JPH06326203A - 集積回路装置のレーザマーキング装置 - Google Patents
集積回路装置のレーザマーキング装置Info
- Publication number
- JPH06326203A JPH06326203A JP10865393A JP10865393A JPH06326203A JP H06326203 A JPH06326203 A JP H06326203A JP 10865393 A JP10865393 A JP 10865393A JP 10865393 A JP10865393 A JP 10865393A JP H06326203 A JPH06326203 A JP H06326203A
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- Japan
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- marking
- laser
- integrated circuit
- circuit device
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レーザマーキング文字数が多い場合や少ない場
合のマーキングにおいて、マーキング位置の自動補正を
行なう事により、偏りのあるあるいは位置不良となるマ
ーキング外観の発生を防止する。 【構成】マーキング文字列方向と前記方向と直交する方
向とで形成するレーザ光の走査範囲３を演算し、マーキ
ングエリア２に対してマーキング文字４をセンタリング
する様に自動補正する。 【効果】ＩＣ１へのマーキング文字数あるいはマーキン
グ文字列数が異なる製品において、見映えの悪いマーキ
ングあるいは不良となるマーキング外観のものを防止出
来る。
合のマーキングにおいて、マーキング位置の自動補正を
行なう事により、偏りのあるあるいは位置不良となるマ
ーキング外観の発生を防止する。 【構成】マーキング文字列方向と前記方向と直交する方
向とで形成するレーザ光の走査範囲３を演算し、マーキ
ングエリア２に対してマーキング文字４をセンタリング
する様に自動補正する。 【効果】ＩＣ１へのマーキング文字数あるいはマーキン
グ文字列数が異なる製品において、見映えの悪いマーキ
ングあるいは不良となるマーキング外観のものを防止出
来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は集積回路装置のレーザマ
ーキング装置に関し、レーザ光を走査して集積回路装置
に所定のマーキングを行なうレーザマーキング装置に関
する。
ーキング装置に関し、レーザ光を走査して集積回路装置
に所定のマーキングを行なうレーザマーキング装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザ光を走査して集積回路装置
（以下ＩＣと称す）に所定のマーキングを行なうレーザ
マーキング装置の縦断面図である図４を参照すると、レ
ーザ光を発するレーザ発振器７と、前記発振器７より発
振されたレーザ光を走査するレーザ光走査部１０と、前
記発振器７とレーザ光走査部１０とを制御するレーザ制
御部１２、及びＩＣ１をマーキングするマーキングステ
ージと、捺印文字入力演算装置１２とを備える。
（以下ＩＣと称す）に所定のマーキングを行なうレーザ
マーキング装置の縦断面図である図４を参照すると、レ
ーザ光を発するレーザ発振器７と、前記発振器７より発
振されたレーザ光を走査するレーザ光走査部１０と、前
記発振器７とレーザ光走査部１０とを制御するレーザ制
御部１２、及びＩＣ１をマーキングするマーキングステ
ージと、捺印文字入力演算装置１２とを備える。
【０００３】傾斜をなした滑走レール５上を自重滑走
し、ＩＣストッパ６により滑走を停止・位置決めせしめ
られたＩＣ１は、レーザ発振器７より発せられスキャナ
ーモータ８に取り付けられた反射ミラー９により走査さ
れたレーザ光１１により、ＩＣ１上に所定のマーキング
を施される。
し、ＩＣストッパ６により滑走を停止・位置決めせしめ
られたＩＣ１は、レーザ発振器７より発せられスキャナ
ーモータ８に取り付けられた反射ミラー９により走査さ
れたレーザ光１１により、ＩＣ１上に所定のマーキング
を施される。
【０００４】本装置のマーキング準備から実際のマーキ
ングに至るフローを示す図５を参照すると、まずマーキ
ング準備段階においてオペレータは該当製品にマーキン
グする文字を入力する（処理１０１）とともに演算装置
１３でレーザ制御（走査）データを作成する（処理１０
２）。実際のマーキング作業が開始され、ＩＣ１がマー
キングステージに位置決めされると（処理１０５）、作
成された前記レーザ制御（走査）データを用いてＩＣ１
にマーキングが施される（処理１０６）。その後は、マ
ーキングステージに新しいＩＣ１が位置決めされ（処理
１０５）、マーキング（処理１０６）が、繰り返し実行
される事になる。
ングに至るフローを示す図５を参照すると、まずマーキ
ング準備段階においてオペレータは該当製品にマーキン
グする文字を入力する（処理１０１）とともに演算装置
１３でレーザ制御（走査）データを作成する（処理１０
２）。実際のマーキング作業が開始され、ＩＣ１がマー
キングステージに位置決めされると（処理１０５）、作
成された前記レーザ制御（走査）データを用いてＩＣ１
にマーキングが施される（処理１０６）。その後は、マ
ーキングステージに新しいＩＣ１が位置決めされ（処理
１０５）、マーキング（処理１０６）が、繰り返し実行
される事になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この従来のレーザマー
キング装置は、マーキング開始時においてオペレータが
マーキング文字を入力する際、マーキング文字数が多い
場合や少ない場合において、ＩＣ１のマーキングエリア
２（点数）に対し偏りのあるマーキング文字４となって
しまったり（図６の（Ａ））、マーキングエリア２内に
マーキング文字４が納まりきらず不良となってしまう
（図６の（Ｂ））場合が発生してしまう事があり、マー
キング位置の補正を行なわなければならないという問題
点があった。
キング装置は、マーキング開始時においてオペレータが
マーキング文字を入力する際、マーキング文字数が多い
場合や少ない場合において、ＩＣ１のマーキングエリア
２（点数）に対し偏りのあるマーキング文字４となって
しまったり（図６の（Ａ））、マーキングエリア２内に
マーキング文字４が納まりきらず不良となってしまう
（図６の（Ｂ））場合が発生してしまう事があり、マー
キング位置の補正を行なわなければならないという問題
点があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の集積回路装置の
レーザマーキング装置の構成は、レーザ光を走査して集
積回路装置に所定のマーキングを行なう集積回路装置の
レーザマーキング装置において、マーキング文字列方向
の前記方向と直交する方向とで形成するレーザ光の走査
範囲を演算する演算回路と、この回路により算出された
演算値によりマーキング位置を自動補正する手段とを備
えることを特徴とする。
レーザマーキング装置の構成は、レーザ光を走査して集
積回路装置に所定のマーキングを行なう集積回路装置の
レーザマーキング装置において、マーキング文字列方向
の前記方向と直交する方向とで形成するレーザ光の走査
範囲を演算する演算回路と、この回路により算出された
演算値によりマーキング位置を自動補正する手段とを備
えることを特徴とする。
【０００７】
【実施例】本発明の第１の実施例のマーキング方法を示
す図１において、この実施例は、マーキング位置の自動
補正を、レーザ光の走査データを補正する事で、レーザ
光の照射位置の移動により行なう場合である。
す図１において、この実施例は、マーキング位置の自動
補正を、レーザ光の走査データを補正する事で、レーザ
光の照射位置の移動により行なう場合である。
【０００８】まず、マーキング準備段階においてオペレ
ータは、該当製品にマーキングする文字を入力する（処
理１０１）とともに、演算装置１３でレーザ制御（走
査）データを作成する（処理１０２）。
ータは、該当製品にマーキングする文字を入力する（処
理１０１）とともに、演算装置１３でレーザ制御（走
査）データを作成する（処理１０２）。
【０００９】そして、前記レーザ制御（走査）データに
よりマーキング文字列方向と前記方向と直交する方向と
で形成するレーザ光の走査範囲を演算し（処理１０３）
マーキングエリアに対しセンタリングする様にレーザ制
御（走査）データを補正する（処理１０４）。
よりマーキング文字列方向と前記方向と直交する方向と
で形成するレーザ光の走査範囲を演算し（処理１０３）
マーキングエリアに対しセンタリングする様にレーザ制
御（走査）データを補正する（処理１０４）。
【００１０】実際のマーキング作業が開始され、ＩＣが
マーキングステージに位置決めされると（処理１０
５）、補正された前記レーザ制御（走査）データに用い
てＩＣにマーキングが施される（処理１０６）。その後
は、マーキングステージに新しいＩＣが位置決めされ
（処理１０５）、マーキング（処理１０６）が繰り返し
実行される事になる。
マーキングステージに位置決めされると（処理１０
５）、補正された前記レーザ制御（走査）データに用い
てＩＣにマーキングが施される（処理１０６）。その後
は、マーキングステージに新しいＩＣが位置決めされ
（処理１０５）、マーキング（処理１０６）が繰り返し
実行される事になる。
【００１１】この実施例のマーキング位置の自動補正を
行なった場合におけるマーキング外観を示す図２を参照
すると、ＩＣ１のマーキングエリア２内において偏った
場所に配置したマーキング文字４（Ａ）は、自動補正に
より、（Ｂ）のレーザ光走査範囲３に示す如く、センタ
リングされた形でマーキングされる様になる。
行なった場合におけるマーキング外観を示す図２を参照
すると、ＩＣ１のマーキングエリア２内において偏った
場所に配置したマーキング文字４（Ａ）は、自動補正に
より、（Ｂ）のレーザ光走査範囲３に示す如く、センタ
リングされた形でマーキングされる様になる。
【００１２】マーキング位置の自動補正をＩＣ位置決め
ステージの移動により行なう本発明の第２の実施例のレ
ーザマーキング装置の縦断面図を示す図３を参照する
と、本実施例においては、ＩＣストッパ６を移動させる
パルスモータ１４に、捺印文字入力演算装置１３で演算
されたマーキング位置補正データを送り、ＩＣ１の滑走
停止・位置決め位置を変更する事により、ＩＣ１上のマ
ーキング位置を補正・センタリングする。その他の部分
は、図４と共通の部分であり、共通の参照数字で示す。
ステージの移動により行なう本発明の第２の実施例のレ
ーザマーキング装置の縦断面図を示す図３を参照する
と、本実施例においては、ＩＣストッパ６を移動させる
パルスモータ１４に、捺印文字入力演算装置１３で演算
されたマーキング位置補正データを送り、ＩＣ１の滑走
停止・位置決め位置を変更する事により、ＩＣ１上のマ
ーキング位置を補正・センタリングする。その他の部分
は、図４と共通の部分であり、共通の参照数字で示す。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、マーキ
ング文字列方向と前記方向と直交する方向とで形成する
レーザ光の走査範囲を演算し、マーキング位置を自動補
正するようにしたので、ＩＣへのマーキング文字数ある
いはマーキング文字列数が異なる製品へのマーキングに
おいて、偏りのあるマーキング外観となってしまった
り、マーキングエリア内に納まりきらず不良となるとい
う不具合を解消するとともに、オペレータが作業準備段
階においてマーキング位置の補正作業を行なわなくても
よいという効果がある。
ング文字列方向と前記方向と直交する方向とで形成する
レーザ光の走査範囲を演算し、マーキング位置を自動補
正するようにしたので、ＩＣへのマーキング文字数ある
いはマーキング文字列数が異なる製品へのマーキングに
おいて、偏りのあるマーキング外観となってしまった
り、マーキングエリア内に納まりきらず不良となるとい
う不具合を解消するとともに、オペレータが作業準備段
階においてマーキング位置の補正作業を行なわなくても
よいという効果がある。
【図１】本発明の第１の実施例のマーキング準備からマ
ーキングに至る状態を示すフロー図である。
ーキングに至る状態を示すフロー図である。
【図２】（Ａ），（Ｂ）は第１の実施例におけるＩＣ上
のマーキング外観を示す平面図である。
のマーキング外観を示す平面図である。
【図３】本発明の第２の実施例のＩＣ位置決めステージ
の移動によりマーキング位置補正を行なうレーザマーキ
ング装置の縦断面図である。
の移動によりマーキング位置補正を行なうレーザマーキ
ング装置の縦断面図である。
【図４】従来技術のＩＣのレーザマーキング装置の縦断
面図である。
面図である。
【図５】従来技術のマーキング準備からマーキングに至
る状態を示すフロー図である。
る状態を示すフロー図である。
【図６】（Ａ），（Ｂ）は従来のマーキングにおけるマ
ーキング外観の不具合を示す平面図である。
ーキング外観の不具合を示す平面図である。
１ ＩＣ ２ マーキングエリア ３ レーザ光走査範囲 ４ マーキング文字 ５ 滑走レール ６ ＩＣストッパ ７ レーザ発振器 ８ スキャナーモータ ９ 反射ミラー １０ レーザ光走査部 １１ レーザ光 １２ レーザ制御部 １３ 捺印文字入力演算装置 １４ パルスモータ
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光を走査して集積回路装置に所定
のマーキングを行なう集積回路装置のレーザマーキング
装置において、マーキング文字列方向の前記方向と直交
する方向とで形成するレーザ光の走査範囲を演算する演
算回路と、この回路により算出された演算値によりマー
キング位置を自動補正する手段とを備えることを特徴と
する集積回路装置のレーザマーキング装置。 - 【請求項２】 前記マーキング位置の自動補正する手段
が、レーザ光の走査データを補正するように前記レーザ
光の照射位置を移動する手段である請求項１記載の集積
回路装置のレーザマーキング装置。 - 【請求項３】 前記マーキング位置の自動補正手段が、
集積回路装置位置決めステージの移動手段である請求項
１記載の集積回路装置のレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10865393A JP2833959B2 (ja) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 集積回路装置のレーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10865393A JP2833959B2 (ja) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 集積回路装置のレーザマーキング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06326203A true JPH06326203A (ja) | 1994-11-25 |
| JP2833959B2 JP2833959B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=14490270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10865393A Expired - Fee Related JP2833959B2 (ja) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 集積回路装置のレーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2833959B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5986235A (en) * | 1996-01-24 | 1999-11-16 | Micron Electronics, Inc. | Method of efficiently laser marking singulated semiconductor devices |
| SG111945A1 (en) * | 2001-12-01 | 2005-06-29 | Eo Technics Co Ltd | Method and apparatus in calibrating marking position in chip scale marker |
| KR100648510B1 (ko) * | 2001-01-05 | 2006-11-24 | 삼성전자주식회사 | 마킹된 등록점을 갖는 반도체 패키지 및 그 등록점을이용한 마킹 검사 방법 |
| TWI608584B (zh) * | 2016-02-15 | 2017-12-11 | Eo科技股份有限公司 | 標記位置校正裝置及方法 |
-
1993
- 1993-05-11 JP JP10865393A patent/JP2833959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5986235A (en) * | 1996-01-24 | 1999-11-16 | Micron Electronics, Inc. | Method of efficiently laser marking singulated semiconductor devices |
| KR100648510B1 (ko) * | 2001-01-05 | 2006-11-24 | 삼성전자주식회사 | 마킹된 등록점을 갖는 반도체 패키지 및 그 등록점을이용한 마킹 검사 방법 |
| SG111945A1 (en) * | 2001-12-01 | 2005-06-29 | Eo Technics Co Ltd | Method and apparatus in calibrating marking position in chip scale marker |
| TWI608584B (zh) * | 2016-02-15 | 2017-12-11 | Eo科技股份有限公司 | 標記位置校正裝置及方法 |
| US10867828B2 (en) | 2016-02-15 | 2020-12-15 | Eo Technics Co., Ltd. | Marking position correcting apparatus and method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2833959B2 (ja) | 1998-12-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980825 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |