JPH06310578A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH06310578A
JPH06310578A JP12198993A JP12198993A JPH06310578A JP H06310578 A JPH06310578 A JP H06310578A JP 12198993 A JP12198993 A JP 12198993A JP 12198993 A JP12198993 A JP 12198993A JP H06310578 A JPH06310578 A JP H06310578A
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JP
Japan
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power supply
test
burn
supply terminal
terminal
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JP12198993A
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Tadashi Saito
正 斉藤
Seiichi Suzuki
征一 鈴木
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 テープキャリアに複数の半導体素子を搭載し
てバーインテストを行うようにした半導体装置におい
て、特殊な回路素子を設けることなく機能テスト時に各
半導体素子を電気的に独立させることを可能とする。 【構成】 テープキャリア上に搭載された複数個の半導
体素子10には、回路本体11と、この回路本体11に
直接接続される電源端子20と、回路本体11とバーイ
ンテスト用の電源ライン6に接続されたバーインテスト
用電源端子15との間に接続されて、テスティング端子
18に印加される信号レベルよってオン・オフ制御され
るトランジスタスイッチ16を設け、機能テスト時には
スイッチ16をオフさせてバーインテスト用電源端子1
5をオープンにし、その半導体素子を他の半導体装置か
ら電気的に独立させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
フィルム状をしたテープを用いてテープキャリヤ方式で
実装された半導体素子に機能テストを行うための通電回
路を備えた半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子は初期不良品の排除を行うた
めに製造直後の機能テストを行うが、経時的に現れてく
る欠陥にともなう不良は製造後一定時間デバイスに通電
して不良品を排除するいわゆるバーインテストを行う。
通常、このバーインテストは高温で経時的に現れる不良
を加速させて行うことが多い。ところで、複数個の半導
体素子を一つのテープに搭載した所謂テープキャリア方
式で実装された半導体素子にこの種のバーインテストを
行う場合、各半導体素子に同時に通電を行うために各半
導体素子に共通してバーインテスト用の電源ラインを設
けている。例えば、図4に示すように、テープキャリア
1にはバーインテスト用の一対の電源ライン6,7を設
け、搭載した複数個の半導体素子10はこれらの電源ラ
イン6,7にそれぞれ接続した構成としている。このた
め、そのうちの一つの半導体素子が不良である場合に
は、各電源ライン6,7が短絡状態となり、他の良品半
導体素子を含む半導体装置のバーインテストを正確に行
うことができなくなることがある。
【0003】したがって、従来では図4に示すように、
テープキャリア1を半導体素子毎に切断して個片状と
し、各半導体素子毎に機能テストを行った上で不良品を
排除してバーインテストを行なっている。しかし、この
方式では個片状に切断する工数と、出荷の際に各個片を
再度テープ状につなぐための工数がかかるため、生産コ
ストアップになる。したがって、テープキャリヤのまま
各半導体素子の機能テストとバーインテストを行う方法
が好ましく、次のような方式が提案されていい。
【0004】図5は特開平2─187047号公報に記
載された方式であり、テープキャリア1に形成された電
源ライン6,7と半導体素子10の間に銅箔等で抵抗素
子Rを設け、この抵抗素子Rにより各半導体素子間を電
気的に分離した状態とした上で個別に機能テストを行
い、不良半導体素子10を電源ライン6P7から隔絶さ
せた状態とした上でバーインテストを行っている。しか
し、この抵抗素子Rを形成するためには銅箔をエッチン
グする等の工数が必要であり、かつ絶縁効果の高い高抵
抗を形成することが難しいという問題がある。
【0005】また、図6は特開平3─160739号公
報に記載された方式であり、テープキャリア1に形成さ
れた電源ライン6と各半導体素子10とを微細寸法で離
間された端子Tで分離させておき、この状態で各半導体
素子10を個別にテストした後、半田槽に入れて分離さ
れた端子Tを接続させ、各半導体素子10を電源ライン
6に接続してバーインテストを行っている。しかし、テ
ープキャリアを半田槽に入れるなどの工程が必要であ
り、コスト上障害が生じる。なお、これと似たものとし
て特開平2─45949号等に提案されているものがあ
るが、この方式においても、工程が増えコスト上の障害
が生じる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来行
われているバーインテスト方式では、テープキャリアの
ままで半導体素子のバーインテストを行うようにした場
合、各半導体素子の機能テストを行う際に電源ラインと
各半導体素子とを電気的に分離させるために、高抵抗を
形成したり、或いは分離端子を形成してその後に接続を
行う等、半導体素子以外の回路素子を形成する必要があ
り、工数が増加してコスト的に不利になるという問題が
ある。本発明の目的は、テープキャリアに特殊な回路素
子を形成することなく各半導体素子を電源ラインから電
気的に分離させることが可能な半導体装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
テープキャリア上に複数個の半導体素子を搭載し、かつ
各半導体素子にバーインテスト用の電源ラインを通して
同時に電源を供給するようにした半導体装置において、
各半導体素子を、回路本体と、この回路本体に直接接続
される電源端子と、回路本体とバーインテスト用の電源
ラインに接続されたバーインテスト用電源端子との間に
接続されて、半導体素子の外部からオン・オフ制御可能
なスイッチ手段を設けている。スイッチ手段は、バーイ
ンテスト用電源端子と電源端子との間にソース・ドレイ
ンを接続し、かつそのゲートを半導体素子に設けたテス
ティング端子に接続した電界効果トランジスタで構成
し、テスティング端子に印加される信号レベルによって
電界効果トランジスタをオン・オフ動作させるように構
成する。或いは、スイッチ手段は、バーインテスト用電
源端子と電源端子との間に介挿され、電源端子側からバ
ーインテスト用電源端子に向けて逆極性に接続されたダ
イオードで構成する。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の一実施例の半導体装置の概略構成を
示す平面図である。長尺フィルムで形成されるテープキ
ャリヤ1の幅方向の中央部位には複数個のデバイスホー
ル2が配列形成され、かつ両側には多数個のスプロケッ
トホール3が配列形成される。また、このテープキャリ
ア1の片面には銅箔等の導電膜によりデバイスホール2
に臨んでリード4とパッド5が形成され、かつ同様にテ
ープキャリア1の両側に沿ってバーインテスト用のVDD
ライン6とVSSライン7が延設されている。そして、前
記デバスイホール2にはそれぞれ半導体素子10が搭載
される。この半導体素子10は例えば図示を省略する電
極に設けたバンプを前記リード4にボンディングする等
の手法によって搭載される。
【0009】前記半導体素子10の回路構成を図2に示
す。回路本体11は半導体素子の本来の回路を構成する
ものであり、入力端子12及び出力端子13が接続され
る。また、この回路本体11に対してはテスティング回
路14が付加される。テスティング回路14は前記バー
インテスト用VDDライン6に接続されるバーインテスト
用VDD電源端子15を前記回路本体11に接続し或いは
切離するためのPチャネルMOSトランジスタで構成さ
れるスイッチ16が設けられる。そして、このスイッチ
16をオン,オフ制御するためのインバータ17がPチ
ャネルMOSトランジスタのゲートに接続され、更にテ
スティング端子18に接続される。また、ゲートとバー
インテスト用VDD電源端子15との間にプルアップ抵抗
19が接続され、スイッチ16と回路本体11との接続
点にはVDD電源端子20が接続される。更に、VSS電源
端子21はバーインテスト用VSSライン7に接続され
る。なお、前記VDD電源端子20、テスティング端子1
8、入力端子12、出力端子13はそれぞれ前記リード
4及びパッド5に接続されている。
【0010】このように構成された半導体装置の回路動
作について説明する。先ず、テープキャリヤ1上に搭載
された各半導体素子10の機能テストを行う。この工程
では、機能テストを行う半導体素子のテステイング端子
18をローレベルにすると、インバータ17の出力はハ
イレベルとなりPチャネルMOSトランジスタからなる
スイッチ16はオフとなり、回路本体11はバーインテ
スト用VDDライン6から切り離され、結果としてこの半
導体素子10はテープキャリア1に搭載されている他の
半導体素子から独立となる。したがって、この半導体素
子10のVDD電源端子20に所定の電圧を供給し、かつ
入力端子12及び出力端子13をパッド5を利用して図
外のテスト装置に接続することにより、半導体素子10
を独立した状態で機能テストを行うことができる。この
機能テストの結果、不良品が発見されたとには、その半
導体素子をテープキャリヤ1から機械的に打ち抜いて除
去する。
【0011】次に、機能テストが終了して良品とされた
半導体素子10に対してバーインテストを行う回路動作
を説明する。バーインテスト時にはバーインテスト用の
VDDライン6とVSSライン7との間に電圧を印加する。
また、同時にテスティング端子18をオープン状態とす
ると、インバータ17の入力はプルアップ抵抗19によ
りハイレベルとなりインバータ17の出力はロ−レベル
となってスイッチ16はオンされ、バーインテスト用V
DD電源端子15と回路本体11とが接続される。これに
より、回路本体11はVDDライン6とVSSライン7にそ
れぞれ接続され、バーインテストが可能となる。これは
機能テストにおいて良品とされたテープキャリア1上の
他の半導体素子においても同じである。なお、バーイン
テスト後に個々に分離されたこの種の半導体装置を実際
に使うには、バーインテスト用VDD電源端子15を用い
ずにVDD電源端子20のみを使用すればよい。
【0012】したがって、この半導体装置では、機能テ
スト時にはテスティング端子18に所定の信号を入力す
れば回路本体11をVDDライン6から切り離すことがで
き、個々の半導体素子を独立させることができる。ま
た、バーインテスト時にはテスティング端子18に何ら
信号を入力しなければ回路本体11をVDDライン6に接
続することができ、テープキャリア1上の全ての半導体
素子に通電を行うことができる。これにより、個々の半
導体素子10をVDDライン6から機械的或いは電気的に
切り離すための回路素子をテープキャリア1に設ける必
要がなく、工数の増大を防止することが可能となる。な
お、各半導体素子に設けたテステイング回路は僅かな素
子数で構成できるので素子数の多い回路本体11だけを
シリコン基板上に構成する場合と比較してもチップサイ
ズが大きくなることは殆どなく、コスト上昇もない。し
たがって、従来のものに比較してテープキャリヤ上での
バーインテストを低コストで実行することができる。
【0013】図3は本発明の第2実施例を示し、半導体
素子に設けられるテスティング回路の変形例を示した図
である。ここではテスティング回路14Aは、回路本体
11とバーインテスト用VDD電源端子15との間に介挿
したダイオード22で構成されている。なお、回路本体
11には入力端子12,出力端子13,VDD電源端子2
0,VSS電源端子21が接続され、入力端子12,出力
端子13は図1に示したようにリード4及びパッド5に
接続され、VSS電源端子21はテープキャリア1に設け
たVSSライン6に接続されていることは言うまでもな
い。また、前記バーインテスト用VDD電源端子20はV
DDライン6に接続されていることも勿論である。
【0014】この回路では、半導体素子の機能テストに
際しては、機能テストを行う半導体素子のVDD電源端子
20に所定の電圧を供給する一方、バーインテスト用V
DD電源端子15が接続されているVDDライン6には前記
VDD電源端子20に供給されている電圧値よりダイオー
ド22のVF 電圧分だけ低い電圧を印加する。このため
ダイオード22は逆バイアスとなってオフとなり、各半
導体素子の回路本体11はVDDライン6から切り離され
た状態となり、テープキャリアに搭載された各半導体素
子は個々に分離された状態となる。したがって、入力端
子12及び出力端子13をパッド5を通して図外のテス
ト装置に接続することで半導体素子10を個別にテスト
することができる。不良品はこの工程でフィルムキャリ
ヤ1より打ち抜かれる。
【0015】不良品が除かれたテープキャリア上の各半
導体素子をバーインテストする際には、VDD電源端子2
0には電圧を加えず、バーインテスト用のVDDライン6
にのみ所定の電圧を印加する。これにより、ダイオード
22はオン状態となり、回路本体11にはバーインテス
ト用VDD電源端子15から所定の電圧が印加される。こ
の時にはテープキャリア1上の全ての半導体素子の回路
本体に電圧が印加され、各半導体素子のバーインテスト
が可能となる。なお、バーインテスト終了後に半導体装
置を実際に使うにはVDD電源端子20を用いればよいこ
とは言うまでもない。また、バーインテスト用VDD電源
端子15を用いてもよく、この場合にはダイオード22
をVDD−VSS間の電源保護ダイオードとしても使える利
点がある。このように本実施例でもテスティング回路を
設けた場合でも半導体素子の素子数の増加が僅かで、シ
リコン基板上に構成してもチップサイズの増加にはなら
ない程度である。したがって、従来のものに比べて工程
数を増加することなく低コストでのバーインテストが実
行できる。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、テープキ
ャリア上に搭載される複数個の半導体素子には、それぞ
れバーインテスト用電源端子と電源端子とを設けるとと
もに、これらの電源端子間に外部からオン・オフ制御可
能なスイッチ手段を設けているので、スイッチ手段をオ
フしたときにはバーインテスト用電源端子をオープン状
態として半導体素子を他から切り離してその機能テスト
を可能とし、スイッチ手段をオンしたときには各半導体
素子にバーインテスト用電源を供給してバーインテスト
を実行することができる。これにより、テープキャリア
には機械的或いは電気的に各半導体素子を他から分離さ
せるための回路素子が不要となり、工数を低減できると
ともに低コスト化を実現できる効果がある。ここで、ス
イッチ手段を電界効果トランジスタで構成し、テスティ
ング端子に印加される信号レベルによって電界効果トラ
ンジスタを任意にオン・オフ動作させる構成とすれば、
選択された半導体素子のスイッチ手段をオフすると共に
その電源端子に電源を供給することで、その半導体素子
にのみ個別に電源を供給し、その半導体素子の機能テス
トが可能となる。また、電界効果トランジスタをオンし
たときには、その半導体素子には他の半導体素子と共に
バーインテスト用電源を供給することが可能となる。ま
た、スイッチ手段をダイオードで構成し、電源端子に対
してバーインテスト用電源端子の供給電圧を低くすれば
ダイオードをオフさせ、その半導体素子を他の半導体素
子から切り離して機能テストが可能となり、バーインテ
スト用電源端子の電圧を高くすればダイオードをオンさ
せて他の半導体素子と共にバーインテスト用電源を供給
することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の外観構成を示す平面図で
ある。
【図2】本発明の第1実施例の半導体素子の回路構成図
である。
【図3】本発明の第2実施例の半導体素子の回路構成図
である。
【図4】従来の半導体装置の一例の平面図である。
【図5】従来の半導体装置の他の例の平面図である。
【図6】従来の半導体装置の更に他の例の平面図であ
る。
【符号の説明】
1 テープキャリア 4 リード 5 パッド 6 バーインテスト用VDDライン 7 VSSライン 10 半導体素子 11 回路本体 12 入力端子 13 出力端子 14,14A テスティング回路 15 バーインテスト用VDD電源端子 16 スイッチ 18 テスティング端子 20 VDD電源端子 21 VSS電源端子

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 テープキャリア上に複数個の半導体素子
    を搭載すると共に、前記各半導体素子に同時にバーイン
    テスト用の電源を供給するための電源ラインを設けた半
    導体装置において、前記各半導体素子は、回路本体と、
    この回路本体に直接接続される電源端子と、前記回路本
    体と前記バーインテスト用の電源ラインに接続されたバ
    ーインテスト用電源端子との間に接続されて、半導体素
    子の外部からオン・オフ制御可能なスイッチ手段を設け
    たことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 スイッチ手段は、バーインテスト用電源
    端子と電源端子との間にソース・ドレインを接続し、か
    つそのゲートを半導体素子に設けたテスティング端子に
    接続した電界効果トランジスタで構成し、テスティング
    端子に印加される信号レベルによって電界効果トランジ
    スタをオン・オフ動作させるように構成してなる請求項
    1の半導体装置。
  3. 【請求項3】 スイッチ手段は、バーインテスト用電源
    端子と電源端子との間に介挿され、電源端子側からバー
    インテスト用電源端子に向けて逆極性に接続されたダイ
    オードである請求項1の半導体装置。
JP12198993A 1993-04-26 1993-04-26 半導体装置 Pending JPH06310578A (ja)

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KR100274710B1 (ko) * 1996-06-27 2000-12-15 가네꼬 히사시 결함이 있는 디바이스의 영향 없이 반도체 디바이스를 시험하는 시스템 및 그것에 사용되는 시험 방법
WO2011161819A1 (ja) * 2010-06-25 2011-12-29 富士通株式会社 電源電流測定装置、電源電流測定装置を含む試験装置、及び電源電流測定装置を含む情報処理装置
JP2021196284A (ja) * 2020-06-16 2021-12-27 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置

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