JPH06317854A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH06317854A JPH06317854A JP12182093A JP12182093A JPH06317854A JP H06317854 A JPH06317854 A JP H06317854A JP 12182093 A JP12182093 A JP 12182093A JP 12182093 A JP12182093 A JP 12182093A JP H06317854 A JPH06317854 A JP H06317854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- work
- exposure
- liquid crystal
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光原稿を簡単に構築することができる露光
装置を提供することを目的とする。 【構成】 パソコン2によって制御される液晶パネル1
と、ミラー7を介して液晶パネル1に光を照射する光源
と、液晶パネル1の透過光をワーク11に照射せしめる
ミラー8とレンズ9及びフィルタ10を設ける。
装置を提供することを目的とする。 【構成】 パソコン2によって制御される液晶パネル1
と、ミラー7を介して液晶パネル1に光を照射する光源
と、液晶パネル1の透過光をワーク11に照射せしめる
ミラー8とレンズ9及びフィルタ10を設ける。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、LCD基盤,PCB基
盤,ICウエハー等へ回路パターン,コードパターン,
文字、符号等を造形する場合の露光装置や、焼付装置,
写植機,印刷装置などの露光装置として使用される露光
装置に関するものである。
盤,ICウエハー等へ回路パターン,コードパターン,
文字、符号等を造形する場合の露光装置や、焼付装置,
写植機,印刷装置などの露光装置として使用される露光
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年ICウエハー,LCD基盤等の高密
度化が進み、スペース有効利用の問題が重要視されてき
ており、それに伴いそこに使用されている管理コードも
一層の小型化が要求されてきている。従来管理コードと
して使用されていた英数字文字も限界に達しており、2
次元コードのようなスペース効率の良いコードが要望さ
れている。
度化が進み、スペース有効利用の問題が重要視されてき
ており、それに伴いそこに使用されている管理コードも
一層の小型化が要求されてきている。従来管理コードと
して使用されていた英数字文字も限界に達しており、2
次元コードのようなスペース効率の良いコードが要望さ
れている。
【0003】ところが、2次元コードのような組み合わ
せの多いパターンを一品一様で露光する方法がなかっ
た。
せの多いパターンを一品一様で露光する方法がなかっ
た。
【0004】即ち、従来の可変情報を露光する方法は、
あらかじめいくつかのマスクパターン(英数字等)を用
意しておき、それを一回ずつ移動させて露光し、ワーク
に焼付ける方法を採っていた。
あらかじめいくつかのマスクパターン(英数字等)を用
意しておき、それを一回ずつ移動させて露光し、ワーク
に焼付ける方法を採っていた。
【0005】しかし、この方法だと用意しておくパター
ンの種類及びマーク時間に問題があり、2次元コードの
ような大量のパターン数が必要なコードは実現不可能で
あった。
ンの種類及びマーク時間に問題があり、2次元コードの
ような大量のパターン数が必要なコードは実現不可能で
あった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、複雑
な露光原稿をその場で自由に構築でき、さらに一度にマ
ーキングできる露光装置を提供することを課題とするも
のである。
な露光原稿をその場で自由に構築でき、さらに一度にマ
ーキングできる露光装置を提供することを課題とするも
のである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたもので、コンピュータと、このコ
ンピュータによって制御される液晶パネルと、この液晶
パネルに光を投射しその透過光により液晶パネルに表示
されるパターンをワークに撮影するための光源から構成
したものである。
決するためになされたもので、コンピュータと、このコ
ンピュータによって制御される液晶パネルと、この液晶
パネルに光を投射しその透過光により液晶パネルに表示
されるパターンをワークに撮影するための光源から構成
したものである。
【0008】液晶パネルにはコンピュータのデイスプレ
イと同様の任意パターンをキーボードを操作することに
よって得られるので、複雑なパターンの露光原稿を簡単
に得ることができ、一度の露光で複雑なパターンをワー
クにマーキングすることができる。
イと同様の任意パターンをキーボードを操作することに
よって得られるので、複雑なパターンの露光原稿を簡単
に得ることができ、一度の露光で複雑なパターンをワー
クにマーキングすることができる。
【0009】
【実施例】図1は本発明の実施例のブロック図で、1は
パーソナルコンピュータ(以下パソコンという)2によ
って制御される裏板のない光透過型の液晶パネル、3は
キーボード、4はパソコン1のディスプレイ、5は2次
元コードパターン信号に変換する2次元コード変換器、
6は光源、7及び8はミラー、9はレンズ、10はフィ
ルタ、11はX−Yテーブル12上に置いたワーク(例
えばLCD基盤やPCB基盤のフォトレジスト,ICウ
エハー)である。
パーソナルコンピュータ(以下パソコンという)2によ
って制御される裏板のない光透過型の液晶パネル、3は
キーボード、4はパソコン1のディスプレイ、5は2次
元コードパターン信号に変換する2次元コード変換器、
6は光源、7及び8はミラー、9はレンズ、10はフィ
ルタ、11はX−Yテーブル12上に置いたワーク(例
えばLCD基盤やPCB基盤のフォトレジスト,ICウ
エハー)である。
【0010】次にその使用法について説明すると、キボ
ード3を操作してディスプレイ4の画面に希望するパタ
ーンを表示させる。まずこの場合ディスプレイ4に表示
されたパターンと同じものが、液晶パネル1に表示され
る。また、2次元コードパターンを表示させる場合は、
パソコン2の出力信号を2次元コード変換器5を通して
ディスプレイ4の画面と液晶パネル1に表示させる。
ード3を操作してディスプレイ4の画面に希望するパタ
ーンを表示させる。まずこの場合ディスプレイ4に表示
されたパターンと同じものが、液晶パネル1に表示され
る。また、2次元コードパターンを表示させる場合は、
パソコン2の出力信号を2次元コード変換器5を通して
ディスプレイ4の画面と液晶パネル1に表示させる。
【0011】次いで光源6を点灯させ、光をミラー7を
介して液晶パネル1に照射させ、その透過光によりミラ
ー8,レンズ9及びフィルタ10を介して液晶パネル1
に表示されているパターン、つまり露光原稿をワーク1
1にマーキングする。レンズ9はワーク11に所望のサ
イズの光の像が結ばれるような倍率に設定しておき、ま
たX−Yテーブル12はマーキングしたい位置にワーク
11があるように調整しておき、複雑のパターンをマー
キングする場合は、光源6の点滅とX−Yテーブル12
の移動を交互に行う。
介して液晶パネル1に照射させ、その透過光によりミラ
ー8,レンズ9及びフィルタ10を介して液晶パネル1
に表示されているパターン、つまり露光原稿をワーク1
1にマーキングする。レンズ9はワーク11に所望のサ
イズの光の像が結ばれるような倍率に設定しておき、ま
たX−Yテーブル12はマーキングしたい位置にワーク
11があるように調整しておき、複雑のパターンをマー
キングする場合は、光源6の点滅とX−Yテーブル12
の移動を交互に行う。
【0012】光源の種類は、ワーク11(フォトレジス
ト)の特性に応じて最適なものを選択し、またフィルタ
ー10を選んで最適波長の光を露光に用いるようにす
る。
ト)の特性に応じて最適なものを選択し、またフィルタ
ー10を選んで最適波長の光を露光に用いるようにす
る。
【0013】以上説明した液晶パネル1を用いた露光装
置は、印刷装置,写植機,焼付装置の露光装置として有
用であることは説明するまでもないところであるので、
こゝではそれらの具体的実施例は省略する。
置は、印刷装置,写植機,焼付装置の露光装置として有
用であることは説明するまでもないところであるので、
こゝではそれらの具体的実施例は省略する。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、キーボード3を操作す
ることにより、任意のパターンの露光原稿を自由に構築
することができるので、従来、不可能視されていた2次
元コード等の複雑なパターンの露光、焼付、印刷等を工
業化することが可能となった。
ることにより、任意のパターンの露光原稿を自由に構築
することができるので、従来、不可能視されていた2次
元コード等の複雑なパターンの露光、焼付、印刷等を工
業化することが可能となった。
【図1】本発明の実施例のブロック図である。
1 液晶パネル 2 パソコン 3 キーボード 4 ディスプレイ 5 2次元コード変換器 6 光源 7,8 ミラー 9 レンズ 10 フィルタ 11 ワーク 12 X−Yテーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B41J 2/44 G02F 1/13 9017−2K G03F 1/00 Z 7369−2H 7/20 7316−2H 521 7316−2H H01L 21/027 // G03G 15/04 116
Claims (4)
- 【請求項1】 コンピュータと、このコンピュータによ
って制御される液晶パネルと、この液晶パネルに光を投
射し透過光により液晶パネルに表示されるパターンをワ
ークに投影するための光源を具備したことを特徴とする
露光装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の露光装置を具備したこと
を特徴とする印刷装置。 - 【請求項3】 請求項1記載の露光装置を具備したこと
を特徴とする写植機。 - 【請求項4】 請求項1記載の露光装置を具備したこと
を特徴とする焼付装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12182093A JPH06317854A (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12182093A JPH06317854A (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06317854A true JPH06317854A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14820746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12182093A Pending JPH06317854A (ja) | 1993-04-14 | 1993-04-14 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06317854A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6116534B2 (ja) * | 1982-11-30 | 1986-05-01 | Mitsui Zosen Kk |
-
1993
- 1993-04-14 JP JP12182093A patent/JPH06317854A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6116534B2 (ja) * | 1982-11-30 | 1986-05-01 | Mitsui Zosen Kk |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3254248B2 (ja) | パターニング装置 | |
US6509955B2 (en) | Lens system for maskless photolithography | |
TWI261732B (en) | Composite optical lithography method for patterning lines of significantly different widths | |
US5082755A (en) | Liquid crystal programmable photoresist exposure method for making a set of masks | |
WO2002012961A1 (en) | System and method for making smooth diagonal components with a digital photolithography system | |
TW344129B (en) | Pattern forming method and method of manufacturing liquid crystal display device | |
US5105215A (en) | Liquid crystal programmable photoresist exposure system | |
US7058109B2 (en) | Image amplification for laser systems | |
KR20060135334A (ko) | 주사형 노광장치 및 그 노광방법 | |
JPH06324474A (ja) | フオトマスク及び露光方法 | |
KR970067587A (ko) | 패턴분할방법 및 노광방법 | |
TWI296737B (en) | Maskless optical writer | |
KR20120130977A (ko) | 감광막 패턴 및 그 제조 방법 | |
JPH06317854A (ja) | 露光装置 | |
JPH0619106A (ja) | 画像露光方法及び画像露光装置 | |
JPH1152541A (ja) | 露光マスク装置 | |
JPS62122126A (ja) | 露光方法 | |
JPH0513303A (ja) | 縮少投影露光装置 | |
JP3253686B2 (ja) | レジストパターンの形成方法 | |
JPH06224099A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
CN219202128U (zh) | 一种曝光装置、及包含该曝光装置的光刻设备 | |
JP2003066614A (ja) | 露光システム | |
JPS5825664A (ja) | 原稿マスク装置 | |
JPH02120741A (ja) | 露光装置及びこの装置を用いたマーキング方法 | |
Muller et al. | High resolution photo-patterning on large area substrates |