×60mL)および食
塩水(1×100mL)で洗浄した。有機層を乾燥し
(MgSO4)、濾過し、真空濃縮した。得られた残渣
をヘキサン(2×60mL)で洗浄し、この固体を3%
CH3OH/CH2Cl2を溶出液として用いたメルクシ
リカゲル60(120g)上のクロマトグラフィーにか
けて標記スルホンアミド(1.69g、70%)を得
た。
【0078】D.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[3−[(アミノイミノメチル)アミノ]プ
ロピル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−
(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフ
タレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0079】メタノール(40mL)中の工程Cのスル
ホンアミド(1.59g、1.68ミリモル)の撹拌溶液
に無水ヒドラジン(0.54g、16.8ミリモル)を加
えた。この反応混合物を45℃にて5時間加熱し、真空
濃縮した。得られた残渣をメタノール(60mL)およ
びトルエン(100mL)と混合した。この混合物を真
空濃縮して中間体のアミン(1.07g、85%)を得
た。無水EtOH(50mL)中のこのアミン(1.0
5g、2.25ミリモル)およびEt3N(1.09m
L、7.87ミリモル)の撹拌混合物に、アルゴン下、
アミノイミノメタンスルホン酸(698mg、5.62
ミリモル)を加えた。この混合物を室温にて4時間撹拌
し、真空濃縮し、分取HPLCにより精製して標記化合
物(350mg、25%)を得た。 旋光度:[α]D=−63.1°(c=1.12、MeO
H) 元素分析値(0.30H2O+1.07TFAとして) 計算値(%):C46.69、H5.30、N11.2
8、S10.32、F9.82 実測値(%):C46.64、H5.24、N11.1
2、S10.37、F9.85
【0080】実施例5 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[[1
−(アミノイミノメチル)−4−ピペリジニル]メチ
ル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒド
ロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレン
スルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩 A.(S)−4−[[[[1−[(1,1−ジメチルエ
トキシ)カルボニル]−2−ピロリジニル]メチル]チ
オ]メチル]−1−ピペリジンカルボン酸フェニルメチ
ルエステル
【0081】DMF(35mL)中の実施例1工程Aで
調製したチオアセテート中間体
【化33】 および4−トシルオキシメチル−N−カルボベンジルオ
キシピペリジン(1.5g、3.86ミリモル)の溶液に
NaOMe(0.88mL、15.44ミリモル)を0℃
にて加えた。この反応液を10分間撹拌した後、氷浴を
除き、反応液を室温にて2時間撹拌した。NaOMe
(0.6mL)を加え、反応液をさらに30分間撹拌し
た。この反応混合物を濃縮し、EtOAcとH2Oとの
間に分配し、EtOAc層を食塩水で洗浄し、Na2
4で乾燥し、真空濃縮して粗製の生成物を得、ついで
これをシリカゲルカラム(EtOAc:ヘキサン=1:
4)により精製した(87%収率)。
【0082】 B.N−(2−ナフタレニルスルホニル)−L−セリン CH2Cl2(120mL)中の2−ナフタレンスルホニ
ルクロライド(3g、13.23ミリモル)およびセリ
ンベンジルエステル(3.07g、13.23ミリモル)
の溶液にEt3N(5.53mL、13.23ミリモル)
を0℃にて加えた。この反応液を室温にて1時間撹拌
し、KHSO4の飽和溶液、食塩水で洗浄し、Na2SO
4で乾燥した。有機層を真空濃縮してナフチルスルホン
アミド(93%)を得た。このナフチルスルホンアミド
(1g、2.59ミリモル)およびPd/C(10%、
50mg)のEtOAc(25mL)中の溶液に1N
HCl(2.6mL)を加え、ついでH2を加えた。この
反応液を室温にて16時間撹拌し、触媒を濾去した。濾
液を真空濃縮して標記化合物を得た(89%)。
【0083】C.[S−(R*,R*)]−N−[1−
(ヒドロキシメチル)−2−オキソ−2−[[[[[1
−[(フェニルメトキシ)カルボニル]−4−ピペリジ
ニル]メチル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]エ
チル]−2−ナフタレンスルホンアミド
【0084】CH2Cl2(2mL)中の工程Aの化合物
(1.39g、3.10ミリモル)の溶液にトリフルオロ
酢酸(TFA)(9.3mL)を0℃にて加えた。氷浴
を除去し、反応液を室温にて30分間撹拌した。この反
応混合物を真空濃縮し、Et2Oと共蒸発させてTFA
塩を得た(70%収率)。DMF(10mL)中の工程
Bの化合物(0.638g、2.16ミリモル)および
HOBT(0.321g、2.37ミリモル)の溶液にW
SC(0.46g、2.37ミリモル)および上記TFA
塩(100g、2.16ミリモル)を加え、ついでNM
M(0.264mL、2.37ミリモル)を加えた。この
反応液を室温にて16時間撹拌し、EtOAcと飽和N
aHCO3溶液との間に分配した。有機層をさらにKH
SO4の飽和溶液、食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥
し、真空濃縮して標記化合物(81%収率)を得た。
【0085】D.[S−(R*,R*)]−N−[1−
[(アセチルオキシ)メチル]−2−オキソ−2−[2
−[[(4−ピペリジニルメチル)チオ]メチル]−1
−ピロリジニル]エチル]−2−ナフタレンスルホンア
ミド CH2Cl2(1mL)中の工程Cの化合物(1.1g、
2.08ミリモル)の溶液にHOAc中のHBr(6.2
4mL、30%)を0℃にて加えた。氷浴を除去し、室
温にて1時間撹拌した。この反応混合物を真空濃縮し、
Et2Oでトリチュレートして標記化合物を得た。
【0086】E.[S−(R*,R*)]−N−[1−
[(アセチルオキシ)メチル]−2−[2−[[[[1
−(アミノイミノメチル)−4−ピペリジニル]メチ
ル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−2−オキソ
エチル]−2−ナフタレンスルホンアミド DMF(8mL)中の工程Dの化合物(1.47g、2.
57ミリモル)およびH−ピラゾール−1−カルボキサ
ミジン(0.42g、2.83ミリモル)の溶液にジイソ
プロピルエチルアミン(0.898mL、5.14ミリモ
ル)を加えた。この反応液を室温にて16時間撹拌し、
分取HPLCにより精製して標記化合物(25%収率)
を得た。
【0087】F.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[[1−(アミノイミノメチル)−4−ピペ
リジニル]メチル]チオ]メチル]−1−ピロリジニ
ル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]
−2−ナフタレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸
(1:1)塩
【0088】MeOH(2mL)中の工程Eの化合物
(0.33g、0.57ミリモル)の溶液に1N NaO
H(1.72mL、1.72ミリモル)を0℃にて加え
た。氷浴を除去し、室温にて1.5時間撹拌した。この
反応混合物を真空濃縮し、分取HPLCにより精製して
標記化合物(56%収率)を得た。 元素分析値(C2535542・1.2TFA・1.2
2Oとして) 計算値(%):C47.55、H5.62、N10.1
2、S9.26 実測値(%):C47.60、H5.36、N9.99、
S10.08 [α]D=−164.9(c=3.04、CD3OD)
【0089】実施例6 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[1−
(アミノイミノメチル)−4−ピペリジニル]メトキ
シ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシ
メチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホ
ンアミド A.(S)−4−[[[1−[(1,1−ジメチルエト
キシ)カルボニル]−2−ピロリジニル]メトキシ]メ
チル]−1−ピペリジンカルボン酸フェニルメチルエス
テル
【0090】キシレン(10mL)中のBOC−L−プ
ロリノール(10ミリモル)にKOH(20ミリモ
ル)、4−トシルオキシメチル−N−カルボベンジルオ
キシピペリジン(11ミリモル)を加え、この反応液を
3時間加熱還流した。この反応混合物を室温にて16時
間撹拌し、NH4Clで反応停止させ、酢酸エチルで抽
出し、カラムクロマトグラフィーにより精製して標記エ
ーテルを得た。
【0091】B.[S−(R*,R*)]−4−
[[[1−[3−ヒドロキシ−2−[(2−ナフタレニ
ルスルホニル)アミノ]−1−オキソプロピル]−2−
ピロリジニル]メトキシ]メチル]−1−ピペリジンカ
ルボン酸フェニルメチルエステル 工程Aのエーテル(9ミリモル)をトリフルオロ酢酸
(10mL)中に0℃にて溶解した。30分間撹拌した
後、TFAを真空蒸発させ、トリフルオロ酢酸塩をエー
テルで沈殿させた。このTFA塩をDMF(10mL)
中に溶解し、WSC(9ミリモル)、HOBT(9ミリ
モル)およびNMM(9ミリモル)の存在下でN−2−
ナフチルスルホニル−セリン(9ミリモル)を反応させ
た。12時間撹拌した後、この反応混合物を酢酸エチル
(50mL)で希釈し、飽和KHSO4(3×)、飽和
NaHCO3、飽和NaClで洗浄し、真空乾燥して標
記ナフチルスルホニルセリン誘導体を得た。
【0092】C.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[2−[[[1−(アミノイミノメチル)−4−ピペリ
ジニル]メトキシ]メチル]−1−ピロリジニル]−1
−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナ
フタレンスルホンアミド 工程Bの化合物(8ミリモル)をHBr/HOAc中に
0℃にて30分間かけて溶解した。ついで、この反応混
合物をNaOHを用いて塩基性にし、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層から得られる遊離の塩基をエタノー
ル中の1H−ピラゾールカルボキサミジンで40℃にて
3時間処理し、この反応混合物を取り、分取HPLCに
より精製して標記化合物を得た。
【0093】実施例7 [S−(R*,S*)]−N−[2−[2−[[[4−
[(アミノイミノメチル)アミノ]ブチル]チオ]メチ
ル]−1−ピロリジニル]−2−(ヒドロキシメチル)
−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド 対応(S)異性体の代わりに(R)−2−[[[(4−
メチルフェニル)スルホニル]オキシ]メチル]−1−
ピロリジンカルボン酸1,1−ジメチルエチルエステル
を用いた他は実施例1と同様の手順を用いて標記化合物
を調製した(140mg、40%収率)。 元素分析値(C2333542・1.1TFA・0.0
4H2Oとして) 計算値(%):C47.81、H5.43、N11.0
6、S10.13、F9.90 実測値(%):C47.75、H5.35、N10.9
3、S10.14、F9.78
【0094】実施例8 [S−[R*,R*−(E)]]−N−[2−[2−
[[(4−アミノ−2−ブテニル)チオ]メチル]−1
−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オ
キソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド A.(S,Z)−2−[4−[(2−ピロリジニルメチ
ル)チオ]−2−ブテニル]−1H−イソインドール−
1,3(2H)−ジオン塩酸塩
【0095】CH2Cl2(2mL)中の(S,Z)−2
−[4−[[[1−[(1,1−ジメチルエトキシ)カ
ルボニル]−2−ピロリジニル]メチル]チオ]−2−
ブテニル]−1H−イソインドール−1,3(2H)−
ジオン(対応フタールイミドの代わりに4−ブロモ−2
−ブテニルフタールイミドを用いる他は実施例1工程A
と同様にして調製)(3.60ミリモル)の溶液に4N
HCl/ジオキサン(18mL)を0℃にて加えた。氷
浴を除去し、反応液を室温にて3時間撹拌した。この反
応混合物を真空濃縮して標記化合物(92%収率)を得
た。
【0096】B.[S−[R*,R*−(Z)]]−N
−[2−[2−[[[4−(1,3−ジヒドロ−1,3−
ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)−2−ブ
テニル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−2−
(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフ
タレンスルホンアミド
【0097】DMF(14mL)中の実施例5工程Bの
化合物(650mg、2.20ミリモル)およびHOB
T(327mg、2.42ミリモル)の溶液にWSC
(464mg、2.42ミリモル)を加え、ついで上記
工程Aのアミン塩(818mg、2.20ミリモル)を
加えた。NMM(0.27mL、2.42ミリモル)によ
りpHを8に調節し、反応液を室温にて16時間撹拌し
た。この反応混合物をH2OとEtOAcとの間に分配
し、EtOAcをNaHCO3の飽和溶液、KHSO4
飽和溶液、食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥した。有
機層を真空濃縮して標記化合物(86%収率)を得た。
【0098】C.[S−[R*,R*−(E)]]−N
−[2−[2−[[(4−アミノ−2−ブテニル)チ
オ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシ
メチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホ
ンアミド
【0099】CH3OH(34mL)中の工程Bの化合
物(800mg、1.34ミリモル)の溶液にヒドラジ
ン(0.42mL、13.4ミリモル)を室温にて加え、
反応液を40〜50℃にて3時間撹拌した。この反応混
合物を真空濃縮し、EtOAcと1N NaOHとの間
に分配した。水性層をNaClで塩析し、EtOAcで
抽出した。有機層をコンバインし、真空濃縮して粗製の
生成物を得、これをEtOAc中で結晶化させた(71
%収率)。 元素分析値(C2229342・1.00HCl・0.
14H2Oとして) 計算値(%):C52.57、H6.07、N8.36、
S12.76、Cl7.05 実測値(%):C52.84、H6.01、N8.09、
S12.57、Cl7.14 [α]D=−36.8(c=0.50、MeOH)
【0100】実施例9 [S−[R*,R*−(E)]]−N−[2−
[[[[4−[(アミノイミノメチル)アミノ]−2−
ブテニル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−
(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフ
タレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0101】EtOH(5mL)中の実施例8の標記化
合物(0.4g、0.86ミリモル)およびアミジンスル
ホン酸(161mg、1.29ミリモル)の溶液にEt3
N(0.364mL、2.59ミリモル)を加えた。この
反応液を室温にて1時間撹拌した。この反応混合物を真
空濃縮し、分取HPLCにより精製して標記化合物(6
0%収率)を得た。 元素分析値(C2331542・1.20TFA・0.
28H2Oとして) 計算値(%):C47.11、H5.10、N10.8
2、S9.90、F10.56 実測値(%):C47.12、H4.92、N10.5
6、S9.48、F10.23 [α]D=−26.6(c=0.50、MeOH)
【0102】実施例10 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[[1
−(アミノイミノメチル)−3−ピペリジニル]メチ
ル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒド
ロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレン
スルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0103】4−トシルオキシメチル−N−カルボベン
ジルオキシピペリジンの代わりに3−トシルオキシメチ
ル−N−カルボベンジルオキシピペリジンを用いる他は
実施例5と同様にして標記化合物を調製した。 元素分析値(C2535542・1.2TFA・1.0
1H2Oとして) 計算値(%):C47.78、H5.59、N10.1
7、S9.31 実測値(%):C47.78、H5.46、N9.97、
S9.37 [α]D=−57.7(c=2.01、DMSO)
【0104】実施例11 [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[5−
[(アミノイミノメチル)アミノ]ペンチル]チオ]メ
チル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
ル)−2−オキソエチル]−1−ナフタレンスルホンア
ミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0105】N−(4−ブロモブチル)フタールイミド
の代わりにN−(5−ブロモペンチル)フタールイミド
を用いる他は実施例1と同様にして標記化合物を調製し
た。 元素分析値(C243554S・1.16TFA・0.9
2H2Oとして) 計算値(%):C47.15、H5.71、N10.4
4、S9.56 実測値(%):C47.15、H5.42、N10.3
6、S9.91 [α]D=−263.7(c=4.51、CD3OD)
【0106】実施例12 [S−(R*,R*)]−N−[2−[[2−[[[6
−[(アミノイミノメチル)アミノ]ヘキシル]チオ]
メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
ミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩 A.6−フタールイミド−1−ブロモヘキサン
【0107】乾燥トルエン(180mL)中の無水フタ
ル酸(32.0g、0.21モル)および6−アミノヘキ
サノール(25.0g、0.21モル)の溶液を3時間加
熱還流した。中間体のフタールイミドが生成したときに
PBr3(18.2mL、トルエン(20mL)中に0.
58モル)を滴下し、この反応液を100℃にて1.5
時間撹拌した。この反応混合物を微細繊維フィルターで
濾過し、濾液を真空濃縮して粗製の生成物を得、ついで
これをトルエンから結晶化して6−フタールイミド−1
−ブロモヘキサン(86%収率)を得た。
【0108】B.N−Boc−2−ピロリジンチオ−6
−ヘキサフタールイミド アセトン(150mL)中の実施例1工程Aのトシレー
ト(8g、22.53ミリモル)の溶液にKSAc(3.
34g、29.3ミリモル)を加えた。この反応液を1
6時間加熱還流した。得られた沈殿を濾過により除き、
濾液を真濃縮した。この粗製の生成物をEtOAcおよ
びヘキサンの混合物(2対1の比)を溶出液として用い
るシリカゲルカラムにより単離してN−Boc−2−ピ
ロリジンチオアセテート(43%収率)を得た。(M+
H)+@260 MeOH(10mL)およびDMF(1mL)中のN−
Boc−2−ピロリジンチオアセテート(0.9g、3.
47ミリモル)および6−フタールイミド−1−ブロモ
ヘキサン(1.08g、3.47ミリモル)の溶液にNa
OMe(0.8mL、3.47ミリモル)をアルゴン下、
0℃にて加えた。この反応液を0℃にて30分間撹拌し
た後、氷浴を除いた。この反応液を室温にて16時間撹
拌し、真空濃縮した。得られた粗製の生成物をEtOA
c/ヘキサン(1対4の比)を用いたシリカゲルカラム
上で精製して標記化合物(35%収率)を得た。
【0109】C.
【化34】
【0110】CH2Cl2(3mL)中のN−Boc−2
−ピロリジンチオ−6−ヘキサフタールイミド(0.5
g、11.2ミリモル)の溶液に4N HCl(3.5m
L、3.5ミリモル)を0℃にて加えた。氷浴を除き、
反応液を室温にて1時間撹拌した。この反応混合物を真
空濃縮して標記HCl塩(89%収率)を得た。
【0111】D.
【化35】 D(1).
【化36】
【0112】CH2Cl2(120mL)中の2−ナフタ
レンスルホニルクロライド(3g、13.23ミリモ
ル)およびセリンベンジルエステル(3.07g、13.
23ミリモル)の溶液にEt3N(5.53mL、13.
23ミリモル)を0℃にて加えた。この反応液を室温に
て1時間撹拌し、KHSO4の飽和溶液、食塩水で洗浄
し、Na2SO4で乾燥した。有機層を真空濃縮して標記
化合物(93%収率)を得た。(M+H)+@386
【0113】 D(2).2−ナフタレンスルホニルセリン EtOAc(25mL)中の工程D(1)の化合物(1
g、2.59ミリモル)およびPd/C(10%、50
mg)の溶液に1N HCl(2.6mL)を加え、つい
でH2を加えた。この反応液を室温にて16時間撹拌
し、触媒を濾去した。濾液を真空濃縮して2−ナフタレ
ンスルホニルセリン(89%収率)を得た。(M+H)
+@296
【0114】D(3).
【化37】
【0115】DMF(10mL)中の2−ナフタレンス
ルホニルセリン(293mg、0.99ミリモル)およ
びHOBT(1.47g、1.09ミリモル)の溶液にW
SC(209mg、1.09ミリモル)および工程Cの
化合物(380mg、0.99ミリモル)を加え、つい
でNMM(0.3mL、2.18ミリモル)を加えた。こ
の反応液を室温にて16時間撹拌した。この反応混合物
をEtOAcとNaHCO3の飽和溶液とに分配し、有
機層をKHSO4の飽和溶液、食塩水で洗浄し、Na2
4で乾燥し、EtOAcを真空濃縮して標記化合物
(83%収率)を得た。
【0116】E.
【化38】 MeOH(10mL)中の工程Dの化合物(510m
g、0.82ミリモル)の溶液にヒドラジン(0.26m
L、8.2ミリモル)を室温にて加えた。この反応液を
40〜50℃にて4時間撹拌した。この反応混合物を真
空濃縮し、EtOAcと1N NaOHとの間に分配
し、Na2SO4で乾燥した。有機層を真空濃縮して標記
化合物(74%収率)を得た。
【0117】F.[S−(R*,R*)]−N−[2−
[[2−[[[6−[(アミノイミノメチル)アミノ]
ヘキシル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−
(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフ
タレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸(1:1)塩
【0118】EtOH(10mL)中の工程Eのアミン
(300mg、0.61ミリモル)およびアミジンスル
ホン酸(113mg、0.91ミリモル)の溶液にEt3
N(0.26mL、1.83ミリモル)を加えた。この反
応液を室温にて16時間撹拌した。この反応混合物を真
空濃縮し、分取HPLCにより精製して標記化合物(3
4%収率)を得た。 元素分析値(C253754S・1.15TFA・0.5
2H2Oとして) 計算値(%):C47.15、H5.71、N10.4
4、S9.56 実測値(%):C47.15、H5.42、N10.3
6、S9.91 [α]D=−91.0(c=2.00、CH3OH)
【0119】実施例13 [3R−[3R*,3(S*,S*)]]−N−[2−
[2−[[[[1−(アミノイミノメチル)−3−ピペ
リジニル]メチル]チオ]メチル]−1−ピロリジニ
ル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]
−2−ナフタレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸
(1:1)塩 A.N−カルボベンジルオキシ−3−ピペリジンメタノ
ール THF(15mL)中の3(R)−N−カルボベンジル
オキシ−3−カルボキシピペリジン(2.0g、7.6ミ
リモル)の溶液にBH3・Me2Sを0℃にて滴下し、氷
浴を除いた。この反応液を室温にて2時間撹拌した。H
OAc、MeOH、ついで1N 7.6mL NaOHで
反応混合物の反応を停止させ、室温にて2時間撹拌し
た。この反応混合物を真空濃縮し、EtOAcで抽出し
た。EtOAc層を1N NaOHで洗浄し、真空濃縮
してN−カルボベンジルオキシ−3−ピペリジンメタノ
ールを得た。
【0120】B.
【化39】 CH2Cl2(35mL)中の工程Aの化合物(2.0
g、8.03ミリモル)およびTsCl(3.06g、1
6.06ミリモル)の溶液にEt3N(3.39mL、2
4.09ミリモル)を0℃にて加えた。氷浴を除き、反
応液を室温にて16時間撹拌した。この反応混合物をH
2Oで洗浄し、真空濃縮して粗製の生成物を得、これを
混合溶媒(EtOAc:ヘキサン=1:2比)を用いた
シリカゲルカラムにより精製して標記化合物(70%収
率)を得た。
【0121】C.
【化40】 DMF(30mL)中のN−Boc−2−ピロリジンチ
オアセテート(実施例12工程B)(1.0g、3.86
ミリモル)の溶液にNaOMe(0.88mL、15.4
4ミリモル)をアルゴン下、0℃にて加えた。この反応
液を0℃にて5分間撹拌し、上記工程Bの化合物(1.
5g、3.86ミリモル)を0℃にて加えた。氷浴を除
き、室温にて2時間撹拌した。この反応混合物をEtO
AcとH2Oとの間に分配し、EtOAcを食塩水で洗
浄し、Na2SO4で乾燥し、真空濃縮して標記化合物
(79%収率)を得た。
【0122】D.
【化41】 CH2Cl2(2mL)中の工程Cの化合物(1.2g、
2.46ミリモル)の溶液に4N HCl(7.4mL、
7.4ミリモル)を0℃にて加えた。氷浴を除き、反応
液を室温にて2時間撹拌した。この反応液を真空濃縮し
て標記化合物を得た。
【0123】E.
【化42】 DMF(11mL)中の2−ナフタレンスルホニルセリ
ン(実施例12工程Dで調製)(0.78g、2.67ミ
リモル)およびHOBT(0.4g、2.93ミリモル)
の溶液にWSC(0.56g、2.93ミリモル)を加
え、ついで工程Dの化合物(1.03g、2.67ミリモ
ル)を加えた。5分後、NMM(0.82mL、5.86
ミリモル)を加えてpHを7.5〜8.0に調節し、反応
液を室温にて16時間撹拌した。この反応混合物をEt
OAcとNaHCO3の飽和溶液とに分配し、EtOA
c層をKHSO4の飽和溶液、食塩水で洗浄し、Na2
4で乾燥した。有機層を真空濃縮して標記化合物(8
7%収率)を得た。
【0124】F.
【化43】 CH2Cl2(3mL)中の工程Eの化合物(1.3g、
2.08ミリモル)の溶液にHBr(6.3mL、6.3
ミリモル)を0℃にて加えた。氷浴を除き、反応液を室
温にて1時間撹拌した。この反応混合物を真空濃縮して
標記HBr塩(98%収率)を得た。
【0125】G.
【化44】 DMF(10mL)中の上記工程FのピペリジンHBr
塩(1.08g、2.04ミリモル)およびH−ピラゾー
ル−1−カルボキサミジン・HCl(490mg、3.
34ミリモル)の溶液にジイソプロピルエチルアミン
(DIEA)(1.06mL、6.08ミリモル)を加
え、反応液を室温にて72時間撹拌した。この反応混合
物を分取HPLCにより精製して標記化合物(27%収
率)を得た。
【0126】H.[3R−[3R*,3(S*,S
*)]]−N−[2−[2−[[[[1−(アミノイミ
ノメチル)−3−ピペリジニル]メチル]チオ]メチ
ル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)
−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド
トリフルオロ酢酸(1:1)塩
【化45】
【0127】MeOH(3mL)中の工程Gの化合物
(0.31g、0.54ミリモル)の溶液に1N NaO
H(1.62mL、1.62ミリモル)を0℃にて加え
た。氷浴を除き、反応液を室温にて2時間撹拌した。こ
の反応混合物を真空濃縮し、分取HPLCにより精製し
て標記化合物(97%収率)を得た。 元素分析値(C2535542・1.4TFA・1.2
5H2Oとして) 計算値(%):C46.64、H5.48、N9.78、
S8.96、F11.15 実測値(%):C46.64、H5.28、N9.77、
S8.77、F11.16 [α]D=−49.3°(c=4.1、CD3OD)
【0128】実施例14 [3S−[3R*,3(R*,R*)]]−N−[2−
[2−[[[[1−(アミノイミノメチル)−3−ピペ
リジニル]メチル]チオ]メチル]−1−ピロリジニ
ル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]
−2−ナフタレンスルホンアミドトリフルオロ酢酸
(1:1)塩
【化46】
【0129】実施例13工程Aに使用した3(R)異性
体の代わりに3(S)−N−カルボベンジルオキシ−3
−カルボキシピペリジンを用いる他は実施例13と同様
にして標記化合物を得た。 元素分析値(C2535542・1.15TFA・1.
20H2Oとして) 計算値(%):C47.77、H5.66、N10.2
0、S9.34、F9.55 実測値(%):C47.77、H5.37、N10.3
1、S8.99、F9.57 [α]D=−21.0°(c=4.08、DMSO)
【0130】実施例1〜14に記載の手順および明細書
に記載の手順に従って調製できる化合物の例を以下に挙
げる。
【化47】
【化48】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 223/04 227/04 401/12 207 7602−4C (72)発明者 スティーブン・イー・ホール アメリカ合衆国ノースカロライナ州チャペ ル・ヒル、ナッタル・プレイス102番 (72)発明者 ワン・ファン・ラウ アメリカ合衆国ニュージャージー州ローレ ンスビル、クインス・コート104番

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式: 【化1】 (すべての立体異性体を含む)(式中、nは0、1また
    は2;XはS、SO、SO2またはO;R1は−A−R2
    (式中、Aは炭素数2〜6のアルキル、アルケニルまた
    はアルキニル鎖、R2はグアニジン、アミジンまたはア
    ミノ);またはR1は−(CH2)p−A'−R2'(式
    中、R2'はアミジン、A'は式: 【化2】 (式中、mは0、1、2、3または4;Y1、Y2は独立
    にH、アルキル、ハロまたはケト)で示されアルキル、
    COもしくはハロで任意に置換された原子数4〜8のア
    ザシクロアルキル環(NおよびXは少なくとも2つの炭
    素原子で隔てられている)pは0、1または2);また
    はR1は−(CH2)p−A"−R”(式中、R”は
    グアニジン、アミジンまたはアミノメチル、A"はアリ
    ールまたはシクロアルキル);R3およびR4は独立に水
    素、低級アルキル、シクロアルキル、アリール、ヒドロ
    キシ、アルコキシ、ケト、チオケタール、チオアルキ
    ル、チオアリール、アミノまたはアルキルアミノ、また
    はR3とR4とはそれらが結合している炭素原子と一緒に
    なってシクロアルキル、アリールまたはヘテロアリール
    環を形成する;R5は水素、ヒドロキシアルキル、アミ
    ノアルキル、アルキル、シクロアルキル、アリール、ア
    リールアルキル、アルケニル、アルキニル、アミドアル
    キル、アリールアルコキシアルキルまたはアミノ酸側鎖
    (保護されたまたは保護されていない);R6は水素、
    −COR7、−SO27または−CO27(式中、R7
    低級アルキル、アリール、シクロヘテロアルキルまたは
    ヘテロアリール))で示される化合物および薬理学的に
    許容し得るその塩。
  2. 【請求項2】 R1が−A−R2である請求項1に記載の
    化合物。
  3. 【請求項3】 R1が−(CH2)p−A'−R2'である
    請求項1に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 R1が−(CH2)p−A"−R2"である
    請求項1に記載の化合物。
  5. 【請求項5】 R1が−CH2(CH2)q−R2であり、
    qが1、2、3または4である請求項1に記載の化合
    物。
  6. 【請求項6】 R2がグアニジンである請求項5に記載
    の化合物。
  7. 【請求項7】 R1が式: 【化3】 (式中、qは3または4)で示される基である請求項1
    に記載の化合物。
  8. 【請求項8】 nが0である請求項1に記載の化合物。
  9. 【請求項9】 R3およびR4がHである請求項1に記載
    の化合物。
  10. 【請求項10】 R6が−SO27である請求項1に記
    載の化合物。
  11. 【請求項11】 R7が式: 【化4】 で示される基である請求項1に記載の化合物。
  12. 【請求項12】 R5が−CH2OHまたはHである請求
    項1に記載の化合物。
  13. 【請求項13】 nが0、XがSまたはSO2、R1
    式: 【化5】 で示される基、qが2または3、R3およびR4がそれぞ
    れH、R5がCH2OHまたはH、R6が式: 【化6】 で示される基である請求項1に記載の化合物。
  14. 【請求項14】 [S−(R*,R*)]−N−[2−
    [2−[[[4−[(アミノイミノメチル)アミノ]ブ
    チル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒ
    ドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレ
    ンスルホンアミド、薬理学的に許容し得るその塩または
    トリフルオロ酢酸塩;[S−(R*,R*)]−N−
    [4−[[[1−(2−アミノ−1−オキソ−3−フェ
    ニルプロピル)−2−ピロリジニル]メチル]チオ]ブ
    チル]グアニジン、薬理学的に許容し得るその塩または
    トリフルオロ酢酸塩;[S−(R*,R*)]−N−
    [2−[2−[[[4−(アミノイミノメチル)アミ
    ノ]ブチル]スルホニル]メチル]−1−ピロリジニ
    ル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]
    −2−ナフタレンスルホンアミド、薬理学的に許容し得
    るその塩またはトリフルオロ酢酸塩;[S−(R*,R
    *)]−N−[2−[2−[[[3−[(アミノイミノ
    メチル)アミノ]プロピル]チオ]メチル]−1−ピロ
    リジニル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエ
    チル]−2−ナフタレンスルホンアミド、薬理学的に許
    容し得るその塩またはトリフルオロ酢酸塩;[S−(R
    *,R*)]−N−[2−[2−[[[[1−(アミノ
    イミノメチル)−4−ピペリジニル]メチル]チオ]メ
    チル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
    ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
    ミド、薬理学的に許容し得るその塩またはトリフルオロ
    酢酸塩;[S−(R*,R*)]−N−[2−[2−
    [[[1−(アミノイミノメチル)−4−ピペリジニ
    ル]メトキシ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−
    (ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフ
    タレンスルホンアミド、または薬理学的に許容し得るそ
    の塩;[S−(R*,S*)]−N−[2−[2−
    [[[4−[(アミノイミノメチル)アミノ]ブチル]
    チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−2−(ヒドロキ
    シメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスル
    ホンアミド、または薬理学的に許容し得るその塩;[S
    −[R*,R*−(E)]]−N−[2−[2−
    [[(4−アミノ−2−ブテニル)チオ]メチル]−1
    −ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オ
    キソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド、または
    薬理学的に許容し得るその塩;[S−[R*,R*−
    (E)]]−N−[2−[[[4−[(4−アミノイミ
    ノメチル)アミノ]−2−ブテニル]チオ]メチル]−
    1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−
    オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンアミド、薬理
    学的に許容し得るその塩またはトリフルオロ酢酸塩;
    [S−(R*,R*)]−N−[2−[2−[[[[1
    −(アミノイミノメチル)−3−ピペリジニル]メチ
    ル]チオ]メチル−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロ
    キシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンス
    ルホンアミド、薬理学的に許容し得るその塩またはトリ
    フルオロ酢酸塩;[S−(R*,R*)]−N−[2−
    [2−[[[5−[(アミノイミノメチル)アミノ]ペ
    ンチル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1−
    (ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−1−ナフ
    タレンスルホンアミド、薬理学的に許容し得るその塩ま
    たはトリフルオロ酢酸塩;[S−(R*,R*)]−N
    −[2−[[2−[[[6−[(アミノイミノメチル)
    アミノ]ヘキシル]チオ]メチル]−1−ピロリジニ
    ル]−1−(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]
    −2−ナフタレンスルホンアミド、薬理学的に許容し得
    るその塩またはトリフルオロ酢酸塩;[3R−[3R
    *,3(S*,S*)]]−N−[2−[2−
    [[[[1−(アミノイミノメチル)−3−ピペリジニ
    ル]メチル]チオ]メチル]−1−ピロリジニル]−1
    −(ヒドロキシメチル)−2−オキソエチル]−2−ナ
    フタレンスルホンアミド、薬理学的に許容し得るその塩
    またはトリフルオロ酢酸塩;[3S−[3R*,3(R
    *,R*)]]−N−[2−[2−[[[[1−(アミ
    ノイミノメチル)−3−ピペリジニル]メチル]チオ]
    メチル]−1−ピロリジニル]−1−(ヒドロキシメチ
    ル)−2−オキソエチル]−2−ナフタレンスルホンア
    ミド、薬理学的に許容し得るその塩またはトリフルオロ
    酢酸塩である請求項1に記載の化合物。
  15. 【請求項15】 R2がアミジニルまたはアミノである
    請求項5に記載の化合物。
  16. 【請求項16】 R1が−A'−R2'である請求項1に記
    載の化合物。
  17. 【請求項17】 R2'がアミノメチルである請求項16
    に記載の化合物。
  18. 【請求項18】 R2'がグアニジニルである請求項16
    に記載の化合物。
  19. 【請求項19】 R2'がアミジニルである請求項16に
    記載の化合物。
  20. 【請求項20】 請求項1に記載の化合物および薬理学
    的に許容し得る担体を含む凝血塊の形成阻害剤。
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