JPH06323872A - 零点位置検出装置 - Google Patents
零点位置検出装置Info
- Publication number
- JPH06323872A JPH06323872A JP13535693A JP13535693A JPH06323872A JP H06323872 A JPH06323872 A JP H06323872A JP 13535693 A JP13535693 A JP 13535693A JP 13535693 A JP13535693 A JP 13535693A JP H06323872 A JPH06323872 A JP H06323872A
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- point position
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 エッチングを施さなくても容易に零点位置検
出用パターンが形成でき、安価で、かつ高精度な零点位
置検出装置を得ること。 【構成】 零点位置検出用パターン5aが形成されたス
ケール4と、このスケール4上に第一光束1および第二
光束2を集光する光学系3と、前記スケール4で反射し
た前記第一光束1’を光電変換して第一信号を出力する
第一光電変換手段S1と、前記スケール4で反射した第
二光束2’を光電変換して第二信号を出力する第二光電
変換手段S2と、この第一信号および第二信号のレベル
の一致に応答して前記スケール4の零点位置を示す信号
を出力する零点検出手段6を有する零点位置検出装置に
おいて、前記零点位置検出用パターンをまたはそれ以外
の周囲を拡散面71,72,7bとしたこと。
出用パターンが形成でき、安価で、かつ高精度な零点位
置検出装置を得ること。 【構成】 零点位置検出用パターン5aが形成されたス
ケール4と、このスケール4上に第一光束1および第二
光束2を集光する光学系3と、前記スケール4で反射し
た前記第一光束1’を光電変換して第一信号を出力する
第一光電変換手段S1と、前記スケール4で反射した第
二光束2’を光電変換して第二信号を出力する第二光電
変換手段S2と、この第一信号および第二信号のレベル
の一致に応答して前記スケール4の零点位置を示す信号
を出力する零点検出手段6を有する零点位置検出装置に
おいて、前記零点位置検出用パターンをまたはそれ以外
の周囲を拡散面71,72,7bとしたこと。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は物体の移動や回転を計測
するために産業用工作機械や計測機械などの分野で利用
されるエンコーダの零点位置検出装置に関するものであ
る。
するために産業用工作機械や計測機械などの分野で利用
されるエンコーダの零点位置検出装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、NC工作機械等には位置や角度を
検出する変位センサとしてエンコーダが使用されてい
る。そして、この種のエンコーダは高分解能化と高精度
化およびローコスト化が要求されている。このエンコー
ダのスケールとして用いる回折格子の記録密度を数ミク
ロン/ピッチにし、この回折格子で生じる一対の回析光
を取り出して干渉させ、干渉光を光電変換することによ
り、回析格子の変位に応じた周期信号を得ることのでき
る高分解能且つ高精度な変位測定装置がいくつか提案さ
れている。
検出する変位センサとしてエンコーダが使用されてい
る。そして、この種のエンコーダは高分解能化と高精度
化およびローコスト化が要求されている。このエンコー
ダのスケールとして用いる回折格子の記録密度を数ミク
ロン/ピッチにし、この回折格子で生じる一対の回析光
を取り出して干渉させ、干渉光を光電変換することによ
り、回析格子の変位に応じた周期信号を得ることのでき
る高分解能且つ高精度な変位測定装置がいくつか提案さ
れている。
【0003】この装置に組み込まれるスケールの零点位
置検出装置は検出分解能や精度が要求されるもので、図
5に示すように、移動方向前後に位置をずらせて零点位
置検出用パターン51,5−2が形成されたスケール4
と、このスケール4上で集光する第一光束1および第二
光束2と、スケール4で反射した第一光束1’を光電変
換して第一信号を出力する第一光電変換手段S1と、ス
ケール4で反射した第二光束2’を光電変換して第二信
号を出力する第二光電変換手段S2と、この第一光電変
換手段S1および第二光電変換手段S2から出力する第
一信号および第二信号のレベルの一致に応答して、スケ
ールの零点位置を示す信号を出力する零点検出手段6を
有するもので、上記零点位置検出用パターン5−1,5
−2が反射面または透光面であった。
置検出装置は検出分解能や精度が要求されるもので、図
5に示すように、移動方向前後に位置をずらせて零点位
置検出用パターン51,5−2が形成されたスケール4
と、このスケール4上で集光する第一光束1および第二
光束2と、スケール4で反射した第一光束1’を光電変
換して第一信号を出力する第一光電変換手段S1と、ス
ケール4で反射した第二光束2’を光電変換して第二信
号を出力する第二光電変換手段S2と、この第一光電変
換手段S1および第二光電変換手段S2から出力する第
一信号および第二信号のレベルの一致に応答して、スケ
ールの零点位置を示す信号を出力する零点検出手段6を
有するもので、上記零点位置検出用パターン5−1,5
−2が反射面または透光面であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の零点位置検出装
置は以上のように構成されているので、金属膜蒸着後エ
ッチングを施せば、零点位置検出用パターン5−1,5
−2の反射面または透光面は容易に作ることができる。
しかしエッチングを行わない製法、例えばレプリカ化し
た場合には、この反射面または透光面を設けることが困
難となるという問題点があった。
置は以上のように構成されているので、金属膜蒸着後エ
ッチングを施せば、零点位置検出用パターン5−1,5
−2の反射面または透光面は容易に作ることができる。
しかしエッチングを行わない製法、例えばレプリカ化し
た場合には、この反射面または透光面を設けることが困
難となるという問題点があった。
【0005】本発明は上記のような問題点を解消した零
点位置検出装置を得ることを目的とする。
点位置検出装置を得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明によれ
ば、移動方向前後に位置をずらせて零点位置検出用パタ
ーンが形成されたスケールと、このスケール上に第一光
束および第二光束を集光する光学系と、前記零点位置検
出用パターンで反射した前記第一光束を光電変換して第
一信号を出力する第一光電変換手段と、前記スケールで
反射した第二光束を光電変換して第二信号を出力する第
二光電変換手段と、この第一信号および第二信号のレベ
ルの一致に応答して前記スケールの零点位置を示す信号
を出力する零点検出手段を有する零点位置検出装置にお
いて、零点位置検出用パターンを拡散面または該零点位
置検出用パターン以外の部分を拡散面としたことによ
り、レプリカスケールに応用すればローコスト且つ高精
度な零点位置検出用パターンを形成できる。
ば、移動方向前後に位置をずらせて零点位置検出用パタ
ーンが形成されたスケールと、このスケール上に第一光
束および第二光束を集光する光学系と、前記零点位置検
出用パターンで反射した前記第一光束を光電変換して第
一信号を出力する第一光電変換手段と、前記スケールで
反射した第二光束を光電変換して第二信号を出力する第
二光電変換手段と、この第一信号および第二信号のレベ
ルの一致に応答して前記スケールの零点位置を示す信号
を出力する零点検出手段を有する零点位置検出装置にお
いて、零点位置検出用パターンを拡散面または該零点位
置検出用パターン以外の部分を拡散面としたことによ
り、レプリカスケールに応用すればローコスト且つ高精
度な零点位置検出用パターンを形成できる。
【0007】請求項2の発明によれば、移動方向前後に
位置をずらせて零点位置検出用パターンが形成されたス
ケールと、このスケール上に第一光束および第二光束を
集光する光学系と、前記零点位置検出用パターンで反射
した前記第一光束を光電変換して第一信号を出力する第
一光電変換手段と、前記スケールで反射した第二光束を
光電変換して第二信号を出力する第二光電変換手段と、
この第一信号および第二信号のレベルの一致に応答して
前記スケールの零点位置を示す信号を出力する零点検出
手段を有する零点位置検出装置において、零点位置検出
用パターンを回析格子または該零点位置検出用パターン
以外の部分を回析格子としたことにより、上記零点検出
用パターンの形成をローコスト且つ高精度に行うことが
できる。
位置をずらせて零点位置検出用パターンが形成されたス
ケールと、このスケール上に第一光束および第二光束を
集光する光学系と、前記零点位置検出用パターンで反射
した前記第一光束を光電変換して第一信号を出力する第
一光電変換手段と、前記スケールで反射した第二光束を
光電変換して第二信号を出力する第二光電変換手段と、
この第一信号および第二信号のレベルの一致に応答して
前記スケールの零点位置を示す信号を出力する零点検出
手段を有する零点位置検出装置において、零点位置検出
用パターンを回析格子または該零点位置検出用パターン
以外の部分を回析格子としたことにより、上記零点検出
用パターンの形成をローコスト且つ高精度に行うことが
できる。
【0008】
実施例1.以下、本発明の実施例を図面について説明す
る。
る。
【0009】図1は請求項1の発明の実施例を示す概略
図である。図1において、1はスケール4上で集光する
第一光束、2はスケール4上で集光する第二光束、3は
第一光束1および第2光束をスケール4上に集光する光
学系としてのハーフミラー、51および52は零点位置
検出用パターンを構成する第一の拡散面および第二の拡
散面、7aは第一光束1および第二光束2が照射される
スケール4の零点位置検出用パターン以外の部分で反射
面、1’は第一光束1の反射光、2’は第二光束2の反
射光、6は光線変換手段としての受光素子S1,S2か
らの信号に基づいてスケール4の零点位置を示す信号を
出力する零点検出手段である。
図である。図1において、1はスケール4上で集光する
第一光束、2はスケール4上で集光する第二光束、3は
第一光束1および第2光束をスケール4上に集光する光
学系としてのハーフミラー、51および52は零点位置
検出用パターンを構成する第一の拡散面および第二の拡
散面、7aは第一光束1および第二光束2が照射される
スケール4の零点位置検出用パターン以外の部分で反射
面、1’は第一光束1の反射光、2’は第二光束2の反
射光、6は光線変換手段としての受光素子S1,S2か
らの信号に基づいてスケール4の零点位置を示す信号を
出力する零点検出手段である。
【0010】第一光束1および第二光束2はハーフミラ
ー3で一部が反射してスケール4に垂直入射する。スケ
ール4は駆動手段(図示せず)からの駆動力を受けて、
矢印方向に移動し、拡散面51,52が位置P1,P2
にさしかかると、拡散面51が先に位置P1に到達する
ので、それまで反射面7aで反射していた第一光束1が
拡散面51で分散して受光素子S1に入射する反射光
1’の減少が生じる。続いて、拡散面52が位置P2に
到達すると、第二光束2が拡散面52で分散して受光素
子S2に入射する反射光2’の減少が生じる。
ー3で一部が反射してスケール4に垂直入射する。スケ
ール4は駆動手段(図示せず)からの駆動力を受けて、
矢印方向に移動し、拡散面51,52が位置P1,P2
にさしかかると、拡散面51が先に位置P1に到達する
ので、それまで反射面7aで反射していた第一光束1が
拡散面51で分散して受光素子S1に入射する反射光
1’の減少が生じる。続いて、拡散面52が位置P2に
到達すると、第二光束2が拡散面52で分散して受光素
子S2に入射する反射光2’の減少が生じる。
【0011】この受光素子S1,S2からの信号は互い
に位相がずれた信号であり、各々で信号線Lを介して零
点検出手段6に入力される。零点検出手段6はこれらの
入力信号のレベルが一致した瞬間にスケール4の零点位
置を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケ
ール4の零点位置が検出されたことになる。
に位相がずれた信号であり、各々で信号線Lを介して零
点検出手段6に入力される。零点検出手段6はこれらの
入力信号のレベルが一致した瞬間にスケール4の零点位
置を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケ
ール4の零点位置が検出されたことになる。
【0012】実施例2.図2は請求項1の発明の実施例
を示す概略図である。図2において、1はスケール4上
で集光する第一光束、2はスケール4上で集光する第二
光束、3はハーフミラー、53はおよび54は零点位置
検出用パターンを構成する第一の反射面および第二の反
射面、7bは第一光束1および第二光束2が照射される
スケール4の零点位置検出用パターン以外の部分の拡散
面、1’は第一光束1の反射光、2’は第二光束2の反
射光、S1,S2は受光素子、6は受光素子S1,S2
からの信号に基づいてスケール4の零点位置を示す信号
を出力する零点検出手段である。
を示す概略図である。図2において、1はスケール4上
で集光する第一光束、2はスケール4上で集光する第二
光束、3はハーフミラー、53はおよび54は零点位置
検出用パターンを構成する第一の反射面および第二の反
射面、7bは第一光束1および第二光束2が照射される
スケール4の零点位置検出用パターン以外の部分の拡散
面、1’は第一光束1の反射光、2’は第二光束2の反
射光、S1,S2は受光素子、6は受光素子S1,S2
からの信号に基づいてスケール4の零点位置を示す信号
を出力する零点検出手段である。
【0013】第一光束1および第二光束2はハーフミラ
ー3で一部が反射してスケール4に垂直入射する。スケ
ール4は駆動手段(図示せず)からの駆動力を受けて矢
印方向に移動し、反射面53,54が位置P1,P2に
さしかかると、反射面53が先に位置Pに到達するの
で、それまで拡散面7bで分散していた第一光束1が反
射面53で反射し受光素子S1に入射する反射光1’の
増加が生じる。続いて、反射面54が位置P2に到達し
て第二光束2が反射面54で反射し受光素子S2に入射
する反射光2’の増加が生じる。
ー3で一部が反射してスケール4に垂直入射する。スケ
ール4は駆動手段(図示せず)からの駆動力を受けて矢
印方向に移動し、反射面53,54が位置P1,P2に
さしかかると、反射面53が先に位置Pに到達するの
で、それまで拡散面7bで分散していた第一光束1が反
射面53で反射し受光素子S1に入射する反射光1’の
増加が生じる。続いて、反射面54が位置P2に到達し
て第二光束2が反射面54で反射し受光素子S2に入射
する反射光2’の増加が生じる。
【0014】この受光素子S1,S2からの信号は互い
に位相がずれた信号であり、各々信号線Lを介して零点
検出手段6に入力される。零点検出手段6はこれらの入
力信号のレベルが一致した瞬間にスケール4の零点位置
を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケー
ル4の零点位置が検出されたことになる。
に位相がずれた信号であり、各々信号線Lを介して零点
検出手段6に入力される。零点検出手段6はこれらの入
力信号のレベルが一致した瞬間にスケール4の零点位置
を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケー
ル4の零点位置が検出されたことになる。
【0015】実施例3.図3は請求項2の発明の実施例
を示す概略図である。図3において、11はスケール1
4上で集光する第一光束、12はスケール14上で集光
する第二光束、13は第1光束および第2光束をスケー
ル14に集光する光学系としてのハーフミラー、71お
よび72は零点位置検出用パターンを構成する回折格
子、17aは第一光束11および第二光束12が照射さ
れるスケール14の零点位置検出用パターン以外の部分
である反射面、11’は第一光束11の反射光、12’
は第二光束12の反射光、S1,S2は反射光11’,
12’を受光する光電変換素子としての受光素子、16
は受光素子S1,S2からの信号に基づいてスケール1
4の零点位置を示す信号を出力する零点検出手段であ
る。
を示す概略図である。図3において、11はスケール1
4上で集光する第一光束、12はスケール14上で集光
する第二光束、13は第1光束および第2光束をスケー
ル14に集光する光学系としてのハーフミラー、71お
よび72は零点位置検出用パターンを構成する回折格
子、17aは第一光束11および第二光束12が照射さ
れるスケール14の零点位置検出用パターン以外の部分
である反射面、11’は第一光束11の反射光、12’
は第二光束12の反射光、S1,S2は反射光11’,
12’を受光する光電変換素子としての受光素子、16
は受光素子S1,S2からの信号に基づいてスケール1
4の零点位置を示す信号を出力する零点検出手段であ
る。
【0016】第一光束11および第二光束12はハーフ
ミラー13で一部が反射してスケール14に垂直入射す
る。スケール14は駆動手段(図示せず)からの駆動力
を受けて矢印方向に移動し、回折格子71,72が位置
P1,P2にさしかかると、回折格子71が先に位置P
1に到達するので、それまで反射面17aで反射してい
た第一光束11が回折格子71で回折し受光素子S1に
入射する反射光11’の減少が生じる。続いて、回折格
子72が位置P2に到達して第二光束12が回折格子7
2で回折し受光素子S2に入射する反射光12’の減少
が始まる。
ミラー13で一部が反射してスケール14に垂直入射す
る。スケール14は駆動手段(図示せず)からの駆動力
を受けて矢印方向に移動し、回折格子71,72が位置
P1,P2にさしかかると、回折格子71が先に位置P
1に到達するので、それまで反射面17aで反射してい
た第一光束11が回折格子71で回折し受光素子S1に
入射する反射光11’の減少が生じる。続いて、回折格
子72が位置P2に到達して第二光束12が回折格子7
2で回折し受光素子S2に入射する反射光12’の減少
が始まる。
【0017】この受光素子S1,S2からの信号は互い
に位相がずれた信号であり、各々信号線Lを介して零点
検出手段16に入力される。零点検出手段16はこれら
の入力のレベルが一致した瞬間にスケール14の零点位
置を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケ
ール14の零点位置が検出されたことになる。
に位相がずれた信号であり、各々信号線Lを介して零点
検出手段16に入力される。零点検出手段16はこれら
の入力のレベルが一致した瞬間にスケール14の零点位
置を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケ
ール14の零点位置が検出されたことになる。
【0018】実施例4.図4は請求項2の発明の実施例
を示す概略図である。図4において、11はスケール1
4上で集光する第一光束、12はスケール14上で集光
する第二光束、13はハーフミラー、73および74は
零点位置検出用パターンを構成する第一の反射面および
第二の反射面、17bは第一光束11および第二光束1
2が照射されるスケール14の零点位置検出用パターン
以外の部分の回折格子、11’は第一光束11の反射
光、12’は第二光束12の反射光、16は反射光1
1’,12’を受光する受光素子S1,S2からの信号
に基づいてスケール14の零点位置を示す信号を出力す
る零点検出手段である。
を示す概略図である。図4において、11はスケール1
4上で集光する第一光束、12はスケール14上で集光
する第二光束、13はハーフミラー、73および74は
零点位置検出用パターンを構成する第一の反射面および
第二の反射面、17bは第一光束11および第二光束1
2が照射されるスケール14の零点位置検出用パターン
以外の部分の回折格子、11’は第一光束11の反射
光、12’は第二光束12の反射光、16は反射光1
1’,12’を受光する受光素子S1,S2からの信号
に基づいてスケール14の零点位置を示す信号を出力す
る零点検出手段である。
【0019】第一光束11および第二光束12はハーフ
ミラー13で一部が反射してスケール14に垂直入射す
る。スケール14は駆動手段(図示せず)からの駆動力
を受けて矢印方向P1に到達するので、それまで回析格
子17bで回析していた第一光束11が反射面73で反
射し受光素子S1に入射する反射光11’の増加が生じ
る。続いて、反射面74が位置P2に到達して第二光束
12が反射面74で反射し受光素子S2に入射する反射
光12’の増加が生じる。
ミラー13で一部が反射してスケール14に垂直入射す
る。スケール14は駆動手段(図示せず)からの駆動力
を受けて矢印方向P1に到達するので、それまで回析格
子17bで回析していた第一光束11が反射面73で反
射し受光素子S1に入射する反射光11’の増加が生じ
る。続いて、反射面74が位置P2に到達して第二光束
12が反射面74で反射し受光素子S2に入射する反射
光12’の増加が生じる。
【0020】この受光素子S1,S2からの信号は互い
に位相がずれた信号であり、各々信号線Lを介して零点
検出手段6に入力される。零点検出手段6はこれらの入
力信号のレベルが一致した瞬間にスケール14の零点位
置を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケ
ール14の零点位置が検出されたことになる。
に位相がずれた信号であり、各々信号線Lを介して零点
検出手段6に入力される。零点検出手段6はこれらの入
力信号のレベルが一致した瞬間にスケール14の零点位
置を示す零点信号を発生させるもので、これによりスケ
ール14の零点位置が検出されたことになる。
【0021】
【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、零点位置検出用パターンまたはそれ以外の周囲を拡
散面に形成し、請求項2の発明によれば、零点位置検出
用パターンまたはそれ以外の周囲を回析格子としたの
で、反射面、透過面以外によって零点位置を検出するこ
とができ、エッチングを施さなくても容易に零点位置検
出用パターンが形成できる。この結果、レプリカスケー
ルを応用して零点位置検出用パターンを形成することに
より、型への加工だけで済むため、安価で、かつ高精度
な零点位置検出装置を得ることができるという効果があ
る。
ば、零点位置検出用パターンまたはそれ以外の周囲を拡
散面に形成し、請求項2の発明によれば、零点位置検出
用パターンまたはそれ以外の周囲を回析格子としたの
で、反射面、透過面以外によって零点位置を検出するこ
とができ、エッチングを施さなくても容易に零点位置検
出用パターンが形成できる。この結果、レプリカスケー
ルを応用して零点位置検出用パターンを形成することに
より、型への加工だけで済むため、安価で、かつ高精度
な零点位置検出装置を得ることができるという効果があ
る。
【図1】 本発明の実施例1による零点位置検出装置を
示す斜視図
示す斜視図
【図2】 本発明の実施例2による零点位置検出装置を
示す斜視図
示す斜視図
【図3】 本発明の実施例3による零点位置検出装置を
示す斜視図
示す斜視図
【図4】 本発明の実施例4による零点位置検出装置を
示す斜視図
示す斜視図
【図5】 従来の零点位置検出装置の斜視図
1,11 第一光束 2,12 第二光束 13 ハーフミラー(光学系) 4,14 スケール 5a,5b,15a,15b 零点位置検出用パターン 6,16 零点検出手段 51,52,7b 拡散面 71,72,17b 回折格子
Claims (2)
- 【請求項1】 移動方向前後に位置をずらせて零点位置
検出用パターンが形成されたスケールと、このスケール
上に第一光束および第二光束を集光する光学系と、前記
零点位置検出用パターンで反射した前記第一光束を光電
変換して第一信号を出力する第一光電変換手段と、前記
スケールで反射した第二光束を光電変換して第二信号を
出力する第二光電変換手段と、この第一信号および第二
信号のレベルの一致に応答して前記スケールの零点位置
を示す信号を出力する零点検出手段を有する零点位置検
出装置において、前記零点位置検出用パターン又は該零
点位置検出用パターン以外を拡散面としたことを特徴と
する零点位置検出装置。 - 【請求項2】 移動方向前後に位置をずらせて零点位置
検出用パターンが形成されたスケールと、このスケール
上に第一光束および第二光束を集光する光学系と、前記
零点位置検出用パターンで反射した前記第一光束を光電
変換して第一信号を出力する第一光電変換手段と、前記
スケールで反射した第二光束を光電変換して第二信号を
出力する第二光電変換手段と、この第一信号および第二
信号のレベルの一致に応答して前記スケールの零点位置
を示す信号を出力する零点検出手段を有する零点位置検
出装置において、前記零点検出用パターン又は該零点位
置検出用パターン以外を回折格子としたことを特徴とす
る零点位置検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13535693A JPH06323872A (ja) | 1993-05-13 | 1993-05-13 | 零点位置検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13535693A JPH06323872A (ja) | 1993-05-13 | 1993-05-13 | 零点位置検出装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06323872A true JPH06323872A (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=15149841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13535693A Pending JPH06323872A (ja) | 1993-05-13 | 1993-05-13 | 零点位置検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06323872A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101240413B1 (ko) * | 2009-02-13 | 2013-03-11 | 캐논 가부시끼가이샤 | 원점 검출 장치, 변위 측정 장치 및 광학 장치 |
JP2013224910A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Hitachi Maxell Ltd | 樹脂製エンコーダスケール、樹脂製エンコーダスケール用金型、樹脂製エンコーダスケールの製造方法およびエンコーダ |
-
1993
- 1993-05-13 JP JP13535693A patent/JPH06323872A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101240413B1 (ko) * | 2009-02-13 | 2013-03-11 | 캐논 가부시끼가이샤 | 원점 검출 장치, 변위 측정 장치 및 광학 장치 |
JP2013224910A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Hitachi Maxell Ltd | 樹脂製エンコーダスケール、樹脂製エンコーダスケール用金型、樹脂製エンコーダスケールの製造方法およびエンコーダ |
US10288453B2 (en) | 2012-04-23 | 2019-05-14 | Maxell, Ltd. | Resin encoder scale, mold for resin encoder scale, method for producing resin encoder scale, and encoder |
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