JPH06279463A - 新規ベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 - Google Patents
新規ベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤Info
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- JPH06279463A JPH06279463A JP5070046A JP7004693A JPH06279463A JP H06279463 A JPH06279463 A JP H06279463A JP 5070046 A JP5070046 A JP 5070046A JP 7004693 A JP7004693 A JP 7004693A JP H06279463 A JPH06279463 A JP H06279463A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐熱性に優れ、金属表面に対する防錆作用が
高い新規なシラン化合物、その製法及びそれを用いた金
属表面処理剤を提供すること。 【構成】 (1)下記一般式(1)又は(2)で表され
る新規ベンゾトリアゾールシラン化合物。 【化1】 (ただし、一般式(1)又は(2)において、R1は水
素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,R3は炭素数
が1〜3のアルキル基、nは一般式(1)においては0
〜3、一般式(2)においては1〜3)
高い新規なシラン化合物、その製法及びそれを用いた金
属表面処理剤を提供すること。 【構成】 (1)下記一般式(1)又は(2)で表され
る新規ベンゾトリアゾールシラン化合物。 【化1】 (ただし、一般式(1)又は(2)において、R1は水
素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,R3は炭素数
が1〜3のアルキル基、nは一般式(1)においては0
〜3、一般式(2)においては1〜3)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属表面の防錆の改善
等を行うための表面処理剤、特にはプリント回路用銅張
積層板等に用いられる銅箔用表面処理剤として有用な新
規なベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方
法、並びにその用途に関する。
等を行うための表面処理剤、特にはプリント回路用銅張
積層板等に用いられる銅箔用表面処理剤として有用な新
規なベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方
法、並びにその用途に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント回路用の銅張積層板は銅箔を紙
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常M面(粗化面、以下同様)と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又M面の反対側の通常S面(光沢面、
以下同様)と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のM面には黄銅層形成処理
(特公昭51−35711号公報、同54−6701号
公報)、M、S双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等(特公昭58−7077号公報)が行わ
れている。
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常M面(粗化面、以下同様)と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又M面の反対側の通常S面(光沢面、
以下同様)と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のM面には黄銅層形成処理
(特公昭51−35711号公報、同54−6701号
公報)、M、S双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等(特公昭58−7077号公報)が行わ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち耐熱性に優れ、金属表面に対する防錆作用
が高い新規なシラン化合物、その製造方法、及びそれを
用いた新規な金属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤を
提供することを目的とするものである。
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち耐熱性に優れ、金属表面に対する防錆作用
が高い新規なシラン化合物、その製造方法、及びそれを
用いた新規な金属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤を
提供することを目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
進めた結果、特定のベンゾトリアゾール環を有するシラ
ン化合物が金属表面に対し優れた防錆作用を有すること
を見出した。
進めた結果、特定のベンゾトリアゾール環を有するシラ
ン化合物が金属表面に対し優れた防錆作用を有すること
を見出した。
【0005】本発明は、かかる知見に基づきなされたも
のであり、その要旨は、 (1)下記一般式(1)又は(2)で表される新規ベン
ゾトリアゾールシラン化合物。
のであり、その要旨は、 (1)下記一般式(1)又は(2)で表される新規ベン
ゾトリアゾールシラン化合物。
【0006】
【化3】
【0007】(ただし、一般式(1)又は(2)におい
て、R1は水素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,
R3は炭素数が1〜3のアルキル基、nは一般式(1)
においては0〜3、一般式(2)においては1〜3) (2)前記一般式(1)及び(2)で表わされる新規ベ
ンゾトリアゾールシラン化合物からなる混合物、 (3)下記一般式(3)で表されるベンゾトリアゾール
化合物と下記一般式(4)で表される3−グリシドキシ
プロピルシラン化合物とを、80〜200℃で反応され
ることを特徴とする前記(1)記載のベンゾトリアゾー
ルシラン化合物の製造方法、
て、R1は水素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,
R3は炭素数が1〜3のアルキル基、nは一般式(1)
においては0〜3、一般式(2)においては1〜3) (2)前記一般式(1)及び(2)で表わされる新規ベ
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化合物と下記一般式(4)で表される3−グリシドキシ
プロピルシラン化合物とを、80〜200℃で反応され
ることを特徴とする前記(1)記載のベンゾトリアゾー
ルシラン化合物の製造方法、
【0008】
【化4】
【0009】(ただし、一般式(3),(4)におい
て、R1は水素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,
R3は炭素数が1〜3のアルキル基、nは0〜3) (4)前記(1)記載の一般式(1)又は(2)で表さ
れるベンゾトリアゾールシラン化合物の少なくとも1種
を有効成分とする金属表面処理剤、及び、 (5)前記(1)記載の一般式(1)又は(2)で表さ
れるベンゾトリアゾールシラン化合物の少なくとも1種
を有効成分とする銅箔用表面処理剤にある。
て、R1は水素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,
R3は炭素数が1〜3のアルキル基、nは0〜3) (4)前記(1)記載の一般式(1)又は(2)で表さ
れるベンゾトリアゾールシラン化合物の少なくとも1種
を有効成分とする金属表面処理剤、及び、 (5)前記(1)記載の一般式(1)又は(2)で表さ
れるベンゾトリアゾールシラン化合物の少なくとも1種
を有効成分とする銅箔用表面処理剤にある。
【0010】以下に本発明をさらに詳細に説明する。上
記一般式(1)又は(2)におけるR1は、水素又は炭
素数が1〜5のアルキル基であるが、特には合成の容易
性から水素、メチル基、エチル基等が好適である。R2
又はR3は炭素数が1〜3のアルキル基であるが、特に
は合成の容易性からメチル基、エチル基が好適である。
またnは0〜3である。
記一般式(1)又は(2)におけるR1は、水素又は炭
素数が1〜5のアルキル基であるが、特には合成の容易
性から水素、メチル基、エチル基等が好適である。R2
又はR3は炭素数が1〜3のアルキル基であるが、特に
は合成の容易性からメチル基、エチル基が好適である。
またnは0〜3である。
【0011】本発明の上記ベンゾトリアゾールシラン化
合物(1)又は(2)は、一般式(3)で表されるベン
ゾトリアゾール化合物と一般式(4)で表される3−グ
リシドキシプロピルシラン化合物とを、80〜200℃
で反応させることにより製造することができる。その反
応を式で示すと次のようになる。
合物(1)又は(2)は、一般式(3)で表されるベン
ゾトリアゾール化合物と一般式(4)で表される3−グ
リシドキシプロピルシラン化合物とを、80〜200℃
で反応させることにより製造することができる。その反
応を式で示すと次のようになる。
【0012】
【化5】
【0013】(上記式中、R1は水素又は炭素数が1〜
5のアルキル基、R2及びR3は炭素数1〜3のアルキル
基、nは一般式(1)及び(4)においては0〜3、一
般式(2)においては1〜3を表す) 上記一般式(3)で表されるベンゾトリアゾール化合物
は、ベンゾトリアゾール、5−アルキルベンゾトリアゾ
ールであるが、これらのうちとくに好ましいのは、ベン
ゾトリアゾール;5−アルキルベンゾトリアゾールとし
ては、5−メチルベンゾトリアゾール等を挙げることが
できる。又上記一般式(4)で表される3−グリシドキ
シプロピルシラン化合物は、3−グリシドキシプロピル
トリアルコキシシラン、3−グリシドキシプロピルジア
ルコキシアルキルシラン、3−グリシドキシプロピルア
ルコキシジアルキルシラン、3−グリシドキシトリアル
キルシランであり、これらのうちとくに好ましいものを
挙げれば、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシ
ランとしては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、また3−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキ
ルシランとしては、3−グリシドキシプロピルジメトキ
シメチルシラン、3−グリシドキシプロピルアルコキシ
ジアルキルシランとしては、3−グリシドキシプロピル
エトキシジメチルシラン、3−グリシドキシプロピルト
リアルキルシランとしては、3−グリシドキシプロピル
トリエチルシラン等である。
5のアルキル基、R2及びR3は炭素数1〜3のアルキル
基、nは一般式(1)及び(4)においては0〜3、一
般式(2)においては1〜3を表す) 上記一般式(3)で表されるベンゾトリアゾール化合物
は、ベンゾトリアゾール、5−アルキルベンゾトリアゾ
ールであるが、これらのうちとくに好ましいのは、ベン
ゾトリアゾール;5−アルキルベンゾトリアゾールとし
ては、5−メチルベンゾトリアゾール等を挙げることが
できる。又上記一般式(4)で表される3−グリシドキ
シプロピルシラン化合物は、3−グリシドキシプロピル
トリアルコキシシラン、3−グリシドキシプロピルジア
ルコキシアルキルシラン、3−グリシドキシプロピルア
ルコキシジアルキルシラン、3−グリシドキシトリアル
キルシランであり、これらのうちとくに好ましいものを
挙げれば、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシ
ランとしては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、また3−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキ
ルシランとしては、3−グリシドキシプロピルジメトキ
シメチルシラン、3−グリシドキシプロピルアルコキシ
ジアルキルシランとしては、3−グリシドキシプロピル
エトキシジメチルシラン、3−グリシドキシプロピルト
リアルキルシランとしては、3−グリシドキシプロピル
トリエチルシラン等である。
【0014】上記ベンゾトリアゾール化合物と3−グリ
シドキシプロピルシラン化合物との反応は、80〜20
0℃の温度に加熱したベンゾトリアゾール化合物に0.
1〜10モル倍量の3−グリシドキシプロピルシラン化
合物を滴下させながら行うと良く、反応時間は5分〜2
時間程度で十分である。この反応は特には溶媒を必要と
はしないが、クロロホルム、ジオキサン、メタノール、
エタノール等の有機溶剤を反応溶媒として用いてもよ
い。尚、この反応は、水分を嫌うので、水分が混入しな
いように、乾燥した窒素、アルゴン等の水分を含まない
気体の雰囲気下で行うことが好ましい。
シドキシプロピルシラン化合物との反応は、80〜20
0℃の温度に加熱したベンゾトリアゾール化合物に0.
1〜10モル倍量の3−グリシドキシプロピルシラン化
合物を滴下させながら行うと良く、反応時間は5分〜2
時間程度で十分である。この反応は特には溶媒を必要と
はしないが、クロロホルム、ジオキサン、メタノール、
エタノール等の有機溶剤を反応溶媒として用いてもよ
い。尚、この反応は、水分を嫌うので、水分が混入しな
いように、乾燥した窒素、アルゴン等の水分を含まない
気体の雰囲気下で行うことが好ましい。
【0015】この反応において、上記一般式(1)又は
(2)で示したベンゾトリアゾールシラン化合物は混合
物の状態で得られるが、これらの化合物は、溶解度の差
を利用する方法、分取液体クロマトグラフィー等の既知
の手段により精製され、単離されうる。尚、金属表面処
理剤として用いる場合は、これらのベンゾトリアゾール
シラン化合物は必ずしも単離する必要はなく、混合物の
まま用いることが簡便で好ましい。
(2)で示したベンゾトリアゾールシラン化合物は混合
物の状態で得られるが、これらの化合物は、溶解度の差
を利用する方法、分取液体クロマトグラフィー等の既知
の手段により精製され、単離されうる。尚、金属表面処
理剤として用いる場合は、これらのベンゾトリアゾール
シラン化合物は必ずしも単離する必要はなく、混合物の
まま用いることが簡便で好ましい。
【0016】上記ベンゾトリアゾールシラン化合物を金
属表面処理剤として用いる場合、その対象金属には特に
制限はない。たとえば銅、亜鉛及びこれらの合金等の表
面処理剤として有用である。しかし、銅の表面処理剤と
して用いることが好適であり、特にはプリント回路用銅
張積層板等に用いられる銅箔の表面処理剤として用いる
と本発明の効果を十分に発揮することができる。この銅
箔には銅箔の表面を粗面化処理したもの、銅箔に黄銅層
形成処理したもの、クロメート処理したもの、亜鉛−ク
ロム基混合物被覆処理したもの等も包含される。
属表面処理剤として用いる場合、その対象金属には特に
制限はない。たとえば銅、亜鉛及びこれらの合金等の表
面処理剤として有用である。しかし、銅の表面処理剤と
して用いることが好適であり、特にはプリント回路用銅
張積層板等に用いられる銅箔の表面処理剤として用いる
と本発明の効果を十分に発揮することができる。この銅
箔には銅箔の表面を粗面化処理したもの、銅箔に黄銅層
形成処理したもの、クロメート処理したもの、亜鉛−ク
ロム基混合物被覆処理したもの等も包含される。
【0017】上記ベンゾトリアゾールシラン化合物は、
少なくともその一種をそのまま直接金属表面に塗布して
もよいが、メタノール、エタノール等のアルコール類、
又はそれらと水との混合溶液、更には、アセトン、酢酸
エチル、トルエン等の溶剤で0.001〜20重量%に
なるように希釈し、この液に金属を浸漬させる方法で塗
布することが簡便で好ましい。尚、このベンゾトリアゾ
ールシラン化合物は単独で用いてもよいが、他の防錆剤
等と混合して用いてもよい。
少なくともその一種をそのまま直接金属表面に塗布して
もよいが、メタノール、エタノール等のアルコール類、
又はそれらと水との混合溶液、更には、アセトン、酢酸
エチル、トルエン等の溶剤で0.001〜20重量%に
なるように希釈し、この液に金属を浸漬させる方法で塗
布することが簡便で好ましい。尚、このベンゾトリアゾ
ールシラン化合物は単独で用いてもよいが、他の防錆剤
等と混合して用いてもよい。
【0018】
【実施例】ベンゾトリアゾールシラン化合物の合成 (ベンゾトリアゾール化合物と3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランとの反応) 実施例1 ベンゾトリアゾール1.19g(0.01mol)を1
10℃で融解し、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.36g
(0.01mol)を1時間かけて滴下した。滴下終了
後、さらに110℃の温度で5分間反応させた。反応生
成物は透明な黄色の粘稠な液体(以下「混合成分1」と
いう)として得られた。
ルトリメトキシシランとの反応) 実施例1 ベンゾトリアゾール1.19g(0.01mol)を1
10℃で融解し、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.36g
(0.01mol)を1時間かけて滴下した。滴下終了
後、さらに110℃の温度で5分間反応させた。反応生
成物は透明な黄色の粘稠な液体(以下「混合成分1」と
いう)として得られた。
【0019】この生成物は透明な黄色の粘性液体で数週
間以上ゲル化せず安定であった。またアルコール、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン等に可溶であり、液体ク
ロマトグラフィーにより混合物であることを確認した。
間以上ゲル化せず安定であった。またアルコール、クロ
ロホルム、テトラヒドロフラン等に可溶であり、液体ク
ロマトグラフィーにより混合物であることを確認した。
【0020】又、この一部を採取して、1H−NMRで
分析した結果、>NHピークは完全に消失しており、反
応は完全に進行していた。又IRよりOH基の伸縮振動
のピークも確認され、これからも上記した反応が進行し
たことがわかった(図1、2)。
分析した結果、>NHピークは完全に消失しており、反
応は完全に進行していた。又IRよりOH基の伸縮振動
のピークも確認され、これからも上記した反応が進行し
たことがわかった(図1、2)。
【0021】上記反応生成物を少量のテトラヒドロフラ
ンで溶解し、次いでこれを多量のヘキサン中に注いだ。
可溶成分について、この操作を6回繰返した後、2成分
について分取ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により単離した(以下、化合物1,2)。
ンで溶解し、次いでこれを多量のヘキサン中に注いだ。
可溶成分について、この操作を6回繰返した後、2成分
について分取ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により単離した(以下、化合物1,2)。
【0022】化合物1について1H−NMR、IRスペ
クトル分析を行い、又、化合物2について1H−NMR
スペクトル、IR、MSスペクトル分析を行った。化合
物2のMSスペクトル分析結果を以下に示す。 化合物2;323(M+) 化合物1の1H−NMRスペクトルを図3に、同IRス
ペクトルを図4に、又、化合物2の1H−NMRスペク
トルを図5に、同IRスペクトルを図6に示す。
クトル分析を行い、又、化合物2について1H−NMR
スペクトル、IR、MSスペクトル分析を行った。化合
物2のMSスペクトル分析結果を以下に示す。 化合物2;323(M+) 化合物1の1H−NMRスペクトルを図3に、同IRス
ペクトルを図4に、又、化合物2の1H−NMRスペク
トルを図5に、同IRスペクトルを図6に示す。
【0023】これらの結果から、上記化合物1は上記一
般式(1)においてR1が水素、R2がメチル、nが3で
ある下記式(1−1)の構造を有し、又、化合物2は、
下記式(2−1)の構造を有していることがわかった。
般式(1)においてR1が水素、R2がメチル、nが3で
ある下記式(1−1)の構造を有し、又、化合物2は、
下記式(2−1)の構造を有していることがわかった。
【0024】
【化6】
【0025】実施例2 実施例1のベンゾトリアゾールに代えて、5−メチルベ
ンゾトリアゾールを使用し、又、反応温度を120℃と
した以外は実施例1と同様に反応を行い、混合成分2を
得た。
ンゾトリアゾールを使用し、又、反応温度を120℃と
した以外は実施例1と同様に反応を行い、混合成分2を
得た。
【0026】反応生成物は、透明な黄色の粘稠な液体と
して得られた。次に、以上生成したベンゾトリアゾール
シラン(混合成分1,2および化合物1,2)を銅箔の
表面処理剤として評価した。評価方法は以下の通りであ
る。
して得られた。次に、以上生成したベンゾトリアゾール
シラン(混合成分1,2および化合物1,2)を銅箔の
表面処理剤として評価した。評価方法は以下の通りであ
る。
【0027】耐熱性試験 電解銅箔(厚さ75μm、4.5×4.5cm)をアセ
トンで脱脂し、3%の硫酸水溶液で洗浄した。この銅箔
の光沢面に、前記で得られた化合物1,2及び混合成分
1,2のベンゾトリアゾールシラン化合物をそれぞれ6
重量%の濃度になるようにメタノールに溶解し、この溶
液をスピンコーターで塗布し、0.3μmのベンゾトリ
アゾールシラン化合物の薄膜を作成し、これを試験片と
した。
トンで脱脂し、3%の硫酸水溶液で洗浄した。この銅箔
の光沢面に、前記で得られた化合物1,2及び混合成分
1,2のベンゾトリアゾールシラン化合物をそれぞれ6
重量%の濃度になるようにメタノールに溶解し、この溶
液をスピンコーターで塗布し、0.3μmのベンゾトリ
アゾールシラン化合物の薄膜を作成し、これを試験片と
した。
【0028】この試験片をそれぞれ、200℃、220
℃、240℃の温度の恒温槽に30分間入れて、加熱処
理した。比較のため、上記ベンゾトリアゾールシラン化
合物に代えて、シランカップリング剤として市販されて
いる3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(以
下単に「エポキシシラン」と言う)及びベンゾトリアゾ
ールのメタノール溶液を同様に0.3μm塗布した銅箔
及び何も塗布しない銅箔(以下「ブランク」とする)に
ついて同様に加熱処理した。加熱後の変色の程度で耐熱
性を評価し、結果を表1に示した。
℃、240℃の温度の恒温槽に30分間入れて、加熱処
理した。比較のため、上記ベンゾトリアゾールシラン化
合物に代えて、シランカップリング剤として市販されて
いる3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(以
下単に「エポキシシラン」と言う)及びベンゾトリアゾ
ールのメタノール溶液を同様に0.3μm塗布した銅箔
及び何も塗布しない銅箔(以下「ブランク」とする)に
ついて同様に加熱処理した。加熱後の変色の程度で耐熱
性を評価し、結果を表1に示した。
【0029】耐湿性試験 上記耐熱性試験と同様にしてベンゾトリアゾールシラ
ン、エポキシシラン、ベンゾトリアゾールを塗布した試
験片及びブランクを温度80℃、湿度95%の恒温恒湿
槽に24時間入れ、変色の程度で耐湿性を評価した。こ
の結果も表1に併せて示した。
ン、エポキシシラン、ベンゾトリアゾールを塗布した試
験片及びブランクを温度80℃、湿度95%の恒温恒湿
槽に24時間入れ、変色の程度で耐湿性を評価した。こ
の結果も表1に併せて示した。
【0030】
【表1】
【0031】(注)耐熱性、耐湿性試験;5:変色な
し、4:わずかに変色、3:少し変色、2:橙色又は黄
色に変色、1:黒褐色に変色 以上の結果から本発明の化合物が、金属の表面処理剤と
して耐熱性、耐湿性(防錆作用)等に優れていることが
わかる。
し、4:わずかに変色、3:少し変色、2:橙色又は黄
色に変色、1:黒褐色に変色 以上の結果から本発明の化合物が、金属の表面処理剤と
して耐熱性、耐湿性(防錆作用)等に優れていることが
わかる。
【0032】
【発明の効果】本発明の新規なベンゾトリアゾールシラ
ン化合物は金属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤とし
て有用なもので、耐熱性及び防錆作用に優れるという効
果を有するものである。
ン化合物は金属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤とし
て有用なもので、耐熱性及び防錆作用に優れるという効
果を有するものである。
【図1】混合成分1の1H−NMRスペクトル
【図2】同IRスペクトル
【図3】化合物1(式(1−1))の1H−NMRスペ
クトル
クトル
【図4】同IRスペクトル
【図5】化合物2の1H−NMRスペクトル
【図6】同IRスペクトル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荻野 幸男 埼玉県戸田市新曽南3丁目17番35号 株式 会社日鉱共石内
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式(1)又は(2)で表される
新規ベンゾトリアゾールシラン化合物。 【化1】 (ただし、一般式(1)又は(2)において、R1は水
素又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,R3は炭素数
が1〜3のアルキル基、nは一般式(1)においては0
〜3、一般式(2)においては1〜3) - 【請求項2】 請求項1記載の一般式(1)及び(2)
で表わされる新規ベンゾトリアゾールシラン化合物から
なる混合物。 - 【請求項3】 下記一般式(3)で表されるベンゾトリ
アゾール化合物と下記一般式(4)で表される3−グリ
シドキシプロピルシラン化合物とを、80〜200℃で
反応させることを特徴とする請求項1記載のベンゾトリ
アゾールシラン化合物の製造方法。 【化2】 (ただし、一般式(3),(4)において、R1は水素
又は炭素数が1〜5のアルキル基、R2,R3は炭素数が
1〜3のアルキル基、nは0〜3) - 【請求項4】 請求項1記載の一般式(1)又は(2)
で表されるベンゾトリアゾールシラン化合物の少なくと
も1種を有効成分とする金属表面処理剤。 - 【請求項5】 請求項1記載の一般式(1)又は(2)
で表されるベンゾトリアゾールシラン化合物の少なくと
も1種を有効成分とする銅箔用表面処理剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5070046A JPH06279463A (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 新規ベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5070046A JPH06279463A (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 新規ベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06279463A true JPH06279463A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=13420245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5070046A Pending JPH06279463A (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 新規ベンゾトリアゾールシラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06279463A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003048170A1 (fr) | 2001-12-07 | 2003-06-12 | Nikko Materials Co., Ltd. | Composition realisee a partir d'un agent de couplage silane basique et d'un sel d'acide carboxylique, elaboration de la composition saline, et composition de resines epoxy les contenant |
US6916865B2 (en) | 2001-12-06 | 2005-07-12 | Nikko Materials Co., Ltd. | Organic carboxylic acid salt composition, process for preparation thereof and additives for epoxy resins |
JP2010120925A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-06-03 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JP2010285406A (ja) * | 2009-06-15 | 2010-12-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
WO2016060099A1 (ja) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
WO2016068324A1 (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-06 | 信一郎 礒部 | アルコキシシリル基含有有機el色素およびその製造方法 |
JPWO2014156361A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-02-16 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理電解銅箔 |
JPWO2014156362A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-02-16 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理電解銅箔 |
JP2017190512A (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 信越化学工業株式会社 | 金属表面処理剤 |
CN108250950A (zh) * | 2018-01-17 | 2018-07-06 | 安徽工业大学 | 一种亲水高耐蚀型钢铁表面硅烷化处理剂及其合成方法 |
-
1993
- 1993-03-29 JP JP5070046A patent/JPH06279463A/ja active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6916865B2 (en) | 2001-12-06 | 2005-07-12 | Nikko Materials Co., Ltd. | Organic carboxylic acid salt composition, process for preparation thereof and additives for epoxy resins |
WO2003048170A1 (fr) | 2001-12-07 | 2003-06-12 | Nikko Materials Co., Ltd. | Composition realisee a partir d'un agent de couplage silane basique et d'un sel d'acide carboxylique, elaboration de la composition saline, et composition de resines epoxy les contenant |
US7094845B2 (en) | 2001-12-07 | 2006-08-22 | Nikko Materials Co., Ltd. | Basic silane coupling agent organic carboxylate composition, method for producing the same, and epoxy resin composition containing the same |
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JP2010285406A (ja) * | 2009-06-15 | 2010-12-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
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JP2016079130A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
WO2016060099A1 (ja) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
KR20170070101A (ko) | 2014-10-17 | 2017-06-21 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유기 규소 화합물, 그 제조 방법, 및 그것을 사용하는 금속 표면 처리제 |
CN107074889A (zh) * | 2014-10-17 | 2017-08-18 | 信越化学工业株式会社 | 有机硅化合物及其制造方法、以及使用其的金属表面处理剂 |
EP3492478A1 (en) | 2014-10-17 | 2019-06-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for producing organosilicon compounds useful as metal surface treatment agents |
US10442822B2 (en) | 2014-10-17 | 2019-10-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organosilicon compound, method for producing same and metal surface treatment agent using same |
WO2016068324A1 (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-06 | 信一郎 礒部 | アルコキシシリル基含有有機el色素およびその製造方法 |
JP2017190512A (ja) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 信越化学工業株式会社 | 金属表面処理剤 |
KR20170118620A (ko) | 2016-04-15 | 2017-10-25 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 금속 표면 처리제 |
CN108250950A (zh) * | 2018-01-17 | 2018-07-06 | 安徽工业大学 | 一种亲水高耐蚀型钢铁表面硅烷化处理剂及其合成方法 |
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