JPH06281921A - 平面表示装置 - Google Patents
平面表示装置Info
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- JPH06281921A JPH06281921A JP5070074A JP7007493A JPH06281921A JP H06281921 A JPH06281921 A JP H06281921A JP 5070074 A JP5070074 A JP 5070074A JP 7007493 A JP7007493 A JP 7007493A JP H06281921 A JPH06281921 A JP H06281921A
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- Japan
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- film
- transparent
- transparent substrate
- ito film
- light
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は各種電子機器において表示手段とし
て広く用いられている平面表示装置において、視覚に対
して大変障害となる反射光を低減するものである。 【構成】 透明基板３とブラックマスク４の間に反射防
止層としてＩＴＯ膜１３を設けることを特徴とする。
て広く用いられている平面表示装置において、視覚に対
して大変障害となる反射光を低減するものである。 【構成】 透明基板３とブラックマスク４の間に反射防
止層としてＩＴＯ膜１３を設けることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種電子機器の表示手
段として広く用いられている平面表示装置において、外
光の反射を低減し表示品位を向上させるものである。
段として広く用いられている平面表示装置において、外
光の反射を低減し表示品位を向上させるものである。
【０００２】
【従来の技術】今日、平面表示装置においてはコントラ
ストが高く外光等の反射が少ないものが求められてい
る。
ストが高く外光等の反射が少ないものが求められてい
る。
【０００３】例えば現在主流となりつつある薄膜トラン
ジスタ素子（以下「ＴＦＴ素子」と称する）を用いたア
クティブマトリクス方式液晶表示装置では、チャネル層
として非晶質シリコン等が用いられている。このような
ＴＦＴ素子のチャネル層に光があたると、ＴＦＴ素子の
オフ電流が増加し、これによってコントラストの低下、
クロストークの増加、階調不良等が生じ、画像品位が低
下する。このような外光等の影響を防止するため、ＴＦ
Ｔ素子への光の入射を防止することが必要となる。
ジスタ素子（以下「ＴＦＴ素子」と称する）を用いたア
クティブマトリクス方式液晶表示装置では、チャネル層
として非晶質シリコン等が用いられている。このような
ＴＦＴ素子のチャネル層に光があたると、ＴＦＴ素子の
オフ電流が増加し、これによってコントラストの低下、
クロストークの増加、階調不良等が生じ、画像品位が低
下する。このような外光等の影響を防止するため、ＴＦ
Ｔ素子への光の入射を防止することが必要となる。
【０００４】そのため、従来のアクティブマトリクス方
式液晶表示装置では、ＴＦＴ素子と基板との間、ＴＦＴ
素子上、及び対向基板のＴＦＴ素子に対向する位置に遮
光膜（以下「ブラックマスク」と称する）を設けてい
る。また、絵素間の光のにじみのためにコントラストが
低下するのを防止するために、ＴＦＴ素子の対向部以外
の非表示部であるゲートバス配線やソースバス配線の対
向部にブラックマスクを設けている場合もある。
式液晶表示装置では、ＴＦＴ素子と基板との間、ＴＦＴ
素子上、及び対向基板のＴＦＴ素子に対向する位置に遮
光膜（以下「ブラックマスク」と称する）を設けてい
る。また、絵素間の光のにじみのためにコントラストが
低下するのを防止するために、ＴＦＴ素子の対向部以外
の非表示部であるゲートバス配線やソースバス配線の対
向部にブラックマスクを設けている場合もある。
【０００５】以下ブラックマスクを設けた液晶表示装置
を説明する。図２はブラックマスクを設けた液晶表示装
置の断面図であり、ガラス等の透明基板１上には周知の
構造によりＴＦＴ素子（図示せず）を形成し、マトリク
ス状に配置されたソースバス配線、ゲートバス配線（図
示せず）によって囲まれた複数の領域をＩＴＯ膜からな
る絵素電極２としてパターン形成している。
を説明する。図２はブラックマスクを設けた液晶表示装
置の断面図であり、ガラス等の透明基板１上には周知の
構造によりＴＦＴ素子（図示せず）を形成し、マトリク
ス状に配置されたソースバス配線、ゲートバス配線（図
示せず）によって囲まれた複数の領域をＩＴＯ膜からな
る絵素電極２としてパターン形成している。
【０００６】そして、透明基板１と対向する他方のガラ
ス等の透明基板３上には、蒸着法またはスパッタリング
法等によりＣｒ等の金属膜によるブラックマスク４を製
膜し、これにフォトリソグラフィー法（以下フォトリソ
法）を利用して絵素電極２の対向領域に透光領域を形成
し、前記透光領域にはカラーフィルタ層５を形成してい
る。カラーフィルタ層５を形成した透明基板３上には、
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ・Ｔｉｎ・Ｏｘｉｄｅ＝Ｉｎ2 Ｓ
ｎＯ3）等の透明電極を形成しこれを絵素電極２に対応
する対向電極６としている。
ス等の透明基板３上には、蒸着法またはスパッタリング
法等によりＣｒ等の金属膜によるブラックマスク４を製
膜し、これにフォトリソグラフィー法（以下フォトリソ
法）を利用して絵素電極２の対向領域に透光領域を形成
し、前記透光領域にはカラーフィルタ層５を形成してい
る。カラーフィルタ層５を形成した透明基板３上には、
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ・Ｔｉｎ・Ｏｘｉｄｅ＝Ｉｎ2 Ｓ
ｎＯ3）等の透明電極を形成しこれを絵素電極２に対応
する対向電極６としている。
【０００７】次に両透明基板１、３の外縁部にはシール
樹脂７をスクリーン印刷にて塗布している。ここでシー
ル樹脂７はエポキシ樹脂からなりガラス等のシール内ス
ペーサ８を混入している。そして、上記一対の透明基板
１と透明基板３の間には一定外径のプラスチック又はガ
ラス等からなるスぺーサ９を適量散布した後、透明基板
１と透明基板３を互いに対向させて重ね合わせ、高温高
圧で加圧することにより両基板を一定間隔に保ち、その
後、真空注入方法により両基板間に液晶１０を注入して
表示装置を構成するものであった。
樹脂７をスクリーン印刷にて塗布している。ここでシー
ル樹脂７はエポキシ樹脂からなりガラス等のシール内ス
ペーサ８を混入している。そして、上記一対の透明基板
１と透明基板３の間には一定外径のプラスチック又はガ
ラス等からなるスぺーサ９を適量散布した後、透明基板
１と透明基板３を互いに対向させて重ね合わせ、高温高
圧で加圧することにより両基板を一定間隔に保ち、その
後、真空注入方法により両基板間に液晶１０を注入して
表示装置を構成するものであった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、非
表示部分からの光の漏れやコントラストの低下を防ぐた
めにブラックマスクを形成しているが、室内で使用する
場合には室内の照明器具からの光が、また屋外で使用す
る場合には太陽光が、図２の矢印１１に示すように平面
表示装置に入射してしまう。すると、透明基板３側のブ
ラックマスク表面で矢印１２に示すように反射してしま
い、本来平面表示装置に表示しようとする画像が、見え
にくくなる現象が発生する。
表示部分からの光の漏れやコントラストの低下を防ぐた
めにブラックマスクを形成しているが、室内で使用する
場合には室内の照明器具からの光が、また屋外で使用す
る場合には太陽光が、図２の矢印１１に示すように平面
表示装置に入射してしまう。すると、透明基板３側のブ
ラックマスク表面で矢印１２に示すように反射してしま
い、本来平面表示装置に表示しようとする画像が、見え
にくくなる現象が発生する。
【０００９】本発明はこのような問題点を解決するもの
であり、ブラックマスクの表示面側での外光の反射を防
止して反射光を低減させた平面表示装置を提供すること
を目的とする。
であり、ブラックマスクの表示面側での外光の反射を防
止して反射光を低減させた平面表示装置を提供すること
を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のブラックマスク
を備えた透明基板を有する平面表示装置においては、前
記ブラックマスクと前記透明基板の間に反射防止用の透
明膜層を設けることにより上記目的を達成するものであ
る。
を備えた透明基板を有する平面表示装置においては、前
記ブラックマスクと前記透明基板の間に反射防止用の透
明膜層を設けることにより上記目的を達成するものであ
る。
【００１１】
【作用】本発明の平面表示装置によれば、表示側透明基
板とブラックマスクの間に反射防止用の透明膜を用いて
いるが、その材料として、ＩＴＯ膜や酸化クロム等を使
用している。反射防止膜として透明膜を使用するのは、
次のような作用による。透明基板に使用されるガラスの
屈折率と反射防止膜として使用されるＩＴＯ膜の屈折率
とブラックマスクに使われるクロムの屈折率を比べる
と、ガラス（約１．５）＜ＩＴＯ膜（約１．９）＜クロ
ム（２〜３）の順で大きくなっており、ＩＴＯ膜の屈折
率はガラスとクロムの屈折率の間の範囲になっている。
そのため、透明基板とブラックマスクの間にＩＴＯ膜等
の透明膜を設けることにより、透明基板から入射した光
が透明基板とブラックマスクの間で干渉し反射光を低減
することができる。
板とブラックマスクの間に反射防止用の透明膜を用いて
いるが、その材料として、ＩＴＯ膜や酸化クロム等を使
用している。反射防止膜として透明膜を使用するのは、
次のような作用による。透明基板に使用されるガラスの
屈折率と反射防止膜として使用されるＩＴＯ膜の屈折率
とブラックマスクに使われるクロムの屈折率を比べる
と、ガラス（約１．５）＜ＩＴＯ膜（約１．９）＜クロ
ム（２〜３）の順で大きくなっており、ＩＴＯ膜の屈折
率はガラスとクロムの屈折率の間の範囲になっている。
そのため、透明基板とブラックマスクの間にＩＴＯ膜等
の透明膜を設けることにより、透明基板から入射した光
が透明基板とブラックマスクの間で干渉し反射光を低減
することができる。
【００１２】従って、透明基板とブラックマスクの間に
ＩＴＯ等の透明膜を形成することにより、屋内照明や太
陽光が平面表示装置上に入射したとしても、ＩＴＯ膜が
反射防止層として働くため、屋内照明や太陽光によるブ
ラックマスクでの反射が低減される。
ＩＴＯ等の透明膜を形成することにより、屋内照明や太
陽光が平面表示装置上に入射したとしても、ＩＴＯ膜が
反射防止層として働くため、屋内照明や太陽光によるブ
ラックマスクでの反射が低減される。
【００１３】このため、平面表示装置上への反射光によ
る写り込みの少ない品位の高い表示を実現することがで
きる。
る写り込みの少ない品位の高い表示を実現することがで
きる。
【００１４】
【実施例】本発明の実施例について図面とともに以下に
説明する。尚、図中において同一構成部分は同一符号で
表している。
説明する。尚、図中において同一構成部分は同一符号で
表している。
【００１５】図１は本発明の構造が適用された液晶表示
装置の一実施例を示す断面図である。図１においてガラ
ス等からなる透明基板１の上面にはＴａ金属からなるゲ
ート電極を２５００Åの厚さにパターン形成し、前記ゲ
ート電極を覆うようにＴａ2Ｏ5の陽極酸化膜を３０００
Åの厚さに形成し、前記陽極酸化膜および基板全面には
ＳｉＮｘからなるゲート絶縁膜を３０００Åの厚さに形
成し、前記ゲート絶縁膜上にはゲート電極を覆うように
真性半導体非結晶シリコンからなるチャネル層を１００
０Åの厚さにパターン形成し、前記チャネル層上の中央
部にはエッチング保護層をパターン形成し、前記エッチ
ング保護層の側縁部および前記チャネル層上にはｎ型半
導体非結晶シリコンからなる一対のコンタクト層を５０
０Åの厚さにパターン形成し、前記一方のコンタクト層
上にはＴｉ金属からなるソース電極をパターン形成し他
方のコンタクト層上にはＴｉ金属からなるドレイン電極
を３０００Åの厚さにパターン形成している。以上のよ
うにしてＴＦＴ素子を基板上に形成する（図示せず）。
マトリクス状に配置されたソースバス配線、ゲートバス
配線（図示せず）によって囲まれている複数の領域に、
ＩＴＯ膜からなる絵素電極２を１０００Åの厚さにパタ
ーン形成し、その端部を前記ドレイン電極と接続してい
る。
装置の一実施例を示す断面図である。図１においてガラ
ス等からなる透明基板１の上面にはＴａ金属からなるゲ
ート電極を２５００Åの厚さにパターン形成し、前記ゲ
ート電極を覆うようにＴａ2Ｏ5の陽極酸化膜を３０００
Åの厚さに形成し、前記陽極酸化膜および基板全面には
ＳｉＮｘからなるゲート絶縁膜を３０００Åの厚さに形
成し、前記ゲート絶縁膜上にはゲート電極を覆うように
真性半導体非結晶シリコンからなるチャネル層を１００
０Åの厚さにパターン形成し、前記チャネル層上の中央
部にはエッチング保護層をパターン形成し、前記エッチ
ング保護層の側縁部および前記チャネル層上にはｎ型半
導体非結晶シリコンからなる一対のコンタクト層を５０
０Åの厚さにパターン形成し、前記一方のコンタクト層
上にはＴｉ金属からなるソース電極をパターン形成し他
方のコンタクト層上にはＴｉ金属からなるドレイン電極
を３０００Åの厚さにパターン形成している。以上のよ
うにしてＴＦＴ素子を基板上に形成する（図示せず）。
マトリクス状に配置されたソースバス配線、ゲートバス
配線（図示せず）によって囲まれている複数の領域に、
ＩＴＯ膜からなる絵素電極２を１０００Åの厚さにパタ
ーン形成し、その端部を前記ドレイン電極と接続してい
る。
【００１６】次に透明基板１と対向する他方のガラス等
からなる透明基板３には、透明基板１と対向する面にス
パツタリング法によって厚さ７００ÅのＩＴＯ（Ｉｎ2
ＳｎＯ3）膜１３を形成し反射防止用透明膜としてい
る。このＩＴＯ膜１３は、絵素電極２の対向領域である
透光領域以外を必要に応じフォトリソ法によってパター
ンニングしている。さらに、ＩＴＯ膜１３の上にはスパ
ッタリング法によって厚さ３００〜５０００ÅのＣｒ層
を形成しブラックマスク４としている。このブラックマ
スク４は上記ＩＴＯ膜１３と同様に、絵素電極２の対向
領域である透光領域以外を必要に応じてフォトリソ法に
よってパターンニングしている。
からなる透明基板３には、透明基板１と対向する面にス
パツタリング法によって厚さ７００ÅのＩＴＯ（Ｉｎ2
ＳｎＯ3）膜１３を形成し反射防止用透明膜としてい
る。このＩＴＯ膜１３は、絵素電極２の対向領域である
透光領域以外を必要に応じフォトリソ法によってパター
ンニングしている。さらに、ＩＴＯ膜１３の上にはスパ
ッタリング法によって厚さ３００〜５０００ÅのＣｒ層
を形成しブラックマスク４としている。このブラックマ
スク４は上記ＩＴＯ膜１３と同様に、絵素電極２の対向
領域である透光領域以外を必要に応じてフォトリソ法に
よってパターンニングしている。
【００１７】ブラックマスク４を形成した基板上にはス
ピナー法によって厚さ２０００Åのゼラチン層を形成
し、更に該ゼラチン層は絵素電極２の対向領域をフォト
リソ法によってパターンニングした後、染色法によって
カラーフィルタ層５を形成している。そして上記工程は
Ｒ、Ｇ、Ｂの各色毎に実施される。このカラーフィルタ
層５の上には、スパッタリング法によって厚さ３００〜
５０００ÅのＩＴＯ膜等の透明電極を形成し前記絵素電
極２に対向する対向電極６としている。
ピナー法によって厚さ２０００Åのゼラチン層を形成
し、更に該ゼラチン層は絵素電極２の対向領域をフォト
リソ法によってパターンニングした後、染色法によって
カラーフィルタ層５を形成している。そして上記工程は
Ｒ、Ｇ、Ｂの各色毎に実施される。このカラーフィルタ
層５の上には、スパッタリング法によって厚さ３００〜
５０００ÅのＩＴＯ膜等の透明電極を形成し前記絵素電
極２に対向する対向電極６としている。
【００１８】両透明基板１、３の外縁部には、エポキシ
樹脂からなるシール樹脂７をスクリーン印刷にて塗布し
ている。ここでシール樹脂７は、ガラス等のシール内ス
ペーサ８を混入している。両透明基板間にガラス又はプ
ラスチックからなる球状スペーサ９を適量散布してい
る。
樹脂からなるシール樹脂７をスクリーン印刷にて塗布し
ている。ここでシール樹脂７は、ガラス等のシール内ス
ペーサ８を混入している。両透明基板間にガラス又はプ
ラスチックからなる球状スペーサ９を適量散布してい
る。
【００１９】上述のように構成された透明基板１、３は
温度２００°Ｃで圧力１Kgf/cm2をかけてプレスするこ
とにより乍ら硬化させて状態を安定させている。その後
基板間には真空注入方法により液晶１０を注入して封止
している。
温度２００°Ｃで圧力１Kgf/cm2をかけてプレスするこ
とにより乍ら硬化させて状態を安定させている。その後
基板間には真空注入方法により液晶１０を注入して封止
している。
【００２０】上記実施例における液晶表示装置に光を入
射した場合のブラックマスク上での反射率を測定したも
のが図３である。人間の認識する光の波長が３８０〜７
８０ｎｍであるため、図３の波長の範囲は４００〜７０
０ｎｍとしている。
射した場合のブラックマスク上での反射率を測定したも
のが図３である。人間の認識する光の波長が３８０〜７
８０ｎｍであるため、図３の波長の範囲は４００〜７０
０ｎｍとしている。
【００２１】反射防止層としてＩＴＯ膜１３を形成しな
い構造のときの反射率−波長特性特性を実線１４に示
し、入射した白色光に対して２８％もの光を反射してい
る。そして本発明であるＩＴＯ膜１３を７００Åの厚み
に形成したときの反射率−波長特性を実線１５に示す。
このとき、白色光における反射率が全体で４％程度にな
っている。従来のものに比べ格段に反射率が低減されて
いる。また、このときの反射率の低減は数値以上のもの
となっている。これは、一般に人間の目に感じ取る明る
さの度合いが強いとされる緑に近い波長の５５０ｎｍ付
近において反射率がほぼ零となっているからである。ま
た他の赤や青の波長である７００ｎｍ、４７０ｎｍにお
いてもそれぞれ反射率が４％、３．６％と低くなってい
る。
い構造のときの反射率−波長特性特性を実線１４に示
し、入射した白色光に対して２８％もの光を反射してい
る。そして本発明であるＩＴＯ膜１３を７００Åの厚み
に形成したときの反射率−波長特性を実線１５に示す。
このとき、白色光における反射率が全体で４％程度にな
っている。従来のものに比べ格段に反射率が低減されて
いる。また、このときの反射率の低減は数値以上のもの
となっている。これは、一般に人間の目に感じ取る明る
さの度合いが強いとされる緑に近い波長の５５０ｎｍ付
近において反射率がほぼ零となっているからである。ま
た他の赤や青の波長である７００ｎｍ、４７０ｎｍにお
いてもそれぞれ反射率が４％、３．６％と低くなってい
る。
【００２２】上記ＩＴＯ膜の膜厚を変えていくと反射率
−波長特性が次のように変化してしまう。ＩＴＯ膜の膜
厚を７００Åより厚くしていくと特性曲線が波長の低い
方にずれていき、また７００Åより薄くして行くと特性
曲線が波長の高い方にずれていくためＩＴＯ膜の膜厚が
７００Åに近いほど反射率が抑えられることが実験デー
タとして得られている。
−波長特性が次のように変化してしまう。ＩＴＯ膜の膜
厚を７００Åより厚くしていくと特性曲線が波長の低い
方にずれていき、また７００Åより薄くして行くと特性
曲線が波長の高い方にずれていくためＩＴＯ膜の膜厚が
７００Åに近いほど反射率が抑えられることが実験デー
タとして得られている。
【００２３】本実施例においては透明基板としてガラ
ス、反射防止層としてＩＴＯ膜、ブラックマスクとして
Ｃｒを用いて実験しているが、他の材料を用いた場合で
も屈折率が近いものであれば同様の反射防止効果が得ら
れる。また、屈折率の値が透明基板＜反射防止層＜ブラ
ックマスク順に大きくなっていればよく、透明基板とし
てプラスチックや反射防止膜として酸化クロム等を用い
てもよい。ＩＴＯ膜の代わりに酸化クロムを用いた場
合、ＩＴＯ膜に比べ酸化クロムは高価であり製造コスト
が嵩んでしまう。また、発明者が実験したところＩＴＯ
膜の方が反射防止膜としての効果が高いことが確認され
ている。
ス、反射防止層としてＩＴＯ膜、ブラックマスクとして
Ｃｒを用いて実験しているが、他の材料を用いた場合で
も屈折率が近いものであれば同様の反射防止効果が得ら
れる。また、屈折率の値が透明基板＜反射防止層＜ブラ
ックマスク順に大きくなっていればよく、透明基板とし
てプラスチックや反射防止膜として酸化クロム等を用い
てもよい。ＩＴＯ膜の代わりに酸化クロムを用いた場
合、ＩＴＯ膜に比べ酸化クロムは高価であり製造コスト
が嵩んでしまう。また、発明者が実験したところＩＴＯ
膜の方が反射防止膜としての効果が高いことが確認され
ている。
【００２４】本実施例の液晶表示装置においてはカラー
フィルタ層を形成しているが、本実施例の主旨はブラッ
クマスクにおける外光の反射を低減させるものであり、
カラーフィルタ層がない構造であっても当然適用でき
る。
フィルタ層を形成しているが、本実施例の主旨はブラッ
クマスクにおける外光の反射を低減させるものであり、
カラーフィルタ層がない構造であっても当然適用でき
る。
【００２５】また、ＴＦＴ素子を用いない単純マトリク
ス型液晶表示装置やＥＬ（エレクトロルミネッセンス）
表示装置等の他の平面表示素子であってもブラックマス
クを形成しているものなら適用することが可能である。
ス型液晶表示装置やＥＬ（エレクトロルミネッセンス）
表示装置等の他の平面表示素子であってもブラックマス
クを形成しているものなら適用することが可能である。
【００２６】
【発明の効果】図１に示すように外光２１が液晶表示装
置のガラス基板３とＩＴＯ膜１３を透過しブラックマス
ク４で反射したとしても、ＩＴＯ膜１３があるため反射
光２２がガラス基板３とブラックマスク４の間で干渉し
反射光２２が大きく低減される。
置のガラス基板３とＩＴＯ膜１３を透過しブラックマス
ク４で反射したとしても、ＩＴＯ膜１３があるため反射
光２２がガラス基板３とブラックマスク４の間で干渉し
反射光２２が大きく低減される。
【００２７】実際に反射率を測定した結果を図３に示し
ており、従来技術のデータである実線１４と本発明のデ
ータである実線１５を比較したところ、ＩＴＯ膜を形成
した本発明の場合に、反射率が著しく低下していること
がわかる。また、白色光の反射率は全体で４％程となっ
ているが、数値以上に反射光が低減されている。これ
は、膜厚が７００Åのときの特性である実線１５に示す
ように、最も反射率の低減しているところが５５５ｎｍ
付近であり、一般に明るく感じられる度合いが最も強い
波長であるためで、白色光において効率のよい反射率の
低減ができる。
ており、従来技術のデータである実線１４と本発明のデ
ータである実線１５を比較したところ、ＩＴＯ膜を形成
した本発明の場合に、反射率が著しく低下していること
がわかる。また、白色光の反射率は全体で４％程となっ
ているが、数値以上に反射光が低減されている。これ
は、膜厚が７００Åのときの特性である実線１５に示す
ように、最も反射率の低減しているところが５５５ｎｍ
付近であり、一般に明るく感じられる度合いが最も強い
波長であるためで、白色光において効率のよい反射率の
低減ができる。
【００２８】また反射防止用の透明膜として酸化クロム
を用いる場合も考えられるが、酸化クロムに比べＩＴＯ
膜は値段が安いため製造コストが安くなるという利点が
ある。また発明者が実験したところＩＴＯ膜の方が反射
防止膜としての効果が高いことが確認されている。
を用いる場合も考えられるが、酸化クロムに比べＩＴＯ
膜は値段が安いため製造コストが安くなるという利点が
ある。また発明者が実験したところＩＴＯ膜の方が反射
防止膜としての効果が高いことが確認されている。
【００２９】これより、ＩＴＯ膜を有する場合映り込み
の少ない表示品位の高い表示が実現できる。
の少ない表示品位の高い表示が実現できる。
【図１】本発明を用いた液晶表示装置の一実施例を示す
断面図。
断面図。
【図２】従来の液晶表示装置の断面図。
【図３】本発明及び従来例の波長−反射率特性の対比
図。
図。
１ 透明基板 ２ 絵素電極 ３ 透明基板 ４ ブラックマスク ５ カラーフィルタ層 ６ 対向電極 ７ シール樹脂 ８ シール内スペーサ ９ スペーサ １０ 液晶 １３ ＩＴＯ膜 ２１ 外光 ２２ 反射光
Claims (1)
- 【請求項１】 ブラックマスクを備えかつ表示側に透明
基板を有する平面表示装置において、 前記ブラックマスクと前記透明基板との間に反射防止用
透明膜層を設けることを特徴とする平面表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5070074A JPH06281921A (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 平面表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5070074A JPH06281921A (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 平面表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281921A true JPH06281921A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=13421039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5070074A Pending JPH06281921A (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 平面表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06281921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8531765B2 (en) | 2008-11-19 | 2013-09-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Circularly polarizing plate and display device |
-
1993
- 1993-03-29 JP JP5070074A patent/JPH06281921A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8531765B2 (en) | 2008-11-19 | 2013-09-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Circularly polarizing plate and display device |
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