JPH06323810A - マルチプローブ変位測定装置 - Google Patents

マルチプローブ変位測定装置

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JPH06323810A
JPH06323810A JP5112767A JP11276793A JPH06323810A JP H06323810 A JPH06323810 A JP H06323810A JP 5112767 A JP5112767 A JP 5112767A JP 11276793 A JP11276793 A JP 11276793A JP H06323810 A JPH06323810 A JP H06323810A
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東雷 唐
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Abstract

(57)【要約】 【目的】1台の装置で同時に2つの測定面の変位を測定
することができるとともに、2台の装置に比べて大幅に
コストダウン等を図ることができるマルチプローブ変位
測定装置を提供することを目的とする。 【構成】半導体レーザ12の発振周波数を三角波変調電
流によって連続変調し、半導体レーザ12から発振され
たレーザ光を光スイッチ26を介して交互にプローブ2
7Aと27Bとに振り分ける。そして、プローブ27A
及び27Bから光スイッチ26を介して戻ってくる干渉
光をホトダイオード30で電気信号に変換し、この電気
信号をマルチプレクサ32を介してプローブ27A側の
干渉信号と、プローブ27B側の干渉信号に分けて処理
する。即ち、各干渉信号からバンドパスフィルタ34A
及び34Bによって所定周波数成分を取り出し、その取
り出した信号波形に基づいて生成したパルス信号と、レ
ーザ光の変調周期の基づいて生成したパルス信号との周
波数の差をアップダウンカウンタ44A及び44Bで積
算し、その積算値から測定対象28A及び28Bの移動
量を測定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマルチプローブ変位測定
装置に係り、特に駆動電流によって発振周波数を線形的
に変調可能な半導体レーザを利用して測定物の変位を高
精度に測定することができるヘテロダイン干渉式のマル
チプローブ変位測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、周波数変調型のヘテロダイン干渉
式変位測定装置は公知であり、例えば特開昭63−10
1702号公報に記載されている。即ち、この測定装置
は、半導体レーザに加える駆動電流を三角波状に周期的
の変化させ、半導体レーザの発振周波数と発光強度を変
調する。そして、このレーザ光をビームスプリッタで参
照光と物体光(測定物に照射される光)とに分割し、ビ
ームスプリッタの出射面から物体光を測定面に出射し、
その反射光を再び出射面から入射させて前記参照光と重
畳させる。測定面で反射して戻ってきた物体光と参照光
との間には、出射面から測定面までの距離に対応した時
間遅れがあり、両者の周波数は異なる。そのため、参照
光と物体光とで、ヘテロダイン干渉が生じ、そのビート
周波数は出射面から測定面までの距離に対応する。従っ
て、このビート周波数を計数することにより測定物の変
位を測定するようにしている。
【0003】しかしながら、上記従来のヘテロダイン干
渉式変位測定装置は、レーザ光の光路に光ファイバを使
用していないため、環境の影響を受けやすく、またビー
ムスプリッタやミラー等により装置が大型化するという
問題がある。更に、測定物が静止した状態で測定するた
め、移動中の測定物の変位をリアルタイムで測定するこ
とができない。
【0004】これに対し、本出願人は、最近、コモンパ
スを光路としたフィゾー型の干渉計における光路のほと
んどを光ファイバ及び光ファイバカプラによって構成
し、測定環境の影響を受けにくいコンパクトな装置と
し、また、測定面の移動によるドップラ周波数偏移を利
用して、移動中の測定物の変位をリアルタイムで測定す
ることができる周波数変調光ファイバ変位測定装置を提
案した(特願平4−211430号明細書、特願平4−
296057号明細書参照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記変位測
定装置の場合には、2つの測定面の変位を同時に測定す
ることができなかった。本発明はこのような事情に鑑み
てなされたもので、1台の装置で同時に2つの測定面の
変位を測定することができるとともに、2台の装置に比
べてコストダウン及び調整が容易なマルチプローブ変位
測定装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、半導体レーザと、該半導体レーザに所定の
周期Ts (周波数fs )の三角波変調電流を入力する三
角波発生手段と、光学スイッチと、光電変換素子と、前
記半導体レーザから発振されたレーザ光を前記光スイッ
チに導くとともに、該光スイッチを介して戻ってくる光
を前記光電変換素子に導く光学手段と、前記光スイッチ
を介して交互にレーザ光が加えられる第1及び第2の光
ファイバと、前記第1の光ファイバの先端に配設され、
光の一部を出射端面で反射させるとともに残りは透過さ
せ平行光又は集光して第1の測定面を照射させる第1の
プローブと、前記第2の光ファイバの先端に配設され、
光の一部を出射端面で反射させるとともに残りは透過さ
せ平行光又は集光して第2の測定面を照射させる第2の
プローブと、前記光電変換素子からの信号を入力し、該
入力信号を第1及び第2の出力端子に交互に切り換えて
出力するマルチプレクサと、前記光スイッチ及びマルチ
プレクサをそれぞれ前記三角波変調電流の漸増する期間
及び漸減する期間毎に前記光スイッチ及びマルチプレク
サを切り換える切換制御手段と、前記マルチプレクサの
第1及び第2の出力端子の出力信号からそれぞれ前記三
角波の周波数fs のn倍の周波数nfs を中心周波数と
する所定のバンド幅の周波数成分を取り出す第1及び第
2のバンドパスフィルタと、前記第1及び第2のバンド
パスフィルタの出力波形の周波数をそれぞれm倍にした
周波数のパルス信号を出力する第1及び第2のパルス出
力手段と、前記三角波発生手段から出力される三角波変
調電流の周期Ts に同期して、前記周波数nfsと同一
周波数をm倍にした周波数のパルス信号を出力する第3
のパルス出力手段と、前記第1及び第3のパルス出力手
段からそれぞれ出力されるパルス信号における前記第1
のレンズと第1の測定面との相対移動に伴って発生する
周波数の差を積算する第1のカウンタと、前記第2及び
第3のパルス出力手段からそれぞれ出力されるパルス信
号における前記第2のレンズと第2の測定面との相対移
動に伴って発生する周波数の差を積算する第2のカウン
タと、を備えたことを特徴としている。
【0007】
【作用】本発明によれば、半導体レーザの発振周波数を
三角波変調電流によって連続変調し、半導体レーザから
発振されたレーザ光を光スイッチを介して交互に第1及
び第2のプローブに振り分ける。第1及び第2のプロー
ブから光スイッチを介して戻ってくる干渉光を光電変換
素子で電気信号に変換し、この電気信号をマルチプレク
サを介して第1のプローブ側の干渉信号と、第2のプロ
ーブ側の干渉信号に分けて処理する。これにより、1台
の装置で、2つの測定面の変位を同時に測定することが
でき、2台の装置に比べて大幅にコストダウンを図るこ
とができる。また、半導体レーザの波長の較正が1回で
済み、更に2箇所での測定性能を同じにすることができ
る。
【0008】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るマルチプ
ローブ変位測定装置の好ましい実施例を詳述する。図1
は本発明に係るマルチプローブ変位測定装置の一実施例
を示すブロック図であり、図2(A)〜(H)は、三角
波変調電流を用いた場合のそれぞれ図1の各部から出力
される信号波形図である。
【0009】図1に示すように、このマルチプローブ変
位測定装置は、主として三角波発生器10、半導体レー
ザ12、コリメータレンズ14、対物レンズ16、光フ
ァイバカプラ18、光ファイバ21〜25、光スイッチ
26、プローブ27A、プローブ27B、ホトダイオー
ド30、マルチプレクサ32、バンドパスフィルタ34
A、34B、波形整形器36、38A、38B、周波数
逓倍回路40、42A、42B、ゲート回路43A、4
3B及びアップダウンカウンタ44A、44Bから構成
されている。
【0010】三角波発生器10は周期TS (周波数
s 、角周波数ωs )の三角波変調電流Sa(図2
(A))を半導体レーザ12及び波形整形器36に出力
する。波形整形器36は三角波発生器10から入力する
三角波変調電流Saを矩形波の信号Sb(図2(B))
に変換し、この信号Sbを光スイッチ26、マルチプレ
クサ32及び周波数逓倍回路40に出力する。尚、この
信号Sbは、三角波変調電流Saが漸増する期間はハイ
レベルとなり、漸減する期間はローレベルとなる信号で
ある。
【0011】半導体レーザ12は入力する三角波変調電
流Saによって発振周波数と発光強度が変調される。
尚、半導体レーザ12には加熱及び/又は冷却素子13
Aと温度センサ13Bが設けられており、温度コントロ
ーラ13は温度センサ13Bによって検出される温度が
一定値になるように加熱及び/又は冷却素子13Aを制
御する。これにより、半導体レーザ12の温度変化によ
る波長変化を抑え、測定精度を上げている。
【0012】前記半導体レーザ12から出力される変調
されたレーザ光は、コリメータレンズ14及び対物レン
ズ16を介して光ファイバ21の先端に集光される。光
ファイバ21に入射されたレーザ光は、光ファイバカプ
ラ18及び光ファイバ22を介して光スイッチ26に導
かれる。光スイッチ26は、光ファイバ22に対して光
ファイバ23及び24のうちのいずれか一方を光学的に
接続するもので、波形整形器36からの信号Sbに応じ
て交互に切り換えを行う。即ち、信号Sbがハイレベル
のときには光ファイバ22と23とを接続し、信号Sb
がローレベルのときには光ファイバ22と24とを接続
する。
【0013】光ファイバ23及び24の先端には、それ
ぞれプローブ27A及び27Bが設けられている。これ
らのプローブ27A及び27Bは、光の一部を出射端面
で反射させるとともに残りは透過させ平行光又は集光し
て測定面を照射させるもので、例えばセルフォックレン
ズによって構成されている。
【0014】さて、プローブ27Aの端面反射光(参照
光)と、プローブ27Aから出射され測定対象28Aの
測定面で反射されて再びプローブ27Aに入射した測定
面反射光(物体光)との間には、プローブ27Aの出射
端面と測定対象28Aの測定面との距離D1 に対応した
時間遅れがあり、両者の周波数は異なる。そのため、参
照光と物体光とで、ヘテロダイン干渉が生じる。
【0015】同様に、プローブ27Bの参照光と、プロ
ーブ27Bから出射され測定対象28Bの測定面で反射
されて再びプローブ27Bに入射した物体光との間に
は、プローブ27Bの出射端面と測定対象28Bの測定
面との距離D2 に対応した時間遅れがあり、ヘテロダイ
ン干渉が生じる。プローブ27A及び27Bから光ファ
イバ23及び24を介して戻ってくる各干渉信号は、光
スイッチ26、光ファイバ22、光ファイバカプラ18
及び光ファイバ25を介して導かれ、光ファイバ25の
先端に設置されたホトダイオード30により検出され
る。図2(C)は、ホトダイオード30によって検出さ
れた信号Scの波形例を示す。
【0016】このホトダイオード30からの信号Scは
マルチプレクサ32に加えられる。マルチプレクサ32
には波形整形器36から信号Sbが加えられており、マ
ルチプレクサ32は、この信号Sbによって光スイッチ
26での切換えに同期して信号Scを時分割し、プロー
ブ27Aからの干渉光に対応する信号Se1 (図2
(D))をバンドパスフィルタ34Aに出力し、プロー
ブ27Bからの干渉光に対応する信号Se2 (図2
(E))をバンドパスフィルタ34Bに出力する。
【0017】バンドパスフィルタ34A及び34Bは、
それぞれ入力信号Se1 及びSe1からfs の成分を取
り出し、その取り出した信号Sf1 及びSf2 (図2
(F)、(G)))を波形整形器38A及び38Bに出
力する。波形整形器38A及び38Bは、それぞれ入力
信号Sf1 及びSf2 を矩形波の信号Sg1 及びSg2
(図2(H)、(I))に変換し、周波数逓倍回路42
A及び42Bはそれぞれ信号Sg1 及びSg2 の周波数
が予め設定された倍率になるように逓倍し、その逓倍し
た信号(パルス信号)Sg1 ′及びSg2 ′をゲート回
路43A及び43Bの入力G1 に出力する(図2(K)
〜(M)参照)。
【0018】一方、ゲート回路43A及び43Bの入力
2 には、波形整形器36からの信号Sbを周波数逓倍
回路40を介して前記周波数逓倍回路42A及び43B
と同じ倍率で逓倍された信号(パルス信号)Sb′(図
2(J))が加えられている。ゲート回路43Aは、入
力G1 のパルス信号Sg1 ′と入力G2 のパルス信号S
b′の周波数差による新しいパルス信号を作り、アップ
ダウンカウンタ44Aのアップ入力U又はダウン入力D
に出力する。従って、アップダウンカウンタ44Aはパ
ルス信号Sb′とパルス信号Sg1 ′との周波数の差を
積算することになる。同様に、ゲート回路43Bは、入
力G1 のパルス信号Sg2 ′と入力G2のパルス信号S
b′の周波数差による新しいパルス信号を作り、アップ
ダウンカウンタ44Aのアップ入力U又はダウン入力D
に出力する。従って、アップダウンカウンタ44Bはパ
ルス信号Sb′とパルス信号Sg2 ′との周波数の差を
積算することになる。
【0019】ところで、測定対象28Aが停止している
場合には、周波数逓倍回路42Aから出力されるパルス
信号Sg1 ′の周波数は、周波数逓倍回路40から出力
される基準のパルス信号Sb′の周波数と一致し、アッ
プダウンカウンタ44Aのカウント値は変動しないが、
測定対象28Aが移動すると、ドップラ周波数偏移によ
り波形整形器38Aから出力される信号Sg1 (周波数
逓倍回路42Aから出力されるパルス信号Sg1 ′)の
周波数は変動する。即ち、測定対象28Aがプローブ2
7Aから遠ざかる方向に移動すると、パルス信号S
1 ′の周波数は大きくなり(図2(K)参照)、測定
対象28Aがプローブ27Aに近づく方向に移動する
と、パルス信号Sg1 ′の周波数は小さくなる(図2
(L)参照)。
【0020】従って、パルス信号Sb′とパルス信号S
1 ′のパルス数の差は、測定対象28Aの移動速度及
び移動方向に対応し、そのパルス数の差の積算値は測定
対象28Aの移動量に対応する。これにより、測定対象
28Aを或る位置から他の位置に移動させたときのアッ
プダウンカウンタ44Aのカウント値の増減量に基づい
て測定対象28Aの移動距離を測定することができる。
【0021】同様に、測定対象28Bの移動距離も測定
することができるが、測定対象28Bがプローブ27B
から遠ざかる方向に移動すると、パルス信号Sg2 ′の
周波数は小さくなり(図2(M)参照)、測定対象28
Bがプローブ27Bに近づく方向に移動すると、パルス
信号Sg2 ′の周波数は大きくなり、上記パルス信号S
1 ′の場合と逆になる。従って、プローブ27A及び
27Bの特性(アップダウンカウンタの変化方向)を同
一にするため、ゲート回路43A、43Bからのパルス
信号を入力するアップダウンカウンタ44A、44Bの
アップ入力U、ダウン入力Dは互いに逆になっている。
【0022】次に、上記各部における信号を数式で表す
と、以下のようになる。マルチプレクサ32によって分
離された各信号Se1(t)及びSe2(t)は、次式、 Se1(t)=A・cos(ωb1t +φb1) …(1) (0≦t<TS /2) Se2(t)=A・cos(ωb2t −φb2) …(2) (TS /2≦t<TS ) となる。ここで、式(1)、(2)中の上記ビート信号
の角周波数ωb1、ωb2と位相φb1、φb2は、それぞれ次
式、 ωb1=4(Δω/TS )・τ1 =4(Δω/TS )・2π(2D1 /C) …(3) ωb2=4(Δω/TS )・τ2 =4(Δω/TS )・2π(2D2 /C) …(4) φb1=2π(2D1 /λ0 ) …(5) φb2=2π(2D2 /λ0 ) …(6) となる。式(3)〜(6)中で、Δωは図3に示すよう
に角周波数変調幅であり、τ1 はプローブ27Aの参照
光と物体光との時間遅れであり、τ2 はプローブ27B
の参照光と物体光との時間遅れであり、ω0 及びλ0
バイアス電流i0で駆動時の半導体レーザ12の角周波
数及び波長である。
【0023】また、バンドパスフィルタ34A及び34
Bから出力される信号Sf1(t)及びSf2(t)は、 Sf1(t) =B・cos(ωSt +φb1) …(7) Sf2(t) =B・cos(ωSt −φb2) …(8) となる。
【0024】式(7)、(8)からも明らかなように位
相φb2と位相φb1の符号は逆になる。また、Sf1(t)、
Sf2(t)の位相変化Δφb1、Δφb2を測定すれば、測定
面の変位ΔD1 、ΔD2 が求められる。尚、本実施例で
は、ホトダイオード30の出力信号をマルチプレクサ3
2によって2つの信号Se1 及びSe2 に振り分けるよ
うにしたが、これに限らず、光ファイバ25に別途光ス
イッチを設け、干渉光の段階で2つの干渉光に振り分
け、このようにして振り分けた各干渉光をそれぞれ2つ
のホトダイオードで光電変換するようにしてもよい。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るマルチ
プローブ変位測定装置によれば、1台の装置で同時に2
つの測定面の変位を測定することができるとともに、2
台の装置に比べて大幅にコストダウンを図ることができ
る。また、半導体レーザの波長の較正が1回で済み、調
整が容易になる利点がある。
【0026】更に、レーザ光の光路のほとんどを光ファ
イバ及び光ファイバカプラによって構成したため、測定
環境の影響を受け難く大きな変位を高精度、高分解能で
測定することができ、かつ装置をコンパクトにすること
ができる。また、測定面の移動によるドップラ周波数偏
移を利用しているため、移動中の測定物の変位をリアル
タイムで測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明に係るマルチプローブ変位測定装
置の一実施例を示すブロック図である。
【図2】図2(A)〜(M)は三角波の変調電流を用い
た場合のそれぞれ図1の各部から出力される信号波形図
である。
【図3】図3は三角波の変調電流を用いた場合の物体光
と参照光の発振角周波数と発光強度変化を示す波形図で
ある。
【符号の説明】
10…三角波発生器 12…半導体レーザ 13…温度コントローラ 13A…加熱及び/又は冷却素子 13B…温度センサ 14…コリメータレンズ 16…対物レンズ 18…光ファイバカプラ 21、22、23、24、25…光ファイバ 27A、27B…プローブ 28A、28B…測定対象 30…ホトダイオード 34A、34B…バンドパスフィルタ 36、38A、38B…波形整形器 40、42A、42B…周波数逓倍回路 43A、43B…ゲート回路 44A、44B…アップダウンカウンタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザと、 該半導体レーザに所定の周期Ts (周波数fs )の三角
    波変調電流を入力する三角波発生手段と、 光学スイッチと、 光電変換素子と、 前記半導体レーザから発振されたレーザ光を前記光スイ
    ッチに導くとともに、該光スイッチを介して戻ってくる
    光を前記光電変換素子に導く光学手段と、 前記光スイッチを介して交互にレーザ光が加えられる第
    1及び第2の光ファイバと、 前記第1の光ファイバの先端に配設され、光の一部を出
    射端面で反射させるとともに残りは透過させ平行光又は
    集光して第1の測定面を照射させる第1のプローブと、 前記第2の光ファイバの先端に配設され、光の一部を出
    射端面で反射させるとともに残りは透過させ平行光又は
    集光して第2の測定面を照射させる第2のプローブと、
    前記光電変換素子からの信号を入力し、該入力信号を第
    1及び第2の出力端子に交互に切り換えて出力するマル
    チプレクサと、 前記光スイッチ及びマルチプレクサをそれぞれ前記三角
    波変調電流の漸増する期間及び漸減する期間毎に前記光
    スイッチ及びマルチプレクサを切り換える切換制御手段
    と、 前記マルチプレクサの第1及び第2の出力端子の出力信
    号からそれぞれ前記三角波の周波数fs のn倍の周波数
    nfs を中心周波数とする所定のバンド幅の周波数成分
    を取り出す第1及び第2のバンドパスフィルタと、 前記第1及び第2のバンドパスフィルタの出力波形の周
    波数をそれぞれm倍にした周波数のパルス信号を出力す
    る第1及び第2のパルス出力手段と、 前記三角波発生手段から出力される三角波変調電流の周
    期Ts に同期して、前記周波数nfs と同一周波数をm
    倍にした周波数のパルス信号を出力する第3のパルス出
    力手段と、 前記第1及び第3のパルス出力手段からそれぞれ出力さ
    れるパルス信号における前記第1のレンズと第1の測定
    面との相対移動に伴って発生する周波数の差を積算する
    第1のカウンタと、 前記第2及び第3のパルス出力手段からそれぞれ出力さ
    れるパルス信号における前記第2のレンズと第2の測定
    面との相対移動に伴って発生する周波数の差を積算する
    第2のカウンタと、 を備えたことを特徴とするマルチプローブ変位測定装
    置。
  2. 【請求項2】 前記光学手段は、第3、第4及び第5の
    光ファイバと、光ファイバカプラとから成り、前記半導
    体レーザから発振されたレーザ光を前記第1の光ファイ
    バ、光ファイバカプラ及び第4の光ファイバを介して前
    記光スイッチに導き、前記光スイッチを介して戻ってく
    る光を前記第4の光ファイバ、光ファイバカプラ及び第
    5の光ファイバを介して前記光電変換素子に導く請求項
    1のマルチプローブ変位測定装置。
  3. 【請求項3】 前記光電変換素子及びマルチプレクサの
    代わりに、前記第1及び第2のバンドパスフィルタに信
    号を出力する第1及び第2の光電変換素子と、前記第5
    の光ファイバからの光を前記光スイッチと同期して交互
    に前記第1及び第2の光電変換素子に出力する第2の光
    スイッチと、を設けたことを特徴とする請求項2のマル
    チプローブ変位測定装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009524064A (ja) * 2006-01-23 2009-06-25 ザイゴ コーポレーション 物体をモニタする干渉計システム
JP2015194410A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 株式会社東京精密 3次元座標測定装置及び方法、並びに校正装置
JP2019522211A (ja) * 2016-07-28 2019-08-08 ストローブ, インク.Strobe, Inc. 分散型のライダシステム
JP2020165667A (ja) * 2019-03-28 2020-10-08 株式会社東京精密 形状測定機及びその制御方法

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