JPH06273919A - Cleaning device - Google Patents
Cleaning deviceInfo
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- JPH06273919A JPH06273919A JP6056893A JP6056893A JPH06273919A JP H06273919 A JPH06273919 A JP H06273919A JP 6056893 A JP6056893 A JP 6056893A JP 6056893 A JP6056893 A JP 6056893A JP H06273919 A JPH06273919 A JP H06273919A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶ディスプレ
イ等の製造工程において、ガラス等からなる角型基板の
洗浄工程に用いられる洗浄装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus used for cleaning a rectangular substrate made of glass or the like in a manufacturing process of a liquid crystal display or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、ＴＦＴカラー液晶パネルは、ガ
ラス基板上の各画素ごとに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
を設けるもので、その製造工程におけるフォトリソグラ
フィープロセスでは、３μｍ〜１０μｍパターンの微細
加工が行われる。したがって、ガラス基板に付着してい
る塵埃等の異物が、歩留りに大きく影響する。このた
め、例えば、フォトリソグラフィープロセスにおけるレ
ジスト塗布前には、ガラス基板を洗浄して上記塵埃等を
極力除去するようになっている。2. Description of the Related Art For example, in a TFT color liquid crystal panel, a thin film transistor (TFT) is provided for each pixel on a glass substrate.
In the photolithography process in the manufacturing process, fine processing of a 3 μm to 10 μm pattern is performed. Therefore, foreign matter such as dust attached to the glass substrate greatly affects the yield. Therefore, for example, before the resist is applied in the photolithography process, the glass substrate is washed to remove the dust and the like as much as possible.
【０００３】このような洗浄装置は、図６に示すよう
に、ガラス基板１３の中央部を真空吸着により固定する
スピンチャック（支持台）１１が本体部１０の略中央位
置に設けられると共に、純水を噴射する基板洗浄液噴射
ノズル１５と、上記スピンチャック１１上に吸着固定さ
れたガラス基板１３をブラシ洗浄するための洗浄ブラシ
２１とが設けられた構成を有している。In such a cleaning apparatus, as shown in FIG. 6, a spin chuck (supporting base) 11 for fixing the central portion of a glass substrate 13 by vacuum adsorption is provided at a substantially central position of a main body portion 10, and a pure chuck is provided. A substrate cleaning liquid jet nozzle 15 for jetting water and a cleaning brush 21 for brush-cleaning the glass substrate 13 adsorbed and fixed on the spin chuck 11 are provided.
【０００４】そして、スピンチャック１１上に吸着固定
されたガラス基板１３を回転させながら、基板洗浄液噴
射ノズル１５から純水を噴射し、必要に応じて洗浄ブラ
シ２１を用いて、ガラス基板１３の洗浄を行うようにな
っている。Then, while rotating the glass substrate 13 adsorbed and fixed on the spin chuck 11, pure water is sprayed from the substrate cleaning liquid spraying nozzle 15, and the cleaning brush 21 is used to clean the glass substrate 13 if necessary. Is supposed to do.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記構成の
洗浄装置にて、ガラス基板１３を洗浄した場合、基板洗
浄液噴射ノズル１５から噴出された水が跳ね飛ばされて
飛散し、この水が周辺部を汚染するという問題が生じて
いる。即ち、ガラス基板１３は、四角形からなるため、
回転中心から基板端までの距離が部位によって異なり、
基板洗浄液噴射ノズル１５から噴出された水に、長距離
側の基板側面、即ち、四隅側の基板側面が当たると、当
たった水が跳ね飛ばされて飛散し、上記のような不具合
を引き起こすこととなる。However, when the glass substrate 13 is cleaned by the cleaning device having the above structure, the water sprayed from the substrate cleaning liquid spray nozzle 15 is splashed and scattered, and this water is scattered around the peripheral portion. There is a problem of polluting. That is, since the glass substrate 13 has a rectangular shape,
The distance from the center of rotation to the substrate edge varies depending on the part,
When the water jetted from the substrate cleaning liquid jet nozzle 15 hits the side surface of the long-distance side, that is, the side surfaces of the four corners, the hit water is splashed and scattered, which causes the above-mentioned problems. Become.
【０００６】また、回転中心から基板端までの距離が部
位によって異なるので、洗浄ブラシ２１の端部側は、ガ
ラス基板１３のエッジに繰り返し接触され、このとき
に、毛先部分が切削され、洗浄ブラシ２１が短時間で老
朽化するという問題も生じている。同時に、このとき発
生する毛の破片にてガラス基板１３が再び汚染され、洗
浄効果が低下するという問題も生じている。Further, since the distance from the center of rotation to the edge of the substrate differs depending on the part, the end side of the cleaning brush 21 is repeatedly contacted with the edge of the glass substrate 13, and at this time, the tip of the bristles is cut and cleaned. There is also a problem that the brush 21 deteriorates in a short time. At the same time, there arises a problem that the glass substrate 13 is again contaminated by the broken pieces of hair generated at this time and the cleaning effect is deteriorated.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄装置は、上
記課題を解決するために、被洗浄基板を支持すると共に
回転させる支持台が設けられ、被洗浄基板を回転させな
がら洗浄液を基板表面に供給して洗浄する洗浄装置にお
いて、被洗浄基板の外周に嵌合されると共に、上面が被
洗浄基板の上面と同一平面を成し、かつ、被洗浄基板と
一体に回転する円形板が設けられていることを特徴とし
ている。In order to solve the above-mentioned problems, the cleaning apparatus of the present invention is provided with a support for supporting and rotating the substrate to be cleaned, and the cleaning liquid is applied to the surface of the substrate while rotating the substrate to be cleaned. In the cleaning device for supplying and cleaning the substrate to be cleaned, a circular plate fitted to the outer periphery of the substrate to be cleaned, having an upper surface flush with the upper surface of the substrate to be cleaned, and rotating integrally with the substrate to be cleaned is provided. It is characterized by being.
【０００８】[0008]
【作用】上記の構成によれば、被洗浄基板の外周に嵌合
されると共に、上面が被洗浄基板の上面と同一平面を成
し、かつ、被洗浄基板と一体に回転する円形板が設けら
れているので、洗浄の際、被洗浄基板はこの円形板表面
に嵌め込まれた状態で洗浄されることとなる。したがっ
て、洗浄時、被洗浄基板の側面は露出せず、従来の装置
においては、四角形であった回転体が円形となり、回転
中の外周は常に同一軌道を通る円形板端となる。これに
より、従来のような、基板側面にて洗浄液（例えば水）
が跳ね飛ばされるような事態とはならず、周辺部が汚染
されることを抑制することができる。According to the above construction, a circular plate is provided which is fitted to the outer periphery of the substrate to be cleaned, has an upper surface flush with the upper surface of the substrate to be cleaned, and rotates integrally with the substrate to be cleaned. Therefore, at the time of cleaning, the substrate to be cleaned is to be cleaned while being fitted into the surface of the circular plate. Therefore, during cleaning, the side surface of the substrate to be cleaned is not exposed, and in the conventional apparatus, the quadrangular rotating body has a circular shape, and the outer circumference during rotation is always a circular plate edge that passes through the same orbit. As a result, the cleaning liquid (for example, water) on the side surface of the substrate as in the past
It is possible to prevent the peripheral parts from being contaminated, as it does not cause the parts to bounce off.
【０００９】また、例えば前記したように、洗浄時に洗
浄ブラシを使用した場合、洗浄ブラシの毛に、繰り返し
ガラス基板のエッジが接触することがなくなるので、毛
の切削が抑制される。この結果、毛の破片による洗浄効
果の低下を抑制し、洗浄ブラシの寿命を延ばすことがで
きる。Further, for example, as described above, when the cleaning brush is used during cleaning, the hair of the cleaning brush is not repeatedly brought into contact with the edge of the glass substrate, so that the cutting of the hair is suppressed. As a result, it is possible to suppress the deterioration of the cleaning effect due to the broken pieces of hair and extend the life of the cleaning brush.
【００１０】[0010]
【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図４に
基づいて説明すれば、以下の通りである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following will describe one embodiment of the present invention with reference to FIGS.
【００１１】ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）カラー液晶パ
ネルの製造におけるフォトリソグラフィーの工程では、
図４に示すようなレジスト塗布装置１が用いられる。こ
の装置の一端側には、複数のガラス基板を収納する送出
側カセットが装着されるローダ部２が設けられる一方、
他端側には、上記ローダ部２から一枚ずつ送られてくる
ガラス基板を受納側カセットに順次収納するアンローダ
部３が設けられている。In the process of photolithography in manufacturing a TFT (thin film transistor) color liquid crystal panel,
A resist coating apparatus 1 as shown in FIG. 4 is used. On one end side of this device, a loader unit 2 to which a delivery-side cassette that houses a plurality of glass substrates is mounted is provided.
On the other end side, an unloader section 3 for sequentially storing the glass substrates sent from the loader section 2 one by one in the receiving side cassette is provided.
【００１２】上記ローダ部２とアンローダ部３との間に
は、ローダ部２側から、ガラス基板の表面に純水をかけ
ながらブラシ洗浄を行う洗浄部４、洗浄後のガラス基板
の乾燥を行う脱水ベーク部５、ＨＭＤＳ（ヘキサメチレ
ンジシラザン）を塗布するＨＭＤＳ処理部６、レジスト
を塗布するレジスト塗布部７、レジストの加熱乾燥を行
うプリベーク部８が順次設けられている。ローダ部２か
ら一枚ずつアンローダ部３に向かって送られるガラス基
板は、上記の各処理部４〜８を通過することによって、
洗浄処理とレジスト塗布処理とが順次行われるようにな
っている。Between the loader section 2 and the unloader section 3, a cleaning section 4 for brush cleaning while spraying pure water onto the surface of the glass substrate from the loader section 2 side, and the glass substrate after cleaning are dried. A dehydration baking section 5, an HMDS processing section 6 for applying HMDS (hexamethylene disilazane), a resist applying section 7 for applying a resist, and a prebaking section 8 for heating and drying the resist are sequentially provided. The glass substrates sent one by one from the loader unit 2 toward the unloader unit 3 pass through the above processing units 4 to 8 to
The cleaning process and the resist coating process are sequentially performed.
【００１３】上記洗浄部４には、本発明を適用して構成
された洗浄装置が組込まれており、図１に示すように、
この洗浄装置の本体部１０の略中央箇所には、円盤状の
回転自在なスピンチャック（支持台）１１が設けられて
いる。このスピンチャック１１の上面には吸着孔（図示
せず）が複数穿設されており、これら吸着孔は、スピン
チャック１１の裏面中央から下方に延びる回転軸１２内
を通して、図示しない真空ポンプに接続されるようにな
っている。これにより、スピンチャック１１上にガラス
基板１３（被洗浄基板）が載置されたとき、上記吸着孔
を通して作用する真空吸着力によって、ガラス基板１３
がスピンチャック１１に吸着固定される。上記回転軸１
２には、回転駆動源（図示せず）が連結されており、こ
の回転駆動源の駆動力にて、スピンチャック１１が回転
可能となっている。A cleaning device constructed by applying the present invention is incorporated in the cleaning unit 4, and as shown in FIG.
A disk-shaped rotatable spin chuck (support base) 11 is provided at a substantially central portion of the main body 10 of the cleaning device. A plurality of suction holes (not shown) are formed on the upper surface of the spin chuck 11, and these suction holes are connected to a vacuum pump (not shown) through the rotary shaft 12 extending downward from the center of the back surface of the spin chuck 11. It is supposed to be done. As a result, when the glass substrate 13 (substrate to be cleaned) is placed on the spin chuck 11, the glass substrate 13 is moved by the vacuum suction force acting through the suction holes.
Are adsorbed and fixed to the spin chuck 11. The rotating shaft 1
A rotary drive source (not shown) is connected to the spinner 2, and the spin chuck 11 can be rotated by the driving force of the rotary drive source.
【００１４】さらに、本実施例のスピンチャック１１の
外周には、少なくともガラス基板１３の対角線の長さと
等しい直径を有する円形プレート（円形板）９が嵌着さ
れている。この円形プレート９の上面には、ガラス基板
１３の外周形状に応じた凹部９ａが設けられており、こ
の凹部９ａに、スピンチャック１１に吸着固定されてい
るガラス基板１３が嵌合されるようになっている。そし
て、この凹部９ａの深さは、凹部９ａにガラス基板１３
が嵌合された際に、ガラス基板１３の上面と円形プレー
ト９の上面とが同一平面を成すように設定されている。Further, a circular plate (circular plate) 9 having a diameter equal to at least the length of the diagonal line of the glass substrate 13 is fitted on the outer periphery of the spin chuck 11 of this embodiment. A concave portion 9a corresponding to the outer peripheral shape of the glass substrate 13 is provided on the upper surface of the circular plate 9, and the glass substrate 13 sucked and fixed to the spin chuck 11 is fitted into the concave portion 9a. Has become. The depth of the recess 9a is such that the glass substrate 13 is formed in the recess 9a.
The upper surface of the glass substrate 13 and the upper surface of the circular plate 9 are set to be flush with each other when is fitted.
【００１５】一方、本体部１０の上方は、スピンチャッ
ク１１の側方をほぼ全周にわたって囲う形状のスピンカ
ップ１４として形成されている。そして、スピンチャッ
ク１１を挟んで図において左右に相対向する位置には、
基板洗浄液噴射ノズル１５とブラシ洗浄液噴射ノズル１
６とがそれぞれスピンカップ１４の上縁に沿って設けら
れている。基板洗浄液噴射ノズル１５は、スピンチャッ
ク１１の上面、すなわち、基板洗浄位置に向けて洗浄液
である純水を噴射させる噴射角度で設けられている。一
方、上記基板洗浄液噴射ノズル１５の取付位置に対向す
る領域は、中間隔壁１７にて上記基板洗浄位置から区画
されたブラシ待機ステーション１８として形成されてお
り、ブラシ洗浄液噴射ノズル１６は、このブラシ待機ス
テーション１８に位置する洗浄ブラシ２１に向けて純水
を噴射させるように設けられている。On the other hand, an upper portion of the main body portion 10 is formed as a spin cup 14 which surrounds the lateral side of the spin chuck 11 over substantially the entire circumference. Then, at the positions opposite to each other in the figure on both sides of the spin chuck 11,
Substrate cleaning liquid injection nozzle 15 and brush cleaning liquid injection nozzle 1
6 and 6 are provided along the upper edge of the spin cup 14, respectively. The substrate cleaning liquid ejecting nozzle 15 is provided at an ejection angle for ejecting pure water as a cleaning liquid toward the upper surface of the spin chuck 11, that is, the substrate cleaning position. On the other hand, a region facing the mounting position of the substrate cleaning liquid jetting nozzle 15 is formed as a brush standby station 18 partitioned from the substrate cleaning position by an intermediate partition 17, and the brush cleaning liquid jetting nozzle 16 is provided in the brush standby position. It is provided so as to spray pure water toward the cleaning brush 21 located at the station 18.
【００１６】上記洗浄ブラシ２１は、図２に示すよう
に、ガラス基板１３の送り方向（図において上下方向）
に平行に配設されている。この洗浄ブラシ２１の軸部２
２は、両端でそれぞれアーム部２５・２５により回転自
在に支持されると共に、上記アーム部２５・２５は図示
しない移動機構に連結されており、この移動機構によっ
て、洗浄ブラシ２１は、図のようにブラシ待機ステーシ
ョン１８内に位置する待機位置から、スピンチャック１
１上の基板洗浄位置へと移動し得るようになっている。
また、上記アーム部２５・２５を通して洗浄ブラシ２１
はその軸部２２が回転駆動機構（図示せず）にも連結さ
れている。As shown in FIG. 2, the cleaning brush 21 feeds the glass substrate 13 (upward and downward in the figure).
Are arranged in parallel with. Shaft part 2 of this cleaning brush 21
2 is rotatably supported at both ends by arm portions 25, 25, respectively, and the arm portions 25, 25 are connected to a moving mechanism (not shown). By this moving mechanism, the cleaning brush 21 is moved as shown in the figure. From the standby position located inside the brush standby station 18 to the spin chuck 1
It is possible to move to the substrate cleaning position on 1.
In addition, the cleaning brush 21 passes through the arms 25.
The shaft portion 22 is also connected to a rotary drive mechanism (not shown).
【００１７】なお、洗浄ブラシ２１は上記のように円柱
形状をなしていることから、前記のブラシ洗浄液噴射ノ
ズル１６は、図のように直管形状の純水供給パイプ１６
ａが洗浄ブラシ２１と平行に配設されると共に、この純
水供給パイプ１６ａに所定の間隔で複数のノズル管１６
ｂ…を取付けて構成され、これにより、洗浄ブラシ２１
のほぼ全長にわたっての純水の吹き付けが行われるよう
になっている。Since the cleaning brush 21 has a cylindrical shape as described above, the brush cleaning liquid injection nozzle 16 has a straight pipe-shaped pure water supply pipe 16 as shown in the figure.
a is arranged in parallel with the cleaning brush 21, and a plurality of nozzle tubes 16 are provided at predetermined intervals in the pure water supply pipe 16a.
b ... is attached to the cleaning brush 21.
The pure water is sprayed over almost the entire length of.
【００１８】また、上記ブラシ待機ステーション１８に
は、図１に示すように、待機位置に位置する洗浄ブラシ
２１の下方に、塵埃除去具２６が設けられており、洗浄
ブラシ２１の回転を利用して、ブラシの毛を捌いて、毛
の根本付近に付着した塵埃を除去するようになってい
る。As shown in FIG. 1, the brush standby station 18 is provided with a dust removing tool 26 below the cleaning brush 21 located at the standby position, and utilizes the rotation of the cleaning brush 21. Then, the bristles of the brush are removed to remove the dust adhering to the vicinity of the root of the bristles.
【００１９】次に、上記構成のレジスト塗布装置におけ
る動作について説明する。前記ローダ部２からアンロー
ダ部３の方向に送り出されたガラス基板１３は、まず、
洗浄部４へと送られ、スピンチャック１１の外周に嵌着
された円形プレート９の凹部９ａに嵌合される。その
後、スピンチャック１１の吸着孔が前記の真空ポンプに
接続され、ガラス基板１３はスピンチャック１１上に吸
着固定される。次いで、スピンチャック１１が回転駆動
されると共に、基板洗浄液噴射ノズル１５から純水の噴
射が開始される。同時に、洗浄ブラシ２１がブラシ待機
ステーション１８において中間隔壁１７を越える高さ位
置まで上昇移動された後、スピンチャック１１上に移動
される。そして、スピンチャック１１上に達すると、図
３に示すように、スピンチャック１１と共に回転してい
る円形プレート９及びガラス基板１３の表面に接するま
で下降される。この洗浄ブラシ２１は、例えば100rpm〜
200rpmの回転数にて回転駆動されており、これによっ
て、ガラス基板１３のブラシ洗浄が行われる。Next, the operation of the resist coating apparatus having the above structure will be described. The glass substrate 13 sent from the loader unit 2 toward the unloader unit 3 is
It is sent to the cleaning unit 4 and fitted into the recess 9 a of the circular plate 9 fitted to the outer periphery of the spin chuck 11. After that, the suction holes of the spin chuck 11 are connected to the vacuum pump, and the glass substrate 13 is suction-fixed onto the spin chuck 11. Next, the spin chuck 11 is rotationally driven, and the pure water jetting is started from the substrate cleaning liquid jetting nozzle 15. At the same time, the cleaning brush 21 is moved up to a height position over the intermediate partition 17 in the brush waiting station 18 and then moved onto the spin chuck 11. When it reaches the spin chuck 11, it is lowered until it comes into contact with the surfaces of the circular plate 9 and the glass substrate 13 which are rotating together with the spin chuck 11, as shown in FIG. This cleaning brush 21 is, for example, 100 rpm-
The glass substrate 13 is rotatively driven at a rotation speed of 200 rpm, whereby the glass substrate 13 is brush-cleaned.
【００２０】上記ブラシ洗浄を所定時間行った後、洗浄
ブラシ２１は上記と逆の動作にてブラシ待機ステーショ
ン１８へと戻され、また、基板洗浄液噴射ノズル１５か
らの純水の噴射が停止されると共に、スピンチャック１
１の回転も停止される。そして、スピンチャック１１に
おける吸着孔の真空ポンプへの連通状態が遮断されると
共に、上記吸着孔に大気が導入されてガラス基板１３の
吸着固定が解除される。その後、上記のように洗浄の完
了したガラス基板１３の洗浄部４からの取出しが行わ
れ、ガラス基板１３は、次の脱水ベーク部５へと送られ
る一方、ローダ部２からガラス基板１３が新たに洗浄部
４に送られて、この新たなガラス基板１３に対し、洗浄
部４では上記同様の動作が繰返される。After the brush cleaning is performed for a predetermined time, the cleaning brush 21 is returned to the brush standby station 18 in the reverse operation to the above, and the injection of pure water from the substrate cleaning liquid injection nozzle 15 is stopped. With spin chuck 1
The rotation of 1 is also stopped. Then, the state in which the suction holes in the spin chuck 11 are connected to the vacuum pump is blocked, and the atmosphere is introduced into the suction holes to release the suction fixing of the glass substrate 13. After that, the glass substrate 13 that has been cleaned as described above is taken out from the cleaning unit 4, and the glass substrate 13 is sent to the next dehydration baking unit 5, while the loader unit 2 cleans the glass substrate 13. Then, the same operation as described above is repeated for the new glass substrate 13 in the cleaning section 4.
【００２１】上記のように洗浄済みのガラス基板１３が
洗浄部４から取出され、新たなガラス基板１３がスピン
チャック１１上に吸着固定される間、洗浄ブラシ２１は
ブラシ待機ステーション１８の待機位置で保持され、洗
浄ブラシ２１の回転を継続しながら、ブラシ洗浄液噴射
ノズル１６を通して純水の噴射が行われることで、洗浄
される。While the cleaned glass substrate 13 is taken out from the cleaning unit 4 and a new glass substrate 13 is adsorbed and fixed on the spin chuck 11, the cleaning brush 21 is at the standby position of the brush standby station 18. While being held, the cleaning brush 21 continues to rotate, and pure water is sprayed through the brush cleaning liquid spray nozzle 16 for cleaning.
【００２２】なお、前記レジスト塗布装置において、洗
浄部４でブラシ洗浄されたガラス基板１３は、次いで、
脱水ベーク部５において、上記洗浄によりガラス基板に
付着した水分を蒸発させるための加熱乾燥が行われる。
その後、ＨＭＤＳ処理部６に送られて、表面にＨＭＤＳ
（ヘキサメチレンジシラザン）が塗布される。次いで、
レジスト塗布部７において、レジストの塗布が行われ
る。上記ＨＭＤＳは親水基と疎水基とを両端に有し、ガ
ラス基板１３上において、レジストの密着を劣化させる
原因となる基板の吸着水分に親水基側が結合し、この結
果、疎水性のレジストが塗布される表面側に疎水基が位
置するようになって、レジストの密着性が強化される。In the resist coating apparatus, the glass substrate 13 brush-cleaned by the cleaning unit 4 is then
In the dehydration bake unit 5, heating and drying are performed to evaporate the water adhered to the glass substrate by the above cleaning.
After that, it is sent to the HMDS processing unit 6 and HMDS is applied to the surface.
(Hexamethylenedisilazane) is applied. Then
A resist is applied in the resist applying section 7. The HMDS has a hydrophilic group and a hydrophobic group at both ends, and on the glass substrate 13, the hydrophilic group side binds to the adsorbed moisture of the substrate that causes the adhesion of the resist to deteriorate, and as a result, the hydrophobic resist is applied. Since the hydrophobic group is located on the surface side of the resist, the adhesiveness of the resist is enhanced.
【００２３】レジスト塗布部７においてレジストの塗布
されたガラス基板１３は、次いで、プリベーク部８にお
いて、レジスト中の溶剤を揮発させてレジストの硬化を
促すと共にガラス基板１３への密着力が上がるように加
熱処理が行われる。その後、ガラス基板１３は、アンロ
ーダ部３に送り込まれ、受納側カセットに順次納められ
る。The glass substrate 13 coated with the resist in the resist coating section 7 is then allowed to volatilize the solvent in the resist in the pre-baking section 8 to accelerate the curing of the resist and to improve the adhesion to the glass substrate 13. Heat treatment is performed. After that, the glass substrate 13 is sent to the unloader unit 3 and sequentially stored in the receiving-side cassette.
【００２４】以上の説明のように、上記実施例では、円
盤状の回転自在なスピンチャック１１の外周に、スピン
チャック１１と共に回転し、上面にガラス基板１３が同
一平面を成すように嵌合される凹部９ａを有する円形プ
レート９が嵌着されており、ガラス基板１３は、洗浄
時、この円形プレート９に嵌合された状態で回転され
る。したがって、回転中の外周は、この円形プレート９
のプレート端となり、常に同一軌道を通り、従来装置を
用いて洗浄した場合のように、ガラス基板１３の側面に
て、基板洗浄位置に供給された水が跳ね飛ばされるとい
うことがなくなり、周辺部の汚染を抑制することができ
る。As described above, in the above embodiment, the glass substrate 13 is fitted around the outer periphery of the disk-shaped rotatable spin chuck 11 so as to rotate with the spin chuck 11 and form the same plane on the upper surface. A circular plate 9 having a concave portion 9a is fitted, and the glass substrate 13 is rotated while being fitted in the circular plate 9 during cleaning. Therefore, the outer circumference during rotation is the circular plate 9
The edge of the glass plate always passes through the same orbit, and the water supplied to the substrate cleaning position is not splashed on the side surface of the glass substrate 13 as in the case of cleaning using a conventional apparatus. It is possible to suppress the pollution.
【００２５】また、同時に、洗浄ブラシ２１の毛に、繰
り返しガラス基板１３のエッジが接触することがなくな
るので、エッジによる毛先の切削が抑制され、洗浄ブラ
シ２１の寿命が延び、同時に、洗浄ブラシ２１の破片を
原因とするガラス基板１３洗浄効果の低下が抑制される
ので、ＴＦＴカラー液晶パネルの製造歩留りが向上す
る。At the same time, since the edges of the glass substrate 13 do not repeatedly come into contact with the bristles of the cleaning brush 21, the cutting of the tips of the bristles by the edges is suppressed, and the life of the cleaning brush 21 is extended. Since the decrease in the cleaning effect of the glass substrate 13 due to the broken pieces 21 is suppressed, the manufacturing yield of the TFT color liquid crystal panel is improved.
【００２６】なお、上記実施例は、ガラス基板１３の対
角長以上の長さを有するロール形状の洗浄ブラシ２１を
備えた洗浄装置を例示したが、例えば、図５に示すよう
に、ガラス基板１３の基板端まで移動可能に構成された
小さな洗浄ブラシ２７を備えた洗浄装置、もしくは、ブ
ラシを用いない洗浄装置にも採用可能である。In the above embodiment, the cleaning device provided with the roll-shaped cleaning brush 21 having a length longer than the diagonal length of the glass substrate 13 is exemplified. For example, as shown in FIG. It can also be adopted in a cleaning device provided with a small cleaning brush 27 configured to be movable to the substrate end 13 or a cleaning device not using a brush.
【００２７】また、上記実施例においては、レジスト塗
布装置に組み込まれた洗浄装置を例に挙げて説明した
が、被洗浄基板が角型基板であれば、例えばフォトリソ
グラフィープロセス以外の工程で用いられる洗浄装置、
さらには、ＴＦＴカラー液晶パネル以外の被洗浄基板の
洗浄装置にも本発明を適用することが可能である。Further, in the above embodiment, the cleaning apparatus incorporated in the resist coating apparatus has been described as an example, but if the substrate to be cleaned is a rectangular substrate, it is used in a step other than the photolithography process, for example. Cleaning equipment,
Furthermore, the present invention can be applied to a cleaning device for a substrate to be cleaned other than the TFT color liquid crystal panel.
【００２８】[0028]
【発明の効果】本発明の洗浄装置は、以上のように、被
洗浄基板の外周に嵌合されると共に、上面が被洗浄基板
の上面と同一平面を成し、かつ、被洗浄基板と一体に回
転する円形板が設けられているものである。As described above, the cleaning apparatus of the present invention is fitted to the outer periphery of the substrate to be cleaned, has the upper surface flush with the upper surface of the substrate to be cleaned, and is integral with the substrate to be cleaned. It is provided with a rotating circular plate.
【００２９】これにより、洗浄時、被洗浄基板の側面は
露出せず、従来の装置においては、四角形であった回転
体が円形となり、回転中の外周は常に同一軌道を通る円
形板端となる。これにより、従来のような、基板側面に
て洗浄液（例えば水）が跳ね飛ばされるような事態とは
ならず、周辺部が汚染されることを抑制することができ
る。As a result, during cleaning, the side surface of the substrate to be cleaned is not exposed, and in the conventional apparatus, the quadrangular rotating body becomes circular, and the outer circumference during rotation is always a circular plate edge that passes through the same orbit. . This prevents the cleaning liquid (for example, water) from being splashed off on the side surface of the substrate as in the conventional case, and can prevent the peripheral portion from being contaminated.
【００３０】また、例えば前記したように、洗浄時に洗
浄ブラシを使用した場合、洗浄ブラシの毛に、繰り返し
ガラス基板のエッジが接触することがなくなるので、毛
の切削が抑制される。この結果、毛の破片による洗浄効
果の低下を抑制し、洗浄ブラシの寿命を延ばすことがで
きる。Further, for example, as described above, when the cleaning brush is used during cleaning, the hair of the cleaning brush is not repeatedly brought into contact with the edge of the glass substrate, so that the cutting of the hair is suppressed. As a result, it is possible to suppress the deterioration of the cleaning effect due to the broken pieces of hair and extend the life of the cleaning brush.
【００３１】これらの結果、本洗浄装置を、例えば液晶
ディスプレイの製造工程に採用することで、製造歩留ま
りを向上し、コスト削減を可能にするという効果を奏す
る。As a result, by adopting the present cleaning apparatus in the manufacturing process of a liquid crystal display, for example, the manufacturing yield is improved and the cost can be reduced.
【図１】本発明の一実施例における洗浄装置の要部構成
を示す縦断面図である。FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing a main configuration of a cleaning device according to an embodiment of the present invention.
【図２】上記洗浄装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the cleaning device.
【図３】上記洗浄装置でのガラス基板の洗浄動作を示す
斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a glass substrate cleaning operation in the cleaning apparatus.
【図４】上記洗浄装置が組込まれているレジスト塗布装
置の構成を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a configuration of a resist coating apparatus incorporating the cleaning apparatus.
【図５】上記洗浄装置以外に、本発明を採用することが
できる洗浄装置の要部を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing a main part of a cleaning device to which the present invention can be applied, other than the cleaning device.
【図６】従来の洗浄装置でのガラス基板の洗浄動作を示
す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a cleaning operation of a glass substrate in a conventional cleaning device.
９ 円形プレート（円形板） ９ａ 凹部 １１ スピンチャック（支持台） １３ ガラス基板（被洗浄基板） １５ 基板洗浄液噴射ノズル ２１ 洗浄ブラシ 9 circular plate (circular plate) 9a recess 11 spin chuck (support) 13 glass substrate (substrate to be cleaned) 15 substrate cleaning liquid injection nozzle 21 cleaning brush
Claims (1)
持台が設けられ、被洗浄基板を回転させながら洗浄液を
基板表面に供給して洗浄する洗浄装置において、 被洗浄基板の外周に嵌合されると共に、上面が被洗浄基
板の上面と同一平面を成し、かつ、被洗浄基板と一体に
回転する円形板が設けられていることを特徴とする洗浄
装置。1. A cleaning device, which is provided with a support for supporting and rotating a substrate to be cleaned, and which supplies cleaning liquid to the surface of the substrate while rotating the substrate to be cleaned, and is fitted to the outer periphery of the substrate to be cleaned. In addition, the cleaning device is characterized in that the upper surface is flush with the upper surface of the substrate to be cleaned, and a circular plate that rotates together with the substrate to be cleaned is provided.
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| JP6056893A JP2854213B2 (en) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | Cleaning equipment |
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| JP2854213B2 JP2854213B2 (en) | 1999-02-03 |
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ID=13146002
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-
1993
- 1993-03-19 JP JP6056893A patent/JP2854213B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2854213B2 (en) | 1999-02-03 |
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